JP6920689B2 - 可視光域で光架橋可能な光応答性ヌクレオチドアナログ - Google Patents
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Description
本発明は、可視光域の光による光架橋（光クロスリンク）能を有する光応答性ヌクレオチドアナログ（光応答性ヌクレオチド類似化合物）に関する。
分子生物学の分野の基本的な技術に、核酸の連結及び核酸の架橋がある。核酸の連結や架橋は、例えば、ハイブリダイゼーションと組みあわせて、遺伝子の導入や、塩基配列の検出のために使用され、あるいは、例えば、遺伝子発現の阻害に使用される。そのために、核酸の連結及び架橋の技術は、分子生物学の基礎研究だけではなく、例えば、医療分野における診断や治療、あるいは治療薬や診断薬等の開発や製造、工業及び農業分野における酵素や微生物等の開発や製造に使用される極めて重要な技術である。
核酸の光反応技術として、５−シアノビニルデオキシウリジンを使用した光連結技術（特許文献１：特許第３７５３９３８号、特許文献２：特許第３７５３９４２号）、３−ビニルカルバゾール構造を塩基部位に持つ修飾ヌクレオシドを使用した光架橋技術（特許文献３：特許第４８１４９０４号、特許文献４：特許第４９４０３１１号）がある。さらに、３−ビニルカルバゾール構造を塩基部位に持つ修飾ヌクレオシドのいわゆる糖部の構造を、鎖状アルキルアミドに置換した化合物を使用した光架橋技術がある（特許文献５：特許第５９２５３８３号）。
さらに、最近、核酸の二重鎖形成能を利用した様々なナノ構造体の構築が可能となってきており、ナノテクノロジーの分野においても核酸の連結及び架橋の技術が重要となってきている。例えば、非特許文献１は、核酸の光架橋によってオリゴＤＮＡからなるナノシートに耐熱性を付与する技術を開示している。
Ｊ．Ｐｈｏｔｏｐｄｙ．Ｓ．Ｔｅｃｈ．，２０１４，２７，４８５
核酸の光反応技術の重要性から、核酸の光反応技術に使用可能な新しい化合物が、さらに求められている。本発明の目的は、核酸の光反応技術に使用可能な新しい光反応性化合物、及び該光反応性化合物を使用した光反応性架橋剤を提供することにある。
本発明者は、核酸の光反応技術に使用可能な光反応性架橋剤となる光反応性化合物を鋭意探索してきたところ、核酸塩基の塩基部分に代えてピラノカルバゾール骨格構造を備えて、リボース及びデオキシリボース部分に代えて後述の式Ｉで表される骨格構造を備えた化合物が、このような核酸の光反応技術に使用可能な光反応性架橋剤となることを見いだして、本発明に到達した。
本発明による光反応性架橋剤は、上記の構造に由来して、従来よりも長波長の光照射によって、例えば可視光域の光照射によって、光架橋反応させることができるという特徴を備える。そのために、ＤＮＡや細胞の損傷をできるだけ回避したいという場合に、本発明による光反応性架橋剤は、長波長の光照射によって光架橋可能であるので、特に有利である。
本発明の光反応性化合物は、光照射によって光反応を開始するものであるが、それまで安定していた化合物が、光照射というシグナルに応答して反応を開始するという意味を強調して、光反応性を光応答性ということがある。
したがって、本発明は次の（１）以下を含む。
（１）
次の式Ｉで表される化合物：
（Ｉ）
（ただし、式Ｉにおいて、
Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、フッ化メチル基、エチル基、フッ化エチル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルキルスルファニル基からなる群から選択された基であり、
Ｘは、次の式Ｉｓ又は式ＩＩｓで表される基である：
（Ｉｓ）
（ただし、式Ｉｓにおいて、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎａは、１又は２であり、
Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｂは、０又は１であり、
Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｃは、０、１、２又は３であり、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｄは、０、１、２又は３であって、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｑ１は、
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基であり、
Ｑ２は、
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＤＢＵ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基である。）
（ＩＩｓ）
（ただし、式ＩＩｓにおいて、
Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｅは、１、２又は３であり、
Ｒ６１及びＲ６２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｆは、０、１、２又は３であり、
Ｑ１は、
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基であり、
Ｑ２は、
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＤＢＵ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基である。））。
（２）
Ｘが、次の式Ｉｔで表される基である、（１）に記載の化合物：
（Ｉｔ）
（ただし、式Ｉｔにおいて、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ独立して、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立して、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
Ｑ１及びＱ２は、式Ｉｓにおいて記載した基である。）。
（３）
Ｘが、次の式Ｉｕで表される基である、（１）に記載の化合物：
（Ｉｕ）
（ただし、式Ｉｕにおいて、
Ｒ４２は、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
Ｑ１及びＱ２は、式Ｉｓにおいて記載した基である。）。
（４）
Ｒ４２が、水素原子又はメチル基である、（３）に記載の化合物。
（５）
（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物からなる、光反応性架橋剤。
（６）
（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物からなる、光反応性修飾核酸製造用試薬。
（７）
（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物からなる光反応性架橋剤を使用して、該光反応性架橋剤と、ピリミジン環を有する核酸塩基との間に、光架橋を形成する方法。
（８）
次の式ＩＩＩ：
（ＩＩＩ）
（ただし、式ＩＩＩにおいて、
Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、フッ化メチル基、エチル基、フッ化エチル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルキルスルファニル基からなる群から選択された基であり、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎａは、１又は２である。）
で表される化合物を、次の式ＩＶ：
（ＩＶ）
（ただし、式ＩＶにおいて、
Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｂは、０又は１であり、
Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｃは、０、１、２又は３であり、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｄは、０、１、２又は３であって、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｑ１は、
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基であり、
Ｑ２は、
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＤＢＵ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基である。）
で表される化合物と脱水縮合させることによって、次の式Ｖ：
（Ｖ）
（ただし、式Ｖにおいて、
Ｒ１、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、上記式ＩＩＩにおいて記載した基であり、
ｎａは、上記式ＩＩＩにおいて記載した整数であり、
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立して、上記式ＩＶにおいて記載した基であり、
ｎｂ、ｎｃ及びｎｄは、それぞれ上記式ＩＶにおいて記載した整数である。）
で表される化合物を製造する方法。
（１）
次の式Ｉで表される化合物：
（Ｉ）
Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、フッ化メチル基、エチル基、フッ化エチル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルキルスルファニル基からなる群から選択された基であり、
Ｘは、次の式Ｉｓ又は式ＩＩｓで表される基である：
（Ｉｓ）
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎａは、１又は２であり、
Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｂは、０又は１であり、
Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｃは、０、１、２又は３であり、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｄは、０、１、２又は３であって、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｑ１は、
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基であり、
Ｑ２は、
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＤＢＵ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基である。）
（ＩＩｓ）
Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｅは、１、２又は３であり、
Ｒ６１及びＲ６２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｆは、０、１、２又は３であり、
Ｑ１は、
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基であり、
Ｑ２は、
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＤＢＵ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基である。））。
（２）
Ｘが、次の式Ｉｔで表される基である、（１）に記載の化合物：
（Ｉｔ）
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ独立して、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立して、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
Ｑ１及びＱ２は、式Ｉｓにおいて記載した基である。）。
（３）
Ｘが、次の式Ｉｕで表される基である、（１）に記載の化合物：
（Ｉｕ）
Ｒ４２は、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
Ｑ１及びＱ２は、式Ｉｓにおいて記載した基である。）。
（４）
Ｒ４２が、水素原子又はメチル基である、（３）に記載の化合物。
（５）
（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物からなる、光反応性架橋剤。
（６）
（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物からなる、光反応性修飾核酸製造用試薬。
（７）
（１）〜（４）のいずれかに記載の化合物からなる光反応性架橋剤を使用して、該光反応性架橋剤と、ピリミジン環を有する核酸塩基との間に、光架橋を形成する方法。
（８）
次の式ＩＩＩ：
（ＩＩＩ）
Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、フッ化メチル基、エチル基、フッ化エチル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルキルスルファニル基からなる群から選択された基であり、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎａは、１又は２である。）
で表される化合物を、次の式ＩＶ：
（ＩＶ）
Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｂは、０又は１であり、
Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｃは、０、１、２又は３であり、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｄは、０、１、２又は３であって、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｑ１は、
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基であり、
Ｑ２は、
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＤＢＵ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基である。）
で表される化合物と脱水縮合させることによって、次の式Ｖ：
（Ｖ）
Ｒ１、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、上記式ＩＩＩにおいて記載した基であり、
ｎａは、上記式ＩＩＩにおいて記載した整数であり、
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立して、上記式ＩＶにおいて記載した基であり、
ｎｂ、ｎｃ及びｎｄは、それぞれ上記式ＩＶにおいて記載した整数である。）
で表される化合物を製造する方法。
本発明は、核酸の光反応技術に使用可能な光反応性架橋剤となる新規な化合物を提供する。これは、天然の糖構造も塩基構造も備えていない、新規な化学構造によるものである。そして、本発明の化合物によれば、従来の光反応性架橋剤よりも長波長の光照射によって光架橋を形成できることから、光照射による核酸や細胞への悪影響を最小限とすることができる。
具体的な実施の形態をあげて、以下に本発明を詳細に説明する。本発明は、以下にあげる具体的な実施の形態に限定されるものではない。
［化合物の構造］
本発明は、次の式Ｉで表される化合物にある：
（Ｉ）
本発明は、次の式Ｉで表される化合物にある：
（Ｉ）
式Ｉにおいて、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、フッ化メチル基、エチル基、フッ化エチル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルキルスルファニル基からなる群から選択された基である。Ｒ１は、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、又はエチル基であり、特に好ましくは水素原子である。式Ｉにおいて、Ｒ１は、Ｒ１が結合する環の炭素原子に付番された炭素位置として１位、２位、３位、４位のいずれの位置の炭素に結合する水素原子に置換されて結合していてもよいことが示されている。好適な実施の態様において、Ｒ１は３位の炭素原子に結合することができる。
式Ｉにおいて、Ｘは、以下の式Ｉｓ又は式ＩＩｓで表される基である：
（Ｉｓ）
（Ｉｓ）
式Ｉｓにおいて、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基である。Ｒ１１及びＲ１２は、好ましくは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基であり、特に好ましくは水素原子である。ｎａは、繰り返し単位の数を示す整数であり、１又は２であり、好ましくは１である。Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれの繰り返し単位において独立して、上記の基とすることができる。
式Ｉｓにおいて、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基である。Ｒ２１及びＲ２２は、好ましくは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基であり、特に好ましくは水素原子である。ｎｂは、繰り返し単位の数を示す整数であり、０又は１であり、好ましくは０である。Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれの繰り返し単位において独立して、上記の基とすることができる。
式Ｉｓにおいて、Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基である。Ｒ３１及びＲ３２は、好ましくは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基であり、特に好ましくは水素原子である。ｎｃは、繰り返し単位の数を示す整数であり、０、１、２又は３であり、好ましくは１である。Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれの繰り返し単位において独立して、上記の基とすることができる。ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、好ましくは２である。
式Ｉｓにおいて、Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基である。Ｒ４１及びＲ４２は、好ましくは、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基である。ｎｄは、繰り返し単位の数を示す整数であり、０、１、２又は３であり、好ましくは１である。Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれの繰り返し単位において独立して、上記の基とすることができる。
式Ｉｓにおいて、Ｑ１は、
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基とすることができる。
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基とすることができる。
式Ｉｓにおいて、Ｑ２は、
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのトリエチルアミン塩（以下ＴＥＡ塩という）、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨの１．８−ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ−７−ｅｙｅ塩（以下ＤＢＵ塩という）、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基とすることができる。
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのトリエチルアミン塩（以下ＴＥＡ塩という）、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨの１．８−ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ−７−ｅｙｅ塩（以下ＤＢＵ塩という）、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基とすることができる。
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基は、次の構造を有しており、
上記ジアルキル基となるＲ基とＲ’基は、それぞれＣ１〜Ｃ４のアルキル基とすることができる。このような２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基として、例えば、２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルホスホロアミダイト基、２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジエチルホスホロアミダイト基、２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト基をあげることができる。
メチルホスホンアミダイト基は、次の構造を有しており、
上記Ｒ基とＲ’基は、それぞれ水素原子又はＣ１〜Ｃ４のアルキル基とすることができる。
エチルホスホンアミダイト基は、次の構造を有しており、
上記Ｒ基とＲ’基は、それぞれ水素原子又はＣ１〜Ｃ４のアルキル基とすることができる。
オキサザホスホリジン基は、次の構造を有している。
チオホスファイト基は、次の構造を有している。
−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩は、それぞれのトリエチルアミン（ＴＥＡ）の塩である。
−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＤＢＵ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩は、それぞれのジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）の塩である。
好適な実施の態様において、Ｑ１は、水素原子とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｑ１は、Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド又は核酸とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｑ１は、上述の保護基とすることができ、好ましくは、ジメトキシトリチル基、トリチル基、モノメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基とすることができ、特に好ましくはジメトキシトリチル基とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｑ２は、水素原子とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｑ２は、Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド又は核酸とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｑ２は、上述の保護基とすることができ、好ましくは、２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基とすることができる。
（ＩＩｓ）
式ＩＩｓにおいて、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基である。ｎｅは、繰り返し単位の数を示す整数であり、１、２又は３である。Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれの繰り返し単位において独立して、上記の基とすることができる。
式ＩＩｓにおいて、Ｒ６１及びＲ６２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基である。ｎｆは、繰り返し単位の数を示す整数であり、１、２又は３である。Ｒ６１及びＲ６２は、それぞれの繰り返し単位において独立して、上記の基とすることができる。
式ＩＩｓにおいて、Ｑ１は、上記式Ｉｓにおいて記載したＱ１とすることができる。
式ＩＩｓにおいて、Ｑ２は、上記式Ｉｓにおいて記載したＱ２とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｘは、次の式Ｉｔで表される基とすることができる：
（Ｉｔ）
（Ｉｔ）
すなわち、好適な実施の態様において、式Ｉｓにおいて、ｎａを１、ｎｂを０、ｎｃを１、ｎｄを１とすることができ、式Ｉｔの構造とすることができる。
式Ｉｔにおいて、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｑ１、Ｑ２は、それぞれ上記式Ｉｓにおいて記載した基とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｘは、次の式Ｉｕで表される基とすることができる：
（Ｉｕ）
（Ｉｕ）
すなわち、好適な実施の態様において、式Ｉｓにおいて、ｎａを１、ｎｂを０、ｎｃを１、ｎｄを１とすることができ、さらに、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１を水素原子とすることができ、式Ｉｕの構造とすることができる。
式Ｉｕにおいて、Ｒ４２、Ｑ１、Ｑ２は、それぞれ上記式Ｉｓにおいて記載した基とすることができる。
［修飾核酸］
好適な実施の態様において、Ｑ１を、Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド又は核酸として、Ｑ２を、Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド又は核酸とすることができる。すなわち、上記式Ｉで表される化合物は、特徴的な構造を備えた光応答性人工ヌクレオチドアナログが配列中に取り込まれた修飾核酸又は修飾オリゴヌクレオチドとすることができる。本発明において、このように調整された光応答性修飾核酸と光応答性修飾オリゴヌクレオチドをまとめて光応答性修飾核酸ということがある。本発明に係る修飾核酸において、特徴的な構造を備えた光応答性人工ヌクレオチドアナログが配列中の末端に位置していてもよく、この場合にはＱ１又はＱ２のいずれかの側のみがＱ１又はＱ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結される修飾ヌクレオチド又は修飾核酸となる。また、上記の核酸に代えてペプチド核酸を用いて、特徴的な構造を備えた光応答性人工ヌクレオチドアナログが配列中に取り込まれた光応答性修飾ペプチド核酸とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｑ１を、Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド又は核酸として、Ｑ２を、Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド又は核酸とすることができる。すなわち、上記式Ｉで表される化合物は、特徴的な構造を備えた光応答性人工ヌクレオチドアナログが配列中に取り込まれた修飾核酸又は修飾オリゴヌクレオチドとすることができる。本発明において、このように調整された光応答性修飾核酸と光応答性修飾オリゴヌクレオチドをまとめて光応答性修飾核酸ということがある。本発明に係る修飾核酸において、特徴的な構造を備えた光応答性人工ヌクレオチドアナログが配列中の末端に位置していてもよく、この場合にはＱ１又はＱ２のいずれかの側のみがＱ１又はＱ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結される修飾ヌクレオチド又は修飾核酸となる。また、上記の核酸に代えてペプチド核酸を用いて、特徴的な構造を備えた光応答性人工ヌクレオチドアナログが配列中に取り込まれた光応答性修飾ペプチド核酸とすることができる。
［化合物の骨格構造］
本発明に係る化合物は、式Ｉで表される骨格構造を備えており、式Ｉにおいて天然のヌクレオシド及びヌクレオチドが備えているべきリボースあるいはデオキシリボースによる糖構造を備えていない。さらに、本発明に係る化合物は、式Ｉにおいて天然のヌクレオシド及びヌクレオチドが備えているべきプリン塩基あるいはピリミジン塩基による塩基構造を備えていない。つまり、本発明に係る化合物は、天然のヌクレオシド及びヌクレオチドとは、構造的に全く類似するように思われない化学構造となっている。それにもかかわらず、本発明に係る化合物は、１本鎖の修飾核酸として形成されると、これと相補的な１本鎖の核酸と二重らせんを形成することができる。そして、ピラノカルバゾール部分が光反応によって架橋を形成することができる。
本発明に係る化合物は、式Ｉで表される骨格構造を備えており、式Ｉにおいて天然のヌクレオシド及びヌクレオチドが備えているべきリボースあるいはデオキシリボースによる糖構造を備えていない。さらに、本発明に係る化合物は、式Ｉにおいて天然のヌクレオシド及びヌクレオチドが備えているべきプリン塩基あるいはピリミジン塩基による塩基構造を備えていない。つまり、本発明に係る化合物は、天然のヌクレオシド及びヌクレオチドとは、構造的に全く類似するように思われない化学構造となっている。それにもかかわらず、本発明に係る化合物は、１本鎖の修飾核酸として形成されると、これと相補的な１本鎖の核酸と二重らせんを形成することができる。そして、ピラノカルバゾール部分が光反応によって架橋を形成することができる。
［ヌクレオシドアナログ］
好適な実施の態様において、Ｑ１及びＱ２を、水素原子とすることができる。すなわち、上記式Ｉで表される化合物は、特徴的な構造を備えた光応答性人工ヌクレオシドアナログ分子とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｑ１及びＱ２を、水素原子とすることができる。すなわち、上記式Ｉで表される化合物は、特徴的な構造を備えた光応答性人工ヌクレオシドアナログ分子とすることができる。
［ヌクレオチドアナログ］
好適な実施の態様において、Ｑ１を、Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基とすることができ、Ｑ２を、水素原子とすることができる。すなわち、上記式Ｉで表される化合物は、特徴的な構造を備えた光応答性人工ヌクレオチドアナログ分子とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｑ１を、Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基とすることができ、Ｑ２を、水素原子とすることができる。すなわち、上記式Ｉで表される化合物は、特徴的な構造を備えた光応答性人工ヌクレオチドアナログ分子とすることができる。
［修飾核酸製造用試薬］
好適な実施の態様において、Ｑ１を、上述の保護基とすることができ、Ｑ２を、Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基、Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド又は核酸、あるいは上述の保護基、とすることができる。すなわち、上記式Ｉで表される化合物は、光反応性修飾核酸の製造用試薬（合成用試薬）とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｑ１を、上述の保護基とすることができ、Ｑ２を、Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基、Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド又は核酸、あるいは上述の保護基、とすることができる。すなわち、上記式Ｉで表される化合物は、光反応性修飾核酸の製造用試薬（合成用試薬）とすることができる。
好適な実施の態様において、Ｑ１を、上述の保護基とすることができ、Ｑ２を、Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基、あるいは上述の保護基、とすることができる。よく知られているように、このような構造を備えた化合物は、核酸合成用のモノマーとして使用することができ、公知のＤＮＡ合成装置によって使用可能な試薬とすることができ、例えばホスホロアミダイト法、及びＨ−ホスホネート法によって使用可能な修飾核酸合成用試薬(修飾核酸合成用モノマー）とすることができる。
また、Ｑ１を、上述の保護基として、Ｑ２を、Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド又は核酸とした構造はいわゆるモノマーとは言えない構造となっており、修飾核酸と言える構造となっている。このような場合には、そこから合成して鎖長を伸長するための製造用試薬（合成用試薬）として使用することができる。
このような光反応性修飾核酸製造用試薬（光反応性修飾核酸合成用試薬）として、次のようなモノマーを例示することができる。
［光反応性架橋剤］
本発明に係る化合物は、ピラノカルバゾール部分が光反応によって架橋を形成することができる。本発明に係る化合物を、１本鎖の修飾核酸として形成すると、これと相補的な１本鎖の核酸と二重らせんを形成することができ、ピラノカルバゾール部分が光反応によって架橋を形成することができ、結果として、二重らせんの一方の鎖からもう一方の鎖へと形成された鎖間の光架橋（光クロスリンク）を形成することができる。すなわち、本発明に係る化合物は、光反応性架橋剤として使用することができる。
本発明に係る化合物は、ピラノカルバゾール部分が光反応によって架橋を形成することができる。本発明に係る化合物を、１本鎖の修飾核酸として形成すると、これと相補的な１本鎖の核酸と二重らせんを形成することができ、ピラノカルバゾール部分が光反応によって架橋を形成することができ、結果として、二重らせんの一方の鎖からもう一方の鎖へと形成された鎖間の光架橋（光クロスリンク）を形成することができる。すなわち、本発明に係る化合物は、光反応性架橋剤として使用することができる。
［光架橋の形成］
本発明に係る修飾核酸は、これを１本鎖核酸として使用すると、これと相補的な１本鎖核酸とハイブリダイズして二重らせんを形成することができる。二重らせんの形成にあたって、ピラノカルバゾール構造部分に対して、相補鎖中において塩基対を形成すべき位置にある核酸塩基については、特段の制約がなく、自由に選択できる。形成された二重らせんに光照射を行うと、二重らせんを形成する核酸鎖の間に、光反応によって架橋を形成することができる。この光架橋は、配列中でピラノカルバゾール構造部分が核酸塩基として位置する位置から配列中で１塩基分だけ５’末端側に位置する核酸塩基に対して、相補鎖中において塩基対を形成する位置にある核酸塩基と、ピラノカルバゾール構造との間に形成される。言い換えれば、この光架橋は、ピラノカルバゾール構造部分に対して、相補鎖中において塩基対を形成すべき位置にある核酸塩基から、配列中で１塩基分だけ３’末端側に位置する核酸塩基と、ピラノカルバゾール構造との間に形成される。
本発明に係る修飾核酸は、これを１本鎖核酸として使用すると、これと相補的な１本鎖核酸とハイブリダイズして二重らせんを形成することができる。二重らせんの形成にあたって、ピラノカルバゾール構造部分に対して、相補鎖中において塩基対を形成すべき位置にある核酸塩基については、特段の制約がなく、自由に選択できる。形成された二重らせんに光照射を行うと、二重らせんを形成する核酸鎖の間に、光反応によって架橋を形成することができる。この光架橋は、配列中でピラノカルバゾール構造部分が核酸塩基として位置する位置から配列中で１塩基分だけ５’末端側に位置する核酸塩基に対して、相補鎖中において塩基対を形成する位置にある核酸塩基と、ピラノカルバゾール構造との間に形成される。言い換えれば、この光架橋は、ピラノカルバゾール構造部分に対して、相補鎖中において塩基対を形成すべき位置にある核酸塩基から、配列中で１塩基分だけ３’末端側に位置する核酸塩基と、ピラノカルバゾール構造との間に形成される。
［光架橋の塩基特異性］
本発明において、ピラノカルバゾール構造が光架橋を形成可能である相手方の塩基は、ピリミジン環を有する塩基である。一方で、ピラノカルバゾール構造は、プリン環を有する塩基とは光架橋を形成しない。すなわち、本発明に係る光架橋性の化合物は、天然の核酸塩基としては、シトシン、ウラシル、及びチミンに対して光架橋を形成し、一方で、グアニン及びアデニンに対しては光架橋を形成しないという、特異性を有している。
本発明において、ピラノカルバゾール構造が光架橋を形成可能である相手方の塩基は、ピリミジン環を有する塩基である。一方で、ピラノカルバゾール構造は、プリン環を有する塩基とは光架橋を形成しない。すなわち、本発明に係る光架橋性の化合物は、天然の核酸塩基としては、シトシン、ウラシル、及びチミンに対して光架橋を形成し、一方で、グアニン及びアデニンに対しては光架橋を形成しないという、特異性を有している。
［光反応性架橋剤の配列選択性］
本発明に係る光反応性修飾核酸（光架橋性修飾核酸）は、修飾核酸と相補的な塩基配列を有する配列とハイブリダイズさせて二重らせんを形成させた後に、光架橋させることができる。これによって、目的とする特定の配列に対してのみ光クロスリンク反応（光架橋反応）を行わせることができる。すなわち、本発明に係る光反応性架橋剤は、非常に高い塩基配列選択性を、所望に応じて配列設計して、付与することができる。
本発明に係る光反応性修飾核酸（光架橋性修飾核酸）は、修飾核酸と相補的な塩基配列を有する配列とハイブリダイズさせて二重らせんを形成させた後に、光架橋させることができる。これによって、目的とする特定の配列に対してのみ光クロスリンク反応（光架橋反応）を行わせることができる。すなわち、本発明に係る光反応性架橋剤は、非常に高い塩基配列選択性を、所望に応じて配列設計して、付与することができる。
［光照射の波長］
光架橋のために照射される光の波長は、例えば３５０〜６００ｎｍの範囲、好ましくは４００〜６００ｎｍの範囲、さらに好ましくは４００〜５５０ｎｍの範囲、さらに好ましくは４００〜５００ｎｍの範囲、さらに好ましくは４００〜４５０ｎｍの範囲とすることができる。好適な実施の態様において、これらの範囲の波長にある単波長のレーザー光を使用することができる。このように本発明では、可視光域の波長の光照射によって、光架橋を形成することができる。従来の光反応性架橋剤では、これらの範囲よりも短波長の光照射を必要としていた。本発明によれば、従来の光反応性架橋剤よりも長波長の光照射によって光架橋を形成できることから、光照射による核酸や細胞への悪影響を最小限とすることができる点で、有利である。
光架橋のために照射される光の波長は、例えば３５０〜６００ｎｍの範囲、好ましくは４００〜６００ｎｍの範囲、さらに好ましくは４００〜５５０ｎｍの範囲、さらに好ましくは４００〜５００ｎｍの範囲、さらに好ましくは４００〜４５０ｎｍの範囲とすることができる。好適な実施の態様において、これらの範囲の波長にある単波長のレーザー光を使用することができる。このように本発明では、可視光域の波長の光照射によって、光架橋を形成することができる。従来の光反応性架橋剤では、これらの範囲よりも短波長の光照射を必要としていた。本発明によれば、従来の光反応性架橋剤よりも長波長の光照射によって光架橋を形成できることから、光照射による核酸や細胞への悪影響を最小限とすることができる点で、有利である。
［光架橋の開裂］
本発明の化合物によれば、光架橋を形成した後に、さらに光照射によって光開裂をすることができる。すなわち、本発明に係る光反応性の化合物は、可逆的な光架橋を可能とするものであり、可逆的な光反応性架橋剤として使用することができる。
本発明の化合物によれば、光架橋を形成した後に、さらに光照射によって光開裂をすることができる。すなわち、本発明に係る光反応性の化合物は、可逆的な光架橋を可能とするものであり、可逆的な光反応性架橋剤として使用することができる。
この光架橋の可逆性から想起されるように、本発明の化合物による可逆性光反応性架橋剤を使用すれば、特定の塩基配列を有する核酸を、生理的条件下で、分離し、回収し、又は検出することができる。したがって本発明は可逆性光反応性架橋剤を使用して、所望の塩基配列を有する核酸を、分離し、回収し、又は検出する方法にもある。
光開裂のために照射される光の波長は、例えば３００〜３５０ｎｍの範囲、好ましくは３００〜３４０ｎｍの範囲とすることができる。好適な実施の態様において、これらの範囲の波長にある単波長のレーザー光を使用することができる。
［光反応の温度］
好適な実施の態様において、光架橋反応を進行させるためには、一般に０〜５０℃、好ましくは０〜４０℃、さらに好ましくは０〜３０℃、さらに好ましくは０〜２０℃、さらに好ましくは０〜１０℃、さらに好ましくは０〜５℃の範囲の温度で光照射を行う。光開裂反応を進行させるためには、一般に５５〜１００℃、好ましくは６０〜９０℃、さらに好ましくは６０〜８０℃の範囲の温度で光照射を行う。
好適な実施の態様において、光架橋反応を進行させるためには、一般に０〜５０℃、好ましくは０〜４０℃、さらに好ましくは０〜３０℃、さらに好ましくは０〜２０℃、さらに好ましくは０〜１０℃、さらに好ましくは０〜５℃の範囲の温度で光照射を行う。光開裂反応を進行させるためには、一般に５５〜１００℃、好ましくは６０〜９０℃、さらに好ましくは６０〜８０℃の範囲の温度で光照射を行う。
［光反応の条件］
本発明による光架橋及び光開裂は、光反応を利用しているために、ｐＨ、塩濃度などに特段の制約がなく、核酸類等の生体高分子が安定に存在可能なｐＨ、塩濃度とした溶液中で、光照射によって行うことができる。
本発明による光架橋及び光開裂は、光反応を利用しているために、ｐＨ、塩濃度などに特段の制約がなく、核酸類等の生体高分子が安定に存在可能なｐＨ、塩濃度とした溶液中で、光照射によって行うことができる。
［光反応の時間］
本発明による光架橋及び光開裂は、極めて迅速に進行する。例えば、光反応性の化合物として知られるソラレンであれば数時間を要する（３５０ｎｍ光照射）ような場合に、それよりもはるかに長波長の光照射によって、例えばわずか１０秒間〜６０秒間（４００ｎｍ光照射）で光反応が進行して光架橋する。すなわち、本発明に係る光架橋剤を使用すれば、例えば１〜１２０秒間、又は１〜６０秒間の光照射によって、光反応を進行させて光架橋を形成させることができる。さらに、本発明による光架橋は、上記の波長及び温度を採用して、例えば１〜１２０秒間、又は１〜６０秒間の光照射によって、光反応を進行させて光架橋を開裂させることができる。
本発明による光架橋及び光開裂は、極めて迅速に進行する。例えば、光反応性の化合物として知られるソラレンであれば数時間を要する（３５０ｎｍ光照射）ような場合に、それよりもはるかに長波長の光照射によって、例えばわずか１０秒間〜６０秒間（４００ｎｍ光照射）で光反応が進行して光架橋する。すなわち、本発明に係る光架橋剤を使用すれば、例えば１〜１２０秒間、又は１〜６０秒間の光照射によって、光反応を進行させて光架橋を形成させることができる。さらに、本発明による光架橋は、上記の波長及び温度を採用して、例えば１〜１２０秒間、又は１〜６０秒間の光照射によって、光反応を進行させて光架橋を開裂させることができる。
［光応答性人工ヌクレオシドアナログ分子の合成経路］
本発明に係る光応答性人工ヌクレオシドアナログ分子は、例えば、後述するスキーム１に示す合成経路に沿って、合成することができる。このスキーム１では、化合物１を得て、そこから化合物４を合成し、アミンと脱水縮合反応させてアミド結合を形成し、化合物５を得るという手順を含むものとなっている。
本発明に係る光応答性人工ヌクレオシドアナログ分子は、例えば、後述するスキーム１に示す合成経路に沿って、合成することができる。このスキーム１では、化合物１を得て、そこから化合物４を合成し、アミンと脱水縮合反応させてアミド結合を形成し、化合物５を得るという手順を含むものとなっている。
［アミンとの脱水縮合によるアミドの形成］
すなわち、スキーム１の合成経路によれば、次の式ＶＩ：
（ＶＩ）
（ただし、式ＶＩにおいて、Ｒ１は、式Ｉにおいて記載した基である。）
で表される修飾ピラノカルバゾール分子から、次の式ＩＩＩ：
すなわち、スキーム１の合成経路によれば、次の式ＶＩ：
（ＶＩ）
で表される修飾ピラノカルバゾール分子から、次の式ＩＩＩ：
（ＩＩＩ）
（ただし、式ＩＩＩにおいて、
Ｒ１は、式ＶＩにおいて記載した基であり、
Ｒ１１及びＲ１２は、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
ｎａは、１又は２である。）
で表されるカルボン酸を合成し、これを次の式ＩＶ：
Ｒ１は、式ＶＩにおいて記載した基であり、
Ｒ１１及びＲ１２は、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
ｎａは、１又は２である。）
で表されるカルボン酸を合成し、これを次の式ＩＶ：
（ＩＶ）
（ただし、式ＩＶにおいて、
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１及びＲ４２は、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
ｎｂは、０又は１であり、
ｎｃは、０、１、２又は３であり、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
ｎｄは、０、１、２又は３であって、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｑ１は、
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基であり、
Ｑ２は、
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＤＢＵ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基である。）
で表されるアミンと脱水縮合反応させることによって、次の式Ｖ：
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１及びＲ４２は、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
ｎｂは、０又は１であり、
ｎｃは、０、１、２又は３であり、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
ｎｄは、０、１、２又は３であって、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｑ１は、
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基であり、
Ｑ２は、
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＤＢＵ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基である。）
で表されるアミンと脱水縮合反応させることによって、次の式Ｖ：
（Ｖ）
（ただし、式Ｖにおいて、
Ｒ１、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、上記式ＩＩＩにおいて記載した基であり、
ｎａは、上記式ＩＩＩにおいて記載した整数であり、
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立して、上記式ＩＶにおいて記載した基であり、
ｎｂ、ｎｃ及びｎｄは、それぞれ上記式ＩＶにおいて記載した整数である。）
で表される化合物を製造することができる。
Ｒ１、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、上記式ＩＩＩにおいて記載した基であり、
ｎａは、上記式ＩＩＩにおいて記載した整数であり、
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立して、上記式ＩＶにおいて記載した基であり、
ｎｂ、ｎｃ及びｎｄは、それぞれ上記式ＩＶにおいて記載した整数である。）
で表される化合物を製造することができる。
好適な実施の態様において、上記式ＩＶで表される化合物として、次の式ＶＩＩで表される化合物を使用することができる：
（ＶＩＩ）
（ただし、式ＶＩＩにおいて、
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１及びＲ４２は、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
ｎｂは、０又は１であり、
ｎｃは、０、１、２又は３であり、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
ｎｄは、０、１、２又は３であって、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数である。）
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１及びＲ４２は、式Ｉｓにおいて記載した基であり、
ｎｂは、０又は１であり、
ｎｃは、０、１、２又は３であり、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
ｎｄは、０、１、２又は３であって、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数である。）
上記式ＩＶで表される化合物として、次の式ＶＩＩで表される化合物を使用する場合には、上記式Ｖで表される化合物は、次の式ＶＩＩＩで表される化合物とすることができる：
（ＶＩＩＩ）
（ただし、式ＶＩＩＩにおいて、
Ｒ１は、式ＩＩＩにおいて記載した基であり、
Ｒ１１及びＲ１２は、式ＩＩＩにおいて記載した基であり、
ｎａは、１又は２であり、
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１及びＲ４２は、式ＶＩＩにおいて記載した基であり、
ｎｂは、０又は１であり、
ｎｃは、０、１、２又は３であり、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
ｎｄは、０、１、２又は３であって、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数である。）
Ｒ１は、式ＩＩＩにおいて記載した基であり、
Ｒ１１及びＲ１２は、式ＩＩＩにおいて記載した基であり、
ｎａは、１又は２であり、
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１及びＲ４２は、式ＶＩＩにおいて記載した基であり、
ｎｂは、０又は１であり、
ｎｃは、０、１、２又は３であり、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
ｎｄは、０、１、２又は３であって、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数である。）
好適な実施の態様において、上記式ＩＩＩのカルボン酸として、次の式ＩＩＩａ：
（ＩＩＩａ）
（ただし、式ＩＩＩａにおいて、Ｒ１は、式ＩＩＩにおいて記載した基である。）
で表されるカルボン酸を使用することができる。
（ＩＩＩａ）
で表されるカルボン酸を使用することができる。
好適な実施の態様において、上記式ＶＩＩのアミンとして、次の式ＶＩＩａで表されるアミンを使用することができる：
（ＶＩＩａ）
（ただし、式ＶＩＩａにおいて、Ｒ４２は式ＶＩＩにおいて記載した基であり、好ましくは、Ｒ４２は水素原子又はメチル基とすることができる。）
（ＶＩＩａ）
上記式ＩＩＩのカルボン酸として式ＩＩＩａのカルボン酸が使用されて、上記式ＶＩＩのアミンとして式ＶＩＩａのアミンが使用される場合には、上記式ＶＩＩＩの化合物は、次の式ＶＩＩＩａの化合物とすることができる：
（ＶＩＩＩａ）
（ただし、式ＶＩＩＩａにおいて、
Ｒ１は、式ＩＩＩａにおいて記載した基であり、
Ｒ４２は、式ＶＩＩａにおいて記載した基であり、好ましくは、Ｒ４２は水素原子又はメチル基とすることができる。）
（ＶＩＩＩａ）
Ｒ１は、式ＩＩＩａにおいて記載した基であり、
Ｒ４２は、式ＶＩＩａにおいて記載した基であり、好ましくは、Ｒ４２は水素原子又はメチル基とすることができる。）
上述のように、アミンとの脱水縮合によるアミドの形成によって、式Ｖ、式ＶＩＩＩ、式ＶＩＩＩａの化合物を合成することができる。スキーム１の合成経路は、これらの式において、Ｑ１とＱ２が水素原子である場合を例示して、説明したものとなっているが、Ｑ１とＱ２が水素原子以外である場合であっても、アミンとの脱水縮合によるアミドの形成によって式Ｖの化合物を製造することができる。
上述した本発明に係る合成経路は、ステップが少なく、簡便であり、高い総収率を期待できる点で、優れたものとなっている。さらに、従来の光架橋剤の合成法と対比すると、合成経路中には、塩化水素による活性化のステップなど、操作に注意と熟練を要するステップを含んでいないという点で、有利なものとなっている。すなわち、従来の光反応性の修飾ヌクレオシド分子の合成においては、その構造中にデオキシリボースまたはリボースを備えているために、上記本発明の合成経路と比較すると、合成経路中のステップは多く、複雑であり、総収率は低い。従来型の光反応性の修飾ヌクレオシド分子の合成においては、その構造中にデオキシリボースまたはリボースを備えているために、糖の水酸基の保護と活性化のために、塩化水素による活性化のステップなど、操作に注意と熟練を要するステップを含むものとなっている。したがって、本発明に係る化合物は、上記合成の簡便さと総収率の高さの点でも、優れたものである。また、本発明は、上記の優れた合成方法（製造方法）にもある。
［修飾核酸合成用モノマー及び修飾核酸の合成］
上記の合成経路によって得られる光応答性人工ヌクレオシドアナログ分子（式ＶＩＩＩ、式ＶＩＩＩａの化合物）を用いて、後述するスキーム１に記載の手法、あるいは当業者に公知の手法を使用して、本発明に係る修飾核酸を得るための合成用モノマー（製造用試薬）を得ることができる。本発明に係る修飾核酸の合成用モノマーの構造は上述した通りであり、これを、ホスホロアミダイト法、及びＨ−ホスホネート法等の公知の手法によって核酸合成試薬として使用すれば、光応答性人工ヌクレオシドアナログ分子（式ＶＩＩＩ、式ＶＩＩＩａの化合物）が配列中に取り込まれた核酸又はオリゴヌクレオチド（本発明に係る修飾核酸）あるいはペプチド核酸を得ることができる。このように、本発明に係る修飾核酸合成モノマーは、ホスホロアミダイト法、及びＨ−ホスホネート法等の公知の手法において核酸合成試薬として使用できる点で、優れたものである。
上記の合成経路によって得られる光応答性人工ヌクレオシドアナログ分子（式ＶＩＩＩ、式ＶＩＩＩａの化合物）を用いて、後述するスキーム１に記載の手法、あるいは当業者に公知の手法を使用して、本発明に係る修飾核酸を得るための合成用モノマー（製造用試薬）を得ることができる。本発明に係る修飾核酸の合成用モノマーの構造は上述した通りであり、これを、ホスホロアミダイト法、及びＨ−ホスホネート法等の公知の手法によって核酸合成試薬として使用すれば、光応答性人工ヌクレオシドアナログ分子（式ＶＩＩＩ、式ＶＩＩＩａの化合物）が配列中に取り込まれた核酸又はオリゴヌクレオチド（本発明に係る修飾核酸）あるいはペプチド核酸を得ることができる。このように、本発明に係る修飾核酸合成モノマーは、ホスホロアミダイト法、及びＨ−ホスホネート法等の公知の手法において核酸合成試薬として使用できる点で、優れたものである。
以下に実施例をあげて、本発明を詳細に説明する。本発明は、以下に例示する実施例に限定されるものではない。
［ｐｃ−Ｄホスホロアミダイトの合成］
次のスキーム１に示す６段階の合成経路に沿って、Ｄ−トレオニノール構造を有する光応答性人工ヌクレオシドアナログ分子（化合物５）（ヌクレオシドアナログ、あるいは光反応性素子ということがある）を合成し、さらに修飾核酸合成用モノマー（化合物７）の合成を行った。
次のスキーム１に示す６段階の合成経路に沿って、Ｄ−トレオニノール構造を有する光応答性人工ヌクレオシドアナログ分子（化合物５）（ヌクレオシドアナログ、あるいは光反応性素子ということがある）を合成し、さらに修飾核酸合成用モノマー（化合物７）の合成を行った。
スキーム１：
（１）化合物２の合成
非特許文献（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ｆｕｓｅｄ ｐｙｒａｎｏｃａｒｂａｚｏｌｏｎｅｓ ｗｉｔｈ ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ ｉｎｔｅｒｅｓｔ， Ａ．Ｖｒｏｎｔｅｌｉ ｅｔ ａｌ．， Ｃｏｍｍｅｍｏｒａｔｉｖｅ Ｉｓｓｕｅ ｉｎ Ｈｏｎｏｒ ｏｆ Ｐｒｏｆ． Ｍｉｃｈａｅｌ Ｏｒｆａｎｏｐｏｕｌｏｓ ｏｎ ｔｈｅ ｏｃｃａｓｉｏｎ ｏｆ ｈｉｓ ｏｕｔｓｔａｎｄｉｎｇ ｃｏｎｔｒｉｂｕｔｉｏｎｓ ｔｏ ｏｒｇａｎｉｃ ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌｕｍｅ２０１５，Ｉｓｓｕｅ３，ｐｐ．１１１−１２３）に従い、２−ヒドロキシカルバゾール（化合物１）からピラノカルバゾール（化合物２）を合成した。
非特許文献（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ ｆｕｓｅｄ ｐｙｒａｎｏｃａｒｂａｚｏｌｏｎｅｓ ｗｉｔｈ ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ ｉｎｔｅｒｅｓｔ， Ａ．Ｖｒｏｎｔｅｌｉ ｅｔ ａｌ．， Ｃｏｍｍｅｍｏｒａｔｉｖｅ Ｉｓｓｕｅ ｉｎ Ｈｏｎｏｒ ｏｆ Ｐｒｏｆ． Ｍｉｃｈａｅｌ Ｏｒｆａｎｏｐｏｕｌｏｓ ｏｎ ｔｈｅ ｏｃｃａｓｉｏｎ ｏｆ ｈｉｓ ｏｕｔｓｔａｎｄｉｎｇ ｃｏｎｔｒｉｂｕｔｉｏｎｓ ｔｏ ｏｒｇａｎｉｃ ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌｕｍｅ２０１５，Ｉｓｓｕｅ３，ｐｐ．１１１−１２３）に従い、２−ヒドロキシカルバゾール（化合物１）からピラノカルバゾール（化合物２）を合成した。
（２）化合物３の合成
化合物２（４．７ｇ）と水酸化ナトリウム（２．４ｇ）を仕込んだフラスコにアセトニトリル（１０００ｍｌ）を仕込み、室温で１時間撹拌したのち、ブロモ酢酸エチル（６．６７ｇ）を滴下し、さらに室温で１時間撹拌した。残留している水酸化ナトリウムをヌッチェ型ろ過器で吸引ろ過により除去し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた化合物３（固体）を次工程にそのまま用いた。得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ3）：８．１４−７．２１（ｍ，６Ｈ，ＡｒＨ）、７．８８（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、６．３４（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、４．９９（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ）、４．２４（ｑ，２Ｈ，ＣＨ3ＣＨ2）、１．２７（ｔ，３Ｈ，ＣＨ3）
化合物２（４．７ｇ）と水酸化ナトリウム（２．４ｇ）を仕込んだフラスコにアセトニトリル（１０００ｍｌ）を仕込み、室温で１時間撹拌したのち、ブロモ酢酸エチル（６．６７ｇ）を滴下し、さらに室温で１時間撹拌した。残留している水酸化ナトリウムをヌッチェ型ろ過器で吸引ろ過により除去し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮した。得られた化合物３（固体）を次工程にそのまま用いた。得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ3）：８．１４−７．２１（ｍ，６Ｈ，ＡｒＨ）、７．８８（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、６．３４（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、４．９９（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ）、４．２４（ｑ，２Ｈ，ＣＨ3ＣＨ2）、１．２７（ｔ，３Ｈ，ＣＨ3）
（３）化合物４の合成
先の工程で得られた化合物３をＴＨＦ（１０００ｍｌ）に溶解させた。水酸化ナトリウム（０．９ｇ）を水（５０ｍｌ）に溶解した水溶液を、先のＴＨＦ溶液へ滴下し、室温で３時間撹拌した。反応終了後、反応液を希塩酸で中和してｐＨ６〜７にした。反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、酢酸エチルを用いた分液操作により有機相へ目的物を抽出した。有機層をロータリーエバポレーターで濃縮し、化合物４（固体）を得た。得られた化合物４をそのまま次工程に用いた。得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）：８．４８−７．３０（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ）、８．１８（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、６．３５（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、５．３０（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ）
先の工程で得られた化合物３をＴＨＦ（１０００ｍｌ）に溶解させた。水酸化ナトリウム（０．９ｇ）を水（５０ｍｌ）に溶解した水溶液を、先のＴＨＦ溶液へ滴下し、室温で３時間撹拌した。反応終了後、反応液を希塩酸で中和してｐＨ６〜７にした。反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、酢酸エチルを用いた分液操作により有機相へ目的物を抽出した。有機層をロータリーエバポレーターで濃縮し、化合物４（固体）を得た。得られた化合物４をそのまま次工程に用いた。得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）：８．４８−７．３０（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ）、８．１８（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、６．３５（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、５．３０（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ）
（４）化合物５（トレオニノール骨格型ピラノカルバゾールヌクレオシドアナログ：ｐｃ−Ｄ）の合成
前工程で得られた化合物４、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（２．７ｇ）、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（３．８ｇ）、Ｄ−トレオニノール（２．１ｇ）をフラスコに仕込み、窒素置換後にＤＭＦ（１００ｍｌ）に溶解させ、室温で２時間撹拌した。反応混合物を撹拌しながら、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を添加した。生成した沈殿物をガラスフィルター付ろ過器で吸引ろ過した。沈殿物を蒸留水およびヘキサンで洗浄後、乾燥させて化合物５（固体）を得た。得られた化合物５のＵＶ−ｖｉｓスペクトルを分光光度計により測定し（図１）、２５０〜４００ｎｍに現れた特徴的な吸収ピークから、ピラノカルバゾール構造を有することを確認した。また、得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）：８．４８−７．２９（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ）、８．１９（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、８．０３（ｄ，１Ｈ，ＮＨＣＯ）、６．３４（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、５．１７（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ）、４．７５（ｂｒ，１Ｈ，ＣＨ2ＯＨ）、４．６８（ｂｒ，１Ｈ，ＣＨＯＨ）、３．９１（ｂｒ，１Ｈ，ＮＨＣＨ）、３．６４（ｍ，１Ｈ，ＣＨ2ＯＨ）、３．５１（ｍ，１Ｈ，ＣＨ2ＯＨ）、１．０３（ｄ，３Ｈ，ＣＨ3）
前工程で得られた化合物４、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（２．７ｇ）、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（３．８ｇ）、Ｄ−トレオニノール（２．１ｇ）をフラスコに仕込み、窒素置換後にＤＭＦ（１００ｍｌ）に溶解させ、室温で２時間撹拌した。反応混合物を撹拌しながら、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を添加した。生成した沈殿物をガラスフィルター付ろ過器で吸引ろ過した。沈殿物を蒸留水およびヘキサンで洗浄後、乾燥させて化合物５（固体）を得た。得られた化合物５のＵＶ−ｖｉｓスペクトルを分光光度計により測定し（図１）、２５０〜４００ｎｍに現れた特徴的な吸収ピークから、ピラノカルバゾール構造を有することを確認した。また、得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）：８．４８−７．２９（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ）、８．１９（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、８．０３（ｄ，１Ｈ，ＮＨＣＯ）、６．３４（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、５．１７（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ）、４．７５（ｂｒ，１Ｈ，ＣＨ2ＯＨ）、４．６８（ｂｒ，１Ｈ，ＣＨＯＨ）、３．９１（ｂｒ，１Ｈ，ＮＨＣＨ）、３．６４（ｍ，１Ｈ，ＣＨ2ＯＨ）、３．５１（ｍ，１Ｈ，ＣＨ2ＯＨ）、１．０３（ｄ，３Ｈ，ＣＨ3）
（５）化合物６の合成
化合物５（４．６ｇ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．３ｇ）をフラスコに仕込み、窒素置換後にピリジン（５５ｍｌ）を加え、氷水浴中で冷却しながら溶解させた。４，４’−ジメトキシトリチルクロリド（８．３ｇ）を添加し、氷水浴中で１時間撹拌し反応させた。反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮し、濃縮物をフラッシュクロマトグラフィーにより精製し化合物６を得た。得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ3）：８．１３−７．０３（ｍ，１１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）、７．８５（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、６．９５−６．６９（ｍ，８Ｈ，ＭｅＯ−Ａｒ−Ｈ）、６．３３（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、６．２９（ｄ，１Ｈ，ＮＨＣＯ）、４．９６（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ）、３．８８（ｍ，１Ｈ，ＮＣＨ）、３．８８（ｍ，１Ｈ，ＣＨＯＨ）、３．７７（ｓ，６Ｈ，ＯＣＨ3）、３．２５−３．１２（ｍ，２Ｈ，ＣＨ2−ＯＤＭＴｒ）、２．５２（ｍ，１Ｈ，ＣＨＯＨ）、０．９３（ｄ，３Ｈ，ＣＨ3）
化合物５（４．６ｇ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．３ｇ）をフラスコに仕込み、窒素置換後にピリジン（５５ｍｌ）を加え、氷水浴中で冷却しながら溶解させた。４，４’−ジメトキシトリチルクロリド（８．３ｇ）を添加し、氷水浴中で１時間撹拌し反応させた。反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮し、濃縮物をフラッシュクロマトグラフィーにより精製し化合物６を得た。得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ3）：８．１３−７．０３（ｍ，１１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）、７．８５（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、６．９５−６．６９（ｍ，８Ｈ，ＭｅＯ−Ａｒ−Ｈ）、６．３３（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、６．２９（ｄ，１Ｈ，ＮＨＣＯ）、４．９６（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ）、３．８８（ｍ，１Ｈ，ＮＣＨ）、３．８８（ｍ，１Ｈ，ＣＨＯＨ）、３．７７（ｓ，６Ｈ，ＯＣＨ3）、３．２５−３．１２（ｍ，２Ｈ，ＣＨ2−ＯＤＭＴｒ）、２．５２（ｍ，１Ｈ，ＣＨＯＨ）、０．９３（ｄ，３Ｈ，ＣＨ3）
（６）化合物７（ｐｃ−Ｄホスホロアミダイト）の合成
化合物６（７．２ｇ）、５−ベンジルチオ−１Ｈ−テトラゾール（０．２ｇ）をフラスコに仕込み、窒素置換後に、アセトニトリル（１６０ｍｌ）を加え、氷水浴中で溶解させた。２−シアノエチルＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロアミダイト（５．３ｇ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮し、濃縮物をフラッシュクロマトグラフィーにより精製し化合物７を得た。得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ3）：８．１２−７．１８（ｍ，１１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）、７．８６（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、７．１２−６．７１（ｍ，８Ｈ，ＭｅＯ−Ａｒ−Ｈ）、６．３４（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、５．８７（ｄ，１Ｈ，ＮＨＣＯ）、４．９３（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ）、４．２２（ｍ，１Ｈ，ＣＨＯＰ）、４．１２（ｑ，２Ｈ，ＮＣ−ＣＨ2−ＣＨ2）、４．０７（ｍ，１Ｈ，ＮＨＣＨ）、３．７７（ｓ，６Ｈ，ＯＣＨ3）、３．００（ｍ，２Ｈ，ＣＨ2Ｏ−ＤＭＴｒ）、２．１０−２．００（ｍ，２Ｈ，Ｎ−ＣＨ−（ＣＨ3）2）、１．２６（ｔ，２Ｈ，ＮＣ−ＣＨ２）、１．０６−０．４３（ｍ，１２Ｈ，Ｎ−ＣＨ−（ＣＨ3）2）、０．９３（ｄ，３Ｈ，ＣＨ3）
化合物６（７．２ｇ）、５−ベンジルチオ−１Ｈ−テトラゾール（０．２ｇ）をフラスコに仕込み、窒素置換後に、アセトニトリル（１６０ｍｌ）を加え、氷水浴中で溶解させた。２−シアノエチルＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロアミダイト（５．３ｇ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮し、濃縮物をフラッシュクロマトグラフィーにより精製し化合物７を得た。得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，ＣＤＣＬ3）：８．１２−７．１８（ｍ，１１Ｈ，Ａｒ−Ｈ）、７．８６（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、７．１２−６．７１（ｍ，８Ｈ，ＭｅＯ−Ａｒ−Ｈ）、６．３４（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ）、５．８７（ｄ，１Ｈ，ＮＨＣＯ）、４．９３（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ）、４．２２（ｍ，１Ｈ，ＣＨＯＰ）、４．１２（ｑ，２Ｈ，ＮＣ−ＣＨ2−ＣＨ2）、４．０７（ｍ，１Ｈ，ＮＨＣＨ）、３．７７（ｓ，６Ｈ，ＯＣＨ3）、３．００（ｍ，２Ｈ，ＣＨ2Ｏ−ＤＭＴｒ）、２．１０−２．００（ｍ，２Ｈ，Ｎ−ＣＨ−（ＣＨ3）2）、１．２６（ｔ，２Ｈ，ＮＣ−ＣＨ２）、１．０６−０．４３（ｍ，１２Ｈ，Ｎ−ＣＨ−（ＣＨ3）2）、０．９３（ｄ，３Ｈ，ＣＨ3）
［光反応性素子（ｐｃ−Ｄ）を含むオリゴＤＮＡの合成］
一般的なシアノエチルホスホロアミダイト法に従い、ＤＮＡ自動合成機により光反応性素子（核酸光反応性素子ということがある）を含むオリゴＤＮＡを合成した。化合物７の固相縮合反応のみ反応時間を９９９秒に設定した。トリチリルモニターによる化合物７のカップリング収率は９８％以上であった。２８質量％アンモニア水溶液を用いた固相からの切出し・脱保護を行った後、逆相ＨＰＬＣによる精製を行い目的の核酸光反応性素子を含むオリゴＤＮＡ（５’−ＴＧＣＡＸＣＣＧＴ−３’、Ｘは核酸光反応性素子（ｐｃ−Ｄ））を得た。オリゴＤＮＡの同定はＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ ＭＳ解析により行った。（［（Ｍ＋Ｈ）＋］；Ｃａｌｃｄ．２８２７．８０，Ｆｏｕｎｄ ２８２８．９４）
一般的なシアノエチルホスホロアミダイト法に従い、ＤＮＡ自動合成機により光反応性素子（核酸光反応性素子ということがある）を含むオリゴＤＮＡを合成した。化合物７の固相縮合反応のみ反応時間を９９９秒に設定した。トリチリルモニターによる化合物７のカップリング収率は９８％以上であった。２８質量％アンモニア水溶液を用いた固相からの切出し・脱保護を行った後、逆相ＨＰＬＣによる精製を行い目的の核酸光反応性素子を含むオリゴＤＮＡ（５’−ＴＧＣＡＸＣＣＧＴ−３’、Ｘは核酸光反応性素子（ｐｃ−Ｄ））を得た。オリゴＤＮＡの同定はＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ ＭＳ解析により行った。（［（Ｍ＋Ｈ）＋］；Ｃａｌｃｄ．２８２７．８０，Ｆｏｕｎｄ ２８２８．９４）
ＤＮＡ配列を一部変更してＤＮＡ自動合成機に入力した以外は上記と同様の操作で、核酸光反応性素子を含むオリゴＤＮＡ（５’−ＴＧＣＧＸＣＣＧＴ−３’、Ｘは核酸光反応性素子（ｐｃ−Ｄ））を得た。
［ｐｃ−Ｓホスホロアミダイトおよびｐｃ−Ｓ含有ＤＮＡの合成］
上記合成したｐｃ−Ｄにおいてトレオニノールをセリノール（２−アミノ−１，３−プロパンジオール）に変えた構造に相当する光応答性人工ヌクレオシドアナログ（化合物８）（ｐｃ−Ｓ）を、次のスキーム２に示す６段階の合成経路（化合物４まではｐｃ−Ｄと同様）に沿って合成した。さらに修飾核酸合成用モノマー（化合物１０）の合成を行った。
上記合成したｐｃ−Ｄにおいてトレオニノールをセリノール（２−アミノ−１，３−プロパンジオール）に変えた構造に相当する光応答性人工ヌクレオシドアナログ（化合物８）（ｐｃ−Ｓ）を、次のスキーム２に示す６段階の合成経路（化合物４まではｐｃ−Ｄと同様）に沿って合成した。さらに修飾核酸合成用モノマー（化合物１０）の合成を行った。
スキーム２：
（１）化合物８（セリノール骨格型ピラノカルバゾールヌクレオシドアナログ：ｐｃ−Ｓ）の合成
Ｄ−トレオニノールをセリノールへ変更して化合物５を合成する方法と同様の操作を行い、化合物８を合成した。得られた化合物８のＵＶ−ｖｉｓスペクトルを分光光度計により測定し（図２）、２５０〜４００ｎｍに現れた特徴的な吸収ピークから、ピラノカルバゾール構造を有することを確認した。また、得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）：８．５４−７．２６（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），８．２１（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ），８．０３（ｄ，１Ｈ，ＮＨＣＯ），６．３４（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ），５．１１（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ），４．７３（ｂｒ，２Ｈ，ＣＨ2ＯＨ），３．７５（ｂｒ，１Ｈ，ＮＨＣＨ），３．４３（ｍ，４Ｈ，ＣＨ2ＯＨ）
Ｄ−トレオニノールをセリノールへ変更して化合物５を合成する方法と同様の操作を行い、化合物８を合成した。得られた化合物８のＵＶ−ｖｉｓスペクトルを分光光度計により測定し（図２）、２５０〜４００ｎｍに現れた特徴的な吸収ピークから、ピラノカルバゾール構造を有することを確認した。また、得られた化合物を用いてＮＭＲ測定を実施し、各ピークの帰属を決定し、化合物の構造を確認した。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）：８．５４−７．２６（ｍ，６Ｈ，Ａｒ−Ｈ），８．２１（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ），８．０３（ｄ，１Ｈ，ＮＨＣＯ），６．３４（ｄ，１Ｈ，Ｏ＝Ｃ−ＣＨ＝ＣＨ），５．１１（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2ＣＯ），４．７３（ｂｒ，２Ｈ，ＣＨ2ＯＨ），３．７５（ｂｒ，１Ｈ，ＮＨＣＨ），３．４３（ｍ，４Ｈ，ＣＨ2ＯＨ）
（２）化合物９および化合物１０（ｐｃ−Ｓホスホロアミダイト）の合成
化合物９および化合物１０（ｐｃ−Ｓホスホロアミダイト）の合成を、スキーム１の化合物６および化合物７を合成する方法と同様の方法で実施した。
化合物９および化合物１０（ｐｃ−Ｓホスホロアミダイト）の合成を、スキーム１の化合物６および化合物７を合成する方法と同様の方法で実施した。
［光反応性素子（ｐｃ−Ｓ）を含むオリゴＤＮＡの合成］
化合物１０を用いて、ｐｃ−Ｄホスホロアミダイトと同様の操作により、核酸光反応性素子を含むオリゴＤＮＡ（５’−ＴＧＣＡＸＣＣＧＴ−３’、Ｘは核酸光反応性素子（ｐｃ−Ｓ））を得た。
化合物１０を用いて、ｐｃ−Ｄホスホロアミダイトと同様の操作により、核酸光反応性素子を含むオリゴＤＮＡ（５’−ＴＧＣＡＸＣＣＧＴ−３’、Ｘは核酸光反応性素子（ｐｃ−Ｓ））を得た。
［ｐｃ−Ｄの光反応性の評価］
前記ｐｃ−Ｄを含むオリゴＤＮＡ［以下、ＯＤＮ（Ｙ・ｐｃ−Ｄ）という、ＹはＡ（アデニン）またはＧ（グアニン）］と、相補的オリゴＤＮＡ［以下、ＯＤＮ（Ｚ）という、ＺはＴ（チミン）またはＣ（シトシン）］の等量混合液（５μＭ ｉｎ ５０ｍＭ Ｎａ−Ｃａｃｏｄｙｌａｔｅ ｂｕｆｆｅｒ（ｐＨ７．４），１００ｍＭ ＮａＣｌ）に内部標準としてデオキシウリジン（２５μＭ）を添加し、４℃にて光照射（４００ｎｍ、９５００ｍＷ／ｃｍ2）を行った。この溶液をＨＰＬＣ（溶離液：アセトニトリル／５０ｍＭギ酸アンモニウム、１〜２０％アセトニトリル／１０ｍｉｎ、流速：０．２ｍＬ／ｍｉｎ）により分析することで、光反応性を評価した。
前記ｐｃ−Ｄを含むオリゴＤＮＡ［以下、ＯＤＮ（Ｙ・ｐｃ−Ｄ）という、ＹはＡ（アデニン）またはＧ（グアニン）］と、相補的オリゴＤＮＡ［以下、ＯＤＮ（Ｚ）という、ＺはＴ（チミン）またはＣ（シトシン）］の等量混合液（５μＭ ｉｎ ５０ｍＭ Ｎａ−Ｃａｃｏｄｙｌａｔｅ ｂｕｆｆｅｒ（ｐＨ７．４），１００ｍＭ ＮａＣｌ）に内部標準としてデオキシウリジン（２５μＭ）を添加し、４℃にて光照射（４００ｎｍ、９５００ｍＷ／ｃｍ2）を行った。この溶液をＨＰＬＣ（溶離液：アセトニトリル／５０ｍＭギ酸アンモニウム、１〜２０％アセトニトリル／１０ｍｉｎ、流速：０．２ｍＬ／ｍｉｎ）により分析することで、光反応性を評価した。
（１）チミンを対象とした光架橋反応
図３ａは、この操作の流れを示す説明図である。光架橋対象がチミン（Ｔ）となるＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）（５’−ＴＧＣＡＸＣＣＧＴ−３’）には、配列中のＸの位置に、本発明に係るヌクレオシドアナログ（ｐｃ−Ｄ）が、改良型光反応性素子として導入されている。
図３ａは、この操作の流れを示す説明図である。光架橋対象がチミン（Ｔ）となるＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）（５’−ＴＧＣＡＸＣＣＧＴ−３’）には、配列中のＸの位置に、本発明に係るヌクレオシドアナログ（ｐｃ−Ｄ）が、改良型光反応性素子として導入されている。
図３ｂはＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）と相補的オリゴＤＮＡであるＯＤＮ（Ｔ）（５’−ＡＣＧＧＧＴＧＣＡ−３’）を使用して、Ｕ−ＶＩＸ製のＵＶ−ＬＥＤ照射装置（ＯｍｎｉＣｕｒｅ（登録商標）ＬＸ４０５Ｓ）を用いて４００ｎｍの光を照射した後に、ＨＰＬＣによって分析した結果を示す図である。縦軸方向に並べられたチャートはそれぞれ光照射時間（０秒、１秒、５秒、１０秒、３０秒）に対応しており、横軸は保持時間（分）を示す。光照射前（０秒）の時点で存在していたＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）およびＯＤＮ（Ｔ）のピークが光照射によって減少し、同時にＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）とＯＤＮ（Ｔ）とが架橋した光２量体（ＯＤＮ（ｐｃ−Ｄ／Ｔ））のピークが出現した。光照射時間の増加に伴い、（ＯＤＮ（ｐｃ−Ｄ／Ｔ））のピーク面積が増大しており、光架橋反応が進行していることを確認した。図３ｃは、光照射時間に伴う架橋率の変化をグラフにしたものである。図３ｃの横軸は光照射時間（秒）、縦軸は転化率（％）である。この転化率、すなわち単量体から二量体へと変化した割合は、完全に二量体と変化した場合を転化率１００％とした。本発明に係るヌクレオシドアナログ、すなわちＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）は、照射１０秒後に９４％という高い転化率を示し、１時間後にはほぼ１００％架橋した。
図３ｄは同じくＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）とＯＤＮ（Ｔ）を使用して、日本分光株式会社製のＣＲＭ−ＦＤ型照射分光器を用いて、４５０、５００、５５０ｎｍの光を１時間照射した場合のＨＰＬＣ分析結果である。それぞれの転化率は、４５０ｎｍで８６％、５００ｎｍで７０％、５５０ｎｍで３８％であった。
（２）シトシンを対象とした光架橋反応
ＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）と同様の操作で、Ｃ（シトシン）が光架橋対象となるｐｃ−Ｄ含有オリゴＤＮＡ（５’−ＴＧＣＧＸＣＣＧＴ−３’、以下、ＯＤＮ（Ｇ・ｐｃ−Ｄ）という）と、相補的オリゴＤＮＡ（５’−ＡＣＧＧＧＣＧＣＡ−３’）、以下、ＯＤＮ（Ｃ）という）を用いた光架橋反応を行った（図４ａ）。４００ｎｍの光を３０秒間照射した結果、光架橋による転化率は７１％であった（図４ｂ）。
ＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）と同様の操作で、Ｃ（シトシン）が光架橋対象となるｐｃ−Ｄ含有オリゴＤＮＡ（５’−ＴＧＣＧＸＣＣＧＴ−３’、以下、ＯＤＮ（Ｇ・ｐｃ−Ｄ）という）と、相補的オリゴＤＮＡ（５’−ＡＣＧＧＧＣＧＣＡ−３’）、以下、ＯＤＮ（Ｃ）という）を用いた光架橋反応を行った（図４ａ）。４００ｎｍの光を３０秒間照射した結果、光架橋による転化率は７１％であった（図４ｂ）。
［ｐｃ−Ｄの光架橋体の光開裂反応］
ＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）およびＯＤＮ（Ｔ）の混合溶液の光照射（４００ｎｍ，６０秒間）によって調製した光２量体ＯＤＮ（ｐｃ−Ｄ／Ｔ）溶液を６０℃で加温し、１５Ｗのトランスイルミネーターを用いて３１２ｎｍ光を、０分、５分、３０分間照射した（図５ａ）。光照射により、ＯＤＮ（ｐｃ−Ｄ／Ｔ）のピークが減少し、もとのＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）およびＯＤＮ（Ｔ）のピークが出現した。照射３０分後には、ＯＤＮ（ｐｃ−Ｄ／Ｔ）のピークは消滅し、転化率１００％であった（図５ｂ）。
ＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）およびＯＤＮ（Ｔ）の混合溶液の光照射（４００ｎｍ，６０秒間）によって調製した光２量体ＯＤＮ（ｐｃ−Ｄ／Ｔ）溶液を６０℃で加温し、１５Ｗのトランスイルミネーターを用いて３１２ｎｍ光を、０分、５分、３０分間照射した（図５ａ）。光照射により、ＯＤＮ（ｐｃ−Ｄ／Ｔ）のピークが減少し、もとのＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）およびＯＤＮ（Ｔ）のピークが出現した。照射３０分後には、ＯＤＮ（ｐｃ−Ｄ／Ｔ）のピークは消滅し、転化率１００％であった（図５ｂ）。
［ｐｃ−Ｓの光反応性の評価］
ＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）と同様の操作で、Ｔ（チミン）が光架橋対象となるｐｃ−Ｓ含有オリゴＤＮＡ（５’−ＴＧＣＧＸＣＣＧＴ−３’、以下、ＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｓ）という）と、相補的オリゴＤＮＡであるＯＤＮ（Ｔ）を用いた光架橋反応を行った（図６ａ）。
ＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｄ）と同様の操作で、Ｔ（チミン）が光架橋対象となるｐｃ−Ｓ含有オリゴＤＮＡ（５’−ＴＧＣＧＸＣＣＧＴ−３’、以下、ＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｓ）という）と、相補的オリゴＤＮＡであるＯＤＮ（Ｔ）を用いた光架橋反応を行った（図６ａ）。
図６ｂは、Ｕ−ＶＩＸ製のＵＶ−ＬＥＤ照射装置（ＯｍｎｉＣｕｒｅ（登録商標）ＬＸ４０５Ｓ）を用いて４００ｎｍの光を照射６０秒間した後に、ＨＰＬＣによって分析した結果である。縦軸方向に並べられたチャートはそれぞれ光照射時間（０秒、６０秒）に対応しており、横軸は保持時間（分）を示す。光照射前（０秒）の時点で存在していたＯＤＮ（Ａ・ｐｃ−Ｓ）とＯＤＮ（Ｔ）のピークが光照射によって減少し、同時に光２量体（ＯＤＮ（ｐｃ−Ｓ／Ｔ））のピークが出現した。
［照射光波長の細胞への影響の検討］
長波長の光照射が、短波長の光照射と比較して、細胞へのダメージが少ないことを検討するために、以下の実験を行った。
長波長の光照射が、短波長の光照射と比較して、細胞へのダメージが少ないことを検討するために、以下の実験を行った。
９６穴プレートに５×１０5ｃｅｌｌ／ｍｌの細胞（ＧＦＰ−ＨｅＬａ細胞、ヒト子宮頸癌由来株）を１００μＬ分注し、ＣＯ2インキュベータで４８時間培養した。その後、３６６ｎｍ、４００ｎｍ、又は４５０ｎｍの波長の光で光照射を行った後、Ｃｅｌｌ ｃｏｕｎｔｉｎｇ ｋｉｔを１０μＬずつ入れ、ＣＯ2インキュベータで４時間呈色した後、マイクロプレートリーダを用い、４５０ｎｍの吸光度を測定し、細胞生存率を算出した。この結果を、図７にまとめて示す。
［結果］
図７は、各波長での光照射時間（秒）と細胞生存率（％）を対比したグラフである。この結果から、３６６ｎｍの光照射では数秒の光照射でも細胞生存率が大きく低下しているのに対して、４００ｎｍ、４５０ｎｍでは、数十秒光照射を行ってもほとんど細胞生存率が低下していない。すなわち、このことからもピラノカルバゾールが細胞毒性の少ない長波長の光で操作可能であることが明らかとなった。
図７は、各波長での光照射時間（秒）と細胞生存率（％）を対比したグラフである。この結果から、３６６ｎｍの光照射では数秒の光照射でも細胞生存率が大きく低下しているのに対して、４００ｎｍ、４５０ｎｍでは、数十秒光照射を行ってもほとんど細胞生存率が低下していない。すなわち、このことからもピラノカルバゾールが細胞毒性の少ない長波長の光で操作可能であることが明らかとなった。
本発明は、核酸の光反応技術に使用可能な光反応性架橋剤となる新規な化合物を提供する。本発明は産業上有用な発明である。
Claims (7)
- 次の式Ｉで表される化合物：
（Ｉ）
（ただし、式Ｉにおいて、
Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、フッ化メチル基、エチル基、フッ化エチル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルキルスルファニル基からなる群から選択された基であり、
Ｘは、次の式Ｉｔで表される基である：
（Ｉｔ）
（ただし、式Ｉｔにおいて、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
Ｑ１は、
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基であり、
Ｑ２は、
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＤＢＵ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基である。））。 - Ｘが、次の式Ｉｕで表される基である、請求項１に記載の化合物：
（Ｉｕ）
（ただし、式Ｉｕにおいて、
Ｒ４２は、式Ｉｔにおいて記載した基であり、
Ｑ１及びＱ２は、式Ｉｔにおいて記載した基である。）。 - Ｒ４２が、水素原子又はメチル基である、請求項２に記載の化合物。
- 請求項１〜３のいずれかに記載の化合物からなる、光反応性架橋剤。
- 請求項１〜３のいずれかに記載の化合物からなる、光反応性修飾核酸製造用試薬。
- 請求項１〜３のいずれかに記載の化合物からなる光反応性架橋剤を使用して、該光反応性架橋剤と、ピリミジン環を有する核酸塩基との間に、光架橋を形成する方法。
- 次の式ＩＩＩ：
（ＩＩＩ）
（ただし、式ＩＩＩにおいて、
Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、フッ化メチル基、エチル基、フッ化エチル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルキルスルファニル基からなる群から選択された基であり、
Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎａは、１又は２である。）
で表される化合物を、次の式ＩＶ：
（ＩＶ）
（ただし、式ＩＶにおいて、
Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｂは、０又は１であり、
Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｃは、０、１、２又は３であり、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｒ４１及びＲ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、及びＣ１〜Ｃ３のアルコキシ基からなる群から選択された基であり、
ｎｄは、０、１、２又は３であって、ｎｃ＋ｎｄは０〜３の整数であり、
Ｑ１は、
水素原子；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ１に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
トリチル基、モノメトキシトリチル基、ジメトキシトリチル基、トリメトキシトリチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基；
からなる群から選択される基であり、
Ｑ２は、
水素原子；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基；
Ｑ２に結合するＯと一体となって形成されるリン酸基によって形成されるリン酸ジエステル結合を介して連結されるヌクレオチド、核酸又はペプチド核酸； 及び
以下から選択される保護基：
２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジアルキル（Ｃ１〜Ｃ４）ホスホロアミダイト基、メチルホスホンアミダイト基、エチルホスホンアミダイト基、オキサザホスホリジン基、チオホスファイト基、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｏ）ＯＨのＤＢＵ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＴＥＡ塩、−ＰＨ（＝Ｓ）ＯＨのＤＢＵ塩；
からなる群から選択される基である。）
で表される化合物と脱水縮合させることによって、次の式Ｖ：
（Ｖ）
（ただし、式Ｖにおいて、
Ｒ１、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、上記式ＩＩＩにおいて記載した基であり、
ｎａは、上記式ＩＩＩにおいて記載した整数であり、
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立して、上記式ＩＶにおいて記載した基であり、
ｎｂ、ｎｃ及びｎｄは、それぞれ上記式ＩＶにおいて記載した整数である。）
で表される化合物を製造する方法。
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