JP6678452B2 - ボイラ及び腐食抑制方法 - Google Patents
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Description
はじめに、本発明の第1実施形態に係るボイラ20について説明する。図1は、本実施形態に係るボイラ20を備えた焼却設備100の概略図である。まず、焼却設備100の概要を説明する。
図1に示すように、焼却設備100は、燃料を燃焼させる燃焼炉10と、燃焼炉10で生成された排ガスが供給されるボイラ20と、を備えている。なお、本実施形態の焼却設備100は、ごみを燃料とするごみ焼却設備であるが、それ以外の焼却設備であってもよい。また、本実施形態の焼却設備100は、いわゆるストーカ式であるが、流動床式など他の方式のものであってもよい。
続いて、ボイラ20の構成について詳しく説明する。図1に示すように、ボイラ20は、燃焼炉10で生成された排ガスが流れる排ガス流路21と、排ガス流路21内に設けられた過熱器管22と、排ガス流路21の内壁に設けられた放射伝面23と、後述する所定の混合物質50を排ガス流路21に供給する腐食抑制粒子供給部24と、を有している。
前述した、過熱器管22及び放射伝面23を腐食させる腐食性物質は、粒子径が0.1〜10μm程度である。そのため、腐食性物質と同程度の0.1μm以上10μm未満の腐食抑制粒子を排ガス流路21内に噴射し、腐食抑制粒子を過熱器管22及び放射伝面23に付着させることができれば、過熱器管22及び放射伝面23の管表面への腐食性物質の侵入を抑えることができ、ひいてはこれらの腐食を抑えることができる。
次に、本発明の第2実施形態に係るボイラ60について説明する。図2は、本実施形態に係るボイラ60を備えた焼却設備100の概略図である。本実施形態に係るボイラ60は、腐食抑制粒子供給部24の構成を除き、基本的には第1実施形態に係るボイラ20と同じである。以下では、本実施形態の腐食抑制粒子供給部24の構成を中心に説明し、図2において図1と同一又は相当する要素には同じ符号を付して、第1実施形態と重複する説明は省略する。
20、60 ボイラ
21 排ガス流路
23 放射伝面
24 腐食抑制粒子供給部
36 第1供給口
37 第2供給口
50 混合物質
Claims (3)
- 燃焼炉で生成された排ガスが流れる排ガス流路と、
前記排ガス流路の内壁に設けられた放射伝面と、
粒子径が0.1μm以上10μm未満の腐食抑制粒子と液体状の還元剤を混合した混合物質を、前記排ガス流路内における最も上流側に位置する放射伝面の上流に供給する腐食抑制粒子供給部と、を備え、
前記腐食抑制粒子供給部は、前記排ガス流路に供給される排ガス温度が所定温度以下のときに前記混合物質を供給する第1供給口と、最も上流側に位置する放射伝面までの距離が前記第1供給口よりも短く、前記排ガス流路に供給される排ガス温度が前記所定温度よりも高いときに前記混合物質を供給する第2供給口と、有する、ボイラ。 - 前記腐食抑制粒子は、ゼオライト、ドロマイト、カオリナイト、又はこれらを主成分とする化合物である、請求項1に記載のボイラ。
- 燃焼炉で生成された排ガスが流れる排ガス流路と、前記排ガス流路の内壁に設けられた放射伝面と、を備えたボイラの腐食抑制方法であって、
前記排ガス流路に供給される排ガス温度が所定温度以下のとき、第1供給口から前記排ガス流路内における最も上流側に位置する放射伝面の上流に、粒子径が0.1μm以上10μm未満の腐食抑制粒子と液体状の還元剤を混合した混合物質を供給し、前記排ガス流路に供給される排ガス温度が前記所定温度よりも高いとき、最も上流側に位置する放射伝面までの距離が前記第1供給口よりも短い第2供給口から前記混合物質を供給する、腐食抑制方法。
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