JP6899314B2 - 吸着方法 - Google Patents

Description

本発明は、吸着方法に関する。

従来のファブリペロー干渉フィルタとして、基板と、基板上において空隙を介して互いに対向する固定ミラー及び可動ミラーと、空隙を画定する中間層と、を備えるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。

特表２０１３−５０６１５４号公報

上述したようなファブリペロー干渉フィルタのチップを個別に搬送する際には、例えば吸着コレットを用いてチップを個別に吸着しながら移送することが考えられる。この場合には、吸着を解除したときに、ファブリペロー干渉フィルタの姿勢及び位置が変化することを抑制し、吸着コレットからファブリペロー干渉フィルタを安定して脱離させることが望ましい。

本発明は、ファブリペロー干渉フィルタを安定して脱離させることが可能な吸着方法を提供することを目的とする。

本発明に係る吸着コレットは、基板と、基板上に設けられ、基板と反対側に臨む主面を含む積層構造部と、を備えるファブリペロー干渉フィルタを吸着コレットを用いて吸着する吸着方法であって、主面に対向するように吸着コレットを配置する第１工程と、第１工程の後に、吸着コレットをファブリペロー干渉フィルタに接触させる第２工程と、第２工程の後に、吸着コレットによってファブリペロー干渉フィルタを吸着する第３工程と、を備え、吸着コレットは、表面を有する本体部と、表面から突出するように表面に設けられ、吸気のための開口が形成された一対の第１接触面を含む接触部と、を備え、積層構造部には、空隙を介して互いに対向し且つ互いの距離が可変とされた第１ミラー部及び第２ミラー部と主面の一部とを含むメンブレン構造部と、主面に交差する方向からみてメンブレン構造部を挟んで互いに対向するように配置された一対の第１電極端子と、が設けられており、第１工程においては、表面が主面に対向すると共に、第１接触面のそれぞれが第１電極端子のそれぞれに対向するように吸着コレットを配置し、第２工程においては、第１接触面のそれぞれを第１電極端子のそれぞれに接触させ、第３工程においては、第１接触面の開口を介した吸気により第１電極端子のそれぞれを第１接触面に吸着する。

この吸着方法の吸着対象となるファブリペロー干渉フィルタは、基板と基板上に設けられた積層構造部とを備えている。積層構造部には、空隙を介して互いに対向し且つ互いの距離が可変とされた第１ミラー部及び第２ミラー部を有するメンブレン構造部と、メンブレン構造部を挟んで互いに対向するように配置された一対の第１電極端子と、が設けられている。これに対して、この吸着方法に用いる吸着コレットにおいては、本体部の表面に突設された接触部が、吸気のための開口が形成された第１接触面を含む。そして、第１工程においては、ファブリペロー干渉フィルタの主面に吸着コレットの表面が対向するように吸着コレットを配置する。このとき、第１接触面のそれぞれが第１電極端子のそれぞれに対向するようにする。続いて、第２工程においては、吸着コレットをファブリペロー干渉フィルタに接触させる。このとき、第１接触面のそれぞれを第１電極端子のそれぞれに接触させる。そして、第３工程においては、吸着コレットによってファブリペロー干渉フィルタを吸着する。このとき、第１接触面の開口を介した吸気により第１電極端子のそれぞれを第１接触面に吸着する。これにより、ファブリペロー干渉フィルタの吸着に際して、第１電極端子といった限定的な範囲を吸着することが可能となる。よって、適度な吸着が得られる結果、吸着を解除した際にファブリペロー干渉フィルタを安定して脱離させることが可能となる。

本発明に係る吸着方法においては、第１電極端子は、主面から突出した頂面を含み、前記第２工程においては、第１接触面を前記頂面に接触させてもよい。この場合、第２工程において、接触部の第１接触面を、メンブレン構造部よりも突出した第１電極端子に接触させることになる。したがって、吸着コレットがメンブレン構造部に接触しないか、接触したとしてもメンブレン構造部への負荷が低減される。よって、ファブリペロー干渉フィルタの吸着に際して、メンブレン構造部の破損が避けられ、ファブリペロー干渉フィルタの不良品の発生が抑制される。

本発明に係る吸着方法においては、第１接触面が第１電極端子に接触した状態において第１接触面におけるメンブレン構造部側に位置するエッジは、メンブレン構造部の外縁に対応する形状に形成されており、第１工程においては、第１接触面が第１電極端子に接触した状態において、エッジがメンブレン構造部の外側に位置し、且つ、メンブレン構造部の外縁に沿うように、吸着コレットを配置してもよい。この場合、ファブリペロー干渉フィルタの吸着に際して、メンブレン構造部への接触を避けることができる。

本発明に係る吸着方法においては、主面に交差する方向からみて、メンブレン構造部は円形状を呈しており、エッジは、メンブレン構造部の外縁に倣うように円弧状に形成されていてもよい。この場合、ファブリペロー干渉フィルタの吸着に際して、メンブレン構造への接触を確実に避けることができる。

本発明に係る吸着方法においては、第１工程において、第１接触面が第１電極端子に接触した状態において、開口が第１電極端子と部分的にオフセットするように、吸着コレットを配置してもよい。この場合、吸着力が過度に大きくなることが避けられ、ファブリペロー干渉フィルタをより安定して脱離させることが可能となる。

本発明に係る吸着方法においては、吸着コレットは、一方の第１接触面から他方の第１接触面に向かう方向に交差する軸線上において、表面から突出するように表面に設けられたガイド部を備え、第１電極端子は、それぞれ、主面に交差する方向からみて積層構造部の角部に設けられており、第１工程においては、第１接触面が第１電極端子に接触した状態において、積層構造部における第１電極端子が設けられた角部と別の角部の外側においてガイド部が別の角部に沿うように、吸着コレットを配置してもよい。この場合、ガイド部によってファブリペロー干渉フィルタの姿勢の変化が規制され、安定した保持及び脱離が可能となる。

本発明に係る吸着方法においては、ガイド部は、第１接触面が第１電極端子に接触した状態において、別の角部の外縁に沿うように屈曲して延在していてもよい。この場合、ガイド部によって、主面に沿った平面内におけるファブリペロー干渉フィルタの回転が規制され、より安定した保持及び脱離が可能となる。

本発明に係る吸着方法においては、ファブリペロー干渉フィルタは、主面に交差する方向からみてメンブレン構造部を挟んで互いに対向するように配置された一対の第２電極端子を備え、第２電極端子は、第１電極端子の対向する方向に交差する軸線上に配置され、接触部は、第２電極端子に対応するように配置されると共に吸気のための開口が形成された第２接触面を含み、第１工程においては、第２接触面のそれぞれが第２電極端子のそれぞれに対向するように吸着コレットを配置し、第２工程においては、第２接触面のそれぞれを第２電極端子のそれぞれに接触させ、第３工程においては、第２接触面の開口を介した吸気により第２電極端子のそれぞれを第２接触面に吸着してもよい。この場合、互いに位置の異なる少なくとも３点に配置された開口を介した吸着が可能となり、ファブリペロー干渉フィルタをより安定して吸着・保持することが可能となる。

本発明によれば、ファブリペロー干渉フィルタを安定して脱離させることが可能な吸着方法を提供できる。

本実施形態に係るファブリペロー干渉フィルタの平面図である。 図１に示されたファブリペロー干渉フィルタの底面図である。 図１のIII−III線に沿ってのファブリペロー干渉フィルタの断面図である。 本実施形態に係る吸着コレットを示す図である。 本実施形態に係る吸着コレットを示す図である。 図４，５に示された吸着コレットがファブリペロー干渉フィルタを吸着した状態を示す模式図である。 本実施形態に係る吸着方法の工程を示す模式的な断面図である。 変形例に係る吸着コレットがファブリペロー干渉フィルタを吸着した状態を示す模式図である。 別の変形例に係る吸着コレットがファブリペロー干渉フィルタを吸着した状態を示す模式図である。

以下、本発明の一実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において、同一の要素同士、或いは、相当する要素同士には、互いに同一の符号を付し、重複する説明を省略する場合がある。

本実施形態に係る吸着方法は、吸着コレットを用いてファブリペロー干渉フィルタの吸着を行う。したがって、まず、吸着対象となるファブリペロー干渉フィルタの一実施形態について説明する。
［ファブリペロー干渉フィルタの構成］

図１は、本実施形態に係るファブリペロー干渉フィルタの平面図である。図２は、図１に示されたファブリペロー干渉フィルタの底面図である。図３は、図１のIII−III線に沿ってのファブリペロー干渉フィルタの断面図である。

図１〜３に示されるように、ファブリペロー干渉フィルタ１は、基板１１を備えている。基板１１は、第１表面１１ａと、第１表面１１ａと対向する第２表面１１ｂと、を有している。第１表面１１ａには、反射防止層２１、第１積層体２２、中間層２３及び第２積層体２４が、この順序で積層されている。第１積層体２２と第２積層体２４との間には、枠状の中間層２３によって空隙（エアギャップ）Ｓが画定されている。第１積層体２２、中間層２３、及び、第１表面１１ａに交差（直交）する方向からみて第１積層体２２上に位置する第２積層体２４の一部分は、積層構造部２０を構成している。積層構造部２０は、基板１１の第１表面１１ａ上に設けられ、基板１１と反対側に臨む主面２０ｓを含む。主面２０ｓは、第２積層体２４の表面２４ａの一部である。

第１表面１１ａに垂直な方向から見た場合（平面視）における各部の形状及び位置関係は、次の通りである。基板１１の外縁は、例えば矩形状である。基板１１の外縁と第２積層体２４の外縁とは、互いに一致している。反射防止層２１の外縁と第１積層体２２の外縁と中間層２３の外縁とは、互いに一致している。したがって、積層構造部２０も平面視（主面２０ｓに交差（直交）する方向からみた場合）において矩形状である。基板１１は、中間層２３の外縁よりも空隙Ｓの中心に対して外側に位置する外縁部１１ｃを有している。外縁部１１ｃは、例えば、枠状であり、第１表面１１ａに垂直な方向から見た場合に中間層２３を包囲している。

ファブリペロー干渉フィルタ１は、その中央部に画定された光透過領域１ａにおいて、所定の波長を有する光を透過させる。光透過領域１ａは、例えば円柱状の領域である。基板１１は、例えば、シリコン、石英又はガラス等からなる。基板１１がシリコンからなる場合には、反射防止層２１及び中間層２３は、例えば、酸化シリコンからなる。中間層２３の厚さは、例えば、数十ｎｍ以上数十μｍ以下である。

第１積層体２２のうち光透過領域１ａに対応する部分は、第１ミラー部３１として機能する。第１ミラー部３１は、反射防止層２１を介して第１表面１１ａに配置されている。第１積層体２２は、複数のポリシリコン層２５と複数の窒化シリコン層２６とが一層ずつ交互に積層されることで構成されている。本実施形態では、ポリシリコン層２５ａ、窒化シリコン層２６ａ、ポリシリコン層２５ｂ、窒化シリコン層２６ｂ及びポリシリコン層２５ｃが、この順で反射防止層２１上に積層されている。第１ミラー部３１を構成するポリシリコン層２５及び窒化シリコン層２６のそれぞれの光学厚さは、中心透過波長の１／４の整数倍であることが好ましい。なお、第１ミラー部３１は、反射防止層２１を介することなく第１表面１１ａ上に直接に配置されてもよい。

第２積層体２４のうち光透過領域１ａに対応する部分は、第２ミラー部３２として機能する。第２ミラー部３２は、第１ミラー部３１に対して基板１１とは反対側において空隙Ｓを介して第１ミラー部３１と対向している。第２積層体２４は、反射防止層２１、第１積層体２２及び中間層２３を介して第１表面１１ａに配置されている。第２積層体２４は、複数のポリシリコン層２７と複数の窒化シリコン層２８とが一層ずつ交互に積層されることで構成されている。本実施形態では、ポリシリコン層２７ａ、窒化シリコン層２８ａ、ポリシリコン層２７ｂ、窒化シリコン層２８ｂ及びポリシリコン層２７ｃが、この順で中間層２３上に積層されている。第２ミラー部３２を構成するポリシリコン層２７及び窒化シリコン層２８のそれぞれの光学厚さは、中心透過波長の１／４の整数倍であることが好ましい。

なお、第１積層体２２及び第２積層体２４では、窒化シリコン層の代わりに酸化シリコン層が用いられてもよい。また、第１積層体２２及び第２積層体２４を構成する各層の材料としては、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、フッ化マグネシウム、酸化アルミニウム、フッ化カルシウム、シリコン、ゲルマニウム、硫化亜鉛等が用いられてもよい。また、ここでは、第１ミラー部３１の空隙Ｓ側の表面（ポリシリコン層２５ｃの表面）と、第２ミラー部３２の空隙Ｓ側の表面（ポリシリコン層２７ａの表面）とは、空隙Ｓを介して直接的に対向している。ただし、第１ミラー部３１の空隙Ｓ側の表面、及び、第２ミラー部３２の空隙Ｓ側の表面に、（ミラーを構成しない）電極層や保護層が形成れていてもよい。この場合、第１ミラー部３１と第２ミラー部３２とは、それらの層を間に介在させた状態において、空隙Ｓを介して互いに対向することになる。換言すれば、このような場合であっても、第１ミラー部３１と第２ミラー部３２との空隙Ｓを介した対向は実現され得る。

第２積層体２４において空隙Ｓに対応する部分には、第２積層体２４の中間層２３とは反対側の表面２４ａ（積層構造部２０の主面２０ｓ）から空隙Ｓに至る複数の貫通孔２４ｂが形成されている。複数の貫通孔２４ｂは、第２ミラー部３２の機能に実質的に影響を与えない程度に形成されている。複数の貫通孔２４ｂは、エッチングによって中間層２３の一部を除去して空隙Ｓを形成するために用いられる。

第２積層体２４は、第２ミラー部３２に加えて、被覆部３３と、周縁部３４と、を更に有している。第２ミラー部３２、被覆部３３及び周縁部３４は、互いに同じ積層構造の一部を有し且つ互いに連続するように、一体的に形成されている。被覆部３３は、第１表面１１ａに垂直な方向から見た場合に第２ミラー部３２を包囲している。被覆部３３は、中間層２３の基板１１とは反対側の表面２３ａ、並びに、中間層２３の側面２３ｂ（外側の側面、つまり、空隙Ｓ側とは反対側の側面）、第１積層体２２の側面２２ａ及び反射防止層２１の側面２１ａを被覆しており、第１表面１１ａに至っている。すなわち、被覆部３３は、中間層２３の外縁、第１積層体２２の外縁及び反射防止層２１の外縁を被覆している。

周縁部３４は、第１表面１１ａに垂直な方向から見た場合に被覆部３３を包囲している。周縁部３４は、外縁部１１ｃにおける第１表面１１ａ上に位置している。周縁部３４の外縁は、第１表面１１ａに垂直な方向から見た場合に基板１１の外縁と一致している。

周縁部３４は、外縁部１１ｃの外縁に沿って薄化されている。すなわち、周縁部３４のうち外縁部１１ｃの外縁に沿う部分は、周縁部３４のうち外縁に沿う部分を除く他の部分と比べて薄くなっている。本実施形態では、周縁部３４は、第２積層体２４を構成するポリシリコン層２７及び窒化シリコン層２８の一部が除去されていることによって薄化されている。周縁部３４は、被覆部３３に連続する非薄化部３４ａと、非薄化部３４ａを包囲する薄化部３４ｂと、を有している。薄化部３４ｂにおいては、第１表面１１ａ上に直接に設けられたポリシリコン層２７ａ以外のポリシリコン層２７及び窒化シリコン層２８が除去されている。

このように、ファブリペロー干渉フィルタ１は、積層構造部２０に加えて、主面２０ｓに交差（直交）する方向からみて積層構造部２０の外側に位置し、且つ、主面２０ｓよりも基板１１側に窪む薄化部３４ｂをさらに備える。薄化部３４ｂは、主面２０ｓに交差（直交）する方向からみて、積層構造部２０を囲うように環状（ここでは矩形環状）に形成されている。薄化部３４ｂは、例えば、ファブリペロー干渉フィルタ１に対応する複数の領域が形成されたウェハを、それぞれのファブリペロー干渉フィルタ１ごとに切断する際に用いられる。薄化部３４ｂは、例えば、第２積層体２４のための積層構造のエッチングにより形成される。

非薄化部３４ａの基板１１とは反対側の表面３４ｃの第１表面１１ａからの高さは、中間層２３の表面２３ａの第１表面１１ａからの高さよりも低い。非薄化部３４ａの表面３４ｃの第１表面１１ａからの高さは、例えば１００ｎｍ〜５０００ｎｍである。中間層２３の表面２３ａの第１表面１１ａからの高さは、例えば５００ｎｍ〜２００００ｎｍの範囲において、非薄化部３４ａの表面３４ｃの第１表面１１ａからの高さよりも大きな高さとなる。薄化部３４ｂの幅（非薄化部３４ａの外縁と外縁部１１ｃの外縁との間の距離）は、基板１１の厚さの０．０１倍以上である。薄化部３４ｂの幅は、例えば５μｍ〜４００μｍである。基板１１の厚さは、例えば５００μｍ〜８００μｍである。

第１ミラー部３１には、光透過領域１ａを囲むように第１電極１２が形成されている。第１電極１２は、ポリシリコン層２５ｃに不純物をドープして低抵抗化することで形成されている。第１ミラー部３１には、光透過領域１ａを含むように第２電極１３が形成されている。第２電極１３は、ポリシリコン層２５ｃに不純物をドープして低抵抗化することで形成されている。第２電極１３の大きさは、光透過領域１ａの全体を含む大きさであることが好ましいが、光透過領域１ａの大きさと略同一であってもよい。

第２ミラー部３２には、第３電極１４が形成されている。第３電極１４は、空隙Ｓを介して第１電極１２及び第２電極１３と対向している。第３電極１４は、ポリシリコン層２７ａに不純物をドープして低抵抗化することで形成されている。

端子（第１電極端子）１５は、光透過領域１ａを挟んで対向するように一対設けられている。各端子１５は、第２積層体２４の表面２４ａ（積層構造部２０の主面２０ｓ）から第１積層体２２に至る貫通孔内に配置されている。各端子１５は、配線１２ａを介して第１電極１２と電気的に接続されている。端子１５は、例えば、アルミニウム又はその合金等の金属膜によって形成されている。

端子（第２電極端子）１６は、光透過領域１ａを挟んで対向するように一対設けられている。各端子１６は、第２積層体２４の表面２４ａ（積層構造部２０の主面２０ｓ）から第１積層体２２に至る貫通孔内に配置されている。各端子１６は、配線１３ａを介して第２電極１３と電気的に接続されていると共に、配線１４ａを介して第３電極１４と電気的に接続されている。端子１６は、例えば、アルミニウム又はその合金等の金属膜によって形成されている。一対の端子１５が対向する方向と、一対の端子１６が対向する方向とは、直交している（図１参照）。

第１積層体２２の表面２２ｂには、トレンチ１７，１８が設けられている。トレンチ１７は、配線１３ａにおける端子１６との接続部分を囲むように環状に延在している。トレンチ１７は、第１電極１２と配線１３ａとを電気的に絶縁している。トレンチ１８は、第１電極１２の内縁に沿って環状に延在している。トレンチ１８は、第１電極１２と第１電極１２の内側の領域（第２電極１３）とを電気的に絶縁している。各トレンチ１７，１８内の領域は、絶縁材料であっても、空隙であってもよい。

第２積層体２４の表面２４ａ（積層構造部２０の主面２０ｓ）には、トレンチ１９が設けられている。トレンチ１９は、端子１５を囲むように環状に延在している。トレンチ１９は、端子１５と第３電極１４とを電気的に絶縁している。トレンチ１９内の領域は、絶縁材料であっても、空隙であってもよい。

基板１１の第２表面１１ｂには、反射防止層４１、第３積層体４２、中間層４３及び第４積層体４４が、この順序で積層されている。反射防止層４１及び中間層４３は、それぞれ、反射防止層２１及び中間層２３と同様の構成を有している。第３積層体４２及び第４積層体４４は、それぞれ、基板１１を基準として第１積層体２２及び第２積層体２４と対称の積層構造を有している。反射防止層４１、第３積層体４２、中間層４３及び第４積層体４４は、基板１１の反りを抑制する機能を有している。

第３積層体４２、中間層４３及び第４積層体４４は、外縁部１１ｃの外縁に沿って薄化されている。すなわち、第３積層体４２、中間層４３及び第４積層体４４のうち外縁部１１ｃの外縁に沿う部分は、第３積層体４２、中間層４３及び第４積層体４４のうち外縁に沿う部分を除く他の部分と比べて薄くなっている。本実施形態では、第３積層体４２、中間層４３及び第４積層体４４は、第１表面１１ａに垂直な方向から見た場合に薄化部３４ｂと重なる部分において第３積層体４２、中間層４３及び第４積層体４４の全部が除去されていることによって薄化されている。

第３積層体４２、中間層４３及び第４積層体４４には、光透過領域１ａを含むように開口４０ａが設けられている。開口４０ａは、光透過領域１ａの大きさと略同一の径を有している。開口４０ａは、光出射側に開口しており、開口４０ａの底面は、反射防止層４１に至っている。

第４積層体４４の光出射側の表面には、遮光層４５が形成されている。遮光層４５は、例えばアルミニウム等からなる。遮光層４５の表面及び開口４０ａの内面には、保護層４６が形成されている。保護層４６は、第３積層体４２、中間層４３、第４積層体４４及び遮光層４５の外縁を被覆すると共に、外縁部１１ｃ上の反射防止層４１を被覆している。保護層４６は、例えば酸化アルミニウムからなる。なお、保護層４６の厚さを１〜１００ｎｍ（好ましくは、３０ｎｍ程度）にすることで、保護層４６による光学的な影響を無視することができる。

以上のように構成されたファブリペロー干渉フィルタ１においては、端子１５，１６を介して第１電極１２と第３電極１４との間に電圧が印加されると、当該電圧に応じた静電気力が第１電極１２と第３電極１４との間に発生する。当該静電気力によって、第２ミラー部３２が、基板１１に固定された第１ミラー部３１側に引き付けられ、第１ミラー部３１と第２ミラー部３２との距離が調整される。このように、ファブリペロー干渉フィルタ１では、第１ミラー部３１と第２ミラー部３２との距離が可変とされている。

ファブリペロー干渉フィルタ１を透過する光の波長は、光透過領域１ａにおける第１ミラー部３１と第２ミラー部３２との距離に依存する。したがって、第１電極１２と第３電極１４との間に印加する電圧を調整することで、透過する光の波長を適宜選択することができる。このとき、第２電極１３は、第３電極１４と同電位である。したがって、第２電極１３は、光透過領域１ａにおいて第１ミラー部３１及び第２ミラー部３２を平坦に保つための補償電極として機能する。

ファブリペロー干渉フィルタ１では、例えば、ファブリペロー干渉フィルタ１に印加する電圧を変化させながら（すなわち、ファブリペロー干渉フィルタ１において第１ミラー部３１と第２ミラー部３２との距離を変化させながら）、ファブリペロー干渉フィルタ１の光透過領域１ａを透過した光を光検出器によって検出することで、分光スペクトルを得ることができる。

このように、積層構造部２０には、空隙Ｓを介して互いに対向し、且つ、互いの距離が可変とされた第１ミラー部３１及び第２ミラー部３２と、主面２０ｓの一部（ここでは中心側の円形状のエリア）と、を有するメンブレン構造部Ｍが設けられている。メンブレン構造部Ｍは、主面２０ｓに交差（直交）する方向からみて、積層構造部２０における中間層２３と重複しない部分である。すなわち、主面２０ｓに交差（直交）する方向からみたときのメンブレン構造部Ｍの外形は、中間層２３の内縁によって規定され、ここでは円形状である（図１参照）。

本実施形態においては、メンブレン構造部Ｍは、主面２０ｓに交差（直交）する方向からみて、一対の端子１５の間、一対の端子１６の間、及び、端子１５と端子１６との間に介在するように設けられている。換言すれば、この例では、一対の端子１５、一対の端子１６、及び、端子１５，１６は、メンブレン構造部Ｍを挟んで対向するように配置されている。また、端子１５，１６は、主面２０ｓに交差（直交）する方向からみてメンブレン構造部Ｍの外側に位置する。

一例として、端子１５は、主面２０ｓに交差（直交）する方向からみて、矩形状の積層構造部２０の４つの角部のうちの対角線上の一対の角部２０ｃに設けられている。また、一例として、端子１６は、主面２０ｓに交差（直交）する方向からみて、矩形状の積層構造部２０の４つの角部のうちの別の対角線上の一対の別の角部２０ｄに設けられている。換言すれば、端子１６は、端子１５の対向する方向に交差（直交）する軸線上に配置されている。端子１５は、主面２０ｓから突出した頂面１５ｓを有している。端子１６は、主面２０ｓから突出した頂面１６ｓを有している。ここでは、頂面１５ｓ，１６ｓは、主面２０ｓに略平行である。
［吸着コレットの構成］

引き続いて、以上のファブリペロー干渉フィルタ１を吸着するための吸着コレットについて説明する。本実施形態に係る吸着コレットは、例えば、ウェハの切断により製造されたファブリペロー干渉フィルタ１のチップ群から１つのチップをピックアップして所定の位置に搬送する場合や、所定の位置に載置されたファブリペロー干渉フィルタ１をピックアップして実装箇所にさらに搬送する場合等に用いることができる。

図４，５は、本実施形態に係る吸着コレットを示す図である。図４は、底面図であり、図５は、図４のV−V線に沿っての断面図である。図４，５に示されるように、吸着コレット１００は、本体部１１０と、延在部１２０と、一対の接触部１３０と、を備えている。ここでは、本体部１１０、延在部１２０、及び接触部１３０は、互いに一体に形成されているが、互いに別体に構成されて接合されてもよい。

本体部１１０は、例えば直方体状を呈している。本体部１１０は、表面１１１と、表面１１１と反対側の表面１１２とを有している。延在部１２０は、表面１１１から突出するように表面１１１に設けられ、表面１１１に交差する方向に沿って延在している。延在部１２０は、例えば、表面１１１に交差する方向からみて、本体部１１０の一辺の長さよりも短い直径を有する円柱状であり、表面１１１の外縁よりも内側に配置されている。これにより、表面１１１は、外形が矩形状であり、且つ、内縁が円形状の環状を呈している。延在部１２０は、例えば、吸着コレット１００を駆動するための装置（不図示）に吸着コレット１００を接続する際に用いることができる。

表面１１２は、ファブリペロー干渉フィルタ１の外形に対応した形状であって、例えば矩形状（一例として正方形状）である。接触部１３０は、表面１１２から突出するように表面１１２に設けられている。接触部１３０は、ファブリペロー干渉フィルタ１を吸着する際にファブリペロー干渉フィルタ１に接触する部分である。本体部１１０、延在部１２０、及び、接触部１３０には、本体部１１０、延在部１２０、及び、接触部１３０の全長にわたって延在するように吸気孔１４０が設けられている。吸気孔１４０は、接触部１３０における表面１１２と反対側の表面（後述する接触面１３１）に開口すると共に、延在部１２０における本体部１１０と反対側の端部に開口している。吸気孔１４０は、延在部１２０側の開口を介して、ポンプ等の吸気装置（不図示）に接続され得る。なお、吸気孔１４０は、本体部１１０及び延在部１２０の全長にわたって延在するように設けられていなくてもよい。例えば、吸気孔１４０は、本体部１１０の外側面（表面１１２に交差する面）に至って開口を形成していてもよい。さらには、吸気孔１４０は、本体部１１０に至らず、接触部１３０の外側面（後述する接触面１３１に交差する面）に至って開口を形成していてもよい。この場合、吸気孔１４０は、本体部１１０や接触部１３０の外側面の開口を介して吸気装置に接続され得る。

接触部１３０は、互いに対向すると共に互いに離間して配置されている。表面１１２に交差（直交）する方向からみたときの接触部１３０の形状は、一例として、矩形の１つの角部を内側に凸となる円弧状とした形状を呈している。ここでは、接触部１３０は、互いの対向する側のエッジ１３０ｅが円弧状とされている。吸気孔１４０は、接触部１３０における開口（吸気のための開口）１４１のそれぞれから表面１１１に向かって延びると共に、本体部１１０内において１つに接続されて一体化され、延在部１２０に至っている。したがって、吸気孔１４０の延在部１２０側の開口は１つである。

ここで、吸着コレット１００は、一対のガイド部１５０をさらに備えている。ガイド部１５０は、表面１１２から突出するように表面１１２に設けられている。ガイド部１５０は、互いに対向すると共に互いに離間して配置されている。より具体的には、ガイド部１５０は、接触部１３０の対向する方向に交差する軸線上に配置されている。表面１１２に交差（直交）する方向からみたときのガイド部１５０の形状は、一例として、Ｌ字状である。ガイド部１５０は、接触部１３０の対向する方向の軸線に対して対称となるように、互いに１８０°向きを変えて配置されている。ここでは、ガイド部１５０は、一対のガイド部１５０によって１つの矩形（正方形）が規定されるように配置されている。

図６は、図４，５に示された吸着コレットがファブリペロー干渉フィルタを吸着した状態を示す模式図である。図６は、底面図（表面１１２側からみた図）であり、ファブリペロー干渉フィルタの一部を簡略化して破線で示している。図５，６に示されるように、接触部１３０の表面１１２と反対側の表面は、端子１５に接触する接触面（第１接触面）１３１とされている。接触面１３１は、接触部１３０の配置に応じて、端子１５に対応するように互いに離間して配置され、端子１５のそれぞれに接触する。ここでは、接触面１３１は、端子１５の頂面１５ｓに接触する。ここでは、吸気孔１４０の開口１４１は、接触面１３１のそれぞれに１つずつ設けられている。

接触面１３１と端子１５（頂面１５ｓ）とが接触した状態（以下、単に「接触状態」という場合がある）において、開口１４１は、端子１５と部分的にオフセットする。より具体的には、ここでは、開口１４１は円形であって、その中心が、端子１５の対向する方向の軸線上において端子１５の外側（メンブレン構造部Ｍと反対側）にオフセットしている。これにより、開口１４１における接触部１３０が互いに対向する側の一部が端子１５に重複しつつ、開口１４１の反対側の残部が端子１５から逸れることになる。なお、接触状態においては、表面１１２と主面２０ｓとは、互いに対向し、且つ、互いに略平行となる。なお、上記の例においては、開口１４１の中心が端子１５の外側にオフセットした場合について例示した。しかしながら、開口１４１の中心が端子１５の中心よりも外側であり、且つ、端子１５から外れない程度にオフセットすることにより、開口１４１の一部が端子１５に重複しつつ残部が端子１５から逸れる場合もある。また、ここでのオフセットとは、ずれが生じている（ずれている）ことを意味する。

上述したように、接触部１３０のエッジ１３０ｅは、円弧状とされている。これにより、接触状態において、接触部１３０のメンブレン構造部Ｍ側に位置するエッジ１３０ｅ、及び、接触面１３１のメンブレン構造部Ｍ側のエッジ１３１ｅは、メンブレン構造部Ｍの外側に位置し、且つ、メンブレン構造部Ｍの外形に沿うように形成されている。ここでは、エッジ１３０ｅ，１３１ｅは、メンブレン構造部Ｍの外縁に倣うように円弧状に形成されている（すなわち、メンブレン構造部Ｍの外縁に対応する形状に形成されている）。

ガイド部１５０は、接触状態において、積層構造部２０における端子１５が設けられた角部２０ｃと別の角部２０ｄの外側において当該角部２０ｄに沿うように設けられている。より具体的には、ガイド部１５０は、接触状態において、角部２０ｄの外縁に沿うようにＬ字状に屈曲して延在している。ここでは、ガイド部１５０は、接触状態において、表面１１２及び主面２０ｓに交差（直交）する方向からみて、被覆部３３のさらに外側に位置し、薄化部３４ｂ内に配置される。

ここでは、ガイド部１５０の表面１１２からの高さは、接触部１３０の表面１１２からの高さ（表面１１２と接触面１３１との間の距離）と略同一である。したがって、接触状態においては、ガイド部１５０は、積層構造部２０及びファブリペロー干渉フィルタ１に接触しない。ただし、ガイド部１５０の表面１１２からの高さは、接触状態において、ガイド部１５０の表面１１２と反対側の面が、薄化部３４ｂの底面（表面）に接触しない範囲において、接触部１３０の表面１１２からの高さよりも高くてもよい。この場合、接触状態において、ガイド部１５０が、主面２０ｓに沿って積層構造部２０に重複するようにすることができる。
［吸着方法の実施形態］

引き続いて、以上の吸着コレット１００を用いてファブリペロー干渉フィルタ１を吸着する吸着方法の一実施形態について説明する。図７は、本実施形態に係る吸着方法の工程を示す模式的な断面図である。図７においては、第１積層体２２及び第２積層体２４の層構造、及び電極等を省略している。この方法においては、まず、図７の（ａ）に示されるように、ファブリペロー干渉フィルタ１に対して吸着コレット１００を配置する（第１工程）。この第１工程においては、積層構造部２０（及びメンブレン構造部Ｍ）の主面２０ｓに吸着コレット１００の本体部１１０の表面１１２が対向するように、且つ、接触面１３１のそれぞれが端子１５のそれぞれに対向するように、吸着コレット１００を配置する。

続いて、図７の（ｂ）に示されるように、吸着コレット１００をファブリペロー干渉フィルタ１に接触させる（第２工程）。この第２工程においては、接触面１３１のそれぞれを端子１５のそれぞれに接触させる。特に、ここでは、接触面１３１を端子１５の頂面１５ｓに接触させる。これにより、表面１１２と主面２０ｓとの間に空間Ｒが形成される。図６に示されるように、エッジ１３１ｅがメンブレン構造部Ｍの外側に位置し、且つ、メンブレン構造部Ｍの外縁に沿うようになる。また、図６，７に示されるように、開口１４１が端子１５と部分的にオフセットする。さらに、積層構造部２０における端子１５が設けられた角部２０ｃと別の角部２０ｄの外側においてガイド部１５０が角部２０ｄに沿うことになる。これらは、吸着コレット１００の構造、及び、第１工程での相対的な配置によって実現される。

すなわち、第１工程においては、接触状態において、接触面１３１のエッジ１３１ｅがメンブレン構造部Ｍの外側に位置すると共に、メンブレン構造部Ｍの外縁に沿うように吸着コレット１００を配置することになる。また、第１工程においては、接触状態において、開口１４１が端子１５と部分的にオフセットするように、且つ、積層構造部２０における端子１５が設けられた角部２０ｃと別の角部２０ｄの外側においてガイド部１５０が角部２０ｄに沿うように、吸着コレット１００を配置することになる。

続く工程においては、接触面１３１の開口１４１を介した吸気により端子１５のそれぞれを接触面１３１に吸着することにより、吸着コレット１００によってファブリペロー干渉フィルタ１を吸着する。これにより、開口１４１を介した吸気を解除するまで、吸着コレット１００によってファブリペロー干渉フィルタ１が吸着保持された状態が維持される。その後、必要に応じて、吸着コレット１００ごと、ファブリペロー干渉フィルタ１を所定の位置まで搬送した後に、開口１４１を介した吸気を解除し、吸着コレット１００からファブリペロー干渉フィルタ１を脱離させる。

以上説明したように、本実施形態に係る吸着方法の吸着対象となるファブリペロー干渉フィルタ１は、基板１１と基板１１上に設けられた積層構造部２０とを備えている。積層構造部２０には、空隙Ｓを介して互いに対向し且つ互いの距離が可変とされた第１ミラー部３１及び第２ミラー部３２を有するメンブレン構造部Ｍと、主面２０ｓに交差（直交）する方向からみてメンブレン構造部Ｍを挟んで互いに対向するように配置された一対の端子１５と、が設けられている。これに対して、この吸着方法に用いる吸着コレット１００においては、本体部１１０の表面１１２に突設された接触部１３０が、吸気のための開口１４１が形成された接触面１３１を含む。そして、第１工程においては、ファブリペロー干渉フィルタ１の主面２０ｓに吸着コレット１００の表面１１２が対向するように吸着コレット１００を配置する。このとき、接触面１３１のそれぞれが端子１５のそれぞれに対向するようにする。続いて、第２工程においては、吸着コレット１００をファブリペロー干渉フィルタ１に接触させる。このとき、接触面１３１のそれぞれを端子１５のそれぞれに接触させる。そして、第３工程においては、吸着コレット１００によってファブリペロー干渉フィルタ１を吸着する。このとき、接触面１３１の開口１４１を介した吸気により端子１５のそれぞれを接触面１３１に吸着する。これにより、ファブリペロー干渉フィルタの吸着に際して、端子１５といった限定的な範囲を吸着することが可能となる。よって、適度な吸着が得られる結果、吸着を解除した際にファブリペロー干渉フィルタ１を安定して脱離させることが可能となる。

また、吸着コレット１００においては、端子１５は、主面２０ｓから突出した頂面１５ｓを含む。そして、第２工程においては、接触面１３１を頂面１５ｓに接触させる。このため、第２工程において、接触部１３０の接触面１３１を、メンブレン構造部Ｍよりも突出した端子１５に接触させることになる。したがって、吸着の際に、吸着コレット１００がメンブレン構造部Ｍに接触しないか、接触したとしてもメンブレン構造部Ｍへの負荷が低減される。よって、ファブリペロー干渉フィルタ１の吸着に際して、メンブレン構造部Ｍの破損が避けられ、ファブリペロー干渉フィルタ１の不良品の発生が抑制される。

また、吸着コレット１００においては、接触面１３１が端子１５に接触した状態において、接触部１３０及び接触面１３１におけるメンブレン構造部Ｍ側に位置するエッジ１３０ｅ，１３１ｅは、メンブレン構造部Ｍの外縁に対応する形状に形成されている。そして、第１工程においては、接触面１３１が端子１５に接触した状態において、エッジ１３０ｅ，１３１ｅが、メンブレン構造部Ｍの外側に位置し、且つ、メンブレン構造部Ｍの外形に沿うように、吸着コレット１００を配置する。このため、ファブリペロー干渉フィルタ１の吸着に際して、メンブレン構造部Ｍへの接触を避けることができる。

特に、吸着コレット１００においては、主面２０ｓに交差（直交）する方向からみて、メンブレン構造部Ｍは円形状を呈しており、エッジ１３０ｅ，１３１ｅは、メンブレン構造部Ｍの外縁に倣うように円弧状に形成されている。このため、ファブリペロー干渉フィルタ１の吸着に際して、メンブレン構造部Ｍへの接触を確実に避けることができる。

また、吸着方法においては、第１工程において、吸気孔１４０の接触面１３１における開口１４１が、接触面１３１が端子１５に接触した状態において端子１５と部分的にオフセットするように、吸着コレット１００を配置する。このため、吸着力が過度に大きくなることが避けられ、ファブリペロー干渉フィルタ１をより安定して脱離させることが可能となる。

また、吸着コレット１００は、一方の接触面１３１から他方の接触面１３１に向かう方向に交差する軸線上において、表面１１２から突出するように表面１１２に設けられたガイド部１５０を備えている。端子１５は、それぞれ、主面２０ｓに交差（直交）する方向からみて積層構造部２０の角部２０ｃに設けられている。そして、第１工程においては、ガイド部１５０が、接触状態において積層構造部２０における端子１５が設けられた角部２０ｃと別の角部２０ｄの外側において別の角部２０ｄに沿うように、吸着コレット１００を配置する。このため、ガイド部１５０によってファブリペロー干渉フィルタ１の姿勢の変化が規制され、安定した保持及び脱離が可能となる。

さらに、吸着コレット１００においては、ガイド部１５０は、接触面１３１が端子１５に接触した状態において、角部２０ｄの外縁に沿うように屈曲して延在している。このため、ガイド部１５０によって、主面２０ｓに沿った平面内におけるファブリペロー干渉フィルタ１の回転が規制され、より安定した保持及び脱離が可能となる。
［変形例］

以上の実施形態は、本発明に係る吸着方法の一実施形態を説明したものである。したがって、本発明に係る吸着方法は、上述した方法に限定されず、上述した吸着コレット１００を任意に変形したものを用いた方法とすることができる。引き続いて、吸着コレットの変形例について説明する。

図８は、変形例に係る吸着コレットがファブリペロー干渉フィルタを吸着した状態を示す模式図である。図８は底面図（表面１１２側からみた図）であり、ファブリペロー干渉フィルタの一部を簡略化して破線で示している。図８に示されるように、この例では、吸着コレット１００は、ガイド部１５０を備えていない。このように、吸着コレット１００は、メンブレン構造部Ｍを挟んで互いに対向する一対の端子１５を吸着するように構成すれば、ガイド部１５０を設けなくても安定した吸着・保持が可能である。なお、吸着コレット１００においては、メンブレン構造部Ｍを挟んで互いに対向する一対の端子１５，１６を吸着するように構成してもよい。

図９は、別の変形例に係る吸着コレットがファブリペロー干渉フィルタを吸着した状態を示す模式図である。図９は底面図（表面１１２側からみた図）であり、ファブリペロー干渉フィルタの一部を簡略化して破線で示している。図９に示されるように、この例では、吸着コレット１００は、表面１１２から突出するように表面１１２に設けられた一対の接触部１６０をさらに備えている。接触部１６０は、一方の接触面１３１から他方の接触面１３１に向かう方向に交差する軸線上に配置されている。接触部１６０は、接触状態において、積層構造部２０における角部２０ｄに対応する位置に配置される。

接触部１６０は、それぞれ、端子１６に対応するように配置され、端子１６に接触する接触面（第２接触面）１６１を含む。接触面１６１は、互いに離間している。吸気孔１４０は、この接触面１６１にさらに開口している（吸気のための開口１４１が設けられている）。接触面１６１においても、開口１４１は、接触状態において、端子１６と部分的にオフセットするように配置される。この吸着コレット１００を用いる場合、吸着方法の第１工程においては、接触面１６１のそれぞれが端子１６のそれぞれにさらに対向するように吸着コレット１００を配置する。また、第２工程においては、接触面１６１のそれぞれを端子１６のそれぞれにさらに接触させる。そして、第３工程においては、接触面１６１の開口１４１を介した吸気により端子１６のそれぞれを接触面１６１にさらに吸着する。この変形例によれば、互いに位置の異なる少なくとも３点（ここでは４点）に配置された開口１４１を介した吸着が可能となり、ファブリペロー干渉フィルタ１をより安定して吸着・保持することが可能となる。

なお、図９の例では、接触部１３０，１６０、及び、接触面１３１，１６１は、表面１１２に交差（直交）する方向からみて、矩形状に形成されている。つまり、ここでは、接触部１３０，１６０の互いに対向する側（接触状態におけるメンブレン構造部Ｍ側）のエッジ１３０ｅ，１６０ｅ、及び、接触面１３１，１６１の互いに対向する側（接触状態におけるメンブレン構造部Ｍ側）のエッジ１３１ｅ，１６１ｅは、円弧状といったような、メンブレン構造部Ｍの外形に沿うような形状とされていない。このような場合であっても、接触面１３１，１６１が端子１５，１６の頂面１５ｓ，１６ｓに接触するため、メンブレン構造部Ｍへの接触が避けられるか、接触したとしてもメンブレン構造部Ｍへの負荷が低減される。

なお、図６や図８に示される例においても、図９のような形状の接触部１３０及び接触面１３１を採用してもよい。さらには、接触部１３０，１６０及び接触面１３１，１６１の形状を別の任意の形状としてもよい。

以上の実施形態について、以下に付記する。

［付記１］
基板と、前記基板上に設けられ、前記基板と反対側に臨む主面を含む積層構造部と、を備えるファブリペロー干渉フィルタを吸着するための吸着コレットであって、
表面を有する本体部と、
前記表面から突出するように前記表面に設けられ、一対の第１接触面を含む接触部と、
を備え、
前記積層構造部には、空隙を介して互いに対向し且つ互いの距離が可変とされた第１ミラー部及び第２ミラー部と前記主面の一部とを含むメンブレン構造部と、前記主面に交差する方向からみて前記メンブレン構造部を挟んで互いに対向するように配置された一対の第１電極端子と、が設けられており、
前記本体部及び前記接触部には、前記本体部及び前記接触部にわたって延在する吸気孔が形成されており、
前記第１接触面は、前記第１電極端子のそれぞれに対応するように互いに離間して配置され、前記第１電極端子のそれぞれに接触し、
前記吸気孔は、前記第１接触面のそれぞれに開口している、
吸着コレット。
［付記２］
前記第１電極端子は、前記主面から突出した頂面を含み、
前記第１接触面は、前記頂面に接触する、
付記１に記載の吸着コレット。
［付記３］
前記第１接触面が前記第１電極端子に接触した状態において、前記接触部及び前記第１接触面における前記メンブレン構造部側に位置するエッジは、前記メンブレン構造部の外側に位置し、且つ、前記メンブレン構造部の外形に沿うように形成されている、
付記１又は２に記載の吸着コレット。
［付記４］
前記主面に交差する方向からみて、前記メンブレン構造部は円形状を呈しており、
前記エッジは、前記メンブレン構造部の外縁に倣うように円弧状に形成されている、
付記３に記載の吸着コレット。
［付記５］
前記吸気孔の前記第１接触面における開口は、前記第１接触面が前記第１電極端子に接触した状態において、前記第１電極端子と部分的にオフセットしている、
付記１〜４のいずれか一項に記載の吸着コレット。
［付記６］
一方の前記第１接触面から他方の前記第１接触面に向かう方向に交差する軸線上において、前記表面から突出するように前記表面に設けられたガイド部を備え、
前記第１電極端子は、それぞれ、前記主面に交差する方向からみて前記積層構造部の角部に設けられており、
前記ガイド部は、前記第１接触面が前記第１電極端子に接触した状態において、前記積層構造部における前記第１電極端子が設けられた角部と別の角部の外側において前記別の角部に沿うように設けられている、
付記１〜５のいずれか一項に記載の吸着コレット。
［付記７］
前記ガイド部は、前記第１接触面が前記第１電極端子に接触した状態において、前記別の角部の外縁に沿うように屈曲して延在している、
付記６に記載の吸着コレット。
［付記８］
前記ファブリペロー干渉フィルタは、前記主面に交差する方向からみて前記メンブレン構造部を挟んで互いに対向するように配置された一対の第２電極端子を備え、
前記第２電極端子は、前記第１電極端子の対向する方向に交差する軸線上に配置され、
前記接触部は、前記第２電極端子に対応するように配置され、前記第２電極端子に接触する第２接触面を含み、
前記吸気孔は、前記第２接触面にさらに開口している、
付記１〜７のいずれか一項に記載の吸着コレット。

１…ファブリペロー干渉フィルタ、１１…基板、１５…端子（第１電極端子）、１６…端子（第２電極端子）、２０…積層構造部、２０ｓ…主面、２０ｃ…角部、２０ｄ…角部（別の角部）、３１…第１ミラー部、３２…第２ミラー部、１００…吸着コレット、１１０…本体部、１１２…表面、１３０，１６０…接触部、１３１…接触面（第１接触面）、１５０…ガイド部、１６１…接触面（第２接触面）、１４０…吸気孔、１４１…開口、Ｍ…メンブレン構造部。

Claims (8)

1. 基板と、前記基板上に設けられ、前記基板と反対側に臨む主面を含む積層構造部と、を備えるファブリペロー干渉フィルタを吸着コレットを用いて吸着する吸着方法であって、
   前記主面に対向するように前記吸着コレットを配置する第１工程と、
   前記第１工程の後に、前記吸着コレットを前記ファブリペロー干渉フィルタに接触させる第２工程と、
   前記第２工程の後に、前記吸着コレットによって前記ファブリペロー干渉フィルタを吸着する第３工程と、
   を備え、
   前記吸着コレットは、表面を有する本体部と、前記表面から突出するように前記表面に設けられ、吸気のための開口が形成された一対の第１接触面を含む接触部と、を備え、
   前記積層構造部には、空隙を介して互いに対向し且つ互いの距離が可変とされた第１ミラー部及び第２ミラー部と前記主面の一部とを含むメンブレン構造部と、前記主面に交差する方向からみて前記メンブレン構造部を挟んで互いに対向するように配置された一対の第１電極端子と、が設けられており、
   前記第１工程においては、前記表面が前記主面に対向すると共に、前記第１接触面のそれぞれが前記第１電極端子のそれぞれに対向するように前記吸着コレットを配置し、
   前記第２工程においては、前記第１接触面のそれぞれを前記第１電極端子のそれぞれに接触させ、
   前記第３工程においては、前記第１接触面の前記開口を介した吸気により前記第１電極端子のそれぞれを前記第１接触面に吸着する、
   吸着方法。
2. 前記第１電極端子は、前記主面から突出した頂面を含み、
   前記第２工程においては、前記第１接触面を前記頂面に接触させる、
   請求項１に記載の吸着方法。
3. 前記第１接触面が前記第１電極端子に接触した状態において前記第１接触面における前記メンブレン構造部側に位置するエッジは、前記メンブレン構造部の外縁に対応する形状に形成されており、
   前記第１工程においては、前記第１接触面が前記第１電極端子に接触した状態において、前記エッジが前記メンブレン構造部の外側に位置し、且つ、前記メンブレン構造部の外縁に沿うように、前記吸着コレットを配置する、
   請求項１又は２に記載の吸着方法。
4. 前記主面に交差する方向からみて、前記メンブレン構造部は円形状を呈しており、
   前記エッジは、前記メンブレン構造部の外縁に倣うように円弧状に形成されている、
   請求項３に記載の吸着方法。
5. 前記第１工程においては、前記第１接触面が前記第１電極端子に接触した状態において、前記開口が前記第１電極端子と部分的にオフセットするように、前記吸着コレットを配置する、
   請求項１〜４のいずれか一項に記載の吸着方法。
6. 前記吸着コレットは、一方の前記第１接触面から他方の前記第１接触面に向かう方向に交差する軸線上において、前記表面から突出するように前記表面に設けられたガイド部を備え、
   前記第１電極端子は、それぞれ、前記主面に交差する方向からみて前記積層構造部の角部に設けられており、
   前記第１工程においては、前記第１接触面が前記第１電極端子に接触した状態において、前記積層構造部における前記第１電極端子が設けられた角部と別の角部の外側において前記ガイド部が前記別の角部に沿うように、前記吸着コレットを配置する、
   請求項１〜５のいずれか一項に記載の吸着方法。
7. 前記ガイド部は、前記第１接触面が前記第１電極端子に接触した状態において、前記別の角部の外縁に沿うように屈曲して延在している、
   請求項６に記載の吸着方法。
8. 前記ファブリペロー干渉フィルタは、前記主面に交差する方向からみて前記メンブレン構造部を挟んで互いに対向するように配置された一対の第２電極端子を備え、
   前記第２電極端子は、前記第１電極端子の対向する方向に交差する軸線上に配置され、
   前記接触部は、前記第２電極端子に対応するように配置されると共に吸気のための開口が形成された第２接触面を含み、
   前記第１工程においては、前記第２接触面のそれぞれが前記第２電極端子のそれぞれに対向するように前記吸着コレットを配置し、
   前記第２工程においては、前記第２接触面のそれぞれを前記第２電極端子のそれぞれに接触させ、
   前記第３工程においては、前記第２接触面の前記開口を介した吸気により前記第２電極端子のそれぞれを前記第２接触面に吸着する、
   請求項１〜７のいずれか一項に記載の吸着方法。

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