JP6746376B2 - 測定システム及び調整用設定値の切替方法 - Google Patents

Description

本発明は、測定システム及び調整用設定値の切替方法に関する。

近年、光学式の測定システムとして、ワークに可視光を照射して測定を行う可視測定に加えて、ワークに赤外光等の特殊光を照射して測定を行う特殊測定が可能な測定システムが利用されている。
例えば、下記の特許文献１には、ワークの可視観察（可視測定）を行う可視観察部及びワークの特殊観察（特殊測定）を行う特殊観察部の両方を有する光学式測定装置が開示されている。

特開２０１２−１２８２９５号公報

ところで、特殊測定を実現するためには、光の波長等の制御が必要であり、かかる制御は、例えばフィルタによって行われている。このため、１台の測定装置で複数の特殊観察を実現するためには、装置内に複数の特殊光の各々に対応するフィルタを搭載しておく必要があるため、実際に可能な特殊測定の数が制約される。また、特殊測定を切り替える際には、フィルタに応じた煩雑な設定値の調整を行う必要があるため、切替時間が長くなってしまう。

そこで、本発明はこれらの点に鑑みてなされたものであり、１台の装置で複数の特殊測定を実現すると共に、フィルタに応じた設定値を調整しやすくすることを目的とする。

本発明の第１の態様においては、それぞれ異なる特殊光を透過させるフィルタを有する複数のフィルタモジュールのうちの一のフィルタモジュールが着脱可能に装着される着脱部と、前記着脱部に装着された前記一のフィルタモジュールの前記フィルタを特定する特定部と、前記特定部が特定した前記フィルタに応じて、前記フィルタを用いての測定時の調整用設定値を切り替える設定値切替部とを備える、測定システムを提供する。

また前記着脱部は、複数設けられており、前記複数の着脱部には、それぞれ異なる前記フィルタモジュールが着脱可能に装着され、前記設定値切替部は、各着脱部に装着された前記フィルタモジュール毎に、前記調整用設定値を切り替えることとしてもよい。

また、前記測定システムは、前記複数の着脱部を回転させる回転部と、前記特殊光を発する光源と、を更に備え、前記回転部は、前記複数の着脱部のうちの一の着脱部に装着された前記フィルタモジュールを、前記光源からの特殊光が前記フィルタモジュールの前記フィルタを通過する通過位置へ位置させることとしてもよい。

また、前記複数の着脱部には、可視光が通過する光学部材を含む可視光モジュールが着脱可能に装着され、前記特定部は、前記着脱部に装着された前記フィルタモジュールと前記可視光モジュールとを識別することとしてもよい。

また、前記設定値切替部は、前記特定部が特定した前記フィルタに応じて、複数の調整用設定値を切り替えることとしてもよい。

また、前記フィルタモジュールは、前記フィルタとして、測定対象物へ向かう前記特殊光を透過させる第１フィルタ、及び前記測定対象物からの戻り光を透過させる第２フィルタを有し、前記特定部は、前記第１フィルタ及び前記第２フィルタを特定することとしてもよい。

また、前記特定部は、前記フィルタモジュールに設けられた抵抗の抵抗値に基づいて、前記フィルタを特定することとしてもよい。

また、前記特殊光は、赤外光及び励起光を含むこととしてもよい。

本発明の第２の態様においては、それぞれ異なる特殊光を透過させるフィルタを有する複数のフィルタモジュールのうちの一のフィルタモジュールが着脱可能に装着される着脱部を有する測定システムの調整用設定値の切替方法であって、前記着脱部に装着された前記一のフィルタモジュールの前記フィルタを特定するステップと、特定した前記フィルタに応じて、前記フィルタを用いての測定時の調整用設定値を切り替えるステップとを有する、調整用設定値の切替方法を提供する。

本発明によれば、１台の装置で複数の特殊測定を実現すると共に、フィルタに応じた設定値を調整しやすいという効果を奏する。

本発明の一の実施形態に係る測定システム１の構成の一例を示す図である。 第１測定部１５の内部構成の一例を説明するための模式図である。 着脱部１５３ａ、１５３ｂからフィルタモジュール５０及び可視光モジュール６０が取り外された状態を示す模式図である。 フィルタモジュール５０及び可視光モジュール６０の構成を説明するための模式図である。 赤外光の光路を説明するための模式図である。 可視光の光路を説明するための模式図である。 第２測定部１６の内部構成の一例を説明するための模式図である。 制御装置２０の構成の一例を示すブロック図である。 調整用設定値を切り替える際の測定システム１の動作例を説明するためのフローチャートである。

＜測定システム１の概要＞
図１を参照しながら、本発明の一の実施形態に係る測定システム１の構成について説明する。
図１は、一の実施形態に係る測定システム１の構成の一例を示す図である。

測定システム１は、測定する対象物に光を照射することで対象物の画像を取得して、対象物の寸法、高さ、形状等を測定する。測定システム１においては、様々な種類の対象物に対応できるように、可視光による画像取得に加えて、特殊光による画像取得との両方が可能となっている。図１に示すように、測定システム１は、画像測定機１０と、制御装置２０とを有する。

画像測定機１０は、架台１１と、ステージ１２と、Ｘ軸ガイド１３と、移動ユニット１４と、第１測定部１５と、第２測定部１６とを有する。

架台１１は、画像測定機１０のベースとなる部分である。架台１１は、例えば外部の振動の伝達を抑制する除振台の上に配置されている。

ステージ１２は、架台１１の上に配置されている。ステージ１２には、測定の対象物であるワークＷが載置される。ステージ１２は、図示しないＹ軸駆動機構によって、架台１１に対してＹ軸方向に移動する。

Ｘ軸ガイド１３は、Ｘ軸方向に沿って設けられている。Ｘ軸ガイド１３は、架台１１の側部から上方へ延びるように設けられた支持部１１ａ、１１ｂに支持されている。

移動ユニット１４は、Ｘ軸ガイド１３に取り付けられている。移動ユニット１４は、図示しないＸ軸駆動機構によって、Ｘ軸ガイド１３に沿って移動する。また、移動ユニット１４は、図示しないＺ軸駆動機構によって、Ｚ軸方向に移動する。

第１測定部１５及び第２測定部１６は、移動ユニット１４の下部に、ワークＷに対向するように設けられている。第１測定部１５及び第２測定部１６は、ワークＷに可視光又は特殊光を照射して、ワークＷの画像を取得する。詳細は後述するが、第１測定部１５及び第２測定部１６には、特殊光用のフィルタを有するフィルタモジュールが着脱可能に装着される。

制御装置２０は、画像測定機１０の動作を制御する。例えば、制御装置２０は、第１測定部１５及び第２測定部１６を制御する。また、詳細は後述するが、制御装置２０は、第１測定部１５及び第２測定部１６に装着されたフィルタモジュールのフィルタの種類に応じて、測定時の調整用設定値（具体的には、オフセットキャリブレーション等の設定値）を自動で切り替える。これにより、作業者が、フィルタモジュールを交換した際に、フィルタに応じた設定値の調整を行う必要がなくなる。

＜第１測定部１５及び第２測定部１６の内部構成＞
以下では、図２〜図６を参照しながら第１測定部１５の内部構成について説明した後に、図７を参照しながら第２測定部１６の内部構成について説明する。

（第１測定部１５の内部構成）
図２は、第１測定部１５の内部構成の一例を説明するための模式図である。
図２に示すように、第１測定部１５は、光源１５１と、ミラー１５２と、着脱部１５３ａ〜１５３ｃと、パワーターレット１５４と、対物レンズ１５５と、チューブレンズ１５６ａ〜１５６ｃと、撮像部１５７と、検出部１５８ａ〜１５８ｃとを有する。

光源１５１は、例えば、ハロゲン、放電灯、発光ダイオード等で構成されている。光源１５１は、可視光又は特殊光を発して、ミラー１５２に照射させる（図５参照）。光源１５１は、特殊光として、例えば励起光や赤外光を発する。光源１５１は、例えばワークＷがシリコン等から成る回路基板である場合に、赤外光を発する。また、光源１５１は、例えばワークＷがＩＣウエハである場合に、励起光を発する。なお、励起光は、ワークＷの表面に形成された蛍光体の色素分子に吸収された後に、蛍光体が厚みに応じた蛍光を放射する特性を有する。

ミラー１５２は、光源１５１から照射された可視光又は特殊光（励起光や赤外光）を、３つの着脱部１５３ａ〜１５３ｃのうちの測定位置に位置する着脱部内のビームスプリッタに向けて反射させる。

着脱部１５３ａ〜１５３ｃは、パワーターレット１５４内に円周方向に沿って所定間隔で配置されている。着脱部１５３ａ〜１５３ｃは、円周方向に沿って所定方向（図２に示す矢印Ｃの方向）に回転可能となっている。着脱部１５３ａ〜１５３ｃには、それぞれ光学モジュール（具体的には、フィルタモジュール５０又は可視光モジュール６０）が装着されている。ここでは、着脱部１５３ａにはフィルタモジュール５０が装着されており、着脱部１５３ｂ及び着脱部１５３ｃには可視光モジュール６０が装着されている。なお、フィルタモジュール５０は、ここでは赤外光用のフィルタを含むモジュールである。可視光モジュール６０は、フィルタを有しないモジュールである。

図３は、着脱部１５３ａ、１５３ｂからフィルタモジュール５０及び可視光モジュール６０が取り外された状態を示す模式図である。着脱部１５３ａ〜１５３ｃに装着されたフィルタモジュール５０や可視光モジュール６０は、取り外し可能である。例えば、作業者は、着脱部１５３ａから赤外光用のフィルタモジュール５０を取り外した後に、着脱部１５３ａに別のフィルタモジュール（例えば、図７に示す励起光用のフィルタモジュール７０）を装着可能である。

図４は、フィルタモジュール５０及び可視光モジュール６０の構成を説明するための模式図である。図５は、赤外光の光路を説明するための模式図である。図６は、可視光の光路を説明するための模式図である。なお、図４（ａ）に赤外光用のフィルタモジュール５０が示され、図４（ｂ）に可視光用の可視光モジュール６０が示されている。

フィルタモジュール５０は、図４（ａ）に示すように、近赤外透過フィルタ５１と、ビームスプリッタ５２と、ハイパスフィルタ５３と、接続部５４とを有する。なお、近赤外透過フィルタ５１が第１フィルタに該当し、ハイパスフィルタ５３が第２フィルタに該当する。

近赤外透過フィルタ５１は、図５に示すように、光源１５１が発した光のうちの赤外光のみを透過させるフィルタである。
ビームスプリッタ５２は、近赤外透過フィルタ５１を透過した赤外光を、対物レンズ１５５へ反射させる。また、ビームスプリッタ５２は、ワークＷからの戻り光を透過させる。

ハイパスフィルタ５３は、ビームスプリッタ５２を透過したワークＷからの戻り光のうちの赤外光のみを透過させるフィルタである。
接続部５４は、フィルタモジュール５０から外部に露出した部分である。接続部５４は、内部に所定の抵抗値を有する抵抗を含む。接続部５４は、フィルタモジュール５０が着脱部１５３ａに装着された際に、検出部１５８ａと接続される。そして、検出部１５８ａが抵抗値を検出することで、フィルタモジュール５０を特定できる。

可視光モジュール６０は、図４（ｂ）に示すように、ビームスプリッタ６２と接続部６４とを有するが、フィルタモジュール５０とは異なりフィルタを有しない。

ビームスプリッタ６２は、図６に示すように、ミラー１５２で反射された可視光を、対物レンズ１５５へ反射させる。また、ビームスプリッタ６２は、ワークＷからの戻り光を透過させる。
接続部６４は、可視光モジュール６０から外部に露出した部分である。接続部６４は、内部に所定の抵抗値を有する抵抗を含む。接続部６４の抵抗の抵抗値は、フィルタモジュール５０の接続部５４の抵抗の抵抗値とは異なる。接続部６４は、可視光モジュール６０が着脱部１５４ｂに装着された際に、検出部１５８ｂと接続される。

図２に戻り、パワーターレット１５４は、３つの着脱部１５３ａ〜１５３ｃを回転させる回転部として機能する。パワーターレット１５４は、３つの着脱部１５３ａ〜１５３ｃのうちの一の着脱部を、ワークＷから撮像部１５７へ向かう戻り光の光軸上に位置する測定位置に位置させる。また、パワーターレット１５４は、３つの着脱部１５３ａ〜１５３ｃを回転させることで、着脱部１５３ａ〜１５３ｃ内に設けられたチューブレンズ１５６ａ〜１５６ｃを切り替えることになる。

例えば、パワーターレット１５４は、光源１５１が赤外光を発する場合には、図５に示すように、フィルタモジュール５０が装着された着脱部１５３ａを測定位置に位置させる。また、パワーターレット１５４は、光源１５１が可視光を発する場合には、図６に示すように、可視光モジュール６０が装着された着脱部１５３ｂを測定位置に位置させる。なお、説明の便宜上、図５では着脱部１５３ｂ、１５３ｃに装着された可視光モジュール６０を省略し、図６では着脱部１５３ａ、１５３ｃに装着されたフィルタモジュール５０及び可視光モジュール６０を省略している。

対物レンズ１５５は、ワークＷに対向するように設けられている。対物レンズ１５５は、可視光又は特殊光を透過させる。また、対物レンズ１５５は、ワークＷからの戻り光を透過させる。

チューブレンズ１５６ａ〜１５６ｃは、着脱部１５３ａ〜１５３ｃ内にそれぞれ設けられている。具体的には、チューブレンズ１５６ａ〜１５６ｃは、フィルタモジュール５０や可視光モジュール６０の上方に設けられている。チューブレンズ１５６ａ〜１５６ｃは、それぞれ倍率が異なる３つの光学レンズである。チューブレンズ１５６ａ〜１５６ｃは、ワークＷからの戻り光を所定の倍率に変倍して通過させる。チューブレンズ１５６ａ〜１５６ｃを通過した戻り光は、撮像部１５７に入射される。

撮像部１５７は、ワークＷからの戻り光に基づいてワークＷの画像を撮像する。撮像部１５７は、例えば、ＣＣＤセンサやＣＭＯＳセンサ等の撮像素子を有する。撮像部１５７は、撮像したワークＷの画像を、制御装置２０に出力する。制御装置２０は、例えば、ワークＷの画像を表示装置に表示させる。

検出部１５８ａ〜１５８ｃは、着脱部１５３ａ〜１５３ｃに装着されたフィルタモジュール５０又は可視光モジュール６０を検出する。例えば、検出部１５８ａは、着脱部１５３ａにフィルタモジュール５０が装着された場合には、フィルタモジュール５０の接続部５４の抵抗の抵抗値を検出する。

（第２測定部１６の内部構成）
図７は、第２測定部１６の内部構成の一例を説明するための模式図である。
図７に示すように、第２測定部１６は、光源１６１と、着脱部１６２と、対物レンズ１６３と、チューブレンズ１６４と、撮像部１６５と、検出部１６６とを有する。

光源１６１は、例えば、ハロゲン、放電灯、発光ダイオード等で構成されている。光源１６１は、可視光又は特殊光を発する。光源１６１は、特殊光として、例えば励起光や赤外光を発する。

着脱部１６２には、光学モジュール（具体的には、フィルタモジュール又は可視光モジュール）が装着されている。ここでは、着脱部１６２には、フィルタモジュール７０が装着されている。フィルタモジュール７０は、ここでは励起光用のフィルタを含むモジュールである。フィルタモジュール７０は、励起フィルタ７１と、ビームスプリッタ７２と、蛍光フィルタ７３と、接続部７４とを有する。

励起フィルタ７１は、光源１６１が発した光のうちの、ワークＷから蛍光を放射させる波長の励起光のみを透過させるフィルタである。
ビームスプリッタ７２は、励起フィルタ７１を透過した励起光を、対物レンズ１６３へ反射させる。また、ビームスプリッタ７２は、ワークＷからの戻り光を透過させる。

蛍光フィルタ７３は、ビームスプリッタ７２を透過したワークＷからの戻り光のうちの蛍光のみを透過させるフィルタである。
接続部７４は、フィルタモジュール７０から外部に露出した部分である。接続部７４は、内部に所定の抵抗値を有する抵抗を含む。接続部７４は、フィルタモジュール７０が着脱部１６２に装着された際に、検出部１６６と接続される。

対物レンズ１６３は、ワークＷに対向するように設けられている。対物レンズ１６３は、可視光又は特殊光を透過させる。また、対物レンズ１６３は、ワークＷからの戻り光を透過させる。

チューブレンズ１６４は、ビームスプリッタ７２を透過した戻り光（ここでは、蛍光）を、所定の倍率に変倍して通過させる。チューブレンズ１６４を通過した戻り光は、撮像部１６５に入射される。

撮像部１６５は、ワークＷからの戻り光に基づいてワークＷの画像を撮像する。撮像部１６５は、例えば、ＣＣＤセンサやＣＭＯＳセンサ等の撮像素子を有する。撮像部１６５は、撮像したワークＷの画像を、制御装置２０に出力する。

検出部１６６は、着脱部１６２に着脱可能に装着された光学モジュールを検出する。例えば、検出部１６６は、着脱部１６２にフィルタモジュール７０が装着された場合には、接続部７４の抵抗の抵抗値を測定することで、フィルタモジュール７０を検出する。

なお、上記では、第１測定部１５に赤外光用のフィルタモジュール５０が装着されていることとしたが、これに限定されない。例えば、第１測定部１５に、フィルタモジュール５０に加えて、励起光用のフィルタモジュール７０も装着されてもよい。かかる場合には、移動ユニット１４及びワークＷを移動させなくても、３つの着脱部１５３ａ〜１５３ｃを回転させることで、可視光によるワークＷの画像取得と、２種類の特殊光の各々によるワークＷの画像取得が可能となる。

また、上記では、特殊光として、赤外光や励起光を例に挙げて説明したが、これに限定されない。例えば、特殊光として偏光が用いられてもよい。

＜調整用設定値の切り替え＞
前述したように、第１測定部１５の着脱部１５３ａ〜１５３ｃ及び第２測定部１６の着脱部１６２には、様々な特殊光用のフィルタモジュール５０、７０が着脱可能に装着される。画像測定機１０がワークＷの画像を取得する際のオフセットキャリブレーション等の設定値（調整用設定値）は、フィルタモジュールのフィルタ毎に適した値が異なる。
そこで、本実施形態では、フィルタモジュールが装着されると、測定時の調整用設定値がフィルタモジュールに応じた設定値に自動で切り替えられる。このような調整用設定値の切り替えは、制御装置２０によって実行される。

図８は、制御装置２０の構成の一例を示すブロック図である。制御装置２０は、記憶部２１と制御部２２とを有する。

記憶部２１は、例えばＲＯＭ（Read Only Memory）及びＲＡＭ（Random Access Memory）を含む。記憶部２１は、制御部２２が実行するためのプログラムや各種データを記憶している。例えば、記憶部２１は、各フィルタモジュールの接続部の抵抗値を記憶している。また、記憶部２１は、各フィルタモジュールのフィルタと、調整用設定値とを対応づけて記憶している。

制御部２２は、例えばＣＰＵ（Central Processing Unit）である。制御部２２は、記憶部２１に記憶されたプログラムを実行することにより、画像測定機１０の動作を制御する。本実施形態では、制御部２２は、特定部２２２、設定値切替部２２４及び測定制御部２２６として機能する。

特定部２２２は、第１測定部１５の着脱部１５３ａ〜１５３ｃ又は第２測定部１６の着脱部１６２に装着されたフィルタモジュールのフィルタを特定する。例えば、着脱部１５３ａにフィルタモジュール５０が装着された場合には、特定部２２２は、フィルタモジュール５０の２つのフィルタ（具体的には、近赤外透過フィルタ５１とハイパスフィルタ５３）を特定する。

前述したように、フィルタモジュール５０、７０には、それぞれ抵抗値が異なる抵抗が設けられており、検出部１５８ａ〜１５８ｃ（ここでは、図８に示すように検出部１５８と総称する）が着脱部１５３ａ〜１５３ｃに装着されたフィルタモジュールの抵抗値を検出し、検出部１６６が着脱部１６２に装着されたフィルタモジュールの抵抗値を検出する。そして、特定部２２２は、検出部１５８、１６６が検出した抵抗値に基づいて、フィルタモジュールのフィルタを特定する。

特定部２２２は、フィルタモジュール５０、７０に加えて、可視光モジュール６０も特定可能である。すなわち、特定部２２２は、着脱部１５３ａ〜１５３ｃに装着されたフィルタモジュール５０、７０と可視光モジュール６０とを識別可能である。

設定値切替部２２４は、特定部２２２が特定した特定フィルタに応じて、特定フィルタを用いての測定時の調整用設定値を切り替える。調整用設定値は、例えば、オフセットキャリブレーション、レンズキャリブレーション、照明キャリブレーションの設定値である。設定値切替部２２４は、特定部２２２が特定したフィルタに応じて、オフセットキャリブレーション、レンズキャリブレーション、照明キャリブレーションの設定値を、それぞれ切り替える。

ここで、オフセットキャリブレーションは、ワークＷに対する光軸方向の長さの調整を意味する。レンズキャリブレーションは、ワークＷの画像の表示画面内の位置の調整を意味する。照明キャリブレーションは、光源１５１、１６１の強さの調整を意味する。

設定値切替部２２４は、複数の着脱部１５３ａ〜１５３ｃの各々に装着されたフィルタモジュール毎に、調整用設定値を切り替える。これにより、１台の装置で、複数の特殊光によるワークＷの画像取得が可能となる。

測定制御部２２６は、第１測定部１５や第２測定部１６による測定を制御する。測定制御部２２６は、設定値切替部２２４が切り替えた調整用設定値に基づいて、測定を行う。具体的には、測定制御部２２６は、３つの着脱部１５３ａ〜１５３ｃのうちの測定位置に位置する着脱部に装着されているフィルタモジュールに対応する調整用設定値を用いて、測定を行う。これにより、高精度に測定を行うことが可能となる。

＜測定システム１の動作例＞
図９を参照しながら、調整用設定値を切り替える際の測定システム１の動作例を説明する。

図９は、調整用設定値を切り替える際の測定システム１の動作例を説明するためのフローチャートである。本動作は、制御装置２０の制御部２２が記憶部２１に記憶されたプログラムを実行することで実現される。

図９のフローチャートでは、第１測定部１５の着脱部１５３ａにフィルタモジュール５０が装着されたところから開始される。
検出部１５８ａは、着脱部１５３ａに装着されたフィルタモジュール５０の抵抗値を検出する（ステップＳ１０２）。例えば、検出部１５８ａは、フィルタモジュール５０の接続部５４の抵抗の抵抗値を検出する。

次に、特定部２２２は、検出部１５８ａが検出した抵抗値の大きさと、記憶部２１に記憶された抵抗値とフィルタモジュール（当該フィルタモジュール内のフィルタに関する情報も含む）との対応関係とに基づいて、着脱部１５３ａに装着されたフィルタモジュール５０を特定する（ステップＳ１０４）。ここでは、特定部２２２は、検出部１５８ａが検出した抵抗値の大きさから、着脱部１５３ａに装着されたフィルタモジュール５０のフィルタを特定する。

次に、設定値切替部２２４は、特定部２２２が特定した特定フィルタに応じて、特定フィルタを用いての測定時の調整用設定値を切り替える（ステップＳ１０６）。例えば、設定値切替部２２４は、例えば記憶部２１に記憶されたフィルタと調整用設定値の対応関係を参照して、特定フィルタに対応する調整用設定値に切り替える。

次に、測定制御部２２６は、フィルタモジュール５０が装着された着脱部１５３ａが測定位置に位置した状態で測定を行う際に、設定値切替部２２４が切り替えた調整用設定値で用いて測定を行う（ステップＳ１０８）。これにより、フィルタモジュール５０のフィルタに最適な調整用設定値で測定が行われる。

＜本実施形態における効果＞
上述した測定システム１は、着脱部（着脱部１５３ａ〜１５３ｃと着脱部１６２）に装着されたフィルタモジュールのフィルタを特定する。これにより、様々な特殊光用のフィルタモジュールが着脱部１５３ａ〜１５３ｃや着脱部１６２に装着されても、各着脱部に装着されたフィルタモジュールを特定できる。
また、測定システム１は、特定したフィルタに応じて、前記フィルタを用いての測定時の調整用設定値を切り替える。これにより、着脱部１５３ａ〜１５３ｃ及び着脱部１６２のうちのいずれかに装着されたフィルタモジュールを用いて特殊光による測定を行う際に、前記フィルタモジュールのフィルタに適した調整用設定値で行うことができる。この結果、最適な測定を行うことができる。

そして、上記の測定システム１によれば、複数の画像測定機を使用しなくても、１台の画像測定機１０で複数の特殊光によるワークＷの画像取得が可能となる。また、フィルタモジュールを交換することで、対応可能なワークＷの種類が増大する。更に、１台の画像測定機１０で複数の特殊光によるワークＷの画像取得が可能となることで、測定の高速化を実現できると共に、測定に要するコストを低減できる。

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。そのような変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。

１ 測定システム
５０ フィルタモジュール
６０ 可視光モジュール
７０ フィルタモジュール
１５１ 光源
１５３ａ〜１５３ｃ 着脱部
１５４ パワーターレット
１６２ 着脱部
２２２ 特定部
２２４ 設定値切替部
Ｗ ワーク

Claims (9)

1. それぞれ異なる特殊光を透過させるフィルタを有する複数のフィルタモジュールのうちの一のフィルタモジュールが着脱可能に装着される着脱部と、
   前記一のフィルタモジュールが前記着脱部に装着された際に、前記一のフィルタモジュールを識別して前記一のフィルタモジュールの前記フィルタを特定する特定部と、
   前記フィルタモジュールの各フィルタと、測定機のキャリブレーションの設定値との対応関係を記憶している記憶部と、
   前記記憶部に記憶された前記対応関係を参照し、前記特定部が特定した前記フィルタに対応した前記キャリブレーションの設定値に切り替える設定値切替部と、
   を備える、測定システム。
2. 前記着脱部は、複数設けられており、
   前記複数の着脱部には、それぞれ異なる前記フィルタモジュールが着脱可能に装着され、
   前記設定値切替部は、各着脱部に装着された前記フィルタモジュール毎に、前記キャリブレーションの設定値を切り替える、
   請求項１に記載の測定システム。
3. 前記複数の着脱部を回転させる回転部と、
   前記特殊光を発する光源と、
   を更に備え、
   前記回転部は、前記複数の着脱部のうちの一の着脱部に装着された前記フィルタモジュールを、前記光源からの特殊光が前記フィルタモジュールの前記フィルタを通過する通過位置へ位置させる、
   請求項２に記載の測定システム。
4. 前記複数の着脱部には、可視光が通過する光学部材を含む可視光モジュールが着脱可能に装着され、
   前記特定部は、前記着脱部に装着された前記フィルタモジュールと前記可視光モジュールとを識別する、
   請求項２又は３に記載の測定システム。
5. 前記設定値切替部は、前記特定部が特定した前記フィルタに応じて、複数の前記キャリブレーションの設定値を切り替える、
   請求項１から４のいずれか１項に記載の測定システム。
6. 前記フィルタモジュールは、前記フィルタとして、測定対象物へ向かう前記特殊光を透過させる第１フィルタ、及び前記測定対象物からの戻り光を透過させる第２フィルタを有し、
   前記特定部は、前記第１フィルタ及び前記第２フィルタを特定する、
   請求項１から５のいずれか１項に記載の測定システム。
7. 前記特定部は、前記フィルタモジュールに設けられた抵抗の抵抗値に基づいて、前記フィルタを特定する、
   請求項１から６のいずれか１項に記載の測定システム。
8. 前記特殊光は、赤外光及び励起光を含む、
   請求項１から７のいずれか１項に記載の測定システム。
9. それぞれ異なる特殊光を透過させるフィルタを有する複数のフィルタモジュールのうちの一のフィルタモジュールが着脱可能に装着される着脱部を有する測定システムの調整用設定値の切替方法であって、
   前記一のフィルタモジュールが前記着脱部に装着された際に、前記一のフィルタモジュールを識別して前記一のフィルタモジュールの前記フィルタを特定するステップと、
   前記フィルタモジュールの各フィルタと測定機のキャリブレーションの設定値との対応関係を記憶している記憶部の前記対応関係を参照し、特定した前記フィルタに対応した前記キャリブレーションの設定値に切り替えるステップと、
   を有する、調整用設定値の切替方法。
   

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