JP6708580B2 - 位相差フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、位相差フィルムの製造方法に関するものである。

液晶ディスプレイ等に用いられる位相差フィルムや視野角補償フィルムとして、支持体上に配向層および液晶層が設けられたものが知られている。配向層は、液晶層の液晶化合物を一定方向に並べるための膜であり、配向用素材を含む塗膜に配向処理を行って配向規制力が与えられる。そして、配向層上に形成された液晶層中の液晶化合物は、配向層の配向に従って規則正しく配列した状態になる。液晶化合物を効率良く配向させることは、液晶ディスプレイの視野角向上、生産性向上のために重要である。

例えば、特許文献１には、二軸性位相差板における液晶化合物の配向を効率良く行うために、連続搬送される紫外線硬化層への紫外線照射装置であって、光源と光源前方に配置された光学フィルタとを備え、光学フィルタの境界が支持体の搬送方向と交差させて配置されている装置が開示されている。

特開２００６−３１３２３９号公報

一方、配向層の配向規制力を付与するための偏光を照射する前工程において、外的要因、例えば配向膜形成時に塗布液にかかるせん断力、乾燥時の風等によって意図せず部分的な配向が発生する場合がある。この配向膜の部分的な配向が、偏光照射の工程後も残存し、結果として上層の液晶化合物の配向の面内均一性を悪化させることがある。このような外的要因による配向を打ち消すためには、偏光の照射量を増やす必要がある。しかしながら、照射量を増やすと生産効率が低減するという問題がある。特許文献１に記載の技術は液晶層の硬化時に行う処置であり、配向層に意図せず生じた部分的な配向には対応することができない。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、光配向層によって液晶層の液晶化合物の配向が制御される位相差フィルムを製造する方法であって、液晶層の液晶化合物の配向乱れを抑制することが可能な位相差フィルムの製造方法を提供することを目的とするものである。

本発明の位相差フィルムの製造方法は、
搬送される連続フィルム支持体上に、液晶材料に対する配向規制力を備える配向層を形成するための配向層形成用材料を塗布および乾燥して第１の塗膜を形成する工程、
第１の塗膜に配向層形成用材料の吸収波長領域に合致する偏光を照射することにより配向規制力を付与して配向層を形成する工程、および
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する工程と、
第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程と、
を備える位相差フィルムの製造方法であって、
偏光を照射する前に、連続フィルム支持体の搬送面に対して垂直な方向±１０度の方向から、偏光のピーク波長±３０ｎｍにピーク波長を有する非偏光を照射する工程を有するものである。
ここで「ピーク波長」とは、照射される光のスペクトルにおいて第３位までの極大値をとる波長と定義する。
また、「配向層形成用材料の吸収波長領域に合致する偏光」とは、配向層形成用材料の吸収スペクトルの半値幅範囲にピーク波長が含まれた偏光を指す。

偏光のピーク波長は、２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることが好ましい。

連続フィルム支持体の搬送面に対して垂直な方向±５度の方向から、非偏光を照射することが好ましい。

第１の塗膜は、熱硬化されてなることが好ましい。

偏光は、搬送方向と直交する方向に延びる棒状光源から発せられた光がワイヤーグリッド偏光子によって偏光されたものであることが好ましい。

棒状光源とワイヤーグリッド偏光子との間に、棒状光源の長手方向に配列された複数の平行板からなるルーバーを備えることが好ましい。

本発明の位相差フィルムの製造方法において、偏光をバックアップロール上で照射してもよい。

非偏光の照射量は、２ｍＪ／ｃｍ^２以上であることが好ましい。

本発明の位相差フィルムの製造方法によれば、液晶化合物の配向乱れを抑制することができる。

図１は、本発明の位相差フィルムの製造方法の処理フローである。 図２は、非偏光を照射する工程を示す概略図である。 図３は、非偏光の照射角度を示す断面図である。 図４は、偏光を照射する工程を示す概略図である。 図５は、偏光をバックアップロール上で照射する場合を示す概略図である。 図６は、配向軸の面内均一性の評価のための、消光度と配向軸の測定位置を示す図である。

以下、本発明の位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。

［位相差フィルムの製造方法］
本発明の位相差フィルムの製造方法は、図１に示すように、
搬送される連続フィルム支持体上に、液晶材料に対する配向規制力を備える配向層を形成するための配向層形成用材料を塗布および乾燥して第１の塗膜を形成する工程（ＳＴ１）、
第１の塗膜に偏光を照射することにより配向規制力を付与して配向層を形成する工程（ＳＴ３）、および
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する工程（ＳＴ４）と、
第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する工程（ＳＴ５）と、
を備える位相差フィルムの製造方法であって、
配向層を形成する工程（ＳＴ３）の偏光を照射する前に、連続フィルム支持体の搬送面に対して垂直な方向±１０度の方向から、偏光のピーク波長±３０ｎｍにピーク波長を有する非偏光を照射する工程（ＳＴ２）を有するものである。

（ＳＴ２：非偏光を照射する工程）
まず、本発明の位相差フィルムの特徴的な工程である非偏光を照射する工程（ＳＴ２）について図２を参照しながら説明する。
本発明における非偏光を照射する工程（ＳＴ２）は、配向層を形成する工程（ＳＴ３）の偏光照射の前に、その偏光のピーク波長±３０ｎｍにピーク波長を有する非偏光を照射するものである。
非偏光を照射する工程（ＳＴ２）としては、例えば、図２に示すように、連続フィルム支持体５１上に第１の塗膜５２が形成されたフィルム５０に、棒状光源１０と、棒状光源からの光をフィルム５０方向へ反射する凹面反射鏡１１と、棒状光源の長手方向（図中Ｘ方向）に配列された複数の平行板２１からなるルーバー２０とから構成される照射装置から発せられた非偏光を照射する態様が挙げられる。
なお、ルーバー２０を有しない照射装置を用いてもよい。

非偏光の照射は、図３に示すように、フィルム５０の搬送面５０ａに対して垂直な方向（図中Ｓ）±１０度（図中θ）の方向から行うものである。より好ましい照射角度は、垂直な方向±５度であり、最も好ましい照射角度は垂直方向Ｓである。

このように第１の塗膜に非偏光を照射する工程（ＳＴ２）を有することにより、第１の塗膜を一旦、無配向状態にすることができる。
ここで、「無配向状態」とは、液晶が無秩序に並んだ状態を指し、光学顕微鏡などで観察するができる。本発明においては、下記実施例で行う定性的な評価によって判断する。
このように、一旦無配向状態を形成することで、その後の偏光照射において、少ない照射量で、均一に配向した配向層を形成することができる。すなわち、照射効率を上げることができる。

非偏光の照射量は、２ｍＪ／ｃｍ^２以上であることが好ましく、５Ｊ／ｃｍ^２以上であることがより好ましい。また、２０Ｊ／ｃｍ^２以下であることが好ましい。２ｍＪ／ｃｍ^２以上であることにより、充分に無配向状態を形成することができ、２０Ｊ／ｃｍ^２以下であることにより、生産性を犠牲にせずに無配向状態を形成することができる。

棒状光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプ、カーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡＧ（Yttrium Aluminum Garnet）レーザー）、発光ダイオード、陰極線管などを挙げることができる。

（ＳＴ３：配向層を形成する工程）
非偏光を照射する工程（ＳＴ２）に続いて行われる、偏光を照射して配向層を形成する工程（ＳＴ３）について説明する。
配向層を形成する工程（ＳＴ３）は、第１の塗膜に偏光を照射することにより配向規制力を付与して配向層を形成する工程である。配向規制力を付与する工程とは、配向層形成用材料に光反応を生じせしめるための操作である。
偏光を照射して配向層を形成する工程として、例えば、図４に示すように、連続フィルム支持体５１上に第１の塗膜５２が形成されたフィルム５０に、棒状光源１０と棒状光源からの光をフィルム５０方向へ反射する凹面反射鏡１１と、棒状光源の長手方向（図中Ｘ方向）に配列された複数の平行板２１からなるルーバー２０と、ルーバー２０によって平行光化された光を直線偏光するワイヤーグリッド偏光子３０とから構成される光配向装置によって行う。ワイヤーグリッド偏光子３０から発せられる偏光は、第１の塗膜５２に照射される。偏光紫外光のピーク波長は、２００ｎｍ〜４００ｎｍが好ましい。

光配向では、上記のような非接触の光照射によって光配向材料を配向させるため、ラビングのような不均一な物理的凹凸形状が発生しにくい。そのため、光配向によって配向規制力を付与された配向層を利用して作製した光学フィルムを用いた液晶表示装置では光漏れが低減され、高コントラストが実現できる。

偏光照射は、図５に示すように、フィルム５０をバックアップロール４０に巻き掛けて行ってもよい。特に、温度調節可能なバックアップロール上に行うことにより、より配向を均一に、効率良く行うことができる。

バックアップロールは、特に制限無く、公知のものを用いることができる。例えば、表面がハードクロムメッキされたものを好ましく用いることができる。メッキの厚さは、導電性と強度を確保する観点から４０μｍ〜６０μｍが好ましい。
また、バックアップロールの表面粗さは、皺の発生を防止して配向を均一に行う観点から、０．７ｓ以下が好ましい。
また、バックアップロールの温度調節は、温度制御手段によって行われるものであってもよい。例えば、バックアップロールの表面温度を検知し、その温度に基づいて温度制御手段によってバックアップロールの表面温度が維持されるようにしてもよい。加熱方法は、誘導加熱、水加熱、および油加熱等が挙げられる。

以下、非偏光を照射する工程（ＳＴ２）および配向層を形成する工程（ＳＴ３）以外の工程について工程順に説明する。

（ＳＴ１：第１の塗膜を形成する工程）
搬送方向Ｙに搬送される連続フィルム支持体上に、液晶化合物に対する配向規制力を備える配向層を形成するための配向層形成用材料を塗布および乾燥する。
以下、各構成要素の詳細を説明する。

−連続フィルム支持体−
連続フィルム支持体としては、バックアップロールに巻きかけることが可能なポリマーフィルムを用いることが好ましい。支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、ポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（商品名「アートン（登録商標）」、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（商品名「ゼオネックス（登録商標）」、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。

支持体の膜厚としては、５μｍ〜１０００μｍ程度であればよく、好ましくは１０μｍ〜２５０μｍであり、より好ましくは１５μｍ〜９０μｍである。

−配向層形成用材料−
光配向に用いられる配向層形成用材料としては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、またはエステル、特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、ＷＯ２０１０/１５０７４８号、特開２０１３−１７７５６１号公報、特開２０１４−１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物、クマリン化合物が挙げられる。特に好ましい例としては、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、エステル、シンナメート化合物、カルコン化合物が挙げられる。

−塗布方法−
配向層形成用材料を塗布する際の方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の方法が挙げられる。

−乾燥工程−
乾燥は、オーブン、温風、赤外線等によって、１００℃〜１３０℃で、２分〜５分間程度行うことが好ましい。

第１の塗膜は、熱硬化されてなるものであることが好ましい。熱硬化は、非偏光を照射する工程（ＳＴ２）の前後のいずれで行ってもよい。

（ＳＴ４：第２の塗膜を形成する工程）
配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する。液晶層形成用材料の塗布および乾燥は、上記配向層形成用材料の塗布および乾燥と同様の方法を用いることができ、その詳細な説明は省略する。

−液晶層形成用材料−
液晶層形成用材料は、棒状液晶化合物もしくは円盤状液晶化合物および少なくともキラル剤を含有し、さらに、配向制御剤、重合開始剤および配向助剤などのその他の成分を含有していてもよい。

−−棒状液晶化合物−−
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。

棒状液晶化合物を重合によって配向を固定することがより好ましく、重合性棒状液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号公報、同５６２２６４８号公報、同５７７０１０７号公報、ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、および特願２００１−６４６２７号公報などに記載の化合物を用いることができる。さらに棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報や特開２００７−２７９６８８号公報に記載のものも好ましく用いることができる。

−−円盤状液晶化合物−−
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報や特開２０１０−２４４０３８号公報に記載のものを好ましく用いることができる。

（ＳＴ５：液晶層を形成する工程）
第２の塗膜中の液晶化合物を配向させ、配向を固定して液晶層を形成する。

−液晶化合物の配向−
液晶層形成用材料の配向固定（硬化）の前には、第２の塗膜の液晶化合物の配向処理を行う。配向処理は、室温等により乾燥させる、または加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶層は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。

棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する場合、ネマチック相を発現する温度領域の方が、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域よりも高いことが普通である。従って、棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域まで棒状液晶化合物を加熱し、次に、加熱温度を棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域まで低下させることにより、棒状液晶化合物をネマチック相からスメクチック相に転移させることができる。このような方法をスメクチック相とすることで、液晶化合物が高秩序度で配向した液晶層を提供することができる。

棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がモノドメインを形成するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、1０秒間〜３分間がさらに好ましく、1０秒間〜２分間が最も好ましい。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、１０秒間〜３分間がさらに好ましく、１０秒間〜２分間が最も好ましい。

−配向の固定−
第２の塗膜中の液晶化合物の配向を固定して液晶層を形成する。
配向の固定は、熱重合や活性エネルギー線による重合で行うことができ、その重合に適した重合性基や重合開始剤を適宜選択することで行うことができる。製造適性等を考慮すると紫外線照射による重合反応を好ましく用いることができる。紫外線の照射量が少ないと、未重合の重合性棒状液晶が残存し、光学特性の温度変化や、経時劣化の起きる原因となる。
そのため、残存する重合性棒状液晶の割合が５%以下になる様に照射条件を決めることが好ましく、その照射条件は重合性組成物の処方や第２の塗膜の厚さにもよるが目安として紫外線照射量は、５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。

その他、液晶層の詳細は、特開２００８−２２５２８１号公報や特開２００８−０２６７３０号公報の記載を参酌できる。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

［実施例１］
以下に、実施例１の位相差フィルムの各製造工程について説明する。

（ＳＴ１：第１の塗膜の形成）
セルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム製）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、更に１００℃の温風で乾燥した。
次に、支持体表面に、下記の組成の配向層形成材料をワイヤーバーで塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、第１の塗膜を形成した。

−光配向膜形成用材料の調製−
光配向用素材Ｐ−１ １．０質量部
ブトキシエタノール ３３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ３３質量部
水 ３３質量部

（ＳＴ２：非偏光を照射する工程）
図２に示す照射装置を用いて、第１の塗膜上に配向層形成用材料の吸収波長領域に合致する非偏光を、照射角度を垂直方向Ｓとして照射して、無配向状態を形成した。
配向層形成材料の吸収波長は、０．１質量分率のクロロホルム溶液を調製し、日本分光社製分光光度計V-750を用いて測定した。
配向層形成用材料の吸収波長は、ＵＶ−Ｂに範囲を持つ。
ピーク波長３１３ｎｍの光源（商品名「H096-L41X」，アイグラフィックス社製、ＵＶ−Ｂを選択的に透過する光学フィルタを使用）を用い、照射角度は垂直方向Ｓとし、照射量をＵＶ(ultra-violet)−Ｂ領域において１０ｍＪ／ｃｍ^２とした。

（ＳＴ３：偏光を照射する工程）

次に、図４に示す光配向装置を用いて、第１の塗膜上に配向層形成用材料の吸収波長領域に合致する直線偏光を、照射角度を垂直方向Ｓとして照射して、光配向処理を行った。
このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux UVT-300A)を第１の塗膜の面と平行にして露光し、光配向処理を行った。この際用いる光源は、ピーク波長３１３ｎｍの光源（商品名「H096-L41X」，アイグラフィックス社製、ＵＶ−Ｂを選択的に透過する光学フィルタを使用）を用い、紫外線の照射量はＵＶ−Ｂ領域において１０ｍＪ／ｃｍ^２とした。

（ＳＴ４，ＳＴ５：第２の塗膜の形成，液晶層の形成）
続いて、下記の液晶層形成用材料を調製した。

−液晶層形成用材料の調製−
逆波長分散液晶性化合物 Ｒ−３ １００質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物Ａ ０．８質量部
架橋性ポリマー Ｏ−２ ０．３質量部
クロロホルム ５８８質量部

配向層上に液晶層形成用材料を、バーコーターを用いて塗布した。膜面温度１００℃で６０秒間加熱熟成し、７０℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより液晶層を形成した。形成された液晶層は、偏光照射方向に対し遅相軸方向が直交（すなわち、偏光板の吸収軸とも直交）であった（逆波長分散液晶性化合物が偏光照射方向に対して直交に配向していた）。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、リタデーションＲｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１３０ｎｍ、リタデーションＲｔｈが６５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８３、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０５、光軸のチルト角は０°で、逆波長分散液晶性化合物はホモジニアス配向であった。

［実施例２］
非偏光の照射量を５ｍＪ／ｃｍ^２にした以外は、実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［実施例３］
非偏光の照射角度を１０度にした以外は、実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［比較例１］
非偏光を照射する工程において、ピーク波長が３６５ｎｍの光源（商品名「H096-L41X」，アイグラフィックス社製、ＵＶ−Ａを選択的に透過する光学フィルタを使用）を用いた以外は、実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［比較例２］
非偏光の照射角度を２０度とした以外は、実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［比較例３］
非偏光の照射角度を４５度とした以外は、実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［比較例４］
非偏光を照射しなかった以外は実施例１と同様に位相差フィルムを作製した。

［配向軸の面内均一性の評価］
上記実施例および比較例で作製した位相差フィルムについて、下記方法および評価基準に基づいて配向軸の面内均一性を評価した。液晶層形成後の位相差フィルムを１５０ｍｍ角に切り出し、図６に示す５点について消光度および配向軸を測定した。

（消光度の測定）
消光度とは、光学補償フィルムによる光漏れを意味し、一般的には、クロスニコルに配置した２枚の偏光板間に、透過率が最小になるように光学補償フィルムを配置したときに測定される透過率である。具体的には、一方の偏光板は固定し、もう一方の偏光板と位相差膜をそれぞれ回転させて、最小透過率を測定することによって得られる。
例えば、光学補償フィルムを設置せずに偏光板をパラニコルに配置し、その明るさを計測しておいてこれを分母とする。その後その間に光学補償フィルムを設置し、一方の偏光板は固定、光学補償フィルムともう一方の偏光板をそれぞれ回転させながら一番暗い光を測定、分子としてその割合を計算することによって得られる。このとき、２枚それぞれが独立して回転するので、１回転毎に光学補償フィルムと一方の偏光板を０．２５°ずつ、ずらしながら測定する。
このように消光度はその角度と配向状態に大きく依存するから、光学補償フィルムの配向状態に部分的な乱れが生じると消光度は低下する。この現象を利用して、配向乱れの状態を消光度によって評価した。
実施例において、消光度の計測には、Ｗｉｎ６ＯＤ（大塚電子（株）製）を用いた。また、透過率の測定波長には５５０ｎｍを用い、パラニコル配置の偏光板の透過率を１００％とした。

（配向軸の測定）
液晶化合物層の遅相軸角度の測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＤＨ（王子計測機器（株）製）により行った。

（評価基準）
消光度の測定値については、５点の値を｛（最大値）−（最小値）｝÷（平均値）にあてはめてバラつきを算出し、配向軸については最大値と最小値との差分を算出した。これを表１にあてはめ、配向軸の面内均一性を評価した。

表２に、実施例および比較例の非偏光の照射条件、偏光の照射条件および評価を示す。

表２に示すように、実施例１の位相差フィルムは、非偏光を照射しない比較例４に比べ、配向軸の面内均一性に優れ、配向乱れが良好に抑制されていることがわかる。また、実施例の位相差フィルムは、非偏光と偏光のピーク波長差が５０ｎｍである比較例２に比べて、配向軸の面内均一性に優れる。またさらに、照射角度が連続フィルム支持体の搬送面に対して垂直な方向から２０度または４５度の方向から照射した比較例２および３に比べて、配向軸の面内均一性に優れる。

１０ 棒状光源
１１ 凹面反射鏡
２０ ルーバー
２１ 平行板
３０ ワイヤーグリッド偏光子
４０ バックアップロール
５０ 第１の塗膜が形成された支持体
５１ 支持体
５２ 第１の塗膜
５０ａ 搬送面
Ｓ 搬送面に垂直な方向
Ｙ 搬送方向
Ｘ 棒状光源の長手方向

Claims (8)

1. 搬送される連続フィルム支持体上に、液晶材料に対する配向規制力を備える配向層を形成するための配向層形成用材料を塗布および乾燥して第１の塗膜を形成する工程、
   前記第１の塗膜に配向層形成用材料の吸収波長領域に合致する偏光を照射することにより前記配向規制力を付与して前記配向層を形成する工程、および
   前記配向層上に液晶化合物を含む液晶層形成用材料を塗布および乾燥して第２の塗膜を形成する工程と、
   前記第２の塗膜中の前記液晶化合物を配向させ、該配向を固定して液晶層を形成する工程と、
   を備える位相差フィルムの製造方法であって、
   前記第１の塗膜を形成する工程の後であって前記偏光を照射する前に、前記連続フィルム支持体の搬送面に対して垂直な方向±１０度の方向から、前記偏光のピーク波長±３０ｎｍにピーク波長を有する非偏光を照射する工程を有する位相差フィルムの製造方法。
2. 前記偏光のピーク波長が、２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下である請求項１記載の位相差フィルムの製造方法。
3. 前記連続フィルム支持体の搬送面に対して垂直な方向±５度の方向から、前記非偏光を照射する請求項１または２記載の位相差フィルムの製造方法。
4. 前記第１の塗膜が、熱硬化されてなる請求項１から３いずれか１項記載の位相差フィルムの製造方法。
5. 前記偏光が、前記搬送方向と直交する方向に延びる棒状光源から発せられた光がワイヤーグリッド偏光子によって偏光されてなる請求項１から４いずれか１項記載の位相差フィルムの製造方法。
6. 前記棒状光源と前記ワイヤーグリッド偏光子との間に、前記棒状光源の長手方向に配列された複数の平行板からなるルーバーを備える請求項５記載の位相差フィルムの製造方法。
7. 前記偏光をバックアップロール上で照射する請求項１から６いずれか１項記載の位相差フィルムの製造方法。
8. 前記非偏光の照射量が、２ｍＪ／ｃｍ^２以上である請求項１から７いずれか１項記載の位相差フィルムの製造方法。