JP6807868B2 - 多層体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、多層体の製造方法、該方法により製造された多層体、及び該多層体を用いたセキュリティ文書に関する。

グラフィックデザインが塗布された多層体を生成するには、フォトレジストを用いることが知られている。かかるフォトレジストは、所望のデザインに応じて露光・現像される。

また、いわゆるリフト−オフ処理（lift-off process）により所望のデザインの形態の洗浄ワニスを塗布すると共に、これに別の層（例えば金属層やさらなるニス層）を積層する、又は別の層で覆うことが知られている。洗浄ニスは、溶媒による処理を経て、該別の層の一部と共に除去される。その結果、洗浄ニスが塗布されていない箇所にのみ該別の層が残る。

フォトレジスト及び洗浄ニスは、いずれも通常は溶剤系である。これには、いくつかの短所がある。

さらに別のニス層を含む多層体では、溶剤系のニスを塗布した際に、該別のニス層がエッチングされ得る。これにより、当該多層体の品質を下げてしまう。また、溶剤系のニスは環境に優しいものではないため、複雑な手法かつ多額の費用をかけて処分しなければならない。

通常の洗浄ニスを用いる場合、さらに別の問題もある。即ち、これら洗浄ニスは、所望の剥離機能を達成するために、通常高度に着色され、かつ多孔質のものである必要がある。しかしながら、そのような多孔質性を持たせると、得られるデザインにおいて達成可能な解像度やエッジ解像力に限界が生じる。

したがって本発明の目的は、高品質な多層体を製造するための特定のプロセス安定法と、該方法により製造可能な多層体、及び該多層体を用いたセキュリティ文書を提供することにある。

上記目的は、請求項１の特徴を有する方法と、請求項３２の特徴を有する多層体と、請求項３３の特徴を有するセキュリティ文書と、により達成される。

かかる多層体の製造方法は、以下のステップを含む：
ａ）水性フォトレジストからなる第１ニス層を基体表面に塗布し、
ｂ）第１領域における前記第１ニス層を露光する一方、第２領域においては前記第１ニス層を露光せず、
ｃ）前記第２領域の前記第１ニス層を除去する。

水性フォトレジストを用いることで、溶剤系ニスに含まれる溶剤成分の影響を受け易い構造化ニス層を有する基体を提供できる。具体的には、溶剤系ニス層を、その品質や解像度に悪影響を与えることなくフォトレジストに積層できる。

上記方法により、水性ニスの印刷に比して、非常に高い解像度、最高で２５μｍ、場合によっては１０μｍ、を得ることができる。また、ステップｂ）において対応する露光マスクを用いれば、高解像度、微細構造ラインパターン、又は他の格子パターンを生成することができる。なお、ここで言う格子パターンとは、グリッド要素を互いに間を開けて規則的に又は不規則に設けた配置を意味する。グリッド要素は、例えばラインやドット、その他の幾何学的な形状である。グリッド要素及び／又はそれら同士の距離は、それぞれ同一であるか、又は異なる。

同時に、上記方法は溶剤系フォトレジストに比して非常に環境に優しい。そのため、滞留した廃液の処分や排ガスの処置が遥かに容易で、かつ費用対効果が高い。

第１ニス層の露光中、ニスのポリマー成分が架橋結合する。その結果、露光された第１領域において分子量が増加する。したがって、第１領域において該ニスはその水溶性を失う。また、露光されていない第２領域におけるニスの除去は、水性溶媒で洗浄することで容易に実現できる。

上記により、容易かつプロセスの安定した方法で多層体を得ることができる。具体的には、グラフィックデザインが出現するセキュリティ文書の形態で多層体を得ることができる。かかる多層体は、例えば紙幣、証券、身分証明書（ＩＤ）、ビザ、パスポート、クレジットカードといったセキュリティ文書に利用することができる。また、偽造から守るための製品ラベル、通行料金のチケット等にも利用することができる。

このようなセキュリティ要素は、例えば転写フィルム、ラミネートフィルム、セキュリティストリップ、セキュリティウィンドウ等であっても良い。

好ましくは、基体は、溶剤系である少なくとも１つの第２ニス層を備える。上述した通り、このようなニス層は水性フォトレジストやこれを現像するための物質によって浸食されることはない。これにより、多色デザインの外観を創り出すことができる。

第２ニス層は、全体に亘って適用されて、第１ニス層の背景を形成しても良く、部分的に適用されて、それ自体によってモチーフやデザインを形成しても良い。

好ましくは、第２ニス層は、層厚さが０．１μｍから１０μｍ、より好ましくは０．１μｍから３μｍを有する。

なお、第１ニス層は第２ニス層の表面に塗布されるのが好ましい。

また、少なくとも１つの他の層を第１のニス層に塗布すると便宜である。

追加のデザイン要素を多層体に設けても良い。したがって、例えば、保護ニス層のような機能層を一体的に設けても良い。

さらに、少なくとも１つの他の層を塗布した後に、第１領域における第１ニス層と該少なくとも１つの他の層とを除去することがより好ましい。

換言すれば、該少なくとも１つの他の層は、第１ニス層が存在しない部分にのみ残る。即ち、該少なくとも１つの他の層は第１ニス層のネガティブとして構造化され、第１ニス層によって当初形成されたモチーフを補完するモチーフを形成する。

本実施例では、第１層の水性フォトレジストが洗浄ニスとして作用する。当該第１ニス層の構造により、露光及び現像時、洗浄ニスが印刷される通常のリフト−オフ処理に比して、より高い解像度とエッジ解像力を実現することができる。

また、通常の洗浄ニスに比して、水性フォトレジストは硬化後も多孔質性を有しないことから、生成されるモチーフのエッジ解像力の向上につながる。

また、第１ニス層を除去するための有機溶剤が不要となるため、本方法は有機溶剤中で安定しない層を含む多層体にも用いることができる。

本方法は特に、第１ニス層と少なくとも１つの他の層とが酸性のメタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液、具体的には１．５重量％のメタ過ヨウ素酸ナトリウム及び０．０５重量％の硫酸の水溶液を用いた処理によって除去される場合に好ましい。

したがって、第１ニス層の除去は、酸化的プロセスとなる。酸の混合物は、メタ過ヨウ素酸塩を安定化するのに役立つ。なお、硫酸の代わりに例えば硝酸を用いても良い。

メタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液のｐＨは、好ましくは１〜７、より好ましくは２〜５とする。

酸性のメタ過ヨウ素酸ナトリウムによる処理は、好ましくは温度１５℃〜７０℃、より好ましくは２５℃〜５０℃で、及び／又は、処理時間１秒〜６００秒の期間、より好ましくは１０秒〜１２０秒で行われる。

また、第１ニス層の剥離は、溶液の攪拌、多層体に対するフロー、ブラッシング、スミアリング（smearing）、又は超音波処理、によってさらに支持される。

また、非イオン性界面活性剤を酸性のメタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液に加えると便宜である。メタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液は、具体的には、エトキシレート、第一級又は第二級脂肪族アルコールのアルコキシレート、アルキルフェノール、エチレンオキシド／プロピレンオキシド共重合体、アミンエトキシレート、アルキルポリグリコライド、脂肪族アミンオキシド、脂肪酸アルカノールアミド、脂肪酸アルキルグルカミド、からなるグループから選択される。

かかる界面活性剤は湿潤剤として作用し、メタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液により第１ニス層及び少なくとも１つ他の層とを確実に湿らせることができる。これにより、所望の剥離性を得ることができる。

界面活性剤の濃度は、好ましくは０％から５０％、より好ましくは０．０１％から３％とされる。

また、少なくとも１つの他の層が、第３ニス層（具体的には、溶剤系ニスからなるニス層）からなる、又は、を含むことが好ましい。

上述した如く、かかるニス層は第１ニス層の除去中に浸食されない。その結果、該第３ニス層は第２領域に残される。

また、ニス層は、厚さが０．１μｍから１０μｍ、好ましくは０．１μｍから３μｍの層厚さを有する、アクリレート、ポリエステル、ポリウレタン、コポリマー（共重合体）、からなるグループから選択されるのが好ましい。

さらに、少なくとも１つの他の層は、反射層からなる、又は、を含むものであっても良い。

そのような層は、金属層、具体的にはアルミニウム、銅、銀、金、クロム、又はこれらの合金からなるものであっても良い。

あるいは、該反射層は高屈折率（High Refractive Index。ＨＲＩ）の物質（具体的には硫化亜鉛又は二酸化チタン）からなる層で形成されるものであっても良い。

一方、反射層は連続した層からなるものであっても良い。具体的には、薄い金属層、透明スペーサ層、及び不透明金属反射層からなるもの、あるいは、ＨＲＩ層、低屈折率の物質からなる透明スペーサ層、及び別のＨＲＩ層からなるものがある。また、金属層、スペーサ層、反射層のうちの１つ以上は、表面全体に設けられても良く、部分的にのみ設けられても良い。

また、反射層は、部分的にのみ設けられる、連続する金属層とＨＲＩ層とを有するものであっても良い。ＨＲＩ層は、表面全体に設けても良く、部分的にのみ設けても良い。

金属製の反射層の層厚さは、好ましくは５ｎｍから１５０ｎｍであり、より好ましくは１０ｎｍから５０ｎｍでもある。ＨＲＩ層の層厚さは３０ｎｍから２５０ｎｍが好ましい。なお、３０ｎｍから７５ｎｍの厚さ範囲では、より自然色に近い反射結果を得ることができる。他方、層厚さがさらに厚い場合、該反射層で反射された光は顕著な色を表現する。

また、該少なくとも１つの他の層の転写前に第１ニス層を基体の反射層に塗布する場合、第２領域における基体の反射層をエッチングにより除去することが好ましい。

該少なくとも１つの他の層が、反射層からなる、又は、反射層を含むものとすると有利である。この場合、好ましくはそれぞれ異なる物質からなり異なる光学的外観を有する２つの反射層は、互いに正確に位置合わせされて転写され、互いに補完し合うことができる。

また、第１ニス層は、基体表面の部分的領域にのみ適用することが好ましい。

これにより、表面の一部にモチーフを生成することができる。該モチーフは、基体中の他のグラフィックデザインやデザイン要素を補完する。

また、第１ニス層及び／又は少なくとも１つの他の層の部分的領域にエッチングレジストを塗布し、エッチングレジストが塗布されていない部分において第１ニス層及び／又は少なくとも１つの他の層を除去することが好ましい。

その結果、表面の一部にモチーフを生成することができる。エッチングレジストは、層厚さが０．１μｍから１０μｍ、好ましくは０．１μｍから５μｍの、アクリレート、ポリエステル、エポキシ、ポリウレタン樹脂、又はアクリレートコポリマー（アクリレート共重合体）である。

上述するように、第１ニス層及び／又は少なくとも１つの他の層を除去するため、上記条件の下で酸性のメタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液を用いても良い。

また、露光処理を基体側から実施するとより有利である。

露光波長に対して不透明又は部分的にのみ透明な基体の構造は、内部の露光用マスクとして作用する。したがって、外付けのマスクは必要ない。この結果、外付けマスクを用いる場合における、該マスクの配置及びそのレジスタ精度といった問題が生じない。

なお、レジスタ精度とは、２以上の要素及び／又は層の相対的な位置の正確さを意味する。レジスタ精度は、所定の許容範囲内でばらつきがあるが、可能な限り小さくなるように設定される。同時に、複数の要素及び／又は層における互いのレジスタ精度は、偽造に対する保護を高める上で重要な特徴である。正確な位置合わせは、光学的に検出可能なレジスタマークやトンボマークを用いることで達成される。これらのレジスタマークやトンボマークは、特定の別個の要素、領域、又は層を表すか、あるいはこれらのマーク自体が、配置される要素、領域、層の一部であっても良い。また、「完全な位置合わせ」とは、許容範囲がゼロに近い又は実質的にゼロであることを意味する。

また、基体が、第１領域において第１ニス層の露光に用いられる波長域に対して透明であって第２領域において第１ニス層の露光に用いられる波長域に対して非透明な、少なくとも１つの部分層（具体的には第４ニス層及び／又は反射層）を有するのが便宜である。

したがって、第１ニス層の露光中、部分層に対して正確に位置合わせされた第４ニス層も露光される。非露光領域は部分層の非透明領域と一致し、露光された領域は部分層の透明な領域と一致する。なお、「一致する」とは、対象となる層を、表面に直交する方向から見たときに当該領域が完全に覆われる状態を意味する。

また、透明な領域とは、対象となる波長域において、少なくとも５０％、好ましくは７０％の透過率を有する領域を意味する。

また、非透明な領域とは、対象となる波長域において、最大でも３０％、好ましくは最大で２０％の透過率を有する領域を意味する。

また、透明な領域と非透明な領域の間の差やコントラストは、少なくとも２、具体的には少なくとも５であることが好ましい。

露光は、波長３５０ｎｍから４００ｎｍの光を、露光時間０．１秒から１２０秒、好ましくは０．１秒から６０秒で、かつ／又は照射線量１ｍＪ／ｃｍ^２から３００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは１ｍＪ／ｃｍ^２から１００ｍＪ／ｃｍ^２で実行するのが好ましい。即ち、溶剤系フォトレジストの露光の場合に比して低強度で緩やかな露光が可能である。

より好ましくは、第２領域における第１ニス層を除去するために、イソプロパノール（具体的には、イソプロパノール０．１％から５０％。好ましくはイソプロパノール５％）を加えた水が用いられる。

冒頭に説明した如く、露光されていないフォトレジスト層を、基体の他の層を浸食することなく、穏やかに除去することが可能である。

また、第１ニス層の塗布に関しては、少なくとも１つの水溶性ポリマーと、少なくとも１つのフィルム形成ポリマーと、少なくとも１つの添加剤と、少なくとも１つの光開始剤と、を含む水性フォトレジストが用いられる。

水溶性ポリマーは、好ましくは以下のグループから選択される。即ち、アルギン酸誘導体、セルロース誘導体及び／又はカルボキシル化アクリルポリマー（例えば、 カルボキシメチルセルロースナトリウムメチルセルロース）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエチレンオキシド、ホモ -及び／又はコポリマー酢酸ビニル、ポリアクリルアミド、長鎖カルボン酸、からなるグループから選択されるのが好ましい。

水溶性ポリマーは、水性溶媒により、露光されていないフォトレジストの剥離性を担保すると共に、その分散性を向上させる。

水溶性ポリマーは、好ましくは水性フォトレジスト中に、１重量％から５０重量％、好ましくは１重量％から２０重量％の濃度で含まれる。

また、フィルム形成ポリマーは、以下のグループから選択されることが好ましい。即ち、ポリ酢酸ビニル樹脂、エチレン‐酢酸ビニルコポリマー、酢酸ビニル‐アクリル酸コポリマー、アクリルコポリマー、ポリウレタンコポリマー、ポリアクリレート、ポリウレタン、ポリエステル及び／又はエポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ウレタンアクリレート、からなるグループから選択されるのが好ましい。

フィルム形成ポリマーはニスの中で分散され、露光及び乾燥後、該ニスの実マトリクスを形成する。

また、フィルム形成ポリマーは、水性フォトレジスト中に、１重量％から５０重量％、好ましくは１０重量％から３０重量％の濃度で含まれる。

ニスの分散性と安定性を向上するために、少なくとも１つの添加剤が、水性フォトレジスト中に０．１重量％から５重量％、好ましくは０．１重量％から３重量％の濃度で含まれる分散添加剤である、又は、を含むのが便宜である。

また、少なくとも１つの添加剤が、水性フォトレジスト中に０．１重量％から５重量％、好ましくは０．１重量％から３重量％の濃度で含まれる消泡剤である、又は、を含むのが有利である。これにより、ニスの加工性が向上する。

また、光開始剤が、感光性ジアゾ樹脂（具体的には、水性フォトレジスト中に、濃度０．１重量％から５重量％、好ましくは０．１重量％から３重量％で含まれる4-ジアゾジフェニルアミン／ホルムアルデヒド縮合物）である、又は、を含むのが好ましい。

ＵＶ照射中、ジアゾ樹脂は、露光された領域において、ニスのポリマー鎖を結ぶ架橋剤として作用する。これによる分子量の増加により、水溶性を低下させる。その結果、露光されたニスが現像中に洗い落とされることがなくなる。

また、水性フォトレジストが１％から３０％、好ましくは５％から１５％のイソプロパノールを含むことがより好ましい。

また、第１及び／又は第２及び／又は第３及び／又は第４ニス層は、着色剤（具体的には、多色あるいは無色の顔料及び／若しくは効果顔料、ＵＶ−励起蛍光顔料、薄膜システム、コレステリック液晶、染料、並びに／又は、金属若しくは非金属のナノ粒子）を含むのが好ましい。これにより、種々の光学的効果を実現することができる。

また、第１及び／又は第２及び／又は第３及び／又は第４ニス層は、互いに異なる着色剤を有するのが好ましい。

対象のニス層が上記の通り互いに位置合わせされて構造化されると、印刷構造に比してより高い解像度で正確に位置合わせされた多色のデザインを得ることができる。

また、第１及び／又は第２及び／又は第３及び／又は第４ニス層を、グラフィックモチーフ、英数字、ロゴ、画像、パターン（特にギロシェパターン）の形状に適用すると共に、／又は、構造化するのが好ましい。

なお、上記したデザイン要素を組み合わせることも可能である。

また、第１ニス層を、以下の層のうち１つ以上を有する基体に適用するのがより好ましい。即ち、キャリアプライ、ワックス層、剥離層、保護層、表面レリーフを有する複製層、反射層、体積ホログラム層、着色ニス層、ベースコート層、のうち１つ以上の層を有する基体に第１ニス層を適用するのが好ましい。

さらなるデザイン、セキュリティ、及び機能的要素を本多層体に組み込むことができる。これにより、偽造に対する良好な保護性を有しつつ、光学的に特徴ある外観を持ち非常に加工性の高い多層体を得ることができる。

キャリアプライは、安定したベースプライを形成する。該ベースプライには、別の層複合体を積層することができ、好ましくは、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリビニル、ポリイミド、ＡＢＳからなる。特に、４μｍから７５μｍ、好ましくは６μｍから５０μｍ、より好ましくは９μｍから２６μｍの層厚さを有するＰＥＴ，ＰＣ，ＰＰ，ＰＥ，ＰＶＣ，ＰＳからなるのが好ましい。

剥離層は、キャリアプライと、基体の他の層との間に設けられるのが好ましく、０．００５μｍから０．３μｍ、好ましくは０．０１μｍから０．１μｍの層厚さを有するワックス又はシリコンからなるのが好ましい。あるいは、剥離層は強い薄膜を生じさせるアクリレートポリマー／コポリマーからなる、及び／又は保護層の一部であって、１μｍから５μｍ、好ましくは１μｍから３μｍの層厚さを有するものであっても良い。剥離層は、多層体をセキュリティ文書に転写する際にキャリアプライを容易に剥離可能とする。

ベースコート層は、第１ニス層が塗布される基体の表面を形成するのが好ましく、第１ニス層の接着を促進させる働きをする。ベースコート層は、ポリエステル、エポキシド、ポリウレタン、アクリレート及び／若しくはコポリマー樹脂、又はこれらの組合せからなり、０．５μｍから１５μｍ、好ましくは１μｍから５μｍ、より好ましくは１μｍから３μｍの層厚さを有するのが好ましい。あるいは、熱可塑性接着剤、ホットワックス、ＵＶ硬化性接着剤若しくはコールド接着剤、又は自己粘着性接着剤も利用することができる。

複製層は、光学的可変効果、例えば表面ホログラムを生み出す働きを有する。複製層は、好ましくはアクリレート又はアクリレートコポリマー、例えばウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートやアクリレートコポリマー、ポリエステルアクリレートからなり、０．１μｍから５０μｍ、好ましくは０．２μｍから５μｍの層厚さを有する。複製層は、熱可塑性構造、及び／又は放射線硬化性（具体的にはＵＶ放射線を用いた）を有する。

反射層は、このような光学可変効果の視認性を向上させる働きを有し、さらにデザイン効果を実現するために用いられる。

反射層は、金属層（具体的には、アルミニウム、銅、銀、金、クロム、又はこれらの金属の合金からなる金属層）からなる。あるいは、反射層を、高屈折率（ＨＲＩ）材料（具体的には、硫化亜鉛又は二酸化チタン）からなる層として形成しても良い。

金属層の層厚さは、好ましくは５ｎｍから１５０ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍから５０ｎｍであることが好ましい。ＨＲＩ層の層厚さは、３０ｎｍから２５０ｎｍとすることが好ましい。また、３０ｎｍから７５ｎｍの厚さ範囲では、より色彩的に中立な反射結果が得られる。一方、より厚い層では、反射層で反射した光は顕著な色を表示する。

保護層は、多層体の外面を形成するために用いられ、環境への影響に対して安定している。そのために好ましいニスは、１μｍから１０μｍ、好ましくは１μｍから５μｍの層厚さを有するポリアクリレート、アクリレート化合物及び／又はポリメタクリレート、エポキシド、ポリフッ化ビニリデンである。

同様に、体積ホログラム層は、光学可変効果を生じさせる働きを有し、典型的にはモノマー、開始剤、及び感光性染料からなる。当該層は、好ましくは以下のグループの物質を含む。即ち、３μｍから５０μｍ、好ましくは５μｍから２５μｍの層厚さを有するアクリレート、アミド、エポキシド、ビニルエステル、ビニルエーテル、スチレン、ポリオール、ポリイソシアネート、アクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリウレタンからなるグループの物質を含む。

また、複製層に設けられる表面レリーフが、光学可変要素（具体的には、ホログラム、キネグラム（登録商標）、又はトラストシール（登録商標））、線形・交差正弦回析格子、線形・交差の単一・多段矩形格子、ゼロ次回析構造、非対称レリーフ構造、ブレーズド格子、等方性・異方性マット構造や、光回析及び／若しくは光屈折及び／若しくは光収束マイクロ・ナノ構造、バイナリー若しくは連続フレネルレンズ、バイナリー若しくは連続フレネル自由曲面、マイクロプリズム構造、又はこれらを組み合わせた構造を形成することがより一層好ましい。

よって、偽造防止性を有する、複数の光学可変効果が生じる。

以下、図面に示された実施例を参照しながら本発明について詳細に説明する。

水性フォトレジストからなる構造層を有する多層体の実施例の製造過程における本方法のステップを示す概略図である。 水性フォトレジストを別のニス層に対する洗浄ニスとして用いた場合の、多層体の別の実施例の製造過程における本方法のステップを示す概略図である。 部分ニス層を内部露光マスクとして用いた場合の、水性フォトレジストからなる構造層を有する多層体の実施例の製造過程における本方法のステップを示す概略図である。 部分金属層を内部露光マスクとして用いた場合の、水性フォトレジストからなる構造層を有する多層体の実施例の製造過程における本方法のステップを示す概略図である。 部分金属層を内部露光マスクとして用いた場合の、水性フォトレジストからなる部分構造層を有する多層体の実施例の製造過程における本方法のステップを示す概略図である。 部分金属層及び部分ニス層を内部露光マスクとして用いた場合の、水性フォトレジストからなる構造層を有する多層体の実施例の製造過程における本方法のステップを示す概略図である。 部分ニス層を内部露光マスクとして用いた場合の、水性フォトレジストからなる構造層を有する多層体の実施例の製造過程と、その後のエッチングレジストによる構造化における本方法のステップを示す概略図である。 部分ニス層を内部露光マスクとして用いた場合の、水性フォトレジストからなる構造層を有する多層体の実施例の製造過程における本方法のステップを示す概略図である。 ２つの補完的反射層を生成するために水性フォトレジストを洗浄ニスとして用いた場合の、多層体の実施例の製造過程における本方法のステップを示す概略図である。 部分金属層及び部分ニス層を内部露光マスクとして用いた場合の、水性フォトレジストからなる構造層を有する多層体の実施例の製造過程における本方法のステップを示す概略図である。 更なる着色ニス層を構造化するために水性フォトレジストを洗浄ニスとして用いた場合の、図１０に係る多層体の製造過程における本方法のステップを示す概略図である。

多層体１の製造過程では、基体２が初めに設けられる。基体２は、キャリアプライ２１と、層複合体２２とを有する。基体２においてキャリアプライ２１と反対側には、水性フォトレジストからなる第１ニス層３が配置され、図１に示さないマスクにより露光される。

ＵＶ光源４は、第１ニス層３のうち、マスクによって遮光されていない部分領域３１のみを照射する。他方、マスクによって遮光されている部分領域３２は、露光されない。第１ニス層３が現像されると、部分領域３１の露光されたニスだけが残り、部分領域３２のニスは、現像剤によって除去される。

なお、以下に示す基体２の構造は、後述する全ての実施例に妥当する。

キャリアプライ２１は安定したベースプライを形成する。該ベースプライには、別の層複合体２２を積層することができ、好ましくは、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリビニル、ポリイミド、ＡＢＳからなる。特に、４μｍから７５μｍ、好ましくは６μｍから５０μｍ、より好ましくは９μｍから２６μｍの層厚さを有するＰＥＴ，ＰＣ，ＰＰ，ＰＥ，ＰＶＣ，ＰＳからなるのが好ましい。

層複合体２２は、以下の層のうち１つ以上を有する：キャリアプライ、ワックス層、剥離層、保護層、表面レリーフを有する複製層、反射層、体積ホログラム層、着色ニス層、ベースコート層。

剥離層は、キャリアプライ２１と、基体２の他の層との間に設けられるのが好ましく、０．０００５μｍから０．３μｍ、好ましくは０．０１μｍから０．１μｍの層厚さを有するワックス又はシリコンからなるのが好ましい。あるいは、剥離層は強い薄膜を生じさせるアクリレートポリマー／コポリマーからなる、及び／又は保護層の一部であって、１μｍから５μｍ、好ましくは１μｍから３μｍの層厚さを有するものであっても良い。剥離層は、多層体１をセキュリティ文書に転写する際にキャリアプライ２１を容易に剥離可能とする。

ベースコート層は、第１ニス層３が塗布される基体２の表面を形成するのが好ましく、第１ニス層３の接着を促進させる働きをする。ベースコート層は、ポリエステル、エポキシド、ポリウレタン、アクリレート及び／若しくはコポリマー樹脂、又はこれらの組合せからなり、１μｍから５μｍ、好ましくは１μｍから３μｍの層厚さを有するのが好ましい。あるいは、熱可塑性接着剤、ホットワックス、ＵＶ硬化性接着剤若しくはコールド接着剤、又は自己粘着性接着剤も利用することができる。

複製層は、光学的可変効果、例えば表面ホログラムを生み出す働きを有する。複製層は、好ましくはアクリレート又はアクリレートコポリマー、例えばウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートやアクリレートコポリマー、ポリエステルアクリレートからなり、０．１μｍから５０μｍ、好ましくは０．２μｍから５μｍの層厚さを有する。

また、複製層に設けられる表面レリーフが、光学可変要素（具体的には、ホログラム、キネグラム（登録商標）、又はトラストシール（登録商標））、線形・交差正弦回析格子、線形・交差の単一・多段矩形格子、ゼロ次回析構造、非対称レリーフ構造、ブレーズド格子、等方性・異方性マット構造や、光回析及び／若しくは光屈折及び／若しくは光収束マイクロ・ナノ構造、バイナリー若しくは連続フレネルレンズ、バイナリー若しくは連続フレネル自由曲面、マイクロプリズム構造、又はこれらを組み合わせた構造を形成することがより一層好ましい。

反射層は、このような光学可変効果の視認性を向上させる働きを有し、さらにデザイン効果を実現するために用いられる。

反射層は、金属層（具体的には、アルミニウム、銅、銀、金、クロム、又はこれらの金属の合金からなる金属層）からなる。あるいは、反射層を、高屈折率（ＨＲＩ）材料（具体的には、硫化亜鉛又は二酸化チタン）からなる層として形成しても良い。

金属層の層厚さは、好ましくは５ｎｍから１５０ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍから５０ｎｍであることが好ましい。ＨＲＩ層の層厚さは、３０ｎｍから２５０ｎｍとすることが好ましい。また、３０ｎｍから７５ｎｍの厚さ範囲では、より色彩的に中立な反射結果が得られる。一方、より厚い層では、反射層で反射した光は顕著な色を表示する。

保護層は、多層体の外面を形成するために用いられ、環境への影響に対して安定している。そのために好ましいニスは、１μｍから１０μｍ、好ましくは１μｍから５μｍの層厚さを有するポリアクリレート、アクリレート化合物及び／又はポリメタクリレート、エポキシド、ポリフッ化ビニリデンである。

同様に、体積ホログラム層は、光学可変効果を生じさせる働きを有し、典型的にはモノマー、開始剤、及び感光性染料からなる。当該層は、好ましくは以下のグループの物質を含む。即ち、３μｍから５０μｍ、好ましくは５μｍから２５μｍの層厚さを有するアクリレート、アミド、エポキシド、ビニルエステル、ビニルエーテル、スチレン、ポリオール、ポリイソシアネート、アクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリウレタンからなるグループの物質を含む。

層複合体２２の着色されたニス層は、溶剤系であって、好ましくは０．１μｍから１０μｍ、より好ましくは０．２μｍから５μｍの層厚さを有する。該着色されたニス層は、顔料及び／又は染料を用いて染められる。顔料及び／又は染料は、可視光下で色彩効果を示すが、これに代えて、あるいはこれに加えて、赤外線（ＩＲ線）及び／又は紫外線（ＵＶ線）下においても色彩効果を示し得る。なお、光学可変顔料を用いることにより、着色されたニス層は光学可変効果を奏することができる。

第１ニス層３は、好ましくは少なくとも１つの水溶性ポリマーと、少なくとも１つのフィルム状ポリマーと、少なくとも１つの添加剤と、少なくとも１つの光開始剤と、を含む水性フォトレジストからなる。

なお、第１ニス層３におけるニスの対応する組成物は、詳述される全ての実施例に妥当する。

水溶性ポリマーは、好ましくは以下のグループから選択される：アルギン酸誘導体、セルロース誘導体及び／又はカルボキシル化アクリルポリマー（例えば、 カルボキシメチルセルロースナトリウムメチルセルロース）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエチレンオキシド、ホモ‐及び／又はコポリマー酢酸ビニル、ポリアクリルアミド、長鎖カルボン酸。

水溶性ポリマーは、水性溶媒により、露光されていないフォトレジストの剥離性を担保すると共に、その分散性を向上させる。

水溶性ポリマーは、好ましくは水性フォトレジスト中に、１重量％から５０重量％、好ましくは１重量％から２０重量％の濃度で含まれる。また、フィルム形成ポリマーは以下のグループから選択される：ポリ酢酸ビニル樹脂、エチレン‐酢酸ビニルコポリマー、酢酸ビニル‐アクリル酸コポリマー、アクリルコポリマー、ポリウレタンコポリマー、ポリアクリレート、ポリウレタン、ポリエステル及び／又はエポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ウレタンアクリレート。

フィルム形成ポリマーはニスの中で分散され、露光及び乾燥後、該ニスの実マトリクスを形成する。

また、フィルム形成ポリマーは、水性フォトレジスト中に、１重量％から５０重量％、好ましくは１０重量％から３０重量％の濃度で含まれる。

ニスの分散性と安定性を向上するために、少なくとも１つの添加剤が、水性フォトレジスト中に０．１重量％から５重量％、好ましくは０．１重量％から３重量％の濃度で含まれる分散添加剤である、又は、を含むのが便宜である。

また、少なくとも１つの添加剤が、水性フォトレジスト中に０．１重量％から５重量％、好ましくは０．１重量％から３重量％の濃度で含まれる消泡剤である、又は、を含むのが有利である。これにより、ニスの加工性が向上する。

また、光開始剤が、感光性ジアゾ樹脂（具体的には、水性フォトレジスト中に、濃度０．１重量％から５重量％、好ましくは０．１重量％から３重量％で含まれる4-ジアゾジフェニルアミン／ホルムアルデヒド縮合物）である、又は、を含むのが好ましい。

ＵＶ照射中、ジアゾ樹脂は、露光された領域において、ニスのポリマー鎖を結ぶ架橋剤として作用する。これによる分子量の増加により、水溶性を低下させる。その結果、露光されたニスが現像中に洗い落とされることがなくなる。

また、水性フォトレジストが１％から３０％、好ましくは５％から１５％のイソプロパノールを含むことがより好ましい。

第１ニス層３は、着色剤を含むことがさらに好ましい。具体的には、多色あるいは無色の顔料及び／若しくは効果顔料、ＵＶ−励起蛍光顔料、薄膜システム、コレステリック液晶、染料、並びに／又は、金属若しくは非金属のナノ粒子を含むのが好ましい。これらの顔料及び／又は染料は可視光下で色彩効果を示すが、これに代えて、あるいはこれに加えて、赤外線（ＩＲ線）及び／又は紫外線（ＵＶ線）下においても色彩効果を示し得る。なお、光学可変顔料を用いることにより、着色されたニス層は光学可変効果を奏することができる。

ニスの配合例を以下の表に示す。

第１ニス層３の露光は、波長３５０ｎｍから４００ｎｍの光を、露光時間０．１秒から１２０秒、好ましくは０．１秒から６０秒で、かつ／又は照射線量１ｍＪ／ｃｍ^２から３００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは１ｍＪ／ｃｍ^２から１００ｍＪ／ｃｍ^２で実行するのが好ましい。

具体的には、ＵＶのＬＥＤをＵＶ光源４として使用することができる。また、光活性化剤の感度に対する放射スペクトルとニスの透過性挙動とを整合させるために、例えばガリウムや鉄を注入できる水銀ランプも使用に適している。

また、露光にレーザ光を用いても良い。そのビーム品質から、偏向ユニットの媒体を介した部分露光制御にレーザ光を用いることもできる。この結果、例えば、個々に露光を実行することもできる。

露光中、光活性化剤は活性化され、領域３１においてポリマー鎖を結ぶ架橋剤として作用する。この結果、その水溶性が失われる。

現像の際には、第２領域３２の第１ニス層３の除去のために、イソプロパノールが加えられた水（具体的には、１％から３０％のイソプロパノール、好ましくは５％のイソプロパノールが加えられた水）を用いるのが好ましい。この結果、非露光領域３２において、層複合体２２の他の層を侵食することなく、ニスを穏やかに除去することが可能である。

第１ニス層や他の層の結合又は実質的な接着を確保するため、その塗布前に、例えばコロナやプラズマを用いた前処理を行っても良い。

図２に示すように、第１ニス層３の露光及び現像後、別の層複合体５が塗布される。図２に示す実施例にあっては、該層複合体が、着色されたニスから作成された唯一のニス層５１となる。

ニス層５１は、着色剤（具体的には、多色あるいは無色の顔料及び／若しくは効果顔料、ＵＶ−励起蛍光顔料、薄膜システム、コレステリック液晶、染料、並びに／又は、金属若しくは非金属のナノ粒子）を含むのが好ましい。これらの顔料及び／又は染料は可視光下で色彩効果を示すが、これに代えて、あるいはこれに加えて、赤外線（ＩＲ線）及び／又は紫外線（ＵＶ線）下においても色彩効果を示し得る。なお、光学可変顔料を用いることにより、着色されたニス層は光学可変効果を奏することができる。

ニス層５１の層厚さは、好ましくは０．１μｍから１０μｍ、より好ましくは１μｍから５μｍとされる。

ニス層５１の堆積後、再び第１ニス層３が除去される。即ち、第１ニス層３の水性フォトレジストが洗浄ニスとして作用する。そして領域３１では、第１ニス層３だけでなくニス層５１も除去される。この結果、ニス層５１は領域３２にのみ残される。

また、酸性のメタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液（具体的には、１．５％重量％のメタ過ヨウ素酸ナトリウムと０．０５重量％の硫酸を含む水溶液）を用いた処理により第１ニス層３１及びニス層５１を除去することが好ましい。

このように、第１ニス層３１の除去は酸化的プロセスである。酸の混合物はメタ過ヨウ素酸塩の安定化に役立つ。なお、硫酸の代わりに、例えば硝酸を使用しても良い。

メタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液のｐＨは、好ましくは１から７、より好ましくは２から５である。

酸性のメタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液による処理は、好ましくは温度１５℃〜７０℃、より好ましくは２５℃〜５０℃で、及び／又は、処理時間１秒〜６００秒、より好ましくは１０秒〜１２０秒で行われる。

第１ニス層３１の剥離は、溶液の攪拌、多層体に対するフロー、ブラッシング、スミアリング（smearing）、又は超音波処理、によってさらに支持される。

また、非イオン性界面活性剤を酸性のメタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液に加えると便宜である。メタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液は、具体的には、以下のグループから選択される：エトキシレート、第一級又は第二級脂肪族アルコールのアルコキシレート、アルキルフェノール、エチレンオキシド／プロピレンオキシド共重合体、アミンエトキシレート、アルキルポリグリコライド、脂肪族アミンオキシド、脂肪酸アルカノールアミド、脂肪酸アルキルグルカミド。

かかる界面活性剤は湿潤剤として作用し、メタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液により第１ニス層３１及びニス層５１とを確実に湿らせることができる。これにより、所望の剥離性を得ることができる。

界面活性剤の濃度は、好ましくは０％から５０％、より好ましくは０．０１％から３％とされる。

図３に係る実施例にあっては、基体２２が部分ニス層２３を有する。該層２３は第１ニス層３の露光に用いられる波長域に対して非透明性を有する。即ち、好ましくは当該波長域において２０％未満の透過率を有する。

また、第１ニス層１３の露光及び現像の前に、金属層５２が第１ニス層３に塗布される。該金属層５２は、具体的にはアルミニウム、銅、銀、金、クロム、又はこれらの合金からなり、その層厚さは、１ｎｍから１μｍ、好ましくは１０ｎｍから１００ｎｍである。

かかる場合における第１ニス層３の露光は、基体２側から行われる。第１ニス層３は、部分ニス層２３が存在しない領域３１において露光される一方、部分ニス層２３が存在する領域３２においては、露光されない。この結果、部分ニス層３の連続的な現像の際、領域３２において金属層５２と共に第１ニス層３が除去される。よって、部分ニス層３及び金属層５２により部分ニス層２３を補完するモチーフを形成する。

図４に係る実施例にあっては、基体２２が部分金属層２４を有する。図３の部分ニス層２３と同様、部分金属層２４も、第１ニス層３の露光に用いられる波長域において非透明性を有する。

部分金属層２４は、具体的にはアルミニウム、銅、銀、金、クロム、又はこれらの合金からなり、その層厚さは、１ｎｍから１μｍ、好ましくは１０ｎｍから１００ｎｍである。

ここでも、第１ニス層３の露光は基体２側から行われる。第１ニス層３は、部分金属層２４が存在しない領域３１において露光される一方、部分金属層２４が存在する領域３２においては、露光されない、又は僅かにしか露光されない。この結果、部分ニス層３の連続的な現像の際、領域３２において第１ニス層３が除去される。よって、第１ニス層３により部分金属層２４を補完するモチーフが形成される。

図５に係る実施例は図４の実施例に対応するものであり、第１ニス層３１が基体２の全体ではなく部分的にのみ塗布される点のみ異なる。

図６に係る実施例も図４の実施例に対応するものであり、基体が部分金属層２４に加えて部分ニス層２３も有している点のみ異なる。該部分ニス層２３は、基体が延在する平面に対する表面法線の方向において部分金属層２４と一致する。

図７に係る実施例は図３の実施例に対応するものである。ただし、金属層５１の第１ニス層３への塗布は省略されている。ここでも、第１ニス層３は基体２側から露光される。基体２の部分ニス層２３は内部マスクとして用いられ、その後上述した通り第１ニス層３が現像される。

また、その後の処理において、エッチングレジスト５２が第１ニス層３及び部分ニス層２３に対し部分的に塗布される。そして、エッチングレジスト５２によって覆われていない部分において第１ニス層３及び部分ニス層２３が除去される。

エッチングレジスト５３は、層厚さが０．１μｍから１０μｍ、好ましくは０．１μｍから５μｍの、アクリレート、ポリエステル、エポキシ、ポリウレタン樹脂、又はアクリレートコポリマー（アクリレート共重合体）からなるのが好ましい。

エッチングレジスト５３は、パターン、格子、モチーフ、具体的には微細ラインパターンの形状で塗布されても良い。この場合、結果物たる多層体１は、第１ニス層３及び部分ニス層２３の色彩パターンに応じて染められる。

図８に係る実施例も図３の実施例に対応し、同様に、部分ニス層２３を内部マスクとして用いた第１ニス層３の構造化が行われる。ただし、図３と異なり、本実施例では、基体２に関する記載で始めに説明した特性を有する基体２上の全表面に亘り、反射層２５のみが設けられる。

ここでも、図７同様、エッチングレジスト５３の塗布と、続くエッチングによるさらなる構造化が図られる。

図９に係る実施例では、図２同様、第１ニス層３を洗浄ニスとして用いる。本実施例にあっては、先ず第１ニス層３が基体２の反射層２５の上に設けられ、外部マスク又はレーザを用いて露光された後、現像の際に露光されなかった領域３２において該第１ニス層３が除去される。

そして、領域３２の反射層２５が除去されるエッチング処理が行われる。エッチング処理中、領域３１の反射層は第１ニス層３によって保護されるため、そのまま残る。

次いで、更なる反射層５２が、例えば蒸着、スパッタリング、又は化学気相蒸着等により、基体２及び第１ニス層３に塗布される。

メタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液を用いた一連の処理の間、第１領域３１の第１ニス層３は該更なる反射層５２と共に除去される。反射層２５は、基体２上に残るが、該更なる反射層５２は領域３１において基体２の表面を形成する。このような状況は、異なる物質を反射層２５，５２に対して用いた場合に起きる。したがって、例えば、２つの異なる金属や合金を互いに補完するように配置しても良い。

ここでも、エッチングレジストによる部分的な重ね印刷と、反射層２５，５２のさらなる構造化を行っても良い。

図１０に係る実施例は、図６の実施例と類似する。ここでも、部分金属層２４と部分ニス層２３が第１ニス層３の内部マスクとして使用される。唯一の違いは、層の並びである。ここでは、部分金属層２４が第１ニス層３と対向し、部分ニス層２３はキャリアプライ２１と対向する。

この層の並びにより、部分ニス層２３を使って部分金属層２４の構造化を図ることができる。そのため、部分ニス層２３が先ず生成され、金属層２４が表面全体に亘って塗布される。基体２を介して露光される感光性のエッチングレジストは、金属層２４の上に設けられる。ポジ型レジストを用いると、現像後、部分ニス層２３と重なるようにレジストが残る。これにより、一連のエッチングの間、部分金属層２４も部分ニス層２３と正確に位置合わせされた状態で残る。

図６を参照して説明したように、レジストの除去後、第１ニス層３が、層２３，２４と補完するように正確に位置合わせされた状態で生成される。

図１１に示したように、生成された層構造から始まり、更なる着色ニス層５１を塗布しても良い。図２同様、次いでメタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液によって第１ニス層３が除去される。また、第１ニス層３が存在する領域において、更なる着色ニス層５１が除去される。この結果、該更なる着色ニス層５１は、部分ニス層２３及び部分ニス層２４と正確に位置合わせされた状態で残る。

１ 多層体
２ 基体
２１ キャリアプライ
２２ 層複合体
２３ 部分ニス層
２４ 部分金属層
２５ 反射層
３ 第１ニス層
３１ 露光領域
３２ 非露光領域
４ ＵＶ光源
５ 更なる層複合体
５１ 着色ニス層
５２ 反射層
５３ エッチングレジスト

Claims (17)

1. 多層体の製造方法であって、
   ａ）水性フォトレジストからなる第１ニス層を基体の表面に塗布し、
   ｂ）第１領域において前記第１ニス層を露光する一方、第２領域において前記第１ニス層を露光せず、
   ｃ）前記第２領域において前記第１ニス層を除去し、
   前記第１ニス層は、前記基体の表面の部分領域にのみ塗布されることを特徴とする多層体の製造方法。
2. 多層体の製造方法であって、
   ａ）水性フォトレジストからなる第１ニス層を基体の表面に塗布し、
   ｂ）第１領域において前記第１ニス層を露光する一方、第２領域において前記第１ニス層を露光せず、
   ｃ）前記第２領域において前記第１ニス層を除去し、
   前記第１ニス層及び／又は前記少なくとも１つの層の部分領域にエッチングレジストを塗布すると共に、前記エッチングレジストによって覆われていない領域において、前記第１ニス層及び／又は前記少なくとも１つの層を除去することを特徴とする多層体の製造方法。
3. 請求項２に記載の方法であって、前記第１ニス層は、前記基体の表面の部分領域にのみ塗布されることを特徴とする多層体の製造方法。
4. 請求項１に記載の方法であって、前記第１ニス層及び／又は前記少なくとも１つの層の部分領域にエッチングレジストを塗布すると共に、前記エッチングレジストによって覆われていない領域において、前記第１ニス層及び／又は前記少なくとも１つの層を除去することを特徴とする多層体の製造方法。
5. 請求項１から４の何れか一項に記載の方法であって、
   前記基体は、溶剤系ニスからなる少なくとも１つの第２ニス層を有することを特徴とする多層体の製造方法。
6. 請求項５に記載の方法であって、
   前記第１ニス層が、前記第２ニス層の表面に塗布されることを特徴とする多層体の製造方法。
7. 請求項１から６の何れか一項に記載の方法であって、
   前記第１ニス層に対し、少なくとも１つの層が塗布されることを特徴とする多層体の製造方法。
8. 請求項７に記載の方法であって、
   前記少なくとも１つの層の塗布後、前記第１ニス層及び前記少なくとも１つの層が前記第１領域から除去されることを特徴とする多層体の製造方法。
9. 請求項８に記載の方法であって、
   前記第１ニス層及び前記少なくとも１つの層は、酸性のメタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液を用いた処理により除去されることを特徴とする多層体の製造方法。
10. 請求項９に記載の方法であって、
    前記酸性のメタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液を用いた処理は、温度１５℃から７０℃で、及び／又は、処理時間１秒〜６００秒で行われ、
    非イオン性界面活性剤を前記酸性のメタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液に加える方法において、
    前記メタ過ヨウ素酸ナトリウム溶液は、エトキシレート、第一級又は第二級脂肪族アルコールのアルコキシレート、アルキルフェノール、エチレンオキシド／プロピレンオキシド共重合体、アミンエトキシレート、アルキルポリグリコライド、脂肪族アミンオキシド、脂肪酸アルカノールアミド、脂肪酸アルキルグルカミド、からなるグループから選択されることを特徴とする多層体の製造方法。
11. 請求項７から１０の何れか一項に記載の方法であって、
    前記少なくとも１つの層は、溶剤系ニスからなる第３ニス層である、若しくは、を含み、及び／又は
    前記少なくとも１つの層は、反射層である、若しくは、を含むことを特徴とする多層体の製造方法。
12. 請求項１１に記載の方法であって、
    前記第１ニス層は、前記基体の反射層に塗布され、前記少なくとも１つの層の塗布前に、前記基体の前記反射層が前記第１領域において除去されることを特徴とする多層体の製造方法。
13. 請求項１から１２の何れか一項に記載の方法であって、
    前記露光は、前記基体側から行われることを特徴とする多層体の製造方法。
14. 請求項１３に記載の方法であって、
    前記基体は少なくとも１つの部分層を備え、前記部分層は、前記第１領域において、前記第１ニス層の露光に用いられる波長域に対して透明である一方、前記第２領域において、前記第１ニス層の露光に用いられる波長域に対して非透明であることを特徴とする多層体の製造方法。
15. 請求項１から１４の何れか一項に記載の方法であって、
    前記第２領域の前記第１ニス層を除去するために、イソプロパノールが加えられた水を用いることを特徴とする多層体の製造方法。
16. 請求項１から１５の何れか一項に記載の方法であって、
    前記第１ニス層の塗布のために、少なくとも１つの水溶性ポリマーと、少なくとも１つのフィルム形成ポリマーと、少なくとも１つの添加剤と、少なくとも１つの光開始剤と、を含む水性フォトレジストを用いることを特徴とする多層体の製造方法。
17. 請求項１から１６の何れか一項に記載の方法であって、
    前記第１及び／又は第２及び／又は第３及び／又は第４ニス層は、着色剤、及び／又は、金属若しくは非金属のナノ粒子を含み、加えて／あるいは、
    前記第１及び／又は第２及び／又は第３及び／又は第４ニス層は、それぞれ異なる着色剤を有し、加えて／あるいは、
    前記第１及び／又は第２及び／又は第３及び／又は第４ニス層に対し、グラフィックモチーフ、英数字、ロゴ、画像、パターンの形状が適用されることを特徴とする多層体の製造方法。