JP6807660B2 - セラミックヒータ素子、および、セラミックグロープラグ - Google Patents

セラミックヒータ素子、および、セラミックグロープラグ Download PDF

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Description

本明細書は、セラミックヒータ素子、および、セラミックグロープラグに関する。
セラミックグロープラグ等に設けられるセラミックヒータ素子は、例えば、発熱抵抗体と、発熱抵抗体を埋設するセラミック(例えば、窒化ケイ素等)からなる支持体と、を備えている。また、発熱抵抗体は、発熱部と、発熱部に接続されたリード部と、を含んでいる。発熱部とリード部とは、例えば、窒化ケイ素と導電物質を含む材料で形成されている。通電時には、リード部を通じて発熱部に電力が供給され、発熱部の温度が高くなる。
国際公開第2013/047849号 国際公開第2014/003093号 特開2006−127995号公報 特開2010−277706号公報
通電時に発熱部の温度をより高くするために、発熱部の抵抗値がリード部の抵抗値よりも大きくなるように、発熱部とリード部とが構成される。例えば、発熱部とリード部との間で材料組成比(例えば、窒化ケイ素と導電物質のそれぞれの割合)を異ならせることによって、発熱部の抵抗値がリード部の抵抗値よりも大きくなる。ところが、発熱部とリード部との間で材料組成比が異なる場合、発熱部とリード部との接続部分の強度が低下する場合があった。
本明細書は、発熱部とリード部との間で材料組成比が異なる発熱抵抗体を有するセラミックヒータ素子において、発熱部とリード部との接合面での強度の低下を抑制できる技術を開示する。
本明細書は、例えば、以下の適用例を開示する。
[適用例1]
発熱部と前記発熱部に接続されたリード部とを含む発熱抵抗体と、前記発熱抵抗体を埋設するセラミックからなる支持体と、を備えるセラミックヒータ素子であって、
前記発熱部は、窒化ケイ素と第1導電物質とを含み、
前記リード部は、窒化ケイ素と第2導電物質とを含み、
前記発熱部の断面上において15μm×15μmの正方形の第1対象領域に少なくとも一部が含まれる前記窒化ケイ素の粒子の最大外径の平均値は、前記リード部の断面上において15μm×15μmの正方形の第2対象領域に少なくとも一部が含まれる前記窒化ケイ素の粒子の最大外径の平均値よりも大きく、
前記発熱部の前記第1対象領域における前記第1導電物質の割合は、前記リード部の前記第2対象領域における前記第2導電物質の割合よりも、小さい、
セラミックヒータ素子。
このように、発熱部の第1対象領域における第1導電物質の割合が、リード部の第2対象領域における第2導電物質の割合よりも小さいと、発熱部の抵抗値をリード部の抵抗値よりも大きくすることができ、発熱部の温度を高くすることができる。
しかしながら、発熱部とリード部との間で導電物質の割合を異ならせる(つまり発熱部とリード部との間で材料組成比を異ならせる)と、発熱部とリード部との接合面で強度が低下する場合がある。これに対し、本適用例の構成では、第1対象領域に少なくとも一部が含まれる窒化ケイ素の粒子の最大外径の平均値を、第2対象領域に少なくとも一部が含まれる窒化ケイ素の粒子の最大外径の平均値よりも大きくしている。これにより、発熱部とリード部との接合面での強度の低下を抑制できる。
発明者らは、発熱部とリード部との接合面での強度の低下を抑制できる理由として、以下の理由を推定している。つまり、接合面の付近では、発熱部とリード部との熱膨張差に起因した亀裂が発生しやすいが、外径が長い窒化ケイ素の粒子が接合面の付近により多く存在すると、この亀裂が接合面の付近に発生したとしても亀裂の進行を抑制でき、その結果、強度の低下を抑制できると考えている。
そして、窒化ケイ素がより多く含まれる発熱部(例えば、第1導電物質の割合をより少なくすることで、窒化ケイ素の割合がより多くなる)の第1対象領域に少なくとも一部が含まれる窒化ケイ素の粒子の最大外径の平均値を、窒化ケイ素が相対的に少なく含まれるリード部(例えば、第2導電物質の割合を相対的に多くすることで、窒化ケイ素の割合が相対的に少なくなる)の第2対象領域に少なくとも一部が含まれる窒化ケイ素の粒子の最大外径の平均値よりも大きくすることで、この接合面の付近に外径が長い窒化ケイ素の粒子を多く存在させることができると考えている。
[適用例2]
適用例1に記載のセラミックヒータ素子であって、
前記セラミックヒータ素子の形状は、軸線の方向に延びる棒状であり、
前記発熱部は、前記軸線の方向の先端側に配置されるとともに、前記リード部は、前記軸線の方向に沿って延びており、
前記発熱部と前記リード部とは、前記軸線の方向に垂直な方向に重なって接続されており、
前記リード部と前記発熱部との接合面は、前記軸線の方向に対して斜めに傾斜している部分を含む、
セラミックヒータ素子。
このように、リード部と発熱部との接合面は、軸線の方向に対して斜めに傾斜している部分を含んでいる。この構成によれば、接合面の全体が軸線の方向に垂直である場合と比べて接合面の面積が大きくなるので、外径が長い窒化ケイ素の粒子が接合面の付近により多く存在することができ、リード部と発熱部との接合面で強度の低下をより抑制できる。
[適用例3]
適用例1または2に記載のセラミックヒータ素子と、
前記セラミックヒータ素子の後端部を収容する筒状の主体金具と、
を有するセラミックグロープラグ。
なお、本明細書に開示の技術は、種々の態様で実現することが可能であり、例えば、セラミックヒータ素子、セラミックヒータ素子の製造方法、セラミックヒータ素子とセラミックヒータ素子を保持する金属外筒とを有するセラミックヒータモジュール、セラミックヒータ素子と主体金具とを有するセラミックグロープラグ、等の態様で実現することができる。
実施形態のセラミックグロープラグの一例の概略図である。 セラミックヒータ素子40の先端部分の拡大断面図である。 走査型電子顕微鏡(SEM)による抵抗体220の断面画像の例である。 評価試験の結果を示す表である。 曲げ試験における3個の支持具S1、S2、S3の配置を示す説明図である。
A.実施形態:
A1.セラミックグロープラグの構成:
図1は、実施形態のセラミックグロープラグの一例の概略図である。図1(A)は、セラミックグロープラグ10(以下、単に「グロープラグ10」とも呼ぶ)の断面図であり、図1(B)は、グロープラグ10のうちのセラミックヒータ素子40を含む部分を示す拡大断面図である。図示されたラインCLは、グロープラグ10の中心軸を示している。図示された断面は、中心軸CLを含む平らな断面である。以下、中心軸CLのことを「軸線CL」とも呼び、中心軸CLに平行な方向を「軸線方向」とも呼ぶ。中心軸CLを中心とする円の径方向を、単に「径方向」とも呼び、中心軸CLを中心とする円の円周方向を「周方向」とも呼ぶ。中心軸CLと平行な方向のうち、図1における下方向を第1方向D1と呼ぶ。第1方向D1は、後述する端子部材80からセラミックヒータ素子40に向かう方向である。図中の第2方向D2と第3方向D3とは、互いに垂直な方向であり、いずれも、第1方向D1と垂直な方向である。以下、第1方向D1を、先端方向D1とも呼び、第1方向D1の反対方向を、後端方向D1rとも呼ぶ。また、図1における先端方向D1側をグロープラグ10の先端側と呼び、図1における後端方向D1r側をグロープラグ10の後端側と呼ぶ。
グロープラグ10は、主体金具20と、中軸30と、セラミックヒータ素子40(以下、単に「ヒータ素子40」とも呼ぶ)と、Oリング50と、絶縁部材60と、金属外筒70(以下、単に「外筒70」とも呼ぶ)と、端子部材80と、接続部材90と、を含んでいる。主体金具20は、中心軸CLに沿って延びる貫通孔20xを有する筒状の部材である。また、主体金具20は、後端方向D1r側の端部に形成された工具係合部28と、工具係合部28よりも先端方向D1側に設けられた雄ネジ部22と、を含んでいる。工具係合部28は、グロープラグ10の脱着時に、図示しない工具と係合する部分である。雄ネジ部22は、図示しない内燃機関の取付孔の雌ネジに螺合するためのネジ山を含んでいる。主体金具20は、導電性材料(例えば、炭素鋼等の金属)で形成されている。
主体金具20の貫通孔20xには、中軸30が収容されている。中軸30は、丸棒状の部材である。中軸30は、導電材料(例えば、ステンレス鋼)で形成されている。中軸30の後端方向D1r側の端部である後端部39は、主体金具20の後端方向D1r側の開口OPbから後端方向D1rに向かって突出している。
開口OPbの近傍において、中軸30の外面と、主体金具20の貫通孔20xの内面と、の間には、Oリング50が設けられている。Oリング50は、弾性材料(例えば、ゴム)で形成されている。さらに、主体金具20の開口OPbには、リング状の絶縁部材60が装着されている。絶縁部材60は、筒状部62と、筒状部62の後端方向D1r側に設けられたフランジ部68と、を含んでいる。筒状部62は、中軸30の外面と、主体金具20の開口OPbを形成する部分の内面と、の間に挟まれている。絶縁部材60は、例えば、樹脂で形成されている。主体金具20は、これらの部材50、60を介して、中軸30を支持している。
絶縁部材60の後端方向D1r側には、端子部材80が配置されている。端子部材80は、キャップ状の部材であり、導電材料(例えば、ニッケル等の金属)で形成されている。端子部材80と主体金具20との間には、絶縁部材60のフランジ部68が挟まれている。端子部材80には、中軸30の後端部39が挿入されている。端子部材80が加締められることによって、端子部材80が後端部39に固定されている。これにより、端子部材80は、中軸30に、電気的に接続される。
主体金具20の先端方向D1側の開口OPaには、外筒70が固定されている(例えば、圧入や溶接)。外筒70は、中心軸CLに沿って延びる貫通孔70xを有する筒状の部材である。外筒70は、導電性材料(例えば、ステンレス鋼)で形成されている。
外筒70の貫通孔70xには、通電によって発熱するヒータ素子40が挿入されている。ヒータ素子40は、中心軸CLに沿って延びるように配置された棒状の部材である。外筒70は、ヒータ素子40の先端部41が露出した状態で、ヒータ素子40の中央部分の外周面を、保持している。ヒータ素子40の後端部49は、主体金具20の貫通孔20xに収容されている。以下、ヒータ素子40と金属外筒70との全体を、「ヒータモジュール490」とも呼ぶ。
ヒータ素子40の後端部49には、接続部材90が固定されている。接続部材90は、中心軸CLに沿って延びる貫通孔を有する円筒状の部材であり、導電性材料(例えば、ステンレス鋼)で形成されている。接続部材90の先端方向D1側の部分には、ヒータ素子40の後端部49が圧入されている。接続部材90の後端方向D1r側の部分には、中軸30の先端方向D1側の端部である先端部31が圧入されている。これにより、中軸30は、接続部材90に電気的に接続される。なお、中軸30の先端部31と接続部材90とは、溶接されてもよい。
次に、ヒータモジュール490の詳細について、説明する。図1(B)には、金属外筒70と接続部材90とヒータ素子40とのより詳細な断面図が示されている。ヒータ素子40は、軸線CLに沿って延びる丸棒状の基体210と、基体210の内部に埋設された、略U字状の発熱抵抗体220(以下、単に「抵抗体220」と呼ぶ)と、を含んでいる。基体210は、絶縁性セラミック材料で形成されている(詳細は後述)。抵抗体220は、導電性セラミック材料で形成されている(詳細は後述)。基体210は、抵抗体220を覆った状態で、抵抗体220を支持している(基体210は、特許請求の範囲の「支持体」の例である)。ヒータ素子40は、材料を焼成することによって、形成される。基体210の先端部(すなわち、ヒータ素子40の先端部41)は、丸められている。抵抗体220の電気伝導率は、基体210の電気伝導率よりも、高い。抵抗体220は、通電によって、発熱する。
抵抗体220は、2本のリード部221、222と、それらのリード部221、222に接続された発熱部223と、電極取出部281、282と、を含んでいる。各リード部221、222は、ヒータ素子40の後端部49から先端部41の近傍まで軸線CLの延びる方向に沿って(ここでは、軸線CLに平行に)延びている。第1リード部221と第2リード部222とは、中心軸CLを挟んでおおよそ対称な位置に、配置されている。第3方向D3は、第2リード部222から第1リード部221へ向かう方向である。
発熱部223は、ヒータ素子40の先端部41に埋設され、第1リード部221の先端方向D1側の端と第2リード部222の先端方向D1側の端とを接続する。すなわち、リード部221、222は、発熱部223の後端方向D1r側に接続されている。発熱部223の形状は、ヒータ素子40の先端部41の丸い形状に沿って湾曲する略U字状である。発熱部223の断面積は、リード部221、222のそれぞれの断面積よりも、小さい。また、発熱部223の単位長さ当たりの電気抵抗は、リード部221、222の単位長さ当たりの電気抵抗よりも、大きい。この結果、通電時には、発熱部223の温度が、リード部221、222の温度と比べて、急速に上昇する。
第1リード部221の後端方向D1r側の部分には、第1電極取出部281が接続されている。第1電極取出部281は、径方向に沿って延びている。第1電極取出部281の内側の端部は第1リード部221に接続され、第1電極取出部281の外側の端部は、ヒータ素子40の外面に露出する。第1電極取出部281の露出部分は、外筒70の内周面に接触している。これにより、外筒70と第1リード部221とが、電気的に接続される。
第2リード部222の後端方向D1r側の部分には、第2電極取出部282が接続されている。第2電極取出部282は、径方向に沿って延びており、第1電極取出部281よりも、後端方向D1r側に配置されている。第2電極取出部282の内側の端部は、第2リード部222に接続され、第2電極取出部282の外側の端部は、ヒータ素子40の外面に露出する。第2電極取出部282の露出部分は、接続部材90の内周面に接触している。これにより、接続部材90と第2リード部222とが、電気的に接続される。
グロープラグ10の使用時には、主体金具20と端子部材80との間に、電圧が印加される。上述したように、第1リード部221は、第2電極取出部282と金属外筒70とを介して、主体金具20に電気的に接続されている。第2リード部222は、第2電極取出部282と接続部材90と中軸30とを介して、端子部材80に電気的に接続されている。従って、主体金具20と端子部材80とを通じて供給された電力は、リード部221、222を通じて、発熱部223に供給される。これにより、発熱部223が発熱する。
図2は、ヒータ素子40の先端部分の拡大断面図である。図中には、軸線CLを含む平らな断面が示されている。図中では、図を見やすくするために、ヒータ素子40の各要素210、221、222、223のそれぞれのハッチングが省略されている。図中の第1接合面241は、第1リード部221と発熱部223との接合面を示し、第2接合面242は、第2リード部222と発熱部223との接合面を示している。図示するように、本実施形態では、これらの接合面241、242は、それぞれ、軸線CLに対して斜めに傾斜している傾斜部分241x、242xを含んでいる。すなわち、発熱部223とリード部221、222とは、軸線CLに垂直な方向に沿って重なった状態で、接続されている。従って、第1接合面241の全体が軸線CLに垂直である場合と比べて、第1接合面241の面積が広くなる。この結果、後述する、外径が長い窒化ケイ素の粒子が第1接合面241の付近により多く存在することができ、第1リード部221と発熱部223との第1接合面241での強度の低下をより抑制できる。同様に、第2接合面242の全体が軸線CLに垂直である場合と比べて、第2接合面242の面積が広くなる。この結果、後述する、外径が長い窒化ケイ素の粒子が第2接合面242の付近により多く存在することができ、第2リード部222と発熱部223との第2接合面242での強度の低下をより抑制できる。なお、本実施形態では、内周側から外周側に向かって(すなわち、軸線CLから離れる方向に向かって)延びる傾斜部分241x、242xは、後端側(後端方向D1r側)に向かって傾斜している。
本実施形態では、基体210は、窒化ケイ素を含む絶縁性セラミック材料で、形成されている。また、リード部221、222と、発熱部223とは、それぞれ、窒化ケイ素と導電物質とを含む導電性セラミック材料で形成されている。導電物質としては、例えば、炭化タングステンが用いられる。なお、発熱部223の導電性セラミック材料とリード部221、222の導電性セラミック材料との間では、窒化ケイ素と導電物質との材料組成比が異なっている。
ヒータ素子40は、例えば以下のように、製造される。まず、基体210の絶縁性セラミック材料と、リード部221、222の導電性セラミック材料と、発熱部223の導電性セラミック材料と、が準備される。基体210の絶縁性セラミック材料は、例えば以下のように、準備される。窒化ケイ素の粉末を含むスラリーから、スプレードライによって、粉末が生成される。生成された粉末とバインダとを混練することによって、基体210の絶縁性セラミック材料としての混合物が生成される。リード部221、222の導電性セラミック材料は、例えば以下のように、準備される。窒化ケイ素の粉末と導電物質の粉末とを含むスラリーから、スプレードライによって、粉末が生成される。生成された粉末とバインダとを混練することによって、リード部221、222の導電性セラミック材料としての混合物が生成される。発熱部223の導電性セラミック材料は、リード部221、222の導電性セラミック材料と同じ方法で、準備される。ただし、本実施形態では、発熱部223の導電性セラミック材料に含まれる窒化ケイ素の粉末の粒径は、リード部221、222の導電性セラミック材料に含まれる窒化ケイ素の粉末の粒径よりも、大きい。また、発熱部223の導電性セラミック材料に含まれる導電物質の割合(例えば、重量パーセント)は、リード部221、222の導電性セラミック材料に含まれる導電物質の割合よりも、低い。
次に、未焼成の抵抗体220を、例えば以下のように、成形する。まず、未焼成のリード部221、222を、リード部221、222の材料を用いた射出成形によって成形する。そして、発熱部223用の成形型の中の所定の位置に未焼成のリード部221、222を配置した状態で、発熱部223を、発熱部223の材料を用いた射出成形によって成形する。これにより、互いに接続された未焼成のリード部221、222と発熱部223と、すなわち、未焼成の抵抗体220が、成形される。なお、先に未焼成の発熱部223を射出成形し、リード部221、222用の成形型の中の所定の位置に未焼成の発熱部223を配置した状態で、リード部221、222を、射出成形によって成形してもよい。
次に、基体210を、例えば以下のように、成形する。ヒータ素子40用の成形型の中の所定の位置に未焼成の抵抗体220を配置した状態で、射出成形によって、基体210の材料を、未焼成の抵抗体220を覆うように、成形する。以上により、未焼成の基体210、ひいては、未焼成のヒータ素子40が、成形される。
次に、未焼成のヒータ素子40を焼成する。そして、焼成された部材(焼成体とも呼ぶ)の外形を研磨によって整えることによって、ヒータ素子40が完成する。
図3は、走査型電子顕微鏡(SEM)による抵抗体220の断面画像の例である。この断面画像IMは、図2に示すヒータ素子40の断面を鏡面研磨し、鏡面研磨された断面を、走査型電子顕微鏡(SEM)によって撮影して得られた画像である(倍率は3000倍)。断面画像IM中の明るい色の部分は、導電物質(ここでは、炭化タングステン)の部分を示している。断面画像IM中の暗い色の部分は、窒化ケイ素の粒子を示している。濃い色の部分を仕切る薄い色の線は、粒界を示している。断面画像IMに示された白色の点線は、1つの窒化ケイ素の粒子Gの輪郭を示している。図示するように、窒化ケイ素の粒子の形状は、細長い棒状である(針状粒子とも呼ばれる)。抵抗体220では、窒化ケイ素の多数の粒子が形成されている。このような窒化ケイ素の粒子は、焼成時に、形成される。
断面画像IMの下部には、窒化ケイ素の1つの粒子Gの長軸長Lが示されている。長軸長Lは、断面画像IMにおける粒子の最大外径を示している。図示するように、粒子Gの外径は、方向に応じて異なる。長軸長Lは、方向に応じて異なる外径のうちの最大の外径である。長軸長Lは、後述する評価試験で、用いられる。
A2.ヒータ素子の評価試験:
図4は、評価試験の結果を示す表である。評価試験では、ヒータ素子40のサンプルを用いて、ヒータ素子40の靱性と曲げ強度とが評価された。図4の表は、サンプルの番号と、発熱部223における長軸長Lの平均値L1(第1平均長軸長L1と呼ぶ)と、リード部222における長軸長Lの平均値L2(第2平均長軸長L2と呼ぶ)と、比率L1/L2と、発熱部223における導電物質割合R1と、リード部222における導電物質割合R2と、靱性値と、曲げ強度と、を示している。
平均長軸長L1、L2は、図3で説明した長軸長Lの平均値である。図3で説明したように、ヒータ素子40のサンプルの軸線CLを含む断面を鏡面研磨した。そして、鏡面研磨した断面を、査型電子顕微鏡(SEM)で、3000倍の倍率で、撮影した。撮影によって得られた画像(SEM画像とも呼ぶ)を解析することによって、平均長軸長L1、L2を算出した。平均長軸長L1、L2は、いずれも、SEM画像中の15μm×15μmの正方形の対象領域に少なくとも一部が含まれる粒子の長軸長Lの平均値である。粒子の一部分が対象領域の外に位置し、粒子の残りの部分が対象領域の内に位置する場合、その粒子の長軸長Lは、平均長軸長L1、L2の算出に用いられた。図2に示す第1対象領域A1は、発熱部223の第1平均長軸長L1の算出のための対象領域を示し、第2対象領域A2は、リード部222の第2平均長軸長L2の算出のための対象領域を示している。図示するように、第1対象領域A1は、発熱部223上の接合面241、242から離れた位置に配置されている。また、第2対象領域A2は、リード部222上の接合面242から離れた位置に配置されている。
第1導電物質割合R1は、上記のSEM画像上の第1対象領域A1の面積に対する、第1対象領域A1内の導電物質(ここでは、炭化タングステン)を表す部分の面積の割合である。第2導電物質割合R2は、上記のSEM画像上の第2対象領域A2の面積に対する、第2対象領域A2内の導電物質を表す部分の面積の割合である。
靱性値は、JIS R1607で規定されたIF法に準じて、以下のように特定された。ヒータ素子40のサンプルの軸線CLを含む断面(図2)を鏡面研磨し、サンプルの断面に、ビッカース硬度計を用いて圧痕を形成した。図2の圧痕VIは、この評価試験で形成される圧痕VIの概要を示している。図2では、ヒータ素子40断面の下部に、圧痕VIを含む部分の拡大図が示されている。ビッカース硬度計は、矩形の圧痕をサンプルに形成する。ここで、圧痕VIの2個の対角C1、C2が、接合面242上に位置するように、ビッカース硬度計の圧子に対するサンプルの相対位置が調整された。圧痕VIの形成は、荷重が5kgfであり、その荷重の保持時間が15秒である、という条件下で行われた。このような荷重の印加によって、圧痕VIの角C1、C2から、接合面242に沿って、亀裂CR1、CR2が生じた。
亀裂長Cは、第1角C1から延びる第1亀裂CR1の端(角C1とは反対側の端)と、第2角C2から延びる第2亀裂CR2の端(角C2とは反対側の端)と、の間の直線距離2Cの半分である。圧痕長kは、圧痕VIの2個の対角C1、C2の間の直線距離2kの半分である。このような亀裂長Cと圧痕長kとを用いて、靱性値Kcを、以下の計算式に従って、算出した。
Kc=0.026×E1/2×P1/2×k/(C3/2)
ここで、Eは、抵抗体220の弾性率である。リード部222と発熱部223との間で弾性率は同じであったので、その同じ弾性率を、抵抗体220の弾性率Eとして採用した(ここでは、E=400GPa)。Pは、荷重である(ここでは、P=5kgf)。
曲げ強度は、ヒータ素子40のサンプルを用いた3点支持の曲げ試験を行い、サンプルが折れた時の最大曲げ応力を示している。図5は、曲げ試験における3個の支持具S1、S2、S3の配置を示す説明図である。図中には、図2と同じヒータ素子40の断面が示されている。図示するように、第1支持具S1は、ヒータ素子40の外周面のうち接合面242の近傍の位置である第1位置P1で、ヒータ素子40のサンプルを支持する。第2支持具S2は、ヒータ素子40の外周面のうち、第1位置P1の反対側、かつ、第1位置P1よりも先端方向D1側の第2位置P2で、ヒータ素子40のサンプルを支持する。第3支持具S3は、ヒータ素子40の外周面のうち、第1位置P1の反対側、かつ、第1位置P1よりも後端方向D1r側の第3位置P3で、ヒータ素子40のサンプルを支持する。第2位置P2と第3位置P3との間の距離は、サンプルの種類によらず、同じであった。そして、第1支持具S1は、軸線CLに垂直に他の支持具S2、S3に向かう方向の荷重を、ヒータ素子40のサンプルに印加する。支持具S2、S3は、軸線CLに垂直に第1支持具S1に向かう方向の荷重を、ヒータ素子40のサンプルに印加する。そして、サンプルが折れるまで、荷重を徐々に強くした。
なお、本評価試験では、基体210の外周面と、接合面241、242との間の距離T(すなわち、基体210の外周面と、リード部221、222と、の間の距離)が、0.2mmとなるように、ヒータ素子40のサンプルの外周面が研磨された。そして、曲げ試験では、サンプルの破壊の起源が接合面241、242のいずれかであるサンプルの最大曲げ応力が採用された。破壊の起源が接合面241、242のいずれでもない場合(例えば、接合面241、242は割れずに他の部分が割れた場合)、そのサンプルの曲げ応力を採用しなかった。そして、同じ構成の別のサンプルを用いて、サンプルの破壊の起源が接合面241、242のいずれかとなるまで、曲げ試験を繰り返した。
図4の表に示すように、1番、2番、3番の3種類のサンプルが評価された。これらのサンプルの間では、発熱部223の第1平均長軸長L1と発熱部223の第1導電物質割合R1との少なくとも1つが、互いに異なっている。第1平均長軸長L1と第1導電物質割合R1との変更は、発熱部223の導電性セラミック材料(具体的には、窒化ケイ素の材料粒子の粒径と、導電物質の含有率(例えば、重量パーセント))を変更することによって、実現された。ヒータ素子40の他の部分の構成は、3種類のサンプルの間で共通であった。例えば、リード部221、222の導電性セラミック材料は、3種類のサンプルの間で、共通であった。また、基体210の絶縁性セラミック材料は、3種類のサンプルの間で、共通であった。また、ヒータ素子40の形状、ヒータ素子40の外径、発熱部223の形状、第1リード部221の形状、第2リード部222の形状、これらの要素40、221、222、223のそれぞれの大きさは、3種類のサンプルの間で共通であった。
第1平均長軸長L1の変更は、発熱部223の材料に含まれる窒化ケイ素の材料粒子の粒径を変えることによって、実現された。窒化ケイ素の材料粒子の粒径が大きいほど、焼成後の第1平均長軸長L1が長くなった。具体的には、第1平均長軸長L1は、1番、2番、3番の順に、1.3mm、1.8mm、2.2mmであった。リード部222の第2平均長軸長L2は、3種類のサンプルの間でおおよそ同じであり、具体的には、1番、2番、3番の順に、1.8μm、1.7μm、1.7μmであった。なお、3種類のサンプルの間の第2平均長軸長L2の違い(0.1μm)は、製造ばらつきによる誤差である。比率L1/L2は、1番、2番、3番の順に、0.7、1.1、1.3であった。このように、1番のサンプルでは、発熱部223の第1平均長軸長L1は、リード部222の第2平均長軸長L2よりも小さかった。2番と3番のサンプルでは、発熱部223の第1平均長軸長L1は、第2リード部222の第2平均長軸長L2よりも大きかった。なお、第1リード部221の平均長軸長は、第2リード部222の第1平均長軸長L1と、おおよそ同じである。
第1導電物質割合R1の変更は、発熱部223の材料に含まれる導電物質の割合を変えることによって、実現された。材料に含まれる導電物質の割合(例えば、重量パーセント)が高いほど、第1導電物質割合R1が高くなった。具体的には、第1導電物質割合R1は、1番、2番、3番の順に、26%、29%、26%であった。1番と3番との間では、第1導電物質割合R1は同じであった。リード部222の第2導電物質割合R2は、3種類のサンプルの間で同じ42%であった。このように、発熱部223の第1導電物質割合R1は、リード部222の第2導電物質割合R2よりも低い(なお、第1リード部221の導電物質割合は、第2リード部222の第2導電物質割合R2とおおよそ同じである)。従って、発熱部223の電気抵抗値は、リード部221、222の電気抵抗値よりも大きい。この結果、通電時には、発熱部223の温度をより高くすることができる。
図4に示すように、靱性値は、1番、2番、3番の順に、4.7、5.1、6.6であった(単位は、MPa・m0.5)。このように、靱性値は、比率L1/L2が高いほど、良好であった。特に、発熱部223の第1平均長軸長L1がリード部222の第2平均長軸長L2よりも小さい1番の靱性値は、5未満であったが、発熱部223の第1平均長軸長L1がリード部222の第2平均長軸長L2よりも大きい2番、3番のそれぞれの靱性値は、5を超えた。このように、発熱部223の第1平均長軸長L1が、リード部222の第2平均長軸長L2よりも長い場合に靱性値が向上する理由は、発熱部223とリード部221、222との接合面241、242の付近において、外径が長い窒化ケイ素の粒子を多く存在させることができ、その結果、接合面の付近に亀裂が発生したとしても、亀裂の進行を抑制するからだと推定される。
また、第1平均長軸長L1が第2平均長軸長L2とおおよそ同じである2番の靱性値(ここでは、5.1)と比べて、第1平均長軸長L1が更に長い3番の靱性値は、6.6と、大幅に向上した。このように、第1平均長軸長L1がより長いほど、靱性値をより向上できる。
曲げ強度は、1番、3番の順に、1027、1084であった(単位は、MPa。2番のサンプルについては、曲げ強度は測定されなかった)。このように、曲げ強度は、比率L1/L2が高いほど、良好であった。特に、発熱部223の第1平均長軸長L1がリード部222の第2平均長軸長L2よりも小さい1番の靱性値は、1030MPa未満であったが、発熱部223の第1平均長軸長L1がリード部222の第2平均長軸長L2よりも大きい3番の靱性値は、1080MPaを超えた。このように、発熱部223の第1平均長軸長L1がリード部222の第2平均長軸長L2よりも長い場合に曲げ強度が向上する理由は、発熱部223とリード部221、222との接合面241、242の付近において、外径が長い窒化ケイ素の粒子を多く存在させることができ、その結果、接合面の付近に亀裂が発生したとしても、窒化ケイ素の長い粒子が、亀裂の進行を抑制する、ひいては、接合面241、242での強度の低下を抑制するからだと推定される。
なお、リード部221、222と、発熱部223とは、それぞれ、窒化ケイ素に加えて、導電物質を含んでいる。焼成時の窒化ケイ素の粒子の成長は、窒化ケイ素の粒子の周りに存在する導電物質によって抑制される。導電物質の含有率が高いほど、窒化ケイ素の粒子は成長しにくい。また、通電時に発熱部223の温度をより高くするために、リード部221、222での第2導電物質割合R2(すなわち、導電物質の含有率)は、発熱部223での第1導電物質割合R1(すなわち、導電物質の含有率)よりも、高い。従って、焼成時に、リード部221、222では、発熱部223と比べて、窒化ケイ素の粒子は成長しにくい。このような条件下において、発熱部223とリード部221、222との間で、窒化ケイ素の粒子の長軸長Lのバランスが不均等になることを許容し、窒化ケイ素の粒子が比較的成長しやすい発熱部223での第1平均長軸長L1を、リード部222での第2平均長軸長L2よりも長くすることによって、靱性値と曲げ強度とを向上できた。
さらに、図2で説明したように、リード部221、222と発熱部223との接合面241、242は、軸線方向に対して斜めに傾斜している傾斜部分241x、242xを含んでいる。従って、接合面241、242が軸線CLに垂直である場合と比べて、接合面241、242の面積を増大できる。この結果、仮に図2の亀裂CR1、CR2のような亀裂が接合面(接合面241、または、接合面242)に生じる場合であっても、外径が長い窒化ケイ素の粒子が接合面の付近により多く存在することができ、接合面の全面積に対する亀裂の面積の割合を小さくできるので、接合面での強度の低下を抑制できる。
B.変形例:
(1)発熱抵抗体220の構成としては、上記の構成に代えて、他の種々の構成を採用可能である。例えば、リード部221、222と発熱部223とに含まれる導電物質としては、炭化タングステンに限らず、種々の導電物質を採用可能である。例えば、タングステンを採用してもよく、タングステンを含む化合物(例えば、タングステンの炭化物、タングステンの珪化物、タングステンの窒化物など)を採用してもよい。また、モリブデンを採用してもよく、モリブデンを含む化合物(例えば、モリブデンの炭化物、モリブデンの珪化物、モリブデンの窒化物など)を採用してもよい。一般的には、導電物質としては、タングステンとモリブデンとのうちの少なくとも1種の金属成分を含む種々の物質を採用可能である。例えば、タングステン、タングステンを含む上記の3種の化合物、モリブデン、モリブデンを含む上記の3種の化合物、のうちの少なくとも1つを採用してよい。なお、発熱部223に含まれる導電物質(第1導電物質と呼ぶ)は、第1リード部221に含まれる導電物質(第2導電物質と呼ぶ)と異なっていてもよく、第2導電物質と同じであってもよい。発熱部223に含まれる第1導電物質は、第2リード部222に含まれる導電物質(第3導電物質と呼ぶ)と異なっていてもよく、第3導電物質と同じであってもよい。第1リード部221に含まれる第2導電物質は、第2リード部222に含まれる第3導電物質と異なっていてもよく、第3導電物質と同じであってもよい。
なお、発熱部223の材料は、窒化ケイ素と導電物質とに加えて、種々の物質を含み得る。発熱部223の材料は、例えば、希土類元素の酸化物などの焼結助剤を含み得る。また、リード部221、221の材料も、同様に、窒化ケイ素と導電物質とに加えて、焼結助剤などの、種々の物質を含み得る。基体210の材料も、同様に、窒化ケイ素に加えて、焼結助剤などの、種々の物質を含み得る。
(2)第1平均長軸長L1と第1導電物質割合R1との算出に用いられる第1対象領域A1としては、発熱部223の断面上の種々の位置の15μm×15μmの正方形の領域を採用可能である。同様に、第2平均長軸長L2と第2導電物質割合R2との算出に用いられる第2対象領域A2としては、リード部221、222の断面上の種々の位置の15μm×15μmの正方形の領域を採用可能である。例えば、断面は、軸線CLに対して斜めに傾斜していてもよい。
一般的には、第1対象領域A1は、発熱部223のうちの接合面241、242を形成する部分とおおよそ同じ構造の部分に配置されることが好ましい。上記の実施形態のように、発熱部223の全体が同じ材料で形成される場合には、発熱部223の全体に亘って構造がおおよそ同じと推定されるので、第1対象領域A1としては、発熱部223の種々の部分の領域を採用可能である。
また、第2対象領域A2は、リード部221、222のうちの接合面241、242を形成する部分とおおよそ同じ構造の部分に配置されることが好ましい。上記の実施形態のように、第1リード部221の全体が同じ材料で形成される場合には、第2対象領域A2としては、第1リード部221の種々の部分の領域を採用可能である。また、上記の実施形態のように、第2リード部222の全体が同じ材料で形成される場合には、第2対象領域A2としては、第2リード部222の種々の部分の領域を採用可能である。
発熱部223の断面上の少なくとも1つの第1対象領域A1から算出された第1平均長軸長L1と第1導電物質割合R1と、第1リード部221の断面上の少なくとも1つの第2対象領域A2から算出された第2平均長軸長L2と第2導電物質割合R2とが、「L1>L2」という条件と「R1<R2」という条件とを満たしている場合には、発熱部223と第1リード部221との組み合わせは、2つの条件を満たしているということができる。発熱部223と第2リード部222との組み合わせについても、同様である。ここで、第1リード部221と第2リード部222との間で、第2平均長軸長L2が異なっていてもよい。また、第1リード部221と第2リード部222との間で、第2導電物質割合R2が異なっていてもよい。いずれの場合も、発熱部223の後端側に接続された2つのリード部221、222のうちの少なくとも1つと、発熱部223とが、「L1>L2」という条件と「R1<R2」という条件とを満たしていることが好ましい。
なお、第1平均長軸長L1と第2平均長軸長L2と第1導電物質割合R1と第2導電物質割合R2とは、それぞれ、図4のサンプルの値に代えて、他の種々の値であってよい。一般的には、発熱部223の温度をより高くするためには、発熱部223の導電物質割合R1が、2つのリード部221、222のそれぞれの導電物質割合R2のいずれよりも小さいことが好ましい。さらに、ヒータ素子40の強度を向上するためには、発熱部223の第1平均長軸長L1が、2つのリード部221、222のそれぞれの第2平均長軸長L2のいずれよりも大きいことが好ましい。
(3)発熱部223の第1平均長軸長L1を大きくする方法としては、発熱部223の材料に含まれる窒化ケイ素の粒子の粒径を大きくする方法に代えて、他の種々の方法を採用可能である。ヒータ素子40の焼成時には、焼成温度が高い場合に、窒化ケイ素の粒子が成長しやすい。また、リード部221、222の導電物質の含有率は、発熱部223の導電物質の含有率よりも高いので、リード部221、222では、発熱部223と比べて、焼成時に、窒化ケイ素の粒子が成長しにくい。従って、焼成温度を高くすることによって、リード部221、222よりも発熱部223での窒化ケイ素の粒子の成長を促進できる、すなわち、第1平均長軸長L1が第2平均長軸長L2よりも大きくなり得る。なお、焼成温度が過剰に高くなると、窒化ケイ素の粒子が分解して小さくなる。適切な焼成温度は、発熱部223とリード部221、222とのそれぞれの材料に応じて異なる。焼成温度は、実験的に決定されることが好ましい。
(4)発熱部223とリード部221、222との接合面241、242の構成としては、図2で説明した構成に代えて、他の種々の構成を採用可能である。例えば、傾斜部分241x、242xを内周側から外周側へ辿る場合に、傾斜部分241x、242xは、後端側(後端方向D1r側)に向かって傾斜する代わりに、先端側(先端方向D1側)に向かって傾斜してもよい。また、傾斜部分241x、242xは、先端側に向かって傾斜する部分と後端側に向かって傾斜する部分との両方を含んでもよい。また、2つの接合面241、242の間で、形状が異なっていてもよい。また、2つの接合面241、242のうちの少なくとも一方から、傾斜部分241x、242xが省略されてもよい。一般的には、2つの接合面241、242のうちの少なくとも一方が、軸線CLに対して斜めに傾斜している部分を含むことが好ましい。
(5)ヒータ素子の構成は、図1、図2等で説明した構成に代えて、他の種々の構成であってよい。例えば、ヒータ素子には、第2リード部222に接続された端子が固定されてもよい。端子は、例えば、ヒータ素子40の後端方向D1r側の端面に固定されてよい。そして、その端子と、中軸30とが、ワイヤで接続されてもよい。この場合、第2電極取出部282は省略される。
(6)グロープラグの構成は、図1で説明した構成に代えて、他の種々の構成であってよい。例えば、中軸30の後端部39の外周面には、雄ねじが形成され、端子部材80には、雌ねじが形成され、端子部材80を中軸30の後端部39にねじ込むことによって、中軸30に端子部材80が固定されてもよい。ここで、端子部材80としては、キャップ状の部材に代えて、ナットを採用してもよい。また、ヒータ素子40を主体金具20に固定する方法としては、ヒータ素子40を保持する外筒70を主体金具20に固定する方法に代えて、他の任意の方法を採用可能である。例えば、ヒータ素子40の後端部49が、直接的に、主体金具20の貫通孔20x内に圧入されてもよい。いずれの場合も、筒状の主体金具20は、ヒータ素子40の後端部49を収容することが好ましい。この構成によれば、主体金具20がヒータ素子40を保持する構成を、容易に実現できる。また、発熱部223は、ヒータ素子40のうちの主体金具20の貫通孔20xの外に配置された部分に設けられていることが好ましい。この構成によれば、ヒータ素子40は、適切に、過熱対象(例えば、燃焼室内のガス)を、過熱できる。
(7)上述したヒータは、内燃機関の始動補助のために利用されるグロープラグに限らず、種々のグロープラグに適用可能である。例えば、排気ガスを昇温するための排気ガスヒータ装置や、触媒やディーゼル粒子フィルタ(DPF: Diesel Particulate Filter)を再活性化するためのバーナーシステムや、冷却水を昇温するためのウォータヒータ装置等の種々の装置に利用されるグロープラグに、上記実施形態のヒータを適用可能である。
以上、実施形態、変形例に基づき本発明について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨並びに特許請求の範囲を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれる。
10...グロープラグ、20...主体金具、20x...貫通孔、22...雄ネジ部、28...工具係合部、30...中軸、31...先端部、39...後端部、40...セラミックヒータ素子(ヒータ素子)、41...先端部、49...後端部、50...Oリング、60...絶縁部材、62...筒状部、68...フランジ部、70...金属外筒(外筒)、70x...貫通孔、80...端子部材、90...接続部材、210...基体(支持体)、220...発熱抵抗体(抵抗体)、221...第1リード部、222...第2リード部、223...発熱部、241...第1接合面、242...第2接合面、241x、242x...傾斜部分、281...第1電極取出部、282...第2電極取出部、490...ヒータモジュール、G...粒子、L...長軸長、C...亀裂長、k...圧痕長、T...距離、R1...第1導電物質割合、R2...第2導電物質割合、L1...第1平均長軸長、L2...第2平均長軸長、A1...第1対象領域、A2...第2対象領域、C1...第1角、C2...第2角、S1...第1支持具、S2...第2支持具、S3...第3支持具、P1...第1位置、P2...第2位置、P3...第3位置、D1...第1方向(先端方向)、D1r...後端方向、D2...第2方向、D3...第3方向、VI...圧痕、CL...中心軸(軸線)、IM...断面画像、CR1...第1亀裂、CR2...第2亀裂、OPa...開口、OPb...開口

Claims (3)

  1. 発熱部と前記発熱部に接続されたリード部とを含む発熱抵抗体と、前記発熱抵抗体を埋設するセラミックからなる支持体と、を備えるセラミックヒータ素子であって、
    前記発熱部は、窒化ケイ素と第1導電物質とを含み、
    前記リード部は、窒化ケイ素と第2導電物質とを含み、
    前記発熱部の断面上において15μm×15μmの正方形の第1対象領域に少なくとも一部が含まれる前記窒化ケイ素の粒子の最大外径の平均値は、前記リード部の断面上において15μm×15μmの正方形の第2対象領域に少なくとも一部が含まれる前記窒化ケイ素の粒子の最大外径の平均値よりも大きく、
    前記発熱部の前記第1対象領域における前記第1導電物質の割合は、前記リード部の前記第2対象領域における前記第2導電物質の割合よりも、小さい、
    セラミックヒータ素子。
  2. 請求項1に記載のセラミックヒータ素子であって、
    前記セラミックヒータ素子の形状は、軸線の方向に延びる棒状であり、
    前記発熱部は、前記軸線の方向の先端側に配置されるとともに、前記リード部は、前記軸線の方向に沿って延びており、
    前記発熱部と前記リード部とは、前記軸線の方向に垂直な方向に重なって接続されており、
    前記リード部と前記発熱部との接合面は、前記軸線の方向に対して斜めに傾斜している部分を含む、
    セラミックヒータ素子。
  3. 請求項1または2に記載のセラミックヒータ素子と、
    前記セラミックヒータ素子の後端部を収容する筒状の主体金具と、
    を有するセラミックグロープラグ。
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