JP6812986B2 - センサ及びバイオチップ - Google Patents
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Description
本願は、2015年11月10日に、日本に出願された特願2015−220728号、及び2016年6月24日に、日本に出願された特願2016−125961号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
なお、本実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
なお、本明細書において、「バイオセンサ」とは、酵素、抗原、抗体、核酸(DNA,RNA等に限らず、例えば、LNA等の人工核酸も含む。)等の生体材料(天然由来であってもよく、化学合成したものであってもよい。)を感知するセンサを意味する。
<第一実施形態>
図1は、第一実施形態のバイオセンサ主要部の斜視図であり、図2は、図1のII−II線に沿う断面図である。以下にて記述する、第一の平面、第二の平面、第三の平面、第四の平面は仮想的な平面で、平面上の部材の位置関係を定義するために便宜的に導入したものである。
バイオセンサ10は、基板1と、入力される磁界の向きに応じて検出される抵抗値が変化する磁気抵抗効果素子2と、磁気抵抗効果素子2に隣接配置された軟磁性体薄膜3と、軟磁性体薄膜3の表面を覆う保護膜7と、を備え、保護膜7は、その外表面に前記生体分子を認識する第一の親和性物質を備える。
更に、本実施形態においては、前記第一の親和性物質の前記生体分子認識部位とは異なる部位を認識する第二の親和性物質を備えた磁気ビーズ4が、前記保護膜7上に、第一の親和性物質−生体分子−第二の親和性物質複合体を介して集積し、軟磁性体薄膜3と交差する方向に磁界(印加磁界5)を印加したときに、検出磁界6(漏れ磁界)が磁気抵抗効果素子2に入力される。
更に、第一の平面及び第二の平面よりも基板1の主面から離間して位置する図示略の第三の平面には、図示略の電極端子が配置される。電極端子は、図示略の内部配線を経由して磁気抵抗効果素子2と接続される。
基板1の厚さは、特に限定はないが、例えば400μm以上2000μm以下であればよい。基板1の厚さがこのような範囲であることで、適度な強度を有し、薄型化及び軽量化されたバイオセンサを得ることができる。
ここで、「基板の厚さ」とは、基板全体の厚さを意味し、例えば、複数層からなる基板の厚さとは、基板を構成するすべての層の合計の厚さを意味する。
本実施形態において、略平行又は略反平行とは、凡そ平行又は反平行であればよく、0.1゜以上10゜以下の範囲でずれていてもよい。
更に、磁気抵抗効果素子2は、磁化固定層と、非磁性体の導体又は絶縁体からなる中間層と、磁化自由層と、を含み、磁化固定層と磁化自由層とで中間層を挟む積層体を有していることがより好ましい。
なお、中間層が導体の場合、磁気抵抗効果素子2は、一般にGMR(巨大磁気抵抗効果素子)と呼ばれ、絶縁体の場合、TMR(トンネル型磁気抵抗効果素子)と呼ばれる。磁気抵抗効果素子2の抵抗は、磁化固定層の磁化方向と磁化自由層の平均の磁化方向の角度に応じて変化する。一般に、磁化固定層の磁化方向を感磁方向と定義する。
磁化固定層は、反強磁性膜と磁化固定膜とからなり、磁化固定膜が中間層と接する。反強磁性膜は例えばIrMnやPtMn等の反強磁性Mn合金等から構成される。磁化固定膜は、例えば、CoFeやNiFe等の強磁性体から構成されるか、或いは、Ruの薄膜層をCoFe等で挟む構成をとってもよい。
軟磁性体薄膜3は、軟磁性体薄膜3に印加される磁界の印加方向から見て、磁気抵抗効果素子2の磁化固定方向に沿って同一直線上に配置されていることが好ましい。また、図2では、印加磁界5の方向(図2の符号5で示す方向)から平面視して軟磁性体薄膜3と、磁気抵抗効果素子2とが重ならない(軟磁性体薄膜3と磁気抵抗効果素子2とが基板1に平行な面に投影した場合に重ならない)場合を図示しているが、後述の実施例3に示すように、印加磁界5の方向から平面視して軟磁性体薄膜3が磁気抵抗効果素子2に重なる様に配置されてもよいし、また、印加磁界5の方向から平面視して軟磁性体薄膜3が磁気抵抗効果素子2に接する様に配置されてもよい。バイオセンサの感度(磁性ビーズ1個当たり磁気抵抗効果素子が受ける磁界の大きさ)の観点で、接する様に配置する場合が最も好ましく、重なる様に配置する場合、重ならない様に配置する場合の順となる(図6(A)参照)。一方、製造の容易さの観点では、平面視して軟磁性体薄膜3が磁気抵抗効果素子2と重なる様に配置されることが好ましい。
少なくとも軟磁性体薄膜3上には、絶縁膜からなる保護膜7が形成されていている。保護膜7としては、例えばアルミナ、窒化アルミ、酸化シリコン、窒化シリコン等の無機物や、ポリイミド等の有機物が好ましい。
軟磁性体薄膜3の大きさとしては、捕捉する磁気ビーズ4の数や大きさによって適宜選択されるが、0.1μm以上1000μm以下四方が好ましく、0.5μm以上500μm以下四方がより好ましく、50μm以上200μm以下四方が特に好ましい。
軟磁性体薄膜3の厚みとしては、0.01μm以上100μm以下が好ましく、0.1μm以上50μm以下がより好ましく、0.5μm以上5μm以下が特に好ましい。
磁性ビーズ4は、生体分子と特異的に結合する第二の親和性物質を備え、第二の親和性物質を介して生体分子を捕捉する。磁性ビーズ4は、第二の親和性物質がコーティング処理等により付加されたものであってもよく、第二の親和性物質自体からなるものであってもよい。
磁気ビーズ4の表面は、捕捉する生体分子に応じて、ポリマーやシリカマトリックスでコーティング処理されることが好ましい。生体分子としてリガンドを捕捉したい場合には、磁気ビーズ4の表面は親水性であることが好ましく、生体分子として抗体を捕捉したい場合には、磁気ビーズ4の表面は疎水性であることが好ましい。
これら親和性物質を備えることにより、検出対象の生体分子が試料中(検体中)に存在する場合にのみ、生体分子が保護膜7の外表面に第一の親和性物質を介して固定され、次いで、磁気ビーズ4が第二の親和性物質を介して生体分子と結合することにより、磁気ビーズ4が保護膜7表面に固定される。
検出対象の生体分子を含む試料としては、例えば、血液、血清、血漿、尿、パフィーコート、唾液、精液、胸部滲出液、脳脊髄液、涙液、痰、粘液、リンパ液、腹水、胸水、羊水、膀胱洗浄液、気管支肺胞洗浄液、細胞抽出液、細胞培養上清等が挙げられる。
そして、磁気ビーズ4が備える第二の親和性物質の力価(例えば、第二の親和性物質が捕捉する生体分子の分子数)をもとに、保護膜7上に集積した生体分子全体の分子数を算出することができる。即ち、本実施形態によれば、試料中に含まれている生体分子の分子数を算出できる。このように、本実施形態においては、試料中の生体分子の定量性を高精度に確保できる。
更に、本実施形態のバイオセンサは、磁気ビーズを用いるため、蛍光と比べて高感度で寿命も長い。従ってELISA等の検出手段と比較して格段に優れている。
図3は、第二実施形態のバイオセンサ主要部の斜視図である。
本実施形態のバイオセンサ20において、磁気抵抗効果素子は、第一の磁気抵抗効果素子12と第二の磁気抵抗効果素子22とからなり、各々軟磁性体薄膜3を挟んで両側に位置する。
更に、本実施形態のバイオセンサ20は、接続点間の作動電圧を検出可能なように構成された図示略のハーフブリッジ回路を備えている。図3において、図1、2に示したバイオセンサ10と同一の構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。
図4は、第三実施形態のバイオセンサの断面図である。
本実施形態のバイオセンサ30は、磁気抵抗効果素子2と基板1との間に、検出対象電流に基づいて、磁気抵抗効果素子2に対して印加される磁界とは逆方向の補償磁界を磁気抵抗効果素子に付与する補償電流線8を備える。
<第一実施形態>
本実施形態の生体分子の検出方法は、上述したバイオセンサを用いた生体分子の検出方法である。本実施形態の生体分子の検出方法は、前記生体分子を含有する試料を前記保護膜に接触させて、前記生体分子を前記第一の親和性物質を介して前記保護膜上に集積させる工程1と、前記磁気ビーズを前記保護膜に接触させて、前記生体分子を介して前記保護膜上に集積させる工程2と、前記軟磁性体薄膜と交差する方向に磁界を印加して、検出磁界を前記磁気抵抗効果素子に入力させ、抵抗値を検出する工程3と、を有する。
各工程について詳細に説明する。
工程1は、生体分子を含有する試料を保護膜に接触させて、生体分子を第一の親和性物質を介して前記保護膜上に集積させる工程である。簡便である等の観点から、バイオセンサはマイクロ流体デバイス中で用いられることが好ましい。工程1において、まずマイクロ流路中に生体分子を含有する試料を流す。試料としては、検出対象の生体分子を含有するものであれば、特に限定されないが、例えば、本実施形態の生体分子の検出方法を疾患の診断に用いる場合には、疾患の発症が確認されている者、若しくは疾患の発症が疑われている者、又は疾患に対する治療を受けている患者等の被験者の血液、リンパ液、髄液、精液、唾液、尿等が挙げられる。
工程2は、磁気ビーズを保護膜に接触させて、生体分子を介して前記保護膜上に集積させる工程である。上述した通り、磁気ビーズは、生体分子を捕捉する第二の親和性物質を備えている。例えば、マイクロ流路中を磁気ビーズが流れ、保護膜と接触した場合、保護膜上に形成されている第一の親和性物質−生体分子複合体中の生体分子と、第二の親和性物質を介して結合する。工程2により、保護膜上に第一の親和性物質−生体分子−第二の親和性物質複合体が形成される。即ち、第二の親和性物質を備えた磁気ビーズが保護膜上に集積する。
工程3は、軟磁性体薄膜と交差する方向に磁界を印加して、検出磁界を前記磁気抵抗効果素子に入力させ、抵抗値を検出する工程である。
検出磁界(漏れ磁界)は、保護膜を介して磁気抵抗効果素子の主面上を占める磁気ビーズの割合によって影響を受ける。保護膜に集積する磁気ビーズの数が多いほど、検出される抵抗値が増加する。
このように、本実施形態においては、試料中の生体分子の定量性を確保できる。
本実施形態の生体分子の検出方法は、生体分子を含有する試料と磁気ビーズとを混合し、第二の親和性物質を介し磁気ビーズに生体分子を捕捉させる工程4と、生体分子を捕捉した磁気ビーズを保護膜に接触させて、前記生体分子を介して、前記磁気ビーズを前記保護膜上に集積させる工程5と、前記軟磁性体薄膜と交差する方向に磁界を印加して、検出磁界を前記磁気抵抗効果素子に入力させ、抵抗値を検出する工程3と、を有する。
第一の親和性物質−生体分子−第二の親和性物質複合体を形成させる際に、生体分子−第二の親和性物質複合体を先に形成させること以外は、第一実施形態と同様であるため、説明を省略する。
本実施形態のバイオチップは、上述したバイオセンサを備えたものである。
保護膜上に備える第一の親和性物質が異なるバイオセンサを複数備えることにより、試料の有する性質を網羅的に解析することができる。
本実施形態のバイオチップとしては、例えば、癌診断用バイオチップ、癌腫別診断用バイオチップ、インフルエンザウイルス検出用バイオチップ等が挙げられる。
保護膜上に備える第一の親和性物質としては、例えば、癌遺伝子又は癌抑制遺伝子由来の核酸に相補的な核酸等が挙げられる。癌遺伝子又は癌抑制遺伝子に、癌患者特有の変異が存在する場合には、係る変異を含む核酸に相補的な核酸が好ましい。
本実施形態のバイオチップにおいて、保護膜上に備える第一の親和性物質としては、1種類の癌腫から抽出される複数の核酸に相補的な核酸であってもよい。即ち、本実施形態のバイオチップは癌腫別診断用バイオチップであってもよい。
また、本実施形態のバイオチップにおいて、保護膜上に備える第一の親和性物質としては、インフルエンザウイルス由来の核酸に相補的な核酸であってもよい。即ち、本実施形態のバイオチップはインフルエンザウイルス検出用バイオチップであってもよい。
更に、本実施形態のバイオチップを経時的に用いることにより、ウイルス感染後の病状の経過観察をすることができる。
図4に記載の第三実施形態のバイオセンサを用いて、保護膜上に載せる磁気ビーズの数と、検出される電圧の相関性とを確認した。磁気ビーズとして、直径2.8μmのdynabeadsM−270を用いた。磁気抵抗効果素子としては、GMR細線(線長100μm、線幅2μm)を2本用い、ハーフブリッジ回路に接続した。GMRハーフブリッジの電圧を0.63Vとした。
GMRの膜構造は、表1に示すとおりである。
実施例1で作製したバイオセンサ(chip #2)を用いて、保護膜上に載せる磁気ビーズの数が0のときの電圧を3回測定し、3σを算出し、実施例1で得られた感度を用いて、3σ/感度を算出した。詳細な数値を表3に示す。直径2.8μmの磁気ビーズが、100μm四方の保護膜上に乗る総個数は1275個と算出される。3σ/感度を総個数で割り、総個数に対する計数誤差の割合は、0.578%と算出された。
図6(A)及び(B)に記載のとおり、磁気抵抗効果素子と軟磁性体薄膜との重なり(−0.5μm、又は1μm)が異なるバイオセンサを用いて、磁気抵抗効果素子と軟磁性体薄膜との間の距離と、磁気抵抗効果素子が受ける磁界(磁性ビーズ1個当たり)との相関性を確認した。磁気ビーズとして、直径2.8μmのdynabeadsM−270を用いた。磁気抵抗効果素子としては、GMR細線(線長100μm、線幅2μm、又は5μm)を1本用い、ハーフブリッジ回路に接続した。GMRハーフブリッジの電圧を0.63Vとした。
GMRの膜構造は、上記表1と同様である。
また、GMR細線の線幅2μm及び5μmのいずれの場合においても、実測値とシミュレーションでの予測値とで大きなずれはなかった。
Claims (6)
- 基板と、
入力される磁界の向きに応じて検出される抵抗値が変化する第一の磁気抵抗効果素子及び第二の磁気抵抗効果素子と、
前記第一の磁気抵抗効果素子及び前記第二の磁気抵抗効果素子に隣接配置された軟磁性体薄膜と、を備え、
前記軟磁性体薄膜の膜面に垂直な方向からの平面視において、前記第一の磁気抵抗効果素子及び前記第二の磁気抵抗効果素子は、前記軟磁性体薄膜を挟んで両側に位置することを特徴とするセンサ。 - 更に、接続点間の作動電圧を検出可能なように構成されたハーフブリッジ回路を備えた請求項1に記載のセンサ。
- 前記第一の磁気抵抗効果素子及び前記第二の磁気抵抗効果素子は、磁化固定層と磁化自由層とを備えたスピンバルブ型素子であり、
前記磁化固定層の磁化固定方向は、前記軟磁性体薄膜の端面から入力される磁界である漏れ磁界と、略平行又は略反平行であり、かつ、前記第一の磁気抵抗効果素子及び前記第二の磁気抵抗効果素子の膜面方向であり、
前記第一の磁気抵抗効果素子の磁化固定方向と前記第二の磁気抵抗効果素子の磁化固定方向が略平行である請求項1又は2に記載のセンサ。 - 前記第一の磁気抵抗効果素子及び前記第二の磁気抵抗効果素子と前記基板との間に、検出対象電流に基づいて、前記第一の磁気抵抗効果素子及び前記第二の磁気抵抗効果素子に対して印加される各磁界とは逆方向の補償磁界を前記第一の磁気抵抗効果素子及び前記第二の磁気抵抗効果素子の各々に付与する補償電流線を備えた請求項1〜3のいずれか一項に記載のセンサ。
- 前記基板に対向する前記第一の磁気抵抗効果素子及び前記第二の磁気抵抗効果素子の主面と前記基板に対向する前記軟磁性体薄膜の主面とが、前記基板に対する法線方向において異なる位置に配置されている請求項1〜4のいずれか一項に記載のセンサ。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載のセンサを備えたことを特徴とするバイオチップ。
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