JP6796609B2 - 収差測定方法および電子顕微鏡 - Google Patents
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Description
電子顕微鏡における収差測定方法であって、
試料の透過電子顕微鏡像である第1画像を取得する工程と、
前記試料に照射される電子線の照射角を走査し、互いに異なる照射角で得られた複数の透過電子顕微鏡像を多重露光して、第2画像を取得する工程と、
前記第1画像および前記第2画像から収差を計算する工程と、
を含む。
電子源と、
前記電子源から放出された電子線を偏向する偏向器を含む照射系と、
試料を透過した電子で透過電子顕微鏡像を結像する結像系と、
前記結像系で結像された透過電子顕微鏡像を撮影する撮像装置と、
前記結像系の収差を測定する収差測定部と、
を含み、
前記収差測定部は、
前記試料の透過電子顕微鏡像である第1画像を取得する処理と、
前記試料に照射される電子線の照射角が走査されるように前記偏向器を制御して、互いに異なる照射角で得られた複数の透過電子顕微鏡像が多重露光された第2画像を取得する処理と、
前記第1画像および前記第2画像から収差を計算する処理と、
を行う。
まず、本実施形態に係る電子顕微鏡について図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る電子顕微鏡100の構成を示す図である。
お、照射系2は、照射系レンズ11および偏向器12以外の電子レンズや、偏向器、絞りなどを備えていてもよい。
4は、基準画像(第1画像)を取得する処理、多重露光画像(第2画像)を取得する処理、基準画像と多重露光画像から収差を計算する処理などの処理を行う。収差測定部44の処理の詳細については後述する「3. 電子顕微鏡の動作」で説明する。
次に、本実施形態に係る収差測定方法について説明する。図2は、本実施形態に係る収差測定方法の一例を示すフローチャートである。
まず、偏向器12で電子線EBを偏向させない状態でTEM像(基準画像)を取得する。
次に、偏向器12で電子線EBの照射角を走査し、互いに異なる照射角で得られた複数のTEM像を多重露光して、多重露光画像を取得する。多重露光は、複数のTEM像を重ねて撮影することをいう。多重露光画像は、複数のTEM像を重ねて撮影することにより、複数のTEM像を1つの画像としたものである。
。これにより、第1照射角θ1で得られたTEM像、第2照射角θ2で得られたTEM像、第3照射角θ3で得られたTEM像、および第4照射角θ4で得られたTEM像が重なった多重露光画像I2が得られる。
次に、基準画像I1と多重露光画像I2から相関関数を計算して、結像系4の収差を計算する。
表している。この相関関数のピークの位置から最小二乗法などを用いて収差係数を計算することができる。
次に、電子顕微鏡100の動作について説明する。電子顕微鏡100では、自動で結像系4の収差を測定することができる。電子顕微鏡100では、収差測定部44が、上述した図2に示す基準画像I1を取得する工程(S100)、多重露光画像I2を取得する工程(S102)、および基準画像I1と多重露光画像I2から収差を計算する工程(S104)を行う。
ることで、基準画像I1の取得や多重露光画像I2の取得を行ってよい。
本実施形態に係る収差測定方法は、例えば、以下の特徴を有する。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
まず、第1変形例について説明する。
次に、第2変形例について説明する。
次に、第3変形例について説明する。
Claims (7)
- 電子顕微鏡における収差測定方法であって、
試料の透過電子顕微鏡像である第1画像を取得する工程と、
前記試料に照射される電子線の照射角を走査し、互いに異なる照射角で得られた複数の透過電子顕微鏡像を多重露光して、第2画像を取得する工程と、
前記第1画像および前記第2画像から収差を計算する工程と、
を含む、収差測定方法。 - 請求項1において、
前記第2画像を取得する工程において、照射角の走査を、前記電子顕微鏡の照射系の偏向器を用いて行う、収差測定方法。 - 請求項1または2において、
前記第2画像を取得する工程では、前記試料に照射される電子線の照射角を第1照射角から第n照射角(ただしnは2以上の整数)まで走査することを繰り返して、複数の透過電子顕微鏡像を多重露光する、収差測定方法。 - 請求項1ないし3のいずれか1項において、
前記収差を計算する工程では、前記第1画像と前記第2画像から相関関数を計算し、計算された相関関数に現れる複数のピークの位置から前記収差を求める、収差測定方法。 - 請求項1ないし4のいずれか1項において、
前記第2画像を取得する工程を、デフォーカス量を変えて複数回行うことで、複数の前記第2画像を取得し、
前記収差を計算する工程では、複数の前記第2画像の各々について前記第1画像との相関関数を計算し、得られた複数の相関関数から、複数のピークの各々に対応する照射角を求める、収差測定方法。 - 請求項1または2において、
前記第2画像を取得する工程を、走査される照射角の組み合わせを変えて複数回行うことで、複数の前記第2画像を取得し、
前記収差を計算する工程では、複数の前記第2画像の各々について前記第1画像との相関関数を計算し、得られた複数の相関関数から収差を求める、収差測定方法。 - 電子源と、
前記電子源から放出された電子線を偏向する偏向器を含む照射系と、
試料を透過した電子で透過電子顕微鏡像を結像する結像系と、
前記結像系で結像された透過電子顕微鏡像を撮影する撮像装置と、
前記結像系の収差を測定する収差測定部と、
を含み、
前記収差測定部は、
前記試料の透過電子顕微鏡像である第1画像を取得する処理と、
前記試料に照射される電子線の照射角が走査されるように前記偏向器を制御して、互いに異なる照射角で得られた複数の透過電子顕微鏡像が多重露光された第2画像を取得する処理と、
前記第1画像および前記第2画像から収差を計算する処理と、
を行う、電子顕微鏡。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018030713A JP6796609B2 (ja) | 2018-02-23 | 2018-02-23 | 収差測定方法および電子顕微鏡 |
| US16/282,897 US10886099B2 (en) | 2018-02-23 | 2019-02-22 | Method of aberration measurement and electron microscope |
| EP19158939.9A EP3540756B1 (en) | 2018-02-23 | 2019-02-22 | Method of aberration measurement and electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018030713A JP6796609B2 (ja) | 2018-02-23 | 2018-02-23 | 収差測定方法および電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019145454A JP2019145454A (ja) | 2019-08-29 |
| JP6796609B2 true JP6796609B2 (ja) | 2020-12-09 |
Family
ID=65529583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018030713A Active JP6796609B2 (ja) | 2018-02-23 | 2018-02-23 | 収差測定方法および電子顕微鏡 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10886099B2 (ja) |
| EP (1) | EP3540756B1 (ja) |
| JP (1) | JP6796609B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11990315B2 (en) * | 2022-02-28 | 2024-05-21 | Fei Company | Measurement and correction of optical aberrations in charged particle beam microscopy |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002117800A (ja) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Jeol Ltd | 電子線バイプリズム装置を備えた電子顕微鏡 |
| AU2003211559A1 (en) * | 2002-03-01 | 2003-09-16 | Nikon Corporation | Projection optical system adjustment method, prediction method, evaluation method, adjustment method, exposure method, exposure device, program, and device manufacturing method |
| US6924488B2 (en) * | 2002-06-28 | 2005-08-02 | Jeol Ltd. | Charged-particle beam apparatus equipped with aberration corrector |
| JP4154939B2 (ja) | 2002-07-16 | 2008-09-24 | 日本電子株式会社 | 透過電子顕微鏡および焦点合わせ方法 |
| JP2005019218A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-20 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡装置 |
| JP4383950B2 (ja) * | 2004-04-23 | 2009-12-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 |
| WO2010035386A1 (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線応用装置およびその幾何収差測定方法 |
| JP5103532B2 (ja) * | 2009-01-19 | 2012-12-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 収差補正器を備えた荷電粒子線装置 |
| JP2013519980A (ja) * | 2010-02-10 | 2013-05-30 | モチイ,インコーポレイテッド(ディービーエー ヴォクサ) | 収差補正暗視野電子顕微鏡 |
| EP2461347A1 (en) * | 2010-12-06 | 2012-06-06 | Fei Company | Detector system for transmission electron microscope |
| EP2686864B1 (en) * | 2011-03-18 | 2015-05-06 | Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL) | Electron beam apparatus |
| JP6239246B2 (ja) * | 2013-03-13 | 2017-11-29 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、試料観察方法、試料台、観察システム、および発光部材 |
| US9831061B2 (en) * | 2013-12-09 | 2017-11-28 | North Carolina State University | Methods, systems, and computer readable media for measuring and correcting drift distortion in images obtained using a scanning microscope |
| JP6326303B2 (ja) * | 2014-06-18 | 2018-05-16 | 日本電子株式会社 | 収差計測角度範囲計算装置、収差計測角度範囲計算方法、および電子顕微鏡 |
| US9552961B2 (en) * | 2015-04-10 | 2017-01-24 | International Business Machines Corporation | Scanning transmission electron microscope having multiple beams and post-detection image correction |
-
2018
- 2018-02-23 JP JP2018030713A patent/JP6796609B2/ja active Active
-
2019
- 2019-02-22 EP EP19158939.9A patent/EP3540756B1/en active Active
- 2019-02-22 US US16/282,897 patent/US10886099B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20190267210A1 (en) | 2019-08-29 |
| JP2019145454A (ja) | 2019-08-29 |
| EP3540756A1 (en) | 2019-09-18 |
| US10886099B2 (en) | 2021-01-05 |
| EP3540756B1 (en) | 2020-06-17 |
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