JP6938376B2 - 多剤耐性菌に有効な新規アミノグリコシド抗生物質 - Google Patents
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Description
(1)一般式(I):
R1は水素原子、または水酸基を示し、
R2は水素原子、またはアミノ基を示し、
R3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R4は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
ここで、R1とR4は一緒になって二重結合を形成してもよく、
R5は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R6は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R7は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R8は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R9及びR10はそれぞれ独立に、水素原子、C1−6アルキル基、アミノ−C1−6アルキル基、グアニジノ−C1−6アルキル基、アミノ−C3−7シクロアルキル基、アミノ−C3−7シクロアルキル−C1−6アルキル基、アミジノ基、C1−6アルキル基で置換されていてもよいアゼチジノ基、グリシル基、サルコシル基、L―アラニル基、D−アラニル基、L−セリル基、D−セリル基、β―アラニル基、L−イソセリル基、またはD−イソセリル基を示し、および
R11は水素原子、水酸基、またはフッ素原子を示し、
ただし、
(i)R1、R4、R5 、R8、R11が水酸基、R2、R3、R6、R7、R9、R10が水素原子の場合(アプラマイシン)、
(ii)R5、R8、R11が水酸基、R1、R2、R3、R4、R6、R7、R9、R10が水素原子の場合(5,6-ジデオキシアプラマイシン)、
(iii)R1、R5、R8、R11が水酸基、R2、R3、R4、R6、R7、R9、R10が水素原子の場合(5-デオキシアプラマイシン)、
(iv)R1、R4、R5、R8が水酸基、R2、R3、R6、R7、R9、R10、R11が水素原子の場合(6”-デオキシアプラマイシン)、
(v)R1、R4、R5、R8、R11が水酸基、R2、R3、R6、R7が水素原子、R9及びR10のどちらか一方が水素原子、他方がエチル基または2−アミノエチル基の場合
を除く]
で表される化合物、またはそれらの薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
(2)一般式(I−1):
R1は水素原子、または水酸基を示し、
R2は水素原子、またはアミノ基を示し、
R3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R4は水素原子、ハロゲン原子、またはアミノ基を示し、
ここで、R1とR4は一緒になって二重結合を形成してもよく、
R5は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R6は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R7は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R8は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、および
R11は水素原子、水酸基、フッ素原子を示し、
ただし、
(i)R5、R8、R11が水酸基、R1、R2、R3、R4、R6、R7が水素原子の場合(5,6-ジデオキシアプラマイシン)、
(ii)R1、R5、R8、R11が水酸基、R2、R3、R4、R6、R7が水素原子の場合(5-デオキシアプラマイシン)、
(iii)R1、R4、R5、R8が水酸基、R2、R3、R6、R7、R11が水素原子の場合(6”-デオキシアプラマイシン)
を除く]
で表される、(1)に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
(3)一般式(I−2):
R1は水素原子、または水酸基を示し、
R2は水素原子、またはアミノ基を示し、
R3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R4は水素原子、ハロゲン原子、またはアミノ基を示し、
ここで、R1とR4は一緒になって二重結合を形成してもよく、
R7は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R8は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R9は水素原子、C1−6アルキル基、またはアミノ−C1−6アルキル基を示し、
R10はC1−6アルキル基、アミノ−C1−6アルキル基、グアニジノ−C1−6アルキル基、アミノ−C3−7シクロアルキル基、アミノ−C3−7シクロアルキル−C1−6アルキル基、アミジノ基、C1−6アルキル基で置換されていてもよいアゼチジノ基、グリシル基、サルコシル基、L―アラニル基、D−アラニル基、L−セリル基、D−セリル基、β―アラニル基、L−イソセリル基、またはD−イソセリル基を示し、および
R11は水素原子、または水酸基を示す]
で表される、(1)に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
(4)一般式(I−3):
R9は水素原子、C1−6アルキル基、またはアミノ−C1−6アルキル基を示し、
R10はメチル基、C3−6アルキル基、アミノ−C3−6アルキル基、グアニジノ−C1−6アルキル基、アミノ−C3−7シクロアルキル基、アミノ−C3−7シクロアルキル−C1−6アルキル基、アミジノ基、C1−6アルキル基で置換されていてもよいアゼチジノ基、グリシル基、サルコシル基、L―アラニル基、D−アラニル基、L−セリル基、D−セリル基、β―アラニル基、L−イソセリル基、またはD−イソセリル基を示す]
で表される、(1)に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
(5)一般式(I−4):
R1は水素原子、または水酸基を示し、
R2は水素原子、またはアミノ基を示し、
R3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R4は水素原子、ハロゲン原子、またはアミノ基を示し、および
ここで、R1とR4は一緒になって二重結合を形成してもよく、
ただし、
(i)R1、R2、R3、R4が水素原子の場合(5,6-ジデオキシアプラマイシン)、
(ii)R1が水酸基、R2、R3、R4が水素原子の場合(5-デオキシアプラマイシン)
を除く]
で表される、(1)に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
(6)一般式(I−5):
R5は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R6は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R7は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R8は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、および
R11は水素原子、水酸基、フッ素原子を示し、
ただし、
(i)R5 、R8、R11が水酸基、R6、R7が水素原子の場合(アプラマイシン)、
(ii)R5、R8が水酸基、R6、R7、R11が水素原子の場合(6”-デオキシアプラマイシン)
を除く]
で表される、(1)に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
(7)4”−N−メチルアプラマイシン、
4”−N−(3−アミノプロピル)アプラマイシン、
4”−N−((1−アミノシクロペンチル)メチル)アプラマイシン、
4”−N−(1,3−ジアミノプロパン−2−イル)アプラマイシン、
4”−N,N−ビス(2−アミノエチル)アプラマイシン、
4”−N−(シス−1,4−4−アミノシクロヘキシル)アプラマイシン、
4”−N−(トランス−1,4−4−アミノシクロヘキシル)アプラマイシン、
4”−N−(アゼチジン−3−イル)アプラマイシン、
4”−N−(1−メチルアゼチジン−3−イル)アプラマイシン、
4”−デアミノ−4”−グアニジノアプラマイシン、
4”−N−グアニジノエチルアプラマイシン、
5−エピアプラマイシン、
5−デオキシ−5−エピ−5−フルオロアプラマイシン、
6−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
5,6−ジデオキシ−5−フルオロアプラマイシン、
5−アミノ−5−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
5−アミノ−5−デオキシアプラマイシン、
6−アミノ−5,6−ジデオキシ−5,6−ジエピ−5−フルオロアプラマイシン、
5−アミノ−5,6−ジデオキシアプラマイシン、
2”−アミノ−2”−デオキシ−2”,3”−ジエピアプラマイシン、
3”−アミノ−3”−デオキシアプラマイシン、
3”−エピアプラマイシン、
2”,3”−ジエピアプラマイシン、
6”−デオキシ−6”−フルオロアプラマイシン、
3”,6”−ジデオキシアプラマイシン、
5,6”−ジデオキシアプラマイシン、
5,3”−ジデオキシアプラマイシン、
3”−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
5,3”−ジデオキシ−5−エピ−5−フルオロアプラマイシン、
6,3”−ジデオキシ−5−エピアプラマイシン、
5,6,3”−トリデオキシアプラマイシン、
5−アミノ−5,3”−ジデオキシ−5−エピアプラマイシン、
5,2”−ジデオキシ−5,3”−ジエピ−5−フルオロアプラマイシン、
5,3”−ジエピアプラマイシン、
6,6”−ジデオキシ−5−エピアプラマイシン、
5−エノ−5,6,6”−トリデオキシアプラマイシン、
5,6,6”−トリデオキシアプラマイシン、
5−デオキシ−4”−N−メチルアプラマイシン、
4”−N−(2−アミノエチル)−5−デオキシアプラマイシン、
4”−N−(3−アミノプロピル)−5−デオキシアプラマイシン、
5−デオキシ−4”−N−(1,3−ジアミノプロパン−2−イル)アプラマイシン、
4”−デアミノ−5−デオキシ−4”−グアニジノアプラマイシン、
5−エピ−4”−N−メチルアプラマイシン、
4”−N−(2−アミノエチル)−5−エピアプラマイシン、
4”−N−(3−アミノプロピル)−5−エピアプラマイシン、
4”−N−(1,3−ジアミノプロパン−2−イル)−5−エピアプラマイシン、
4”−デアミノ−5−エピ−4”−グアニジノアプラマイシン、
4”−デアミノ−5−デオキシ−5−エピ−5−フルオロ−4”−グアニジノアプラマイシン、
5,6−ジデオキシ−4”−N−メチルアプラマイシン、
4”−N−(2−アミノエチル)−5,6−ジデオキシアプラマイシン、
4”−N−(3−アミノプロピル)−5,6−ジデオキシアプラマイシン、
4”−N−(1,3−ジアミノプロパン−2−イル)−5,6−ジデオキシアプラマイシン、
4”−デアミノ−5,6−ジデオキシ−4”−グアニジノアプラマイシン、
6−デオキシ−5−エピ−4”−N−メチルアプラマイシン、
4”−N−(2−アミノエチル)−6−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
4”−N−(3−アミノプロピル)−6−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
4”−デアミノ−6−デオキシ−5−エピ−4”−グアニジノアプラマイシン、
4”−N−(1,3−ジアミノプロパン−2−イル)−5,6”−ジデオキシアプラマイシン、
4”−デアミノ−5,6”−ジデオキシ−4”−グアニジノアプラマイシン、
4”−デアミノ−5,3”−ジデオキシ−4”−グアニジノアプラマイシン、
4”−N−グリシルアプラマイシン、
4”−N−サルコシルアプラマイシン、
4”−N−(L−アラニル)アプラマイシン、
4”−N−(D−アラニル)アプラマイシン、
4”−N−(L−セリル)アプラマイシン、
4”−N−(D−セリル)アプラマイシン、
4”−N−(β−アラニル)アプラマイシン、
4”−N−(L−イソセリル)アプラマイシン、
5−エピ−4”−N−グリシルアプラマイシン、
5−エピ−4”−N−サルコシルアプラマイシン、
4”−N−(L−アラニル)−5−エピアプラマイシン、
5−エピ−4”−N−(L−セリル)アプラマイシン、
4”−N−(β−アラニル)−5−エピアプラマイシン、
5−エピ−4”−N−(L−イソセリル)アプラマイシン、
5−エピ−4”−N−(D−イソセリル)アプラマイシン、
6−デオキシ−5−エピ−4”−N−グリシルアプラマイシン、
6−デオキシ−5−エピ−4”−N−サルコシルアプラマイシン、
4”−N−(β−アラニル)−6−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
6−デオキシ−5−エピ−4”−N−(L−イソセリル)アプラマイシン、
5−アミノ−4”−デアミノ−5−デオキシ−5−エピ−4”−グアニジノアプラマイシン、
5−アミノ−5−デオキシ−5−エピ−4”−N−グリシルアプラマイシン、
5−アミノ−5−デオキシ−5−エピ−4”−N−(L−イソセリル)アプラマイシン、
4”−デアミノ−3”−デオキシ−5−エピ−4”−グアニジノアプラマイシン、
4”−デアミノ−5,3”−ジデオキシ−5−エピー5−フルオロ−4”−グアニジノアプラマイシン、または
2”−デオキシ−5,3”−ジエピアプラマイシン
である、(1)に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはその溶媒和物。
(8)(1)〜(7)のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物を含んでなる、医薬組成物。
(9)感染症を予防または治療するための、(8)に記載の医薬組成物。
(10)前記感染症が、敗血症、感染性心内膜炎、皮膚科領域感染症、外科感染症、整形外科領域感染症、呼吸器感染症、尿路感染症、腸管感染症、腹膜炎、髄膜炎、眼科領域感染症、または耳鼻科領域感染症である、(8)または(9)に記載の医薬組成物。
(11)前記感染症が、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌(MRSA)、黄色ブドウ球菌、大腸菌、肺炎桿菌、または緑膿菌によって引き起こされるものである、(8)〜(10)のいずれかに記載の医薬組成物。
(12)療法に使用するための、(1)〜(7)のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
(13)感染症の予防または治療において使用するための、(1)〜(7)のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
(14)感染症の予防または治療を目的とする薬剤の製造のための、(1)〜(7)のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物の使用。
(15)感染症の予防または治療における、(1)〜(7)に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物の使用。
(16)他の薬剤(例えば抗菌剤)と組合せて使用される、(15)に記載の使用。
(17)感染症を予防または治療する方法であって、治療上有効量の、(1)〜(7)のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物を、ヒトを含む動物に投与することを含んでなる方法。
(18)(1)〜(7)のいずれかに記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物を含んでなる、抗菌剤。
本発明の化合物において、ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を意味する。
本発明の化合物は、上述の一般式(I)、(I−1)、(I−2)、(I−3)、(I−4)または(I−5)で表される化合物、またはそれらの薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物である。
本発明の化合物は、以下のA〜Uの方法に従って製造することができるが、本発明の化合物の製造方法はこれらに限定されるものではない。
A法は、アプラマイシンの4”位に置換基を導入し、次いで脱保護することにより、一般式(A4)で表される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。なおA1〜A3工程はUS2013/0165395 A1に記載された方法に従った。
第A4工程は、式(A3)で表される化合物の4”位のアミノ基をアルキル化又はアミジノ化後、脱保護し、一般式(A4)で表される化合物を製造する工程である。この工程はモノアルキル化には種々のケトンを酸存在下に式(A3)と還元試薬との反応、ジアルキル化には種々のアルデヒドを酸存在下に式(A3)と還元試薬との反応、またアミジノ化には塩基存在下アミジノ化試薬を反応させることにより達成される。
第A5工程は、式(A3)で表される化合物の4”位のアミノ基のモノアルキル化の為に、ベンジル基を導入し、式(A5)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、式(A3)の化合物とベンズアルデヒド及び水素化ホウ素ナトリウムを反応させることにより達成される。工程A5で使用される溶媒としてはメタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサンおよびこれらの混合溶剤が挙げられ、好ましくはメタノールである。反応温度は10℃〜20℃で行われる。反応時間は1〜2時間である。
第A6工程は、式(A5)で表される化合物の4”位のベンジル化されたアミノ基をアルキル化後、脱保護し、一般式(A4)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、種々のアルデヒドを酸存在下、式(A5)の化合物と還元試薬との反応により達成される。
B法は、アプラマイシンの5位の水酸基のみ遊離した化合物の5位を化学修飾し、次いで脱保護することにより、式(B5)及び式(B7)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第B1工程は、式(A3)で表される化合物の4”位のアミノ基にt−ブトキシカルボニル基を導入し、式(B1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、式(A3)の化合物と二炭酸ジ−t−ブチルを反応させることにより達成される。
第B2工程は、式(B1)で表される化合物の6位、2”位、3”位及び6”位水酸基にベンゾイル保護基を選択的に導入し、式(B2)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、式(B1)の化合物とベンゾイルクロライドとを反応させることにより達成される。
第B3工程は、式(B2)で表される化合物の5位の水酸基をエピ化またはエピフルオロ化して式(B3)及び式(B3’)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式(B2)で表される化合物と三フッ化ジエチルアミノ硫黄(DAST)と反応させることにより達成される。
第B4工程は、式(B3)で表される化合物のベンゾイル基及びt−ブトキシカルボニル基を除去し、式(B4)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式(B3)で表される化合物と塩基とを反応させて水酸基の保護基を除去し、次いで得られた化合物を酸と反応させて4”位アミノ基の保護基を除去することにより達成される。
第B5工程は式(B4)で表される化合物のベンジルオキシカルボニル基及びサイクリックカルバメートを除去し、式(B5)で表される化合物を製造する工程である。ベンジルオキシカルボニル基は水素および接触水素還元触媒と反応させることによって除去することができる。使用される接触水素還元触媒としては、パラジウム−炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などを挙げることができ、好ましくは、パラジウム−炭素である。使用される溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好ましくはメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、またはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤である。反応温度は10℃〜30℃であり、反応時間は通常1〜24時間である。サイクリックカルバメートは塩基による加水分解で除去することが出来る。塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが挙げられる。反応は90℃〜110℃の温度で、反応時間は通常0.5〜1時間である。
第B6工程は、式(B3’)で表される化合物のベンゾイル基及びt−ブトキシカルボニル基を除去し、式(B6)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第B4工程と同様の条件で行うことができる。
第B7工程は式(B6)で表される化合物のベンジルオキシカルボニル基及びサイクリックカルバメートを除去し、式(B7)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第B5工程と同様の条件で行うことができる。
C法は、アプラマイシンの5位に脱離基を導入後、5,6−アンヒドロ中間体を経由し6−デオキシ−5−エピ体さらに6−デオキシ−5−フルオロ体及び5−アジド−6−デオキシ体を得、次いで脱保護することにより、式(C6)、(C8)及び(C11)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第C1工程は、式(B2)で表される化合物の5位水酸基にメタンスルホニル基を導入し、式(C1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、式(B2)の化合物とメタンスルホニルクロライドとを反応させることにより達成される。
第C2工程は、式(C1)で表される化合物のベンゾイル基を除去と同時に5位及び6位をアンヒドロ化(エポキシ化)後、2”位、3”位及び6”位水酸基にベンゾイル保護基を導入し、式(C2)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式(C1)で表される化合物と塩基を反応させた後、塩基存在下、ベンゾイルクロライドと反応させることにより達成される。
第C3工程は、式(C2)で表される化合物のエポキシドを開裂させ、式(C3)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式(C2)で表される化合物を酸性バッファー存在下、ヨウ化ナトリウムと反応させることにより達成される。
本工程で使用される溶媒としてはアセトン、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられ、好ましくはアセトンである。使用される酸性バッファーとしては、5%酢酸ナトリウム酢酸溶液などが挙げられる。反応温度は60℃〜100℃で行われる。反応時間は1〜6時間である。
第C4工程は、式(C3)で表される化合物のヨードを還元して式(C4)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式(C3)で表される化合物と2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)存在下、水素化トリブチルスズと反応させることにより達成される。
第C5工程は、式(C4)で表される化合物のベンゾイル基及びt−ブトキシカルボニル基を除去し、式(C5)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第B4工程と同様の条件で行うことができる。
第C6工程は式(C5)で表される化合物のベンジルオキシカルボニル基及びサイクリックカルバメートを除去し、式(C6)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第B5工程と同様の条件で行うことができる。
第C7工程は式(C4)で表される化合物の5位をエピフルオロ化し、式(C7)で表される化合物を製造する工程である。エピフルオロ化は前述の第B3工程と同様の条件で行うことができる。
第C8工程は式(C7)で表される化合物の保護基を除去し、式(C8)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第B4及び第B5工程と同様の条件で行うことができる。
第C9工程は式(C4)で表される化合物の5位水酸基をメタンスルホニル化し、式(C9)で表される化合物を製造する工程である。メタンスルホニル化は前述の第C1工程と同様の条件で行うことができる。
第C10工程は、式(C9)で表される化合物の5位をアジド化して式(C10)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式(C9)で表される化合物とアジ化ナトリウムとを反応させることにより達成される。本工程で使用される溶媒としてはアセトン、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられ、好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドである。反応温度は60℃〜100℃で行われ、反応時間は1〜6時間である。
第C11工程は式(C10)で表される化合物の保護基を除去し、式(C11)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第B4及びB5工程と同様の条件で行うことができる。
第D1工程は、式(C1)で表される化合物の5位をアジド化して式(D1)で表される化合物を製造する工程である。アジド化は前述の第C10工程と同様の条件で行うことができる。
第D2工程は式(D1)で表される化合物の保護基を除去し、式(D2)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第B4及びB5工程と同様の条件で行うことができる。
第E1工程は、式(B2)で表される化合物の5位をクロロ化して式(E1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、式(B2)の化合物と塩化スルフリルとを反応させることにより達成される。
第E2工程は、式(E1)で表される化合物の5位をアジド化して式(E2)で表される化合物を製造する工程である。アジド化は前述の第C10工程と同様の条件で行うことができる。
第E3工程は式(E2)で表される化合物の保護基を除去し、式(E3)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第B4及びB5工程と同様の条件で行うことができる。
F法は、C法の共通中間体である式(C2)で示される化合物の6位をアジド化後、5位をフルオロ化し脱保護することにより、式(F3)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第F1工程は、式(C2)で表される化合物のエポキシドを開裂させアジドと水酸基に変換し式(F1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式(C2)で表される化合物を塩化アンモニウム存在下にアジ化ナトリウムと反応させることにより達成される。
第F2工程は式(F1)で表される化合物の5位をフルオロ化し、式(F2)で表される化合物を製造する工程である。フルオロ化は前述の第B3工程と同様の条件で行うことができる。
第F3工程は式(F2)で表される化合物の保護基を除去し、式(F3)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第B4及びB5工程と同様の条件で行うことができる。
G法は、アプラマイシンより4工程で得られた3”位の水酸基のみ遊離した式(G3)の化合物の3”位に脱離基を導入後、2”,3”−アンヒドロ中間体を経由して、3”−アジド−3”−デオキシ体及び2”−アジド−2”,3”−ジエピ−2”−デオキシ体を得、次いで脱保護することにより、式(G7)及び式(G8)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第G1工程は、式(A1)で表される化合物の5位、6位水酸基に保護基を導入し、式(G1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、酸存在下、式(A1)で表される化合物と1,1−ジメトキシシクロヘキサンを反応させることにより達成される。
本工程で使用される溶媒としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロルエタン、酢酸エチルなどが挙げられ、好ましくは、N,N−ジメチルホルムアミドである。使用される酸としてはp−トルエンスルホン酸、ピリジニウム p−トルエンスルホネート、カンファースルホン酸、塩酸などが挙げられ、好ましくは、p−トルエンスルホン酸である。反応温度は20℃〜60℃で行われる。反応時間は1〜8時間である。
第G2工程は、式(G1)で表される化合物の6’位と7’位及び4”位と6”位をサイクリックカルバメート化し、式(G2)で表される化合物を製造する工程である。サイクリックカルバメート化は前述の第A2工程と同様の条件で行うことができる。
第G3工程は、式(G2)で表される化合物の2”位水酸基にベンゾイル保護基を選択的に導入し、式(G3)で表される化合物を製造する工程である。ベンゾイル保護基の導入は前述の第B2工程と同様の条件で行うことができる。
第G4工程は、式(G3)で表される化合物の3”位水酸基にベンジルスルホニル基を導入し、式(G4)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、式(G3)の化合物とベンジルスルホニルクロリドとを反応させることにより達成される。
本工程で使用される溶媒としてはピリジン、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロルエタンなどが挙げられ、好ましくはピリジンである。使用される塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくはピリジンである。反応温度は−20℃〜室温で行われる。反応時間は0.5〜1時間である。
第G5工程は、式(G4)で表される化合物のベンゾイル基を除去と同時に2”位及び3”位をアンヒドロ化(エポキシ化)し、式(G5)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式(G4)で表される化合物と塩基を反応させることにより達成される。
第G6工程は、式(G5)で表される化合物のエポキシドを開裂させアジドと水酸基に変換し、式(G6)及び式(G6’)で表される化合物を製造する工程である。アジド化は前述の第F1工程と同様の条件で行うことができる。
第G7工程は式(G6)で表される化合物の保護基を除去し、式(G7)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式(G6)で表される化合物の酸加水分解により水酸基の保護基を除去し、次いで得られた化合物を接触還元とアルカリ加水分解によりアミノ基の保護基を除去することにより達成される。酸加水分解に使用される酸としては、1N塩酸、1N硫酸、80%酢酸水溶液、80%ギ酸水溶液などが挙げられ、好ましくは80%酢酸水溶液である。反応温度は30℃〜80℃で行われる。反応時間は1〜3時間で行われる。アミノ基の保護基の除去は前述の第B5工程と同様の条件で行うことができる。
第G8工程は式(G6’)で表される化合物の保護基を除去し、式(G8)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第G7工程と同様の条件で行うことができる。
H法は、アプラマイシンより4工程で得られた、3”位の水酸基のみ遊離した式(G3)で示される化合物の3”位に脱離基を導入後、3”位の水酸基を反転、次いで脱保護することにより、式(H3)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第H1工程は、式(G3)で表される化合物の3”位水酸基にトリフルオロメタンスルホニル基を導入し、式(H1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基存在下、式(G3)の化合物と無水トリフルオロメタンスルホン酸とを反応させることにより達成される。
本工程で使用される溶媒としてはピリジン、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロルエタンなどが挙げられ、好ましくは塩化メチレンである。使用される塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ、好ましくはピリジンである。反応温度は−10℃〜5℃で行われる。反応時間は0.5〜1時間である。
第H2工程は、式(H1)で表される化合物の3”位水酸基をエピ化させ、4”位とサイクリックカルバメート化して式(H2)で表される化合物を製造する工程である。この工程のエピ化は式(H1)で表される化合物と酢酸セシウムを反応後、塩基処理により達成される。本工程で使用される溶媒としてはジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、1,2−ジメトキシエタンなどが挙げられ好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドである。反応温度は50℃〜80℃で行われる。反応時間は1〜3時間で行われる。
サイクリックカルバメート化に使用される塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム tert-ブトキシドなどが挙げられ、好ましくは、ナトリウムメトキシドである。反応温度は0℃〜30℃で行われる。反応時間は1〜3時間で行われる。
第H3工程は式(H2)で表される化合物の保護基を除去し、式(H3)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第G7工程と同様の条件で行うことができる。
I法は、アプラマイシンより6工程で得られた式(G5)で示される化合物のエポキシドをジアキシアル開裂させて、2”,3”−ジエピ体を得、次いで脱保護することにより、式(I3)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第I1工程は、式(G5)で表される化合物の4”位と6”位をサイクリックカルバメート化し、式(I1)で表される化合物を製造する工程である。サイクリックカルバメート化は前述の第A2工程と同様の条件で行うことができる。
第I2工程は式(I1)で表される化合物を酸加水分解により2”,3”−ジエピ化し、式(I2)で表される化合物を製造する工程である。酸加水分解に使用される酸としては、1N塩酸、1N硫酸、80%酢酸水溶液、80%ギ酸水溶液などが挙げられ、好ましくは80%酢酸水溶液である。反応温度は30℃〜80℃で行われる。反応時間は1〜3時間で行われる。
第I3工程は式(I2)で表される化合物のベンジルオキシカルボニル基及びサイクリックカルバメートを除去し、式(I3)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第B5工程と同様の条件で行うことができる。
J法は、アプラマイシンより3工程で得られた式(A1)で示される化合物の6”位をフルオロ化、次いで脱保護することにより、式(J4)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第J1工程は、式(A1)で表される化合物の5位、6位及び2”位、3”位水酸基に保護基を導入し、式(J1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、酸存在下、式(A1)で表される化合物と1,1−ジメトキシシクロヘキサンを反応させることにより達成される。
第J2工程は、式(J1)で表される化合物の6’位と7’位をサイクリックカルバメート化し、式(J2)で表される化合物を製造する工程である。サイクリックカルバメート化は前述の第A2工程と同様の条件で行うことができる。
第J3工程は式(J2)で表される化合物の6”位をフルオロ化し、式(J3)で表される化合物を製造する工程である。フルオロ化は前述の第B3工程と同様の条件で行うことができる。
第J4工程は式(J3)で表される化合物の保護基を除去し、式(J4)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第G7工程と同様の条件で行うことができる。
K法は、アプラマイシンより6工程で得られた式(G5)で示される化合物の6”位水酸基にベンジルスルホニル基を導入後、3”位及び6”位をヨード化、還元次いで脱保護することにより、式(K4)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第K1工程は、式(G5)で表される化合物の6”位水酸基にベンジルスルホニル基を導入し、式(K1)で表される化合物を製造する工程である。ベンジルスルホニル化は前述の第G4工程と同様の条件で行うことができる。
第K2工程は、式(K1)で表される化合物のエポキシドを開裂させヨードと水酸基に変換し、更に6”位のベンジルスルホニルオキシ基をヨードに変換し、式(K2)で表される化合物を製造する工程である。ヨード化は前述の第C3工程と同様の条件で行うことができる。
第K3工程は、式(K2)で表される化合物のヨードを還元して式(K3)で表される化合物を製造する工程である。還元は前述の第C4工程と同様の条件で行うことができる。
第K4工程は式(K3)で表される化合物の保護基を除去し、式(K4)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第G7工程と同様の条件で行うことができる。
L法は、アプラマイシンより6工程で得られた式(E1)で示される化合物の6”位水酸基を選択的にクロロ基に置換し、還元後に脱保護することにより、式(L5)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第L1工程は、式(E1)で表される化合物のベンゾイル基を除去し式(L1)で表される化合物を製造する工程である。脱ベンゾイル化は前述の第G5工程と同様の条件で行うことができる。
第L2工程は、式(L1)で表される化合物の6”位水酸基を選択的にクロロ基に置換して、式(L2)で表される化合物を製造する工程である。この工程は式(L1)で表される化合物をトリフェニルホスフィン及び四塩化炭素との反応により達成される。本工程で使用される溶媒としてはジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、ピリジン、テトラヒドロフランなどが挙げられ好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドである。反応温度は40℃〜90℃で行われる。反応時間は1〜6時間で行われる。
第L3工程は、式(L2)で表される化合物の5位及び6”位のクロル基を還元して式(L3)で表される化合物を製造する工程である。還元は前述の第C4工程と同様の条件で行うことができる。
第L4工程は式(L3)で表される化合物の4”位のt−ブトキシカルボニル基を除去し、式(L4)で表される化合物を製造する工程である。この工程で使用される溶媒としては、酢酸エチル、塩化メチレン、アセトニトリル、アセトン、メタノールなどが挙げられ、好ましくは、メタノールである。使用される酸としてはp−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などが挙げられ、好ましくは、トリフルオロ酢酸である。反応温度は通常0℃〜50℃で行われる。反応時間は1〜2時間である。
第L5工程は式(L4)で表される化合物の保護基を除去し、式(L5)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第G7工程と同様の条件で行うことができる。
M法は、アプラマイシンより6工程で得られた式(G5)で示される化合物を経由し3”−デオキシ体を得、これを5−OH体に誘導した後に、これを5−デオキシ体、5−エピ体及び5−エピフルオロ体にそれぞれ変換し、次いで脱保護することにより、式(M7)、式(M9)及び式(M10)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第M1工程は、式(G5)で表される化合物のエポキシドを開裂させヨードと水酸基に変換し、式(M1)で表される化合物を製造する工程である。ヨード化は前述の第C3工程と同様の条件で行うことができる。
第M2工程は、式(M1)で表される化合物のヨードを還元して、式(M2)で表される化合物を製造する工程である。還元は前述の第C4工程と同様の条件で行うことができる。
第M3工程は、式(M2)で表される化合物の2”位及び6”位の水酸基をベンゾイル化し、式(M3)で表される化合物を製造する工程である。ベンゾイル化は前述の第B2工程と同様の条件で行うことができる。
第M4工程は、式(M3)で表される化合物の5,6位を脱シクロヘキシリデン化後、6位を選択的にベンゾイル化し、式(M4)で表される化合物を製造する工程である。脱シクロヘキシリデンに用いられる酸としては、1N塩酸、1N硫酸、80%酢酸水溶液、80%ギ酸水溶液などが挙げられ、好ましくは80%酢酸水溶液である。反応温度は30℃〜80℃で行われる。反応時間は1〜3時間で行われる。ベンゾイル化は前述の第B2工程と同様の条件で行うことができる。
第M5工程は、式(M4)で表される化合物の5位をクロロ化して、式(M5)で表される化合物を製造する工程である。クロロ化は前述の第E1工程と同様の条件で行うことができる。
第M6工程は、式(M5)で表される化合物の5位のクロロ基を還元して、式(M6)で表される化合物を製造する工程である。還元は前述の第C4工程と同様の条件で行うことができる。
第M7工程は式(M6)で表される化合物の保護基を除去し、式(M7)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、塩基処理により式(M6)で表される化合物の水酸基の保護基を除去し、次いで得られた化合物を接触還元とアルカリ加水分解処理を行ってアミノ基の保護基を除去することにより達成される。水酸基の保護基の除去は前述の第B4工程、アミノ基の保護基を除去は第B5工程と同様の条件で行うことができる。
第M8工程は、式(M4)で表される化合物の5位の水酸基をエピ化またはエピフルオロ化して、式(M8)及び式(M8’)で表される化合物を製造する工程である。この工程は前述の第B3工程と同様の条件で行うことができる。
第M9工程は式(M8)で表される化合物の保護基を除去し、式(M9)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第M7工程と同様の条件で行うことができる。
第M10工程は式(M8’)で表される化合物の保護基を除去し、式(M10)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第M7工程と同様の条件で行うことができる。
N法は、アプラマイシンより10工程で得られた式(M4)で示される化合物を経由し、5−エピ−6−デオキシ体、5,6−ジデオキシ体及び5−エピアミノ体へとそれぞれ誘導し、次いでこれらを脱保護することにより、式(N5)、式(N7)及び式(N9)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第N1工程は、式(M4)で表される化合物の5位水酸基にメタンスルホニル基を導入し、式(N1)で表される化合物を製造する工程である。メタンスルホニル化は前述の第C1工程と同様の条件で行うことができる。
第N2工程は、式(N1)で表される化合物のベンゾイル基を除去と同時に5位及び6位をアンヒドロ化(エポキシ化)後、2”位及び6”位水酸基にベンゾイル保護基を導入し、式(N2)で表される化合物を製造する工程である。エポキシ化及びベンゾイル化は前述の第C2工程と同様の条件で行うことができる。
第N3工程は、式(N2)で表される化合物のエポキシドを開裂させヨードと水酸基に変換し、式(N3)で表される化合物を製造する工程である。この工程は前述の第C3工程と同様の条件で行うことができる。
第N4工程は、式(N3)で表される化合物の6位のヨードを還元して、式(N4)で表される化合物を製造する工程である。還元は前述の第C4工程と同様の条件で行うことができる。
第N5工程は式(N4)で表される化合物の保護基を除去し、式(N5)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第M7工程と同様の条件で行うことができる。
第N6工程は、式(N3)で表される化合物の5位水酸基をベンジルスルホニル化した後、水を添加し脱離反応により式(N6)で表される化合物を製造する工程である。ベンジルスルホニル化は前述の第G4工程と同様の条件で行うことができる。水を添加後の反応温度は40℃〜90℃で行われる。反応時間は1〜5時間で行われる。
第N7工程は式(N6)で表される化合物の保護基を除去し、2重結合の還元を行って、式(N7)で表される化合物を製造する工程である。本工程は前述の第M7工程と同様の条件で行うことができる。
第N8工程は、式(N1)で表される化合物の5位をアジド化して、式(N8)で表される化合物を製造する工程である。アジド化は前述の第C10工程と同様の条件で行うことができる。
第N9工程は式(N8)で表される化合物の保護基を除去し、式(N9)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去とアジド基のアミノ基への変換は前述の第M7工程と同様の条件で行うことができる。
第O1工程は、式(I1)で表される化合物のエポキシドを開裂させヨードと水酸基に変換し、式(O1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は前述の第C3工程と同様の条件で行うことができる。
第O2工程は、式(O1)で表される化合物の2”位のヨードを還元して、式(O2)で表される化合物を製造する工程である。還元は前述の第C4工程と同様の条件で行うことができる。
第O3工程は、式(O2)で表される化合物の5,6位を脱シクロヘキシリデン化後、6位及び3”位を選択的にO−ベンゾイル化し、式(O3)で表される化合物を製造する工程である。脱シクロヘキシリデン及びベンゾイル化は前述の第M4工程と同様の条件で行うことができる。
第O4工程は、式(O3)で表される化合物の5位の水酸基をエピフルオロ化により置換して、式(O4)で表される化合物を製造する工程である。この工程は前述の第B3工程と同様の条件で行うことができる。
第O5工程は式(O4)で表される化合物の保護基を除去し、式(O5)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第M7工程と同様の条件で行うことができる。
第P1工程は、式(H2)で表される化合物の5,6位を脱シクロヘキシリデン化後、6位、2”位及び6”位の水酸基を選択的にベンゾイル化し、式(P1)で表される化合物を製造する工程である。脱シクロヘキシリデン化及びベンゾイル化は前述の第M4工程と同様の条件で行うことができる。
第P2工程は、式(P1)で表される化合物の遊離の5位水酸基にメタンスルホニル基を導入し、式(P2)で表される化合物を製造する工程である。メタンスルホニル化は前述の第C1工程と同様の条件で行うことができる。
第P3工程は、式(P2)で表される化合物の5位を反転させて、式(P3)で表される化合物を製造する工程である。反応は式(P2)で表される化合物と酢酸セシウムとの反応により達成される。本工程で使用される溶媒としてはジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド、1,2−ジメトキシエタンなどが挙げられ好ましくはN,N−ジメチルホルムアミドである。反応温度は80℃〜100℃で行われる。反応時間は3〜6時間で行われる。
第P4工程は式(P3)で表される化合物の保護基を除去し、式(P4)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第M7工程と同様の条件で行うことができる。
Q法は、アプラマイシンより9工程で得られた式(C4)で示される化合物の6”位水酸基を選択的にクロロ化、還元次いで脱保護することにより、式(Q4)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第Q1工程は、式(C4)で表される化合物のベンゾイル基を除去し、式(Q1)で表される化合物を製造する工程である。脱ベンゾイル化は前述の第L1工程と同様の条件で行うことができる。
第Q2工程は、式(Q1)で表される化合物の6”位水酸基を選択的にクロロ化し、式(Q2)で表される化合物を製造する工程である。クロロ化は前述の第L2工程と同様の条件で行うことができる。
第Q3工程は、式(Q2)で表される化合物の6”位のクロロ基を還元して式(Q3)で表される化合物を製造する工程である。還元は前述の第L3工程と同様の条件で行うことができる。
第Q4工程は式(Q3)で表される化合物の保護基を除去し、式(Q4)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第L4及びB5工程と同様の条件で行うことができる。
R法は、アプラマイシンより8工程で得られた式(C3)で示される化合物から5,6−ジデオキシ−5−エノ体を経由し6”位水酸基を選択的にクロロ化、還元次いで脱保護することにより、式(R5)で示される化合物を製造する方法と、この化合物の5,6位を水素添加することにより、式(R6)で示される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第R1工程は、式(C3)で表される化合物の5位水酸基をベンジルスルホニル化した後、水を添加し脱離反応により式(R1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は前述の第N6工程と同様の条件で行うことができる。
第R2工程は、式(R1)で表される化合物のベンゾイル基を除去し、式(R2)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、式(R1)で表される化合物と塩基を反応させることにより達成される。脱ベンゾイル化は前述の第G5工程と同様の条件で行うことができる。
第R3工程は、式(R2)で表される化合物の6”位水酸基を選択的にクロロ化し、式(R3)で表される化合物を製造する工程である。クロロ化は前述の第L2工程と同様の条件で行うことができる。
第R4工程は、式(R3)で表される化合物の6”位のクロロ基を還元して、式(R4)で表される化合物を製造する工程である。還元は前述の第L3工程と同様の条件で行うことができる。
第R5工程は式(R4)で表される化合物のt−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基及びサイクリックカルバメートを除去し、式(R5)で表される化合物を製造する工程である。t−ブトキシカルボニル基の除去は前述の第L4工程と同様の条件で行うことができる。ベンジルオキシカルボニル基の除去は液体アンモニア中、金属ナトリウムと反応させることにより達成される。反応温度は−70℃〜−30℃であり、反応時間は通常1〜2時間である。サイクリックカルバメートは塩基による加水分解で除去することが出来る。塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが挙げられる。反応は90℃〜110℃の温度で、通常は0.5〜1時間で完結する。
第R6工程は式(R5)で表される化合物の5,6位に水素添加し、式(R6)で表される化合物を製造する工程である。水素添加は水素および接触水素還元触媒と反応させることによって達成される。使用される接触水素還元触媒としては、パラジウム−炭素、パラジウムブラック、水酸化パラジウム、酸化白金などを挙げることができ、好ましくは酸化白金である。使用される溶媒は好ましくは水である。反応温度は10℃〜30℃であり、反応時間は通常1〜2時間である。
第S1工程は、一般式(S)で表される化合物の4”位のアミノ基をアルキル化又はアミジノ化後、脱保護し、一般式(S1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は前述の第A4工程と同様の条件で行うことができる。
第S2工程は、一般式(S)で表される化合物の4”位のアミノ基のモノアルキル化の為に、アミノ基にあらかじめベンジル基を導入し、一般式(S2)で表される化合物を製造する工程である。ベンジル化は前述の第A5工程と同様の条件で行うことができる。
第S3工程は、一般式(S2)で表される化合物の4”位のアミノ基をアルキル化後、脱保護し、一般式(S1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、前述の第A6工程と同様の条件で行うことができる。
T法は、アプラマイシンより9工程で得られた式(R1)で示される化合物を用い、この4”位のアミノ基に置換基を導入し、次いで脱保護することにより、一般式(T2)で表される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第T1工程は、式(R1)で表される化合物のベンゾイル基及びt−ブトキシカルボニル基を除去し、式(T1)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第B4工程と同様の条件で行うことができる。
第T2工程は、式(T1)で表される化合物の4”位の遊離のアミノ基をアルキル化又はアミジノ化後、脱保護し、一般式(T2)で表される化合物を製造する工程である。この工程は前述の第A4工程と同様の条件で行うことができる。
第T3工程は、式(T1)で表される化合物の4”位のアミノ基のモノアルキル化の為に、あらかじめベンジル基を導入して、式(T3)で表される化合物を製造する工程である。ベンジル化は前述の第A5工程と同様の条件で行うことができる。
第T4工程は、式(T3)で表される化合物の4”位のベンジル化されたアミノ基をアルキル化後、ベンジル基を脱保護し、一般式(T2)で表される化合物を製造する工程である。この工程は、前述の第A6工程と同様の条件で行うことができる。
U法は、アプラマイシンより12工程で得られた、式(M6)で示される化合物を用い3工程で4”位のアミノ基遊離体を得、このアミノ基に置換基を導入し、次いで脱保護することにより、一般式(U4)で表される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第U1工程は、式(M6)で表される化合物のベンゾイル基を除去し、式(U1)で表される化合物を製造する工程である。脱ベンゾイル化は前述の第L1工程と同様の条件で行うことができる。
第U2工程は、式(U1)で表される化合物の4”位と6”位をサイクリックカルバメート化し、式(U2)で表される化合物を製造する工程である。サイクリックカルバメート化は前述の第A2工程と同様の条件で行うことができる。
第U3工程は、式(U2)で表される化合物の4”位と6”位のサイクリックカルバメートを加水分解し、4”位のアミノ基及び6”位の水酸基を遊離させ、式(U3)で表される化合物を製造する工程である。脱カルバメート化は前述の第A3工程と同様の条件で行うことができる。
第U4工程は、式(U3)で表される化合物の4”位のアミノ基をアルキル化又はアミジノ化後、脱保護し、一般式(U4)で表される化合物を製造する工程である。この工程は前述の第A4工程と同様の条件で行うことができる。
第V1工程は、一般式(V)で表される化合物の4”位のアミノ基をアシル化後、脱保護し、一般式(V1)で表される化合物を製造する工程である。この工程は塩基存在下、一般式(V)の化合物と種々のアミノ酸保護体の活性エステルとを反応させたのち脱保護することにより達成される。
W法は、式(D1)で表される化合物のベンジルオキシカルボニル基以外の保護基を除去後、4”位のアミノ基に置換基を導入し、次いで脱保護することにより、一般式(W2)で表される化合物を製造する方法であり、その工程は以下に示される通りである。
第W1工程は式(D1)で表される化合物のベンゾイル基、t−ブトキシカルボニル基及びサイクリックカルバメートを除去し、式(W1)で表される化合物を製造する工程である。ベンゾイル基及びサイクリックカルバメートは塩基による加水分解で除去することが出来る。塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが挙げられる。反応は10℃〜100℃の温度で、通常は0.5〜16時間で完結する。t−ブトキシカルボニル基の除去は前述の第L4工程と同様の条件で行うことができる。
第W2工程は、一般式(W1)で表される化合物の4”位のアミノ基をアシル化又はアミジノ化後、脱保護し、一般式(W2)で表される化合物を製造する工程である。この工程のアミジノ化及び脱保護は前述の第A4工程、アシル化は前述の第V1工程、と同様の条件で行うことができる。
第X1工程は、一般式(X)で表される化合物のベンゾイル基を除去し、式(X1)で表される化合物を製造する工程である。脱ベンゾイル化は前述の第L1工程と同様の条件で行うことができる。
第X2工程は、式(X1)で表される化合物の4”位と6”位をサイクリックカルバメート化し、式(X2)で表される化合物を製造する工程である。サイクリックカルバメート化は前述の第A2工程と同様の条件で行うことができる。
第X3工程は、式(X2)で表される化合物の4”位と6”位のサイクリックカルバメートを加水分解し、4”位のアミノ基及び6”位の水酸基を遊離させ、式(X3)で表される化合物を製造する工程である。脱カルバメート化は前述の第A3工程と同様の条件で行うことができる。
第X4工程は、式(X3)で表される化合物の4”位のアミノ基をアルキル化又はアミジノ化後、脱保護し、一般式(X4)で表される化合物を製造する工程である。この工程は前述の第A4工程と同様の条件で行うことができる。
第Y1工程は、式(O3)で表される化合物の遊離の5位水酸基にメタンスルホニル基を導入し、式(Y1)で表される化合物を製造する工程である。メタンスルホニル化は前述の第C1工程と同様の条件で行うことができる。
第Y2工程は、式(Y1)で表される化合物の5位を反転させて、式(Y2)で表される化合物を製造する工程である。この反応は前述の第P3工程と同様の条件で行う事ができる。
第Y3工程は式(Y2)で表される化合物の保護基を除去し、式(Y3)で表される化合物を製造する工程である。保護基の除去は前述の第M7工程と同様の条件で行うことができる。
本発明の化合物、またはそれらの薬学的に許容可能な塩またはそれらの溶媒和物は、病原性細菌のうち、グラム陽性菌からグラム陰性菌に至るまでの幅広い抗菌スペクトラムを有する。また、本発明の化合物、またはそれらの薬学的に許容可能な塩またはそれらの溶媒和物は、感染症の起因菌(MRSA、黄色ブドウ球菌、大腸菌、肺炎桿菌および緑膿菌等)に対して優れた抗菌活性を有し、したがって、抗菌剤として用いることができる。
(1)療法に使用するための、本発明の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
(2)感染症の予防または治療において使用するための、本発明の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
(3)感染症の予防または治療を目的とする薬剤の製造のための、本発明の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物の使用。
(4)感染症の予防または治療における、本発明の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物の使用。
USパテントの2013/0165395A1に記載の式(A3)で表される化合物20.4 g (21 mmol)のメタノール 200 ml 溶液に、トリエチルアミン15 ml及びベンズアルデヒド6 mlを加え室温で 2 時間攪拌した後、NaBH4 1.6gを加え室温で 10 分間反応させた。反応液を減圧濃縮して水で洗浄した。乾燥後、イソプロピルエーテルで洗浄し白色固体として表題化合物(A5)の21.2 g (95%) を得た。
実施例1−(i) の化合物(A5)の550 mg (0.51 mmol) の10% 酢酸メタノール10 ml溶液に37%ホルマリン水溶液0.1 ml及びNaBH3CN 10 mgを加え室温で 13 時間反応させた。反応終了後、減圧濃縮して水で洗浄した。乾燥後、残渣を50% 1, 4-ジオキサン水溶液5.2 mlに溶解し、ここに酢酸0.5 ml及びパラジウムブラックを加え、水素雰囲気中で室温で接触還元を10 時間行った。反応終了後、NH4OH で中和し、ろ過後減圧濃縮した。乾燥後、残渣を水 2.5 mlに溶解し110 ℃に加熱し1N水酸化カリウム水溶液2.5 ml を加え、2 時間反応させた。反応終了後、氷冷下で 1N aq. HCl を加えて中和し、イオン交換クロマトグラフィー (CG50) により精製し、表題化合物(A4-a)の152 mg (54%) を得た。
式(A3)で表される化合物の260 mg (0.27 mmol) の10% 酢酸−メタノール溶液5 mlに4-(tert-butoxycarbonyl) aminocyclohexanone 85.2 mg及びNaBH3CN 10 mgを加え室温で 16 時間反応させた。反応液を減圧濃縮し飽和重曹水を加えて生じた沈殿をろ過した。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=10:1)で精製して表題化合物(A3-a) の122 mg (36%)及び(A3-b) の97.1 mg (31%)を得た。
実施例6−(i) の表題化合物(A3-a) の110 mg (0.095 mmol)を90% TFA−MeOH 溶液1 ml に溶解し、室温で 2 時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、50% 1, 4-ジオキサン−水1 mlに溶解し、ここに酢酸0.1 ml及びパラジウムブラックを加え、水素雰囲気中で室温で接触還元を10 時間行った。反応終了後、NH4OH で中和し、ろ過後減圧濃縮した。乾燥後、残渣を水 (1 ml) に溶解し110 ℃に加熱し1N水酸化カリウム水溶液 (0.5 ml) を加え、上述した温度と同じ温度で2 時間反応させた。反応終了後、氷冷下で 1N aq. HCl を加えて中和後、イオン交換クロマトグラフィー (CG50) により精製し、表題化合物(A4-f)の 34.5 mg (52%) を得た。
1H NMR (TFA salt, 500 MHz, D2O): δ 1.83(1H, q, J =12.5 Hz, H-2ax), 1.99 (1H, q, J= 12 Hz, H-3’ax), 2.46 (1H, dt, J =4, 4 and 12.5 Hz, H-2eq), 2.75 (3H, s, NCH3), 3.33 (1H, dd, J =3 and 8.5 Hz, H-7’), 3.38 (1H, t, J =10 Hz, H-4”), 4.52 (1H, slightly br t, J = 〜2.5 Hz, H-6’), 5.18 (1H, d, J =8.5 Hz, H-8’), 5.45 (1H, d, J =4 Hz, H-1”) and 5.69 (1H, d, J =3.8 Hz, H-1’).
式(A3)で表される化合物300 mg (0.29 mmol)の10% 酢酸メタノール溶液6 mlに1-Boc-3-azetidinone 74.5 mg及びNaBH3CN 10 mgを加え室温で 16 時間反応させた。反応終了後、減圧濃縮し残渣を90% TFA−MeOH溶液の5 ml に溶解し、室温で 2 時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣に飽和重曹水を加えて生じた沈殿をろ過後、減圧乾燥して白色固体として表題化合物(A3-c)の284 mg (90%) を得た。
実施例8−(i) の表題化合物(A3-c)の105 mg (0.1 mmol) を50% の1, 4-ジオキサン−水2 mlに溶解し、ここに酢酸0.2 ml及びパラジウムブラックを加え、水素雰囲気中で室温で接触還元を10 時間行った。反応終了後、NH4OH で中和し、ろ過後減圧濃縮した。残渣を水 (1 ml) に溶解し110 ℃に加熱し1N水酸化カリウム水溶液 (1 ml) を加え、その温度で2 時間反応させた。反応終了後、氷冷下で 1N aq. HCl を加えて中和後、イオン交換クロマトグラフィー (CG50) により精製し、表題化合物(A4-h)の36.2 mg (61%)を得た。
実施例1−(i) の表題化合物(A5)の684 mg (0.66 mmol) 及びN-Boc-2-aminoacetaldehyde 100 mgを用い、実施例8−(i)と同様の方法により処理して表題化合物(A5-a)の644 mg (89%) を得た。
実施例11−(i)の表題化合物(A5-a)の300 mg (0.27 mmol) 及びN, N’-di-Boc-N”-triflylguanidine (グッドマン試薬) 120 mgを用い、実施例10と同様の方法により処理して表題化合物(A4-k)の96.8 mg (55%) を得た。
式(A3)で表される化合物の29.0 g (30 mmol) の THF 200 ml溶液にトリエチルアミン 13 ml及びBoc2O 8.5 gを加え60℃で 5 時間反応させた。反応終了後、濃アンモニア水を加えて減圧濃縮し、残渣を水で洗浄した。乾燥後に淡褐色固体として表題化合物(B1)の 31.3 g (98% )を得た。
実施例12−(i) の表題化合物(B1)の41.9 g (39 mmol) の ピリジン220 ml溶液に、氷冷下に塩化ベンゾイル24.9 ml (5.5 eq.) を加え、氷冷下にて35 分間反応させた。反応終了後、水を加えて減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルで希釈した。有機層を 5% aq. KHSO4、5% aq. NaHCO3, brineで順次洗浄し、Na2SO4 で乾燥し減圧濃縮して淡黄色固体として表題化合物(B2)の55.4 g ( 96%) を得た。
実施例12−(ii) の表題化合物(B2)の16.5 g (11 mmol) の 塩化メチレン90 ml溶液に、氷冷下にDAST 2.4 mlを加え、室温で1時間反応させた。反応終了後に、飽和重曹水、水で順次洗浄し減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=25:1)で精製して表題化合物(B3) の9.59 g (58%) 及び(B3’) の5.29 g (31.9%)を得た。
実施例12−(iii) の表題化合物(B3)の2.47 g (1.7 mmol)のMeOH 24 ml溶液に5N NaOMe−メタノール溶液0.35 mlを加え室温で 2 時間反応させた。反応終了後、氷冷下に1N HCl を加えて中和し、減圧濃縮して水で洗浄した。得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄し、残渣を90% TFA−MeOH 溶液18 ml に溶解し、室温で2 時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣をイソプロピルエーテルで洗浄して、表題化合物(B4)の無色固体の1.72 g (TFA塩として 93%) を得た。
実施例12−(iv) の表題化合物(B4)の550 mg (TFA 塩として0.51 mmol) を実施例8−(ii)と同様の方法により処理して表題化合物(B5) の203 mg (74%) を得た。
実施例12−(iii) の表題化合物(B3’)の2.18 g (1.5 mmol) のメタノール12 ml溶液を、実施例12−(iv)と同様の方法により処理し表題化合物(B6)の1.49 g (TFA塩として 94%) を得た。
実施例13−(i) の表題化合物(B6)の766 mg (TFA 塩として0.71 mmol) を用い、実施例12−(v)と同様の方法で処理して、表題化合物(B7)の188 mg (49%) を得た。
実施例12−(ii) の表題化合物(B2)の4.16 g (2.8 mmol) の 塩化メチレン21 ml溶液に、氷冷下にて4-ジメチルアミノピリジン1.25 g及び塩化メシル0.33 mlを加え室温で2 時間反応させた。反応液を水、10%重硫酸カリウム水溶液、飽和重曹水及び水で順次洗浄後、減圧濃縮し淡黄色固体として表題化合物(C1)の4.31 g (98%) を得た。
実施例14−(i) の表題化合物(C1)の4.28 g (2.7 mmol) の メタノール20 ml溶液に、5N NaOMe−メタノール溶液 2.7 mlを加え室温で1 時間反応させた。反応終了後、反応液を氷冷下で 1N HCl を加えて中和後、減圧濃縮して残渣を水で洗浄した。さらにイソプロピルエーテルで洗浄した後、固体をピリジン20 mlに溶解し、氷冷下に塩化ベンゾイル1.58mlを加え、氷冷下で 35 分間反応させた。反応液に水を加え、減圧濃縮して得られた残渣を酢酸エチルで希釈した。有機層を水、10%重硫酸カリウム水溶液、飽和重曹水及び水で順次洗浄し、減圧濃縮して淡黄色固体として表題化合物(C2)の3.60 g (98%) を得た。
実施例14−(ii) の表題化合物(C2)の3.68 g (2.7 mmol) をアセトン14 mlに溶解し、ヨウ化ナトリウム1.2 g及び酢酸ナトリウム87 mgの酢酸1.7 ml溶液を加え、6時間加熱還流した。反応液を濃縮して得られた残渣に酢酸エチルを加え、有機層を水洗後に濃縮し、無色固体として表題化合物(C3)の3.70 g (92%) を得た。
実施例14−(iii) の表題化合物(C3)の3.50 g (2.4 mmol) をジオキサン15 mlに溶解し、ここにAIBN 64 mgおよびtributyltin hydride 1.5 mlを加えて、N2 雰囲気下でにて80 ℃で1.5 時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣をイソプロピルエーテルで洗浄後に減圧乾燥して無色固体として表題化合物(C4)の2.19 g (67%) を得た。
実施例14−(iv) の表題化合物(C4)の2.01 g (1.5 mmol) のMeOH 20 ml溶液に5N NaOMe−メタノール溶液0.3 mlを加え室温で2 時間反応させた。反応液に氷冷下で 1N HCl を加えて中和後、減圧濃縮して残渣を水で洗浄した。さらにイソプロピルエーテルで洗浄し、固体を90% TFA−MeOH溶液 10 ml に溶解し、室温で2時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣をイソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥して無色固体として表題化合物(C5)の1.43 g (TFA塩として 90%) を得た。
実施例14−(vi) の表題化合物(C5)の500 mg (TFA塩として0.47 mmol) を用い、実施例8−(ii) と同様の方法で処理して、表題化合物(C6)の115 mg (47%) を得た。
実施例14−(iv) の表題化合物(C4)の1.07 g (0.08 mmol) を用い、これを実施例12−(iii)、(iv) と同様の方法により処理して、表題化合物(C7)の995 mg (92%) を得た。
実施例15−(i) の表題化合物(C7)の844 mg(0.62 mmol) を メタノール8.4 mlに溶解し、5N NaOMe−メタノール溶液0.13 mlを加え室温で2 時間反応させた。反応終了後、反応液に氷冷下で1N HCl を加えて中和後、減圧濃縮して残渣を水洗した。さらにイソプロピルエーテルで洗浄し、残渣を90% TFA−MeOH 5 ml に溶解し、室温で2 時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣をイソプロピルエーテルで洗浄した後、これを50% ジオキサン−水10 mlに溶解し、酢酸0.5 ml及びパラジウムブラックを加え、水素雰囲気中で室温で接触還元を10 時間行った。反応後にNH4OH で中和し濾過した後、ろ液を濃縮した。次いで、残渣を水 (3 ml) に溶解し、110 ℃に加熱して1N水酸化カリウム水溶液 (2.5 ml) を加え、その温度で2 時間反応させた。反応終了後に反応液に氷冷下で1N aq. HCl を加えて中和後、イオン交換クロマトグラフィー (CG50) により精製し、表題化合物(C8)の244 mg (63%) を得た。
実施例14−(i) の表題化合物(C1)の330 mg (0.21 mmol) の DMF 4 ml溶液にNaN3 30.1 mgを加え 100 ℃で 6 時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣を水洗した後、これを展開系 (CHCl3:MeOH = 30:1) によるシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、淡黄色固体として表題化合物(D1)の264 mg (83%)を得た。
実施例16−(i) の表題化合物(D1)の260 mg (0.17 mmol) を用い、これを実施例15−(ii) と同様の方法で処理して表題化合物(D2)の47.6 mg (52%) を得た。
実施例12−(ii) の表題化合物(B2)の1.49 g (1.0 mmol) の塩化メチレン15 ml溶液にピリジン400 m1を加え、氷冷下に塩化スルフリル0.17 ml (2.1 eq.) を加えた。5 分後に室温に戻し 1.5 時間反応させた。反応液に氷冷下にMeOH を加えた後、減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルで希釈した。有機層を aq. Na2SO3、aq. NaCO3、brine で順次洗浄し、Na2SO4 で乾燥し減圧濃縮して、淡黄色固体の表題化合物(E1)の1.1 g (98%) を得た。
実施例17−(i) の表題化合物(E1)の330 mg (0.21 mmol) を用い、実施例16−(i) と同様に処理して表題化合物(E2)の264 mg ( 83%) を得た。
実施例17−(ii) の表題化合物(E2)の260 mg (0.17 mmol) を用い、実施例15−(ii) と同様の方法で処理して表題化合物(E3)の47.6 mg (52%) を得た。
実施例14−(ii) の表題化合物(C2)の980 mg (0.72 mmol) をDMF 4 mlに溶解し、ここにNH4Cl 43 mg及びNaN3 72 mgを加え100 ℃で2 時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣を水洗した。残渣を展開系 (CHCl3:MeOH = 30:1) によるシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、淡黄色固体として表題化合物(F1)の778 mg (77%) を得た。
実施例18−(i) の表題化合物(F1)の730 mg (0.52 mmol) を用い、実施例12−(iii)、(iv) と同様の方法によって処理して、表題化合物(F2)の442 mg (60%) を得た。
実施例18−(ii) の表題化合物(F2)の400 mg (0.28 mmol) を用い、実施例15−(ii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(F3)の96.5 mg (63%) を得た。
実施例14−(iv) の表題化合物(C4)の450 mg (0.33 mmol)を用い、実施例14−(i)と同様の方法によって処理して、表題化合物(C9)の403 mg (85%) を得た。
MS (ESI) m/z:1464 (M+Na) +.
実施例19−(i) の表題化合物(C9)の401 mg (0.28 mmol) を用い、実施例16−(i)と同様の方法によって処理して、表題化合物(C10)の342 mg (88%) を得た。
実施例19−(ii) の表題化合物(C10)の342 mg (0.25 mmol) を用い、実施例15−(ii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(C11)の54.2 mg (88%) を得た。
式(A1)で表される化合物20.0 g (16.5 mmol) のDMF 100 ml溶液に、p−トルエンスルホン酸・1水和物 1.0 g 及び1,1-ジメトキシシクロヘキサン20 mlを加え60 ℃で4 時間反応させた。反応液にトリエチルアミンを加え中和後、減圧濃縮して得られた残渣を酢酸エチルで希釈した。有機層を水洗し、濃縮し、残渣をジオキサン200 mlに溶解し、ここに20% 酢酸水100 mlを加えて室温で18 時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣をメタノールで結晶化して、 表題化合物(G1)の 17.7 g (83%) を得た。
実施例20−(i) の表題化合物(G1)の16.0 g (12.4 mmol) を用い、実施例1−(ii) と同様の方法によって処理して、無色固体の表題化合物(G2)の12.2 g (92%)を得た。
実施例20−(ii) の表題化合物(G2)の12.0 g (11.3 mmol) をピリジン60 mlに溶解し、ここに塩化ベンゾイル2 ml (1.5 eq.) を加えて、実施例の12−(ii) と同様の方法で処理して、無色固体として表題化合物(G3)の12.7 g ( 96%) を得た。
実施例20−(iii) の表題化合物(G3)の12.0 g (10.2 mmol) のピリジン60 ml溶液に、-10〜0℃で塩化ベンジルスルホニル2.85 gを加え、同温で1時間反応させた。反応液に水を加えた後、減圧濃縮して得られた残渣を酢酸エチルで希釈した。有機層を 5% aq. KHSO4、5% aq. NaHCO3, brineで順次洗浄し、Na2SO4 で乾燥し、減圧濃縮して、淡黄色固体として表題化合物(G4)の12.9g ( 93%) を得た。
実施例20−(iv) の表題化合物(G4)の12.5 g (9.2 mmol) のクロロホルム100 ml溶液に1N NaOBnのベンジルアルコール溶液27 ml (3eq) を加え室温で1時間反応させた。反応液に水を加えた後、1N塩酸で中和し、有機層を水洗し減圧濃縮した。残渣にイソプロピルエーテルを加えて生じた沈殿をろ取、乾燥し、表題化合物(G5)の10.1 g (94%)を得た。
実施例20−(v) の表題化合物(G5)の2.05 g (1.8 mmol) を用い、実施例18−(i) と同様の方法で処理を行い、無色固体として表題化合物の(G6)452mg (21%) 及び(G6’)の1.16g (53%) を得た。
実施例20−(vi) の表題化合物(G6)の402 mg (0.33 mmol) を80%酢酸水に溶解し、80℃で0.5時間反応させた。反応終了後に減圧濃縮し、残渣を50% ジオキサン−水10 mlに溶解し、ここに酢酸0.5 ml及びパラジウムブラックを加え、水素雰囲気中で室温で接触還元10 時間行った。反応終了後、NH4OHで中和し、ろ過後にろ液を減圧濃縮した。残渣を水 (3 ml) に溶解し110 ℃に加熱し1N水酸化カリウム水溶液 (3 ml) を加え、その温度で2 時間反応させた。反応終了後、氷冷下で1N aq. HCl を加えて中和し、イオン交換クロマトグラフィー (CG50) により精製し、表題化合物(G7)の66.5 mg (37%)を得た。
実施例20−(iii) の表題化合物(G3)の4.55 g (3.87 mmol) の塩化メチレン50 mlの溶液に、氷冷下にピリジン2 ml及びtrifluoromethanesulfonic anhydride 0.95 mlを加え、氷冷下で1時間反応させた。反応液を10% aq. KHSO4、5% aq. NaHCO3, 水で順次洗浄し、減圧濃縮して、淡黄色固体として表題化合物(H1)の4.99 g (98%) を得た。
実施例22−(i) の表題化合物(H1)の4.67 g (3.57 mmol) のDMF 25 ml溶液に酢酸セシウム2.33 gを加え80℃で3時間反応させた。反応液に酢酸エチルを加え、水洗し減圧濃縮した。残渣をクロロホルム30 mlに溶解し、5N NaOMe−メタノール溶液1 mlを加え、室温で1時間反応させた。反応液を1N塩酸で中和後、減圧濃縮し、得られた残渣を展開系 (CHCl3 : MeOH=30:1) によるシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して表題化合物(H2)の2.75 g (72%)を得た。
実施例22−(ii) の表題化合物(H2)の440 mg (0.41 mmol) を用い、実施例20−(viii)と同様の方法で処理して、表題化合物(H3)の115 mg (52%) を得た。
実施例20−(v) の表題化合物(G5)の1.63 g (1.40 mmol) を用い、実施例1−(ii)と同様の方法で処理して表題化合物(I1)の1.38 g (93%)を得た。
実施例23−(i) の表題化合物(I1)の622 mg (0.58 mmol) を80%酢酸水に溶解し80℃で0.5時間反応させた。反応液を減圧濃縮後、得られた残渣をイソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥して、表題化合物(I2)の548 mg (95%)を得た。
実施例23−(ii) の表題化合物(I2)の600 mg (0.60mmol) を用い、実施例8−(ii)と同様の方法で処理して、表題化合物(I3)の226 mg (68%)を得た。
式(A1)で表される化合物5.0 g (4.13 mmol) の DMF 25 ml溶液に、p−トルエンスルホン酸・1水和物 250 mg 及び1,1-ジメトキシシクロヘキサン5 mlを加えて、減圧下に60 ℃で4時間反応させた。反応液にトリエチルアミンを加え中和後、減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルで希釈した。有機層を水洗し、濃縮して得られた残渣をジオキサン50 mlに溶解し、20% 酢酸水25 mlを加えて室温で18 時間反応させた。反応液を濃縮し、残渣をイソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥して、表題化合物(J1)の5.55 g (98%)を得た。
実施例24−(i) の表題化合物(J1)の5.40 g (3.94 mmol) を用い、実施例1−(ii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(J2)の4.61 g (93%) を得た。
実施例24−(ii) の表題化合物(J2)の977 mg (0.77 mmol) を用い、実施例12−(iii)、(iv)と同様の方法で処理して、表題化合物(J3)の896 mg (92%) を得た。
実施例24−(iii) の表題化合物(J3)の565 mg (0.45mmol) を用い、実施例20−(viii) と同様の方法で処理して、表題化合物(J4)の133 mg (55%)を得た。
実施例20−(v) の表題化合物(G5)の850 mg (0.73 mmol) を用い、実施例20−(iv) と同様の方法によって処理して、表題化合物(K1)の926 mg (96%) を得た。
実施例25−(i) の表題化合物(K1)の900 mg (0.68 mmol) を用い、実施例14−(iii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(K2)の889 mg (93%) を得た。
実施例25−(ii) の表題化合物(K2)の850 mg (0.61 mmol) を用い、実施例14−(iv) と同様の方法によって処理して、表題化合物(K3)の645 mg (92%) を得た。
実施例25−(iii) の表題化合物(K3)の600 mg (0.52 mmol) を用い、実施例20−(viii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(K4)の155 mg (59%) を得た。
実施例17−(i) の表題化合物(E1)の100 mg (0.067 mmol) のメタノール2 ml溶液に5N NaOMe−メタノール溶液 3 mlを加え室温で1 時間反応させた。反応液に1N HCl を加えて中和後、減圧濃縮して残渣を水で洗浄した。残渣をさらにイソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥して、無色固体として表題化合物(L1)の65.9 mg (91%) を得た。
実施例26−(i) の表題化合物(L1)の 1.50 g (1.38 mmol) のTHF 30 ml溶液に、ピリジン1.1 ml、四塩化炭素6.7 ml及びトリフェニルホスフィン1.81 gを加え50℃で2時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣をクロロホルムに溶解して有機層を5% aq. KHSO4、5% aq. NaHCO3, brineで順次洗浄し、Na2SO4 で乾燥し、濃縮した。残渣を展開系 (CHCl3:acetone = 1:1 ) によるシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し、無色固体として表題化合物(L2)の1.10 g (72%) を得た。
実施例26−(ii) の表題化合物(L2)の200 mg (0.18 mmol) を用い、実施例14−(iv)と同様の方法によって処理して、表題化合物(L3)の184 mg (98%) を得た。
実施例26−(iii) の表題化合物(L3)の184 mg (0.17 mmol) を用い、実施例14−(vi)と同様の方法によって処理して、表題化合物(L4)の147 mg (TFA塩として 79%) を得た。
実施例26−(iv) の表題化合物(L4)の91.1 mg (TFA 塩として0.087 mmol) を用い、実施例8−(ii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(L5)の19.0 mg (67%) を得た。
実施例20−(v) の表題化合物(G5)の9.92 g (8.53 mmol) を用い、実施例14−(iii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(M1)の10.2 g (93%) を得た。
実施例27−(i) の表題化合物(M1)の10.0 g (7.74 mmol) を、実施例14−(iv) と同様の方法によって処理して、表題化合物(M2)の8.08 g (90%) を得た。
実施例27−(ii) の表題化合物(M2)の9.80 g (8.4 mmol) のピリジン50 ml溶液及び塩化ベンゾイル4 ml (3eq.) を用い、実施例12−(ii) と同様の方法で処理を行い、無色固体として表題化合物(M3)の11.2 g ( 97%) を得た。
実施例27−(iii) の表題化合物(M3)の11.0 g (8 mmol) を 80%酢酸水50 mlに溶解し、80 ℃で30 分間反応させた。反応液を濃縮し、残渣を酢酸エチルで希釈後に、有機層をNaHCO3で中和し、さらに水洗し、濃縮した。次いで、残渣をピリジン50 mlに溶解し、氷冷下に塩化ベンゾイル3.7 ml (4eq.) を加え、氷冷下で35 分間反応させた。反応液に水を加えた後に濃縮し、残渣を酢酸エチルで希釈した。有機層を5% aq. KHSO4、5% aq. NaHCO3, 水で順次洗浄し濃縮して、淡黄色固体として表題化合物(M4)の11.1 g ( 99%) を得た。
実施例27−(iv) の表題化合物(M4)の1.00 g (0.71 mmol) を用い、実施例17−(i) と同様の方法によって処理し、表題化合物(M5)の904 mg (90%) を得た。
実施例27−(v) の表題化合物(M5)の880 mg (0.62 mmol) を用い、実施例14−(iv) と同様の方法によって処理して、表題化合物(M6)の762 mg (89%) を得た。
実施例27−(vi) の表題化合物(M6)の750 mg (0.54 mmol) のメタノール10 ml溶液に5N NaOMe−メタノール溶液0.2 mlを加え、室温で2時間反応させた。反応終了後に1N塩酸で中和し、減圧濃縮した。残渣を50% 1,4-ジオキサン−水10 mlに溶解し、ここに酢酸0.5 ml及びパラジウムブラックを加え、水素雰囲気中で室温で接触還元を10 時間行った。反応液をNH4OH で中和し、ろ過し、ろ液を濃縮した。残渣を水 5 ml に溶解し110 ℃に加熱し1N水酸化カリウム水溶液5 ml を加えて0.5時間加熱した。反応液に氷冷下で1N aq. HCl を加えて中和後、イオン交換クロマトグラフィー (CG50) により精製し、表題化合物(M7)の121 mg (44%) を得た。
実施例27−(iv) の表題化合物(M4)の2.01 g (1.43 mmol) を用い、実施例12−(iii) と同様に方法によって処理して、表題化合物 (M8) の1.12 g (56%) 及び(M8’) の445 mg (22%)を得た。
実施例28−(i) の表題化合物(M8)の410 mg (0.29 mmol) を用い、実施例27−(vii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(M9)の78.6 mg (52%) を得た。
実施例27−(v) の表題化合物(M4)の2.25 g (1.61 mmol) を用い、実施例14−(i) と同様の方法で処理して、表題化合物(N1)の2.31 g (97%) を得た。
実施例30−(i) の表題化合物(N1)の2.02 g (1.40 mmol) を用い、実施例14−(ii) と同様の方法で処理して、表題化合物(N2)の1.46 g (82%) を得た。
実施例30−(ii) の表題化合物(N2)の1.35 g (1.06 mmol) を用い、実施例14−(iii) と同様の方法で処理して、表題化合物(N3)の1.37 g (92%) を得た。
実施例30−(iii) の表題化合物(N3)の417 mg (0.29 mmol) を用い、実施例14−(iv) と同様の方法で処理して、表題化合物(N4)の331 mg (88%) を得た。
実施例30−(iv) の表題化合物(N4)の310 mg (0.24 mmol) を用い、実施例27−(vii) と同様の方法で処理して、表題化合物(N5)の66.8 mg (55%) を得た。
実施例30−(iii) の表題化合物(N3)の952 mg (0.67 mmol) のピリジン5 ml溶液に、-10〜0℃で塩化ベンジルスルホニル200 mgを加え、同温で1時間反応させた。次いで、反応液に水0.5 mlを加えて、80℃で2時間加熱した。反応液を濃縮し、残渣に水を加えて生じた沈殿をろ取し、これを展開系 (CHCl3:MeOH = 30:1 ) によるシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物(N6)の578 mg (67%) を得た。
実施例31−(i) の表題化合物(N6)の480 mg (0.27 mmol) を用い、実施例27−(vii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(N7)の81.3 mg (61%) を得た。
実施例30−(i) の表題化合物(N1)の552 mg (0.37mmol) を用い、実施例16−(i) と同様の方法によって処理して、表題化合物(N8)の375 mg (70%) を得た。
実施例32−(i) の表題化合物(N8)の322 mg (0.23 mmol) を用い, 実施例27−(vii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(N9)の66.8 mg (55%) を得た。
実施例23−(i) の表題化合物(I1)の5.60 g (5.30 mmol) を用い、実施例14−(iii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(O1)の5.70 g (91%)を得た。
実施例33−(i) の表題化合物(O1)の5.55g (4.70 mmol) を用い、実施例14−(iv) と同様の方法によって処理して、表題化合物(O2)の4.94 g (99%)を得た。
実施例33−(ii) の表題化合物(O2)の4.85 g (4.59 mmol) を用い、実施例27−(iv) と同様の方法によって処理して、表題化合物(O3)の5.09 g (94%)を得た。
実施例33−(iii) の表題化合物(O3)の1.00 g (0.84 mmol) を用い、実施例12−(iii)、(iv)と同様の方法によって処理して、表題化合物(O4)の332 mg (33%) を得た。
実施例33−(iv) の表題化合物(O4)の300 mg (0.25 mmol) を用い、実施例27−(vii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(O5)の48.5 mg (37%) を得た。
実施例22−(ii) の表題化合物(H2)の2.60 g (2.41 mmol) を用い、実施例27−(iv) と同様の方法によって処理して、表題化合物(P1)の3.02 g (54%)を得た。
実施例34−(i) の表題化合物(P1)の2.92 g (2.24 mmol) を用い、実施例14−(i) と同様の方法によって処理して、表題化合物(P2)の3.05 g (95%)を得た。
実施例34−(ii) の表題化合物(P2)の1.47 g (1.06 mmol) のDMF15 ml溶液に酢酸セシウム745 mgを加え90℃で5時間反応させた。反応液に酢酸エチルを加え2回水洗し減圧濃縮した。残渣を展開系(CHCl3 : MeOH=40:1)によるシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して表題化合物(P3)の1.07 g (75%)を得た。
実施例34−(iii) の表題化合物(P3)の886 mg (0.66 mmol) を用い、実施例27−(vii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(P4)の168 mg (48%)を得た。
1H NMR (25% ND3-D2O, 500 MHz):δ 1.92 (1H, q, H-2”ax), 4.18 (1H, t, H-3”), 4.48 (1H, t, H-5), 5.32 (1H, d, H-1’) and 5.46 (1H, d, H-1”).
実施例14−(iv) の表題化合物(C4)の2.01 g (1.5 mmol) のMeOH 20 ml溶液に5N NaOMe−メタノール溶液0.3 mlを加え室温で2 時間反応させた。反応液に、氷冷下で1N HCl を加えて中和後、減圧濃縮し、残渣を水洗した。さらにイソプロピルエーテルで洗浄し、減圧乾燥して無色固体として表題化合物(Q1)の1.45 g (92%) を得た。
実施例35−(i) の表題化合物(Q1)の965 mg (0.86 mmol) を用い、実施例26−(ii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(Q2)の804 mg (87%) を得た。
実施例35−(ii) の表題化合物(Q2)の785 mg (0.73 mmol) を用い、実施例14−(iv) と同様の方法によって処理して、表題化合物(Q3)の706 mg (93%)を得た。
実施例35−(iii) の表題化合物(Q3)の702 mg (0.68 mmol) を用い、実施例6−(iii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(Q4)の143 mg (41%) を得た。
実施例14−(iii) の表題化合物(C3)の3.01 g (2.02 mmol) を用い、実施例31−(i) と同様の方法によって処理して、表題化合物(R1)の2.24 g (82%)を得た。
実施例36−(i) の表題化合物(R1)の2.02 g (1.50 mmol) を用い、実施例26−(i) と同様の方法によって処理して、表題化合物(R2)の1.51 g (98%) を得た。
実施例36−(ii) の表題化合物(R2)の1.40 g (1.36 mmol) を用い、実施例26−(ii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(R3)の1.22 g (85%) を得た。
実施例36−(iii) の表題化合物(R3)の1.10 g (1.05 mmol) を用い、実施例14−(iv) と同様の方法によって処理して、表題化合物(R4)の976 mg (91%) を得た。
-50℃の液体アンモニア50 mlに金属ナトリウム500 mg及び実施例36−(iv) の表題化合物(R4)の1.00 g (0.98 mmol) のTHF 5 ml溶液を加え同温で0.5時間反応させた。反応液にMeOHを色が消えるまで加え濃縮した。残渣に水10mlを加え110℃で0.5時間加熱した。反応終了後、氷冷下で1N aq. HCl を加えて中和後、イオン交換クロマトグラフィー (CG50) により精製し、表題化合物(R5)の186 mg (39%) を得た。
実施例17−(i) の表題化合物(E1)の1.46 g (0.97 mmol) を用い、実施例14−(iv) 及び実施例12−(v)と同様の方法で処理して、表題化合物(S-a)の939 mg (TFA塩として 93%) を得た。
実施例38−(i) の表題化合物(S-a)の221 mg (TFA 塩として0.21 mmol) を用い、実施例1−(iv) と同様の方法で処理して、無色固体として表題化合物(S2-a)の209 mg (95%) を得た。
実施例38−(ii) の表題化合物(S2-a)の150 mg (0.15 mmol) を用い、実施例1−(v) と同様の方法で処理して、表題化合物(S1-a)38 mg (47% ) を得た。
1H NMR (25% ND3-D2O, 500 MHz):δ 1.65 (1H, q, H-5ax), 2.64-2.79 (7H, m, H-5eq, 7’-NMe and 4”-NMe), 5.29 (1H, d, H-1’) and 5.67 (1H, d, H-1”).
1H NMR (25% ND3-D2O, 500 MHz) :δ 1.66 (1H, q, H-5ax), 2.68-2.78 (4H, m, H-5eq and 7’-NMe), 2.92 (1H, t, H-4”), 3.01-3.13 [5H, m, H-1 and 4”-NH2Et ( β,α)], 5.30 (1H, d, H-1’) and 5.69 (1H, d, H-1”).
13C NMR (DCl-D2O, 125 MHz):δ 157.52 (C=NH).
実施例12−(v) の表題化合物(B4)の2.52 g (TFA 塩として2.3 mmol) を用い、実施例1−(iv) と同様の方法で処理を行って、無色固体として表題化合物(S2-b)の2.34 g (96%)を得た。
実施例43−(i) の表題化合物(S2-b)の320 mg (0.30 mmol) と37%ホルマリン水溶液0.1 mlを用い、実施例1−(v) と同様の方法で処理を行って、表題化合物(S1-f)の113 mg (72%) を得た。
実施例36−(ii) の表題化合物(R2)の3.50 g (2.6 mmol) を用い、実施例14−(vi) と同様の方法により表題化合物(T1)2.58 g (TFA塩として 94%) を得た。
実施例49−(i) の表題化合物1.46 g (TFA 塩として1.3 mmol) を用い実施例1−(iv) と同様の方法で処理して、無色固体として表題化合物(T3)の1.38 g (92%) を得た。
実施例49−(ii) の表題化合物(T3)の310 mg (0.30 mmol) と37%ホルマリン水溶液0.1 mlを用い、実施例1−(v)と同様の方法で処理して、表題化合物(T2-a)の97.3 mg (62%) を得た。
1H NMR (25% ND3-D2O, 500 MHz):δ 1.43-1.67 (3H, m, H-2ax, -6ax and -5ax), 2.25 (1H, m, H-6eq), 2.39-2.51 (2H, m, H-3’eq and -5eq), 3.02-3.14 [4H, m, 4”-NH2Et (α, β)], 5.32 (1H, d, H-1’) and 5.70 (1H, d, H-1”).
実施例14−(iv) の表題化合物(C5)の1.78 g (TFA 塩として1.7 mmol) を用い、実施例1−(iv) と同様の方法によって処理して、無色固体として表題化合物(S2-c)の1.63 g (92%) を得た。
実施例54−(i) の表題化合物(S2-c)の300 mg (0.29 mmol) と37%ホルマリン水溶液0.1 mlを用い、実施例1−(v) と同様の方法によって処理して、表題化合物(S1-l)の105 mg (67%) を得た。
実施例27−(vii) の表題化合物(M6)の1.45 g (1.05mmol) を用い、実施例14−(v) と同様の方法によって処理して、表題化合物(U1)の1.09 g (97%) を得た。
実施例60−(i) の表題化合物(U1)の1.00 g (0.94 mmol) 及びNaH 45 mgを用い、実施例1−(ii)と同様の方法によって処理して、表題化合物(U2)の866 mg (96%) を得た。
実施例60−(ii) の表題化合物(U2)の801mg (0.83 mmol) を用い、実施例1−(iii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(U3)の713 mg (92%)を得た。
実施例60−(iii) の表題化合物(U3)の735mg (TFA 塩として0.70 mmol) とグッドマン試薬550 mgを用い、実施例10と同様の方法によって処理して表題化合物(U4-a)の174 mg (45%) を得た。
実施例16−(i) の表題化合物(D1)の1.31g(0.87 mmol) の1,4-ジオキサン20mlの溶液に4N NaOH水溶液3.4mlを加え、室温で2時間反応させた。反応液に2N HCl を加えて中和後、減圧濃縮して残渣を水で洗浄した。さらにイソプロピルエーテルで洗浄し、固体を90% TFA−MeOH溶液 10 ml に溶解し、室温で2時間反応させた。反応液を減圧濃縮し、残渣をイソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥して無色固体として表題化合物(W1)の937 mg (TFA塩として 90%) を得た。
実施例79−(i) の表題化合物(W1)の254 mg (2TFA 塩として0.21 mmol) とグッドマン試薬253 mgを用い、実施例10と同様の方法によって処理して、表題化合物(W2-a)の45.5 mg (37%) を得た。
実施例28−(i) の表題化合物(M8)の1.47 g (1.05mmol) を用い、実施例14−(v) と同様の方法によって処理して、表題化合物(X1-a)の1.08 g (95%) を得た。
実施例82−(i) の表題化合物(X1-a)の1.03 g (0.95 mmol) 及びNaH 45 mgを用い、実施例1−(ii)と同様の方法によって処理して、表題化合物(X2-a)の891 mg (96%) を得た。
実施例82−(ii) の表題化合物(X2-a)の870 mg (0.89 mmol) を用い、実施例1−(iii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(X3-a)の881 mg (TFA塩として93%)を得た。
実施例82−(iii) の表題化合物(X3-a)の800 mg (TFA 塩として0.75 mmol) とグッドマン試薬600 mgを用い、実施例10と同様の方法によって処理して表題化合物(X4-a)の201 mg (47%) を得た。
実施例28−(i) の表題化合物(M8’)の722 mg (0.52 mmol) を用い、実施例14−(v) と同様の方法によって処理して、表題化合物(X1-b)の544 mg (96%) を得た。
実施例83−(i) の表題化合物(X1-b)の500 mg (0.46 mmol) 及びNaH 22 mgを用い、実施例1−(ii)と同様の方法によって処理して、表題化合物(X2-b)の451 mg (92%) を得た。
実施例83−(ii) の表題化合物(X2-b)の440 mg (0.45 mmol) を用い、実施例1−(iii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(X3-b)の438 mg (TFA塩として91%)を得た。
実施例83−(iii) の表題化合物(X3-b)の400 mg (TFA 塩として0.37 mmol) とグッドマン試薬600 mgを用い、実施例10と同様の方法によって処理して表題化合物(X4-b)の105 mg (50%) を得た。
実施例33−(iii) の表題化合物(O3)の1.00 g (0.84 mmol) を用い、実施例14−(i) と同様の方法によって処理して、表題化合物(Y1)の1.05 g (99%)を得た。
実施例84−(i) の表題化合物(Y1)の955 mg (0.76 mmol) を用い、実施例34−(iii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(Y2)の732 mg (79%)を得た。
実施例84−(ii) の表題化合物(Y2)の400 mg (0.33 mmol) を用い、実施例27−(vii) と同様の方法によって処理して、表題化合物(Y3)の77.5 mg (45%) を得た。
抗細菌活性
本発明の新規アミノグリコシド抗生物質における代表的な実施例記載化合物について、各種検定菌に対する最小発育阻止濃度(MIC、μg/mL)を日本化学療法学会法に準じた寒天平板希釈法により測定した。結果を表1〜6に示す。
Claims (12)
- 一般式(I)で表される化合物、またはそれらの薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物:
[式中、
R1は水素原子、または水酸基を示し、
R2は水素原子、またはアミノ基を示し、
R 1 とR 2 とが共に水素原子以外の基であることはなく、
R3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R4は水素原子、ハロゲン原子、またはアミノ基を示し、
R 3 とR 4 とが共に水素原子以外の原子または基であることはなく、
ここで、R1とR4は一緒になって二重結合を形成してもよく、
R5は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R6は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R 5 とR 6 とが共に水素原子以外の基であることはなく、
R7は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R8は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R 7 とR 8 とが共に水素原子以外の基であることはなく、
R9及びR10はそれぞれ独立に、水素原子、C1−6アルキル基、アミノ−C1−6アルキル基、グアニジノ−C1−6アルキル基、アミノ−C3−7シクロアルキル基、アミノ−C3−7シクロアルキル−C1−6アルキル基、アミジノ基、C1−6アルキル基で置換されていてもよいアゼチジノ基、グリシル基、サルコシル基、L―アラニル基、D−アラニル基、L−セリル基、D−セリル基、β―アラニル基、L−イソセリル基、またはD−イソセリル基を示し、および
R11は水素原子、水酸基、またはフッ素原子を示し、
ただし、
(ii)R5、R8、R11が水酸基、R1、R2、R3、R4、R6、R7、R9、R10が水素原子の場合、
(iii)R1、R5、R8、R11が水酸基、R2、R3、R4、R6、R7、R9、R10が水素原子の場合
を除く]。 - 一般式(I−1)で表される、請求項1に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物:
[式中、
R1は水素原子、または水酸基を示し、
R2は水素原子、またはアミノ基を示し、
R 1 とR 2 とが共に水素原子以外の基であることはなく、
R3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R4は水素原子、ハロゲン原子、またはアミノ基を示し、
R 3 とR 4 とが共に水素原子以外の原子または基であることはなく、
ここで、R1とR4は一緒になって二重結合を形成してもよく、
R5は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R6は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R 5 とR 6 とが共に水素原子以外の基であることはなく、
R7は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R8は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R 7 とR 8 とが共に水素原子以外の基であることはなく、および
R11は水素原子、水酸基、フッ素原子を示し、
ただし、
(i)R5、R8、R11が水酸基、R1、R2、R3、R4、R6、R7が水素原子の場合、
(ii)R1、R5、R8、R11が水酸基、R2、R3、R4、R6、R7が水素原子の場合
を除く]。 - 一般式(I−2)で表される、請求項1に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物:
[式中、
R1は水素原子、または水酸基を示し、
R2は水素原子、またはアミノ基を示し、
R 1 とR 2 とが共に水素原子以外の基であることはなく、
R3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R4は水素原子、ハロゲン原子、またはアミノ基を示し、
R 3 とR 4 とが共に水素原子以外の原子または基であることはなく、
ここで、R1とR4は一緒になって二重結合を形成してもよく、
R7は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R8は水素原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R 7 とR 8 とが共に水素原子以外の基であることはなく、
R9は水素原子、C1−6アルキル基、またはアミノ−C1−6アルキル基を示し、
R10はC1−6アルキル基、アミノ−C1−6アルキル基、グアニジノ−C1−6アルキル基、アミノ−C3−7シクロアルキル基、アミノ−C3−7シクロアルキル−C1−6アルキル基、アミジノ基、C1−6アルキル基で置換されていてもよいアゼチジノ基、グリシル基、サルコシル基、L―アラニル基、D−アラニル基、L−セリル基、D−セリル基、β―アラニル基、L−イソセリル基、またはD−イソセリル基を示し、および
R11は水素原子、または水酸基を示す]。 - 一般式(I−4)で表される、請求項1に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物:
[式中、
R1は水素原子、または水酸基を示し、
R2は水素原子、またはアミノ基を示し、
R 1 とR 2 とが共に水素原子以外の基であることはなく、
R3は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、またはアミノ基を示し、
R4は水素原子、ハロゲン原子、またはアミノ基を示し、および
R 3 とR 4 とが共に水素原子以外の原子または基であることはなく、
ここで、R1とR4は一緒になって二重結合を形成してもよく、
ただし、
(i)R1、R2、R3、R4が水素原子の場合、
(ii)R1が水酸基、R2、R3、R4が水素原子の場合を除く]。 - 5−エピアプラマイシン、
5−デオキシ−5−エピ−5−フルオロアプラマイシン、
6−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
5,6−ジデオキシ−5−フルオロアプラマイシン、
5−アミノ−5−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
5−アミノ−5−デオキシアプラマイシン、
6−アミノ−5,6−ジデオキシ−5,6−ジエピ−5−フルオロアプラマイシン、
5−アミノ−5,6−ジデオキシアプラマイシン、
5,6”−ジデオキシアプラマイシン、
5,3”−ジデオキシアプラマイシン、
3”−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
5,3”−ジデオキシ−5−エピ−5−フルオロアプラマイシン、
6,3”−ジデオキシ−5−エピアプラマイシン、
5,6,3”−トリデオキシアプラマイシン、
5−アミノ−5,3”−ジデオキシ−5−エピアプラマイシン、
5,2”−ジデオキシ−5,3”−ジエピ−5−フルオロアプラマイシン、
5,3”−ジエピアプラマイシン、
6,6”−ジデオキシ−5−エピアプラマイシン、
5−エノ−5,6,6”−トリデオキシアプラマイシン、
5,6,6”−トリデオキシアプラマイシン、
5−デオキシ−4”−N−メチルアプラマイシン、
4”−N−(2−アミノエチル)−5−デオキシアプラマイシン、
4”−N−(3−アミノプロピル)−5−デオキシアプラマイシン、
5−デオキシ−4”−N−(1,3−ジアミノプロパン−2−イル)アプラマイシン、
4”−デアミノ−5−デオキシ−4”−グアニジノアプラマイシン、
5−エピ−4”−N−メチルアプラマイシン、
4”−N−(2−アミノエチル)−5−エピアプラマイシン、
4”−N−(3−アミノプロピル)−5−エピアプラマイシン、
4”−N−(1,3−ジアミノプロパン−2−イル)−5−エピアプラマイシン、
4”−デアミノ−5−エピ−4”−グアニジノアプラマイシン、
4”−デアミノ−5−デオキシ−5−エピ−5−フルオロ−4”−グアニジノアプラマイシン、
5,6−ジデオキシ−4”−N−メチルアプラマイシン、
4”−N−(2−アミノエチル)−5,6−ジデオキシアプラマイシン、
4”−N−(3−アミノプロピル)−5,6−ジデオキシアプラマイシン、
4”−N−(1,3−ジアミノプロパン−2−イル)−5,6−ジデオキシアプラマイシン、
4”−デアミノ−5,6−ジデオキシ−4”−グアニジノアプラマイシン、
6−デオキシ−5−エピ−4”−N−メチルアプラマイシン、
4”−N−(2−アミノエチル)−6−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
4”−N−(3−アミノプロピル)−6−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
4”−デアミノ−6−デオキシ−5−エピ−4”−グアニジノアプラマイシン、
4”−N−(1,3−ジアミノプロパン−2−イル)−5,6”−ジデオキシアプラマイシン、
4”−デアミノ−5,6”−ジデオキシ−4”−グアニジノアプラマイシン、
4”−デアミノ−5,3”−ジデオキシ−4”−グアニジノアプラマイシン、
5−エピ−4”−N−グリシルアプラマイシン、
5−エピ−4”−N−サルコシルアプラマイシン、
4”−N−(L−アラニル)−5−エピアプラマイシン、
5−エピ−4”−N−(L−セリル)アプラマイシン、
4”−N−(β−アラニル)−5−エピアプラマイシン、
5−エピ−4”−N−(L−イソセリル)アプラマイシン、
5−エピ−4”−N−(D−イソセリル)アプラマイシン、
6−デオキシ−5−エピ−4”−N−グリシルアプラマイシン、
6−デオキシ−5−エピ−4”−N−サルコシルアプラマイシン、
4”−N−(β−アラニル)−6−デオキシ−5−エピアプラマイシン、
6−デオキシ−5−エピ−4”−N−(L−イソセリル)アプラマイシン、
5−アミノ−4”−デアミノ−5−デオキシ−5−エピ−4”−グアニジノアプラマイシン、
5−アミノ−5−デオキシ−5−エピ−4”−N−グリシルアプラマイシン、
5−アミノ−5−デオキシ−5−エピ−4”−N−(L−イソセリル)アプラマイシン、4”−デアミノ−3”−デオキシ−5−エピ−4”−グアニジノアプラマイシン、
4”−デアミノ−5,3”−ジデオキシ−5−エピー5−フルオロ−4”−グアニジノアプラマイシン、または
2”−デオキシ−5,3”−ジエピアプラマイシン
である、請求項1に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはその溶媒和物。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物を含んでなる、医薬組成物。
- 感染症を予防または治療するための、請求項6に記載の医薬組成物。
- 前記感染症が、敗血症、感染性心内膜炎、皮膚科領域感染症、外科感染症、整形外科領域感染症、呼吸器感染症、尿路感染症、腸管感染症、腹膜炎、髄膜炎、眼科領域感染症、または耳鼻科領域感染症である、請求項6または7に記載の医薬組成物。
- 前記感染症が、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌(MRSA)、黄色ブドウ球菌、大腸菌、肺炎桿菌、または緑膿菌によって引き起こされるものである、請求項6〜8のいずれか一項に記載の医薬組成物。
- 療法に使用するための、請求項1〜5のいずれか一項に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
- 感染症の予防または治療において使用するための、請求項1〜5のいずれか一項に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩、またはそれらの溶媒和物を含んでなる、抗菌剤。
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