JP7008076B2 - 積層造形用銅合金粉末、積層造形物の製造方法及び積層造形物 - Google Patents
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Description
(1)銅に対する固溶量が0.2at%未満である添加元素を含有する積層造形用銅合金粉末。
(2)前記添加元素がW、Zr、Nb、Nd、Y、Mo、Os又はRuからなる群から選択される少なくとも一種である(1)に記載の積層造形用銅合金粉末。
(3)前記添加元素を0.1~12.0at%含有する(1)又は(2)に記載の積層造形用銅合金粉末。
(4)平均粒子径D50が20~100μmである(1)~(3)のいずれかに記載の積層造形用銅合金粉末。
(5)酸素濃度が1000wtppm以下である(1)~(4)のいずれかに記載の積層造形用銅合金粉末。
(6)(1)~(5)のいずれかに記載の積層造形用銅合金粉末を用いて積層造形物を製造する方法であって、
造形用のステージに前記銅合金粉末を敷き詰めて薄層を形成する工程と、
前記薄層に対し、造形すべき部分に電子ビームを照射して前記銅合金粉末を溶解させ、その後自然冷却により凝固させる工程、
を複数回繰り返して積層造形物を製造する方法。
(7)(1)~(5)のいずれかに記載の積層造形用銅合金粉末を用いて積層造形物を製造する方法であって、
造形用のステージに前記銅合金粉末を敷き詰めて薄層を形成する工程と、
前記薄層に対し、造形すべき部分にレーザービームを照射して前記銅合金粉末を溶解させ、その後自然冷却により凝固させる工程、
を複数回繰り返して積層造形物を製造する方法。
(8)銅合金から構成される積層造形物であって、
前記銅合金は、固溶量が0.2at%未満である添加元素を含有し、理論密度に対する相対密度が98%以上であり、導電率が50%IACS以上であり、0.2%耐力が700MPa以上である、積層造形物。
(9)前記添加元素がW、Zr、Nb、Nd、Y、Mo、Os又はRuからなる群から選択される少なくとも一種である(8)に記載の積層造形物。
(10)前記添加元素を0.1~12.0at%含有する(8)又は(9)に記載の積層造形物。
銅合金粉末は、公知の方法によって製造された銅合金粉末を使用することができる。粒径数μm以上のサイズであれば、工業的には製造コストに優れるアトマイズ法に代表される乾式法によって製造された銅合金粉末を使用することが一般的ではあるが、還元法などの湿式法によって製造された銅合金粉末を使用することも可能である。具体的には、タンデッシュの底部から、溶融状態の合金成分を落下させながら、高圧ガスまたは高圧水と接触させ、合金成分を急冷凝固させることにより、合金成分を粉末化する。この他、たとえばプラズマアトマイズ法、遠心力アトマイズ法などによって、金属粉末を製造してもよい。これらの製造方法で得られた金属粉末を用いることにより、緻密な積層造形物が得られる傾向にある。
銅に対する固溶量は、添加元素の固有の性質であり、一般的に相図と呼ばれる二つの元素の温度に対する相関係を示す図から抽出することができる。例えば、ASM International社発行のPhase Diagrams for Binary Alloys(ISBN:0-87170-682-2)を参考にして判断する。この相図から、Cu側の固溶量を参照し、液相以下の温度で最大の固溶量が0.2at%以下の元素が対象の元素となる。より詳細には、Ba、Bi、Ca、Gd、Eu、Ho、La、Lu、Mo、Nd、Nb、Os、Pb、Pm、Pu、Re、Ru、S、Se、Sr、Sm、Tb、Tc、Te、Th、Tm、U、V、W、Y、Yb、Zrである。
また、これらの元素は1種のみを添加してもよく、2種以上を添加してもよい。
また、添加元素を2種以上添加する場合、その合計量は0.1~12.0at%であればよい。
添加元素の含有量は、例えばSII社製SPS3500DDのICP-OES(高周波誘導結合プラズマ発光分析法)で測定することができる。
平均粒子径D50とは、顕微鏡画像解析により得られる粒子の画像から算出した面積に相当する円の直径を粒径として、当該粒度分布において、積算値50%での粒径をいう。
例えば、スペクトリス株式会社(マルバーン事業部)製の乾式粒子画像分析装置Morphologi G3により測定することができる。
酸素濃度は、LECO社製のTCH600にて、不活性ガス融解法で測定することができる。
本発明の銅合金粉末を用いる方法であれば、その具体的手段は特に制限されない。ここで、もっとも典型的な方法として、本発明の銅合金粉末の薄層を形成し、この薄層における銅合金粉末を、電子ビーム又はレーザービームで焼結又は溶融結合により固化させて造形物層を形成し、この造形物層を積層することにより積層造形物を製造することができる。
好ましくは、造形用のステージに、本発明の銅合金粉末を敷き詰めて薄層を形成する工程と、当該薄層に対し、造形すべき部分に電子ビームを照射して前記銅合金粉末を溶解させ、その後自然冷却により凝固させる工程を複数回繰り返して行うことで、本発明の積層造形物を製造することができる。
別の好ましい実施態様では、造形用のステージに、本発明の銅合金粉末を敷き詰めて薄層を形成する工程と、当該薄層に対し、造形すべき部分にレーザービームを照射して前記銅合金粉末を溶解させ、その後自然冷却により凝固させる工程を複数回繰り返して行うことで、本発明の積層造形物を製造することができる。レーザービームは、銅合金粉末を溶解させることができるものであれば、設備環境や要求される製品の性能等に応じて適宜選択することができ、例えば、波長約1060nmのファイバーレーザーや、波長約450nmの青色レーザーを選択することができる。
本発明の製造方法により製造される積層造形物は、機械強度及び導電率が優れている。具体的には、理論密度に対する相対密度が98%以上であり、導電率が50%IACS以上であり、0.2%耐力が700MPa以上という特性を得ることが可能である。この観点から、相対密度は99%以上がより好ましく、99.5%以上がより好ましい。
本発明では、積層造形物の密度は相対密度で示す。相対密度は、測定された密度及び理論密度によって、相対密度=(測定密度/理論密度)×100(%)で表される。理論密度とは、積層造形物の各構成元素において、各元素の理論密度から算出される密度の値である。例えば、W(タングステン)を5.0質量%含有するのであれば、各構成元素であるCuとWとの質量比を、Cu:W=95:5として、理論密度の算出に用いる。この場合、理論密度は、(Cuの密度(g/cm3)×95+Wの密度(g/cm3)×5)/100(g/cm3)として算出する。そして、Wの理論密度は19.25g/cm3、Cuの理論密度は8.94g/cm3として計算し、理論密度は9.455(g/cm3)と算出される。
なお、分析機器によってat%の測定結果となるが、質量%に換算することで計算できる。
一方、積層造形物の測定密度は、たとえばアルキメデス法により測定することができる。アルキメデス法による密度測定は、「JIS Z 2501:焼結金属材料-密度、含油率および開放気孔率試験方法」に準拠して行うことができる。液体には水を用いればよい。
導電率は、市販の渦流式導電率計によって測定できる。なお、IACS(international annealed copper standard)とは、電気抵抗(又は電気伝導度)の基準として、国際的に採択された焼鈍標準軟銅(体積抵抗率:1.7241×10-2μΩm)の導電率を、100%IACSとして規定されたものである。
0.2%耐力は、引張試験機を用いてJIS Z2241に準拠して測定する。
[組成]
積層造形物の原料となる銅合金粉末に含まれる元素の組成は、SII社製SPS3500DDのICP-OES(高周波誘導結合プラズマ発光分析法)で測定した。
なお、表に示されない残部は、銅及び不可避的不純物である。
[積層造形物]
実施例1~45及び比較例1~5の積層造形物は、それぞれ表1に示される銅合金粉末により作製されたものである。これらの銅合金粉末いずれもディスクアトマイズ法で作製した銅粉を用いた。
積層造形物は、銅合金粉末を薄層に形成し、これに電子ビーム又はレーザービームを照射して、銅合金粉末を固化させて造形物層を形成し、この造形物層を積層することによって作製した。また、評価を容易にするため造形物の形状は、W80×L100×H35の板状試験片とした。
[酸素濃度]
酸素濃度は、LECO社製のTCH600にて、不活性ガス融解法で測定した。
[平均粒子径D50]
平均粒子径D50(体積基準)は、以下の装置及び条件で測定した。
メーカー:スペクトリス株式会社(マルバーン事業部)
装置名 :乾式粒子画像分析装置 Morphologi G3
測定条件:
粒子導入量:11mm3
射出圧:0.8bar
測定粒径範囲:3.5-210μm
測定粒子数:20000個
[相対密度]
造形物からサンプルを20mm四方で切り出し、アルキメデス法にて測定密度を算出する。そして見かけ密度を理論密度(8.93g/cm3)で除して100倍したものを相対密度(%)と定義した。
[導電率]
造形物からサンプルを20mm四方で切り出し、市販の渦流式導電率計にて導電率を評価した。
[0.2%耐力]
各試験片に対し、JIS Z2241に基いて引張り試験を行って、0.2%耐力(YS:MPa)を測定した。
一方、比較例1及び2は銅に対する固溶量が0.2at%であるクロムを含有するため、機械強度と導電率の両立を実現できなかった。
比較例3は、銅に対する固溶量が0.2at%以上あるシリコンを含有するため、含有量が低いものの、すべて銅中に固溶してしまうため、機械強度と導電率とも両立が実現できなかった。
比較例4は、銅に対する固溶量が0.2at%以上あるアルミニウムを含有するため、含有量が低いものの、すべて銅中に固溶してしまうため、機械強度と導電率の両立が実現できなかった。
比較例5は、純銅粉での造形であったため、十分な機械強度を得ることができなかった。
Claims (8)
- 銅に対して液相以下の温度で最大の固溶量が0.2at%未満である添加元素を0.1~12.0at%含有し、残部が銅及び不可避的不純物である、積層造形用銅合金粉末。
- 前記添加元素がW、Zr、Nb、Nd、Y、Mo、Os又はRuからなる群から選択される少なくとも一種である請求項1に記載の積層造形用銅合金粉末。
- 平均粒子径D50が20~100μmである請求項1又は2に記載の積層造形用銅合金粉末。
- 酸素濃度が1000wtppm以下である請求項1~3のいずれかに記載の積層造形用銅合金粉末。
- 請求項1~4のいずれかに記載の積層造形用銅合金粉末を用いて積層造形物を製造する方法であって、
造形用のステージに前記銅合金粉末を敷き詰めて薄層を形成する工程と、
前記薄層に対し、造形すべき部分に電子ビームを照射して前記銅合金粉末を溶解させ、その後自然冷却により凝固させる工程、
を複数回繰り返して積層造形物を製造する方法。 - 請求項1~4のいずれかに記載の積層造形用銅合金粉末を用いて積層造形物を製造する方法であって、
造形用のステージに前記銅合金粉末を敷き詰めて薄層を形成する工程と、
前記薄層に対し、造形すべき部分にレーザービームを照射して前記銅合金粉末を溶解させ、その後自然冷却により凝固させる工程、
を複数回繰り返して積層造形物を製造する方法。 - 銅合金から構成される積層造形物であって、
前記銅合金は、銅に対して液相以下の温度で最大の固溶量が0.2at%未満である添加元素を0.1~12.0at%含有し、理論密度に対する相対密度が98%以上であり、導電率が50%IACS以上であり、0.2%耐力が700MPa以上である、積層造形物。 - 前記添加元素がW、Zr、Nb、Nd、Y、Mo、Os又はRuからなる群から選択される少なくとも一種である請求項7に記載の積層造形物。
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