JP7122019B2 - アミド化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
本開示において「アミノ酸」とは、カルボキシル基及びアミノ基を有する化合物を意味する。別途明示しない限り、アミノ酸の種類は特に限定されない。例えば、光学異性の観点からは、D-アミノ酸でもL-アミノ酸でもよい。また、カルボキシル基とアミノ基との相対位置の観点からは、α-アミノ酸、β-アミノ酸、γ-アミノ酸、δ-アミノ酸等の何れであってもよい。
本発明は、アミド化合物を製造する方法であって、一般式(1)により示される化合物(以降適宜「化合物(1)」と称する。)の式中右側のカルボキシル基と、一般式(2)により示される化合物(以降適宜「化合物(2)」と称する。)の式中左側のアミノ基との間に、ルイス酸触媒及びシリル化剤の存在下、アミド結合を形成させることにより、一般式(3)により示される化合物(以降適宜「化合物(3)」と称する。)を製造する工程(以降適宜「アミド化工程」と称する。)を含む方法(以降適宜「本発明の製造方法」と称する。)に関する。
一般式(1)~(3)における各基を、以下により具体的に説明する。
・水素原子、水酸基、チオール基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基;
・フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;
・メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、sec-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、デシル基、ノニル基等のアルキル基;
・エテニル基、プロペニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、へプテニル基、オクテニル基等のアルケニル基;
・プロパルギル基等のアルキニル基;
・シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、ビシクロオクチル基、スピロオクチル基等のシクロアルキル基;
・メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基等のアルコキシ基;
・フェニル基、ベンジル基、トリル基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基;
・フェニロキシ基、ベンジロキシ基、ナフチロキシ基等のアリーロキシ基;
・アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、パラメトキシベンゾイル基、シンナモイル基等のアシル基;
・無置換のアミノ基、及び、ジメチルアミノ基、ベンジルアミノ基、トリフェニルメチルアミノ基等の置換アミノ基;
・フラニル基、チオフェニル基、ピラニル基、ピロリニル基、ピロリル基、2,3-ジヒドロ-1H-ピロリル基、ピぺリジニル基、ピペラジニル基、ホモピペラジニル基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、1,2,4,6-テトラヒドロピリジル基、ヘキサヒドロピリミジル基、ヘキサヒドロピリダジル基、1,2,4,6-テトラヒドロピリジル基、1,2,4,6-テトラヒドロピリダジル基、3,4-ジヒドロピリジル基、イミダゾリル基、4,5-ジヒドロ-1H-イミダゾリル基、2,3-ジヒドロ-1H-イミダゾリル基、ピラゾリル基、4,5-ジヒドロ-1H-ピラゾリル基、2,3-ジヒドロ-1H-ピラゾリル基、オキサゾリル基、4,5-ジヒドロ-1,3-オキサゾリル基、2,3-ジヒドロ-1,3-オキサゾリル基、2,5-ジヒドロ-1,3-オキサゾリル基、チアゾリル基、4,5-ジヒドロ-1,3-チアゾリル基、2,3-ジヒドロ-1,3-チアゾリル基、2,5-ジヒドロ-1,3-チアゾリル基、カルバゾリル基等の複素環式基;及び
・フラニルオキシ基、ピロリルオキシ基、インドリルオキシ基、キノリルオキシ基等の複素環オキシ基;等。
・水素原子、水酸基、カルボキシル基;
・メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、sec-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、デシル基、ノニル基等のアルキル基;
・エテニル基、プロペニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、へプテニル基、オクテニル基等のアルケニル基;
・プロパルギル基等のアルキニル基;
・シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、ビシクロオクチル基、スピロオクチル基等のシクロアルキル基;
・フェニル基、ベンジル基、トリル基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基;
・フラニル基、チオフェニル基、ピラニル基、ピロリニル基、ピロリル基、2,3-ジヒドロ-1H-ピロリル基、ピぺリジニル基、ピペラジニル基、ホモピペラジニル基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、1,2,4,6-テトラヒドロピリジル基、ヘキサヒドロピリミジル基、ヘキサヒドロピリダジル基、1,2,4,6-テトラヒドロピリジル基、1,2,4,6-テトラヒドロピリダジル基、3,4-ジヒドロピリジル基、イミダゾリル基、4,5-ジヒドロ-1H-イミダゾリル基、2,3-ジヒドロ-1H-イミダゾリル基、ピラゾリル基、4,5-ジヒドロ-1H-ピラゾリル基、2,3-ジヒドロ-1H-ピラゾリル基、オキサゾリル基、4,5-ジヒドロ-1,3-オキサゾリル基、2,3-ジヒドロ-1,3-オキサゾリル基、2,5-ジヒドロ-1,3-オキサゾリル基、チアゾリル基、4,5-ジヒドロ-1,3-チアゾリル基、2,3-ジヒドロ-1,3-チアゾリル基、2,5-ジヒドロ-1,3-チアゾリル基、カルバゾリル基等の複素環式基;等。
・メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、sec-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、デシル基、ノニル基等のアルキル基;
・エテニル基、プロペニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、へプテニル基、オクテニル基等のアルケニル基;
・プロパルギル基等のアルキニル基;
・シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、ビシクロオクチル基、スピロオクチル基等のシクロアルキル基;
・フェニル基、ベンジル基、トリル基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基;
・フラニル基、チオフェニル基、ピラニル基、ピロリニル基、ピロリル基、2,3-ジヒドロ-1H-ピロリル基、ピぺリジニル基、ピペラジニル基、ホモピペラジニル基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、1,2,4,6-テトラヒドロピリジル基、ヘキサヒドロピリミジル基、ヘキサヒドロピリダジル基、1,2,4,6-テトラヒドロピリジル基、1,2,4,6-テトラヒドロピリダジル基、3,4-ジヒドロピリジル基、イミダゾリル基、4,5-ジヒドロ-1H-イミダゾリル基、2,3-ジヒドロ-1H-イミダゾリル基、ピラゾリル基、4,5-ジヒドロ-1H-ピラゾリル基、2,3-ジヒドロ-1H-ピラゾリル基、オキサゾリル基、4,5-ジヒドロ-1,3-オキサゾリル基、2,3-ジヒドロ-1,3-オキサゾリル基、2,5-ジヒドロ-1,3-オキサゾリル基、チアゾリル基、4,5-ジヒドロ-1,3-チアゾリル基、2,3-ジヒドロ-1,3-チアゾリル基、2,5-ジヒドロ-1,3-チアゾリル基、カルバゾリル基等の複素環式基;等。
本発明の製造方法に用いられる化合物(1)と化合物(2)との量比は、特に制限されないが、化合物(1)1モルに対して、化合物(2)を通常0.1モル以上、例えば0.2モル以上、0.3モル以上、又は0.5モル以上、また、通常20モル以下、例えば10モル以下、8モル以下、6モル以下、5モル以下、より好ましくは2モル以下の範囲で用いることが好ましい。
本発明の製造方法に用いられるルイス酸触媒は、後述するシリル化剤の共存下、化合物(1)のカルボキシル基と化合物(2)のアミノ基とのアミド化反応を誘導しうるルイス酸化合物であれば、その種類は制限されない。中でも、ルイス酸触媒は、ルイス酸として機能する金属化合物であることが好ましい。
本発明の製造方法に用いられるシリル化剤は、後述するルイス酸触媒の共存下、化合物(1)のカルボキシル基と化合物(2)のアミノ基とのアミド化反応を誘導しうるシリル化剤であれば、その種類は制限されない。
本発明の製造方法において、アミド化を実施する際には、前記の化合物(1)、化合物(2)、ルイス酸触媒、及びシリル化剤に加えて、他の成分を共存させてもよい。
本発明の製造方法におけるアミド化は、前記の化合物(1)、化合物(2)、ルイス酸触媒、及びシリル化剤、並びに任意により用いられる他の成分を接触させればよい。接触順は特に限定されず、全てを同時に混合してもよく、任意の順序で逐次混合してもよい。
本発明の製造方法におけるアミド化反応の条件は以下のとおりである。
反応温度は、シリル化剤及びルイス酸触媒の共存下、化合物(1)のカルボキシル基と化合物(2)のアミノ基とのアミド化反応が進行する限りにおいて制限されないが、通常0℃以上、中でも10℃以上、特に20℃以上であり、また、通常100℃以下、中でも80℃以下、特に60℃以下であることが好ましい。特に、本発明の製造方法では、例えば60℃以下という穏和条件下でも十分にアミド化反応が進行する点で有利である。
本発明の製造方法は、アミド化により生成された化合物(3)に対して、更に種々の後処理を施してもよい。
・ 1 H-NMR:
測定機器:日本電子社製JEOL 400SS
測定条件:400MHz
測定溶媒:CDCl3(但し実施例28のみCD3OD)
測定機器:日本電子社製JEOL 400SS
測定条件:80MHz
測定溶媒:CDCl3
機器名:島津製作所社製CBM 20A
検出機:島津製作所社製SPD-M20A
カラム:ダイセル社製IA-3(φ4.6mm×25cm)
溶離液:2-プロパノール/n-ヘキサン=2/98(vol/vol)
検出波長:λ=216nm
・実施例1-1:Boc-L-Asp(L-Ala-Ot-Bu)-Ot-Buの製造
L-Ala-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21フリーアミン(アルドリッチ社製)を用いて中和し、L-Ala-Ot-Buとした。
実施例1-1において、Boc-L-Asp(OH)-Ot-Buを、Boc-L-Lys(Boc)-OH(渡辺化学工業社製、692.8mg、2.0mmol)に変更した以外は、実施例1-1と同様の手順を経て合成することにより、Boc-L-Lys(Boc)-L-Ala-Ot-Bu(424.8mg)を得た。収率は90%、ジアステレオマー比>99:1であった。
実施例1-1において、Boc-L-Asp(OH)-Ot-Buを、Boc-L-Pro-OH(渡辺化学工業社製、430.5mg、2.0mmol)に変更した以外は、実施例1-1と同様の手順を経て合成することにより、Boc-L-Pro-L-Ala-Ot-Bu(341.4mg)を得た。収率は99%、ジアステレオマー比>99:1であった。
実施例1-1の手順と同様に、Boc-L-Ala-OH(渡辺化学工業社製、378.4mg、2.0mmol)、Gly-Ot-Bu(コンビブロック社製、131.2mg、1.0mmol)、1-(トリメチルシリル)イミダゾール(308.6mg、2.2mmol)、及びTa(OMe)5(33.6mg、0.10mmol)を入れ、スクリューキャップで蓋をし、アルゴン雰囲気下で密封した。以下、実施例1-1と同様に反応させたところ、白色固体のBoc-L-Ala-Gly-Ot-Bu(290.5mg)を得た。収率は96%、エナンチオマー比は>99:1であった。
L-Trp(Boc)-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Trp(Boc)-Ot-Buとした。
L-Asp(t-Bu)-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Asp(t-Bu)-Ot-Buとした。
L-Cys(Trt)-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Cys(Trt)-Ot-Buとした。
L-Lys(Boc)-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Lys(Boc)-Ot-Buとした。
L-Arg(Mtr)-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Arg(Mtr)-Ot-Buとした。
実施例1-4において、Gly-Ot-Buを、L-Asn-Ot-Bu(渡辺化学工業社製、188.2mg、1.0mmol)に変更し、クロロホルム(0.5mL)を加えた以外は、実施例1-4と同様の方法により、白色固体のBoc-L-Ala-L-Asn-Ot-Bu(345.4mg)を得た。収率は96%、ジアステレオマー比は>99:1であった。
実施例1-4において、Gly-Ot-Buを、L-His(Trt)-Ot-Bu(渡辺化学工業社製、453.6mg、1.0mmol)に変更した以外は、実施例1-4と同様の方法により、白色固体のBoc-L-Ala-L-His(Trt)-Ot-Bu(611.6mg)を得た。収率は98%、ジアステレオマー比は>99:1であった。
実施例1-4において、Boc-L-Ala-OHを、Bz-L-Ala-OH(渡辺化学工業社製、386.4mg、2.0mmol)に変更し、Gly-Ot-Buを、L-Pro-Ot-Bu(渡辺化学工業社製、145.2mg、1.0mmol)に変更した以外は、実施例1-4と同様の方法により、白色固体のBz-L-Ala-L-Pro-Ot-Bu(314.9mg)を得た。収率は91%、ジアステレオマー比は>99:1であった。
実施例1-1において、Boc-L-Ala-OHを、Boc-L-Asn(Trt)-OH(渡辺化学工業社製、949.2mg、2.0mmol)に変更し、また、前記L-Ala-Ot-Buの代わりに、前記L-Ala-Ot-Bu・HCl(181.7mg、1.0mmol)を中和することなくそのまま用いて、DMSO(0.5mL)を追加し、反応温度を40℃に変更した以外は、実施例1-1と同様の方法で反応を行うことにより、同様にBoc-L-Asn(Trt)-L-Ala-Ot-Bu(214.2mg)を得た。収率は71%、ジアステレオマー比は>99:1であった。
・実施例2-1:Boc-β-HoGly-L-Ile-Ot-Buの製造
L-Ile-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Ile-Ot-Buとした。
実施例1-1の手順と同様に、Boc-β-HoGly-OH(渡辺化学工業社製、182.9mg、1.0mmol)、前記L-Ile-Ot-Bu(渡辺化学工業社製、93.6mg、0.5mmol)、1-(トリメチルシリル)イミダゾール(154.3mg、1.1mmol)、及びTa(OMe)5(16.8mg0.05mmol)を入れ、スクリューキャップで蓋をし、アルゴン雰囲気下で密封した。反応温度を40℃で、48時間撹拌した以外は、実施例1-1と同様に反応させたところ、白色固体のBoc-β-HoGly-L-Ile-Ot-Bu(179.0mg)を得た。収率は99%、ジアステレオマー比は>99:1であった。
実施例2-1において、Boc-β-HoGly-OHを、Bz-β-HoGly-OH(東京化成社製、193.2mg、1.0mmol)に変更した以外は、実施例2-1と同様の方法により、白色固体のBz-β-HoGly-L-Ile-Ot-Bu(175.5mg)を得た。収率は97%、ジアステレオマー比は>99:1であった。
実施例2-1において、Boc-β-HoGly-OHを、Boc-L-β-HoAla-OH(コンビブロック社製、203.2mg、1.0mmol)に変更し、L-Ile-Ot-Buを、実施例1-1に記載のL-Ala-Ot-Bu(72.6mg、0.5mmol)に変更した以外は、実施例2-1と同様の方法により、白色固体のBoc-L-β-HoAla-L-Ala-Ot-Bu(160.1mg)を得た。収率は97%、ジアステレオマー比は>99:1であった。
実施例2-1において、Boc-β-HoGly-OHを、Boc-L-β-HoAla-OH(コンビブロック社製、203.2mg、1.0mmol)に変更し、L-Ile-Ot-Buを、L-Val-Ot-Bu(コンビブロック社製、86.7mg、0.5mmol)に変更した以外は、実施例2-1と同様の方法により、白色固体のBoc-L-β-HoAla-L-Val-Ot-Bu(174.7mg)を得た。収率は97%、ジアステレオマー比は>99:1であった。
実施例2-1において、Boc-β-HoGly-OHを、Boc-L-β-HoPhe-OH(渡辺化学工業社製、279.3mg、1.0mmol)に変更し、L-Ile-Ot-Buを、L-Ser(t-Bu)-Ot-Bu(渡辺化学工業社製、108.7mg、0.5mmol)に変更し、反応温度を50℃にした以外は、実施例2-1と同様の方法により、白色固体のBoc-L-β-HoPhe-L-Ser(t-Bu)-Ot-Bu(238.1mg)を得た。収率99%以上、ジアステレオマー比は>99:1であった。
L-Lys(Boc)-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Lys(Boc)-Ot-Buとした。
L-Leu-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Leu-Ot-Buとした。
・実施例3-1:Boc-L-Ala-L-Ala-L-Ala-Ot-Buの製造
L-Ala-OMe・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Ala-OMeとした。
実施例3-1において、Boc-L-Ala-OHを、Boc-Leu-OH(渡辺化学工業社製、115.5mg、0.5mmol)に変更した以外は、実施例3-1と同様の方法により、白色固体のBoc-L-Leu-L-Ala-L-Ala-Ot-Bu(97.5mg)を得た。収率は91%、ジアステレオマー比は>99:1であった。
実施例3-1において、Boc-L-Ala-OHを、Boc-Phe-OH(渡辺化学工業社製、140.1mg、0.5mmol)に変更した以外は、実施例3-1と同様の方法により、白色固体のBoc-L-Phe-L-Ala-L-Ala-Ot-Bu(96.1mg)を得た。収率は83%、ジアステレオマー比は>99:1であった。
実施例3-1において、Boc-L-Ala-OHを、Cbz-Gly-OH(渡辺化学工業社製、104.5mg、0.5mmol)に変更した以外は、実施例3-1と同様の方法により、白色固体のCbz-Gly-L-Ala-L-Ala-Ot-Bu(92.6mg)を得た。収率は91%、ジアステレオマー比は>99:1であった。
L-Leu-OMe・HCl(渡辺化学工業社製)及びGly-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、各々L-Leu-OMe及びGly-Ot-Buとした。
L-Met-OMe・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Met-OMeとした。
L-Val-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Val-Ot-Buとした。
L-Met-Ot-Bu・HCl(渡辺化学工業社製)を、アンバーリストA21 free amineを用いて中和し、L-Met-Ot-Buとした。
アルゴン雰囲気下のグローブボックス内において、乾燥させた5mLスクリューバイアル中に攪拌子と共に、Boc-Gly-Gly-Gly-OH(渡辺化学工業社製、144.6mg、0.50mmol)、Ala-L-Ala-Ot-Bu(54.1mg、0.25mmol)、1-(トリメチルシリル)イミダゾール(77.1mg、0.55mmol)、Ti(Oi-Pr)4(アルドリッチ社製、3.6mg、0.0125mmol)、CHCl3(0.25mL)を入れ、スクリューキャップで蓋をし、密封した。このスクリューバイアルをグローブボックスから取り出し、オイルバス内に設置し、反応温度50℃で、72時間撹拌した後、オイルバスから取り出し、常温まで放冷した。
・参考例1
実施例2-4の前段に記載の方法において、L-Val-Ot-Bu及びTa(OMe)5を使用せず、即ちBoc-L-β-HoAla-OH(203.2mg、1.0mmol)及び1-(トリメチルシリル)イミダゾール(154.3mg、1.1mmol)のみを用いた他は同様の手順により、24時間反応を行った。得られた反応混合物の一部を重クロロホルムに溶解させ、1H-NMR測定及び29Si-NMR測定を行なった。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.20-4.95 (m, 1H, NH), 4.10-3.90 (m, 1H, BocNHCH(CH3)CH2), 2.48 (dd, J = 15.6, 5.5 Hz, 1H, BocNHCH(CH3)CH 2), 2.41 (dd, J = 15.6, 6.4 Hz, 1H, BocNHCH(CH3)CH 2), 1.39 (s, 9H, (CH 3)3COCONHCH(CH3)CH2), 1.16 (d, J = 6.9 Hz, 3H, BocNHCH(CH 3)CH2), 0.24 (s, 9H, CO2Si(CH 3)3).
29Si NMR (80 MHz, CDCl3) δ 17.00.
実施例2-4の前段に記載の方法において、Ta(OMe)5を使用せず、即ちBoc-L-β-HoAla-OH(203.2mg、1.0mmol)、1-(トリメチルシリル)イミダゾール(154.3mg、1.1mmol)、及びL-Val-Ot-Bu(86.7mg、0.50mmol)のみを用いた他は同様の手順により、48時間反応を行った。得られた反応混合物の一部を重クロロホルムに溶解させ、1H-NMR測定及び29Si-NMR測定を行なった。
参考例1より、本願発明の方法において、一般式(1)の化合物に対してシリル化剤を作用させることにより、一般式(1)の化合物のカルボキシル基がシリルエステル化されることが分かる。また、参考例2より、一般式(1)の化合物及び一般式(2)の化合物に対して、シリル化剤のみを作用させると、一般式(1)の化合物のカルボキシル基はシリルエステル化されるものの、一般式(2)の化合物のアミノ基との反応は進行しないことが分かる。言い換えれば、シリル化剤に加えてルイス酸触媒が共存することにより初めて、一般式(1)の化合物のカルボキシル基がシリルエステル化された後、一般式(2)の化合物のアミノ基との間にアミド結合が形成されることが分かる。
Claims (6)
- アミド化合物を製造する方法であって、
一般式(1)により示される化合物の式中右側のカルボキシル基と、一般式(2)により示される化合物の式中左側のアミノ基との間に、ルイス酸触媒及びシリル化剤の存在下、アミド結合を形成させることにより、一般式(3)により示される化合物を合成する工程を含むと共に、
シリル化剤が、下記一般式(4-1)で表されるシリルイミダゾール系化合物である、製造方法。
(但し、上記一般式(1)、(2)、及び(3)において、
R1、R2、R4、及びR5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、若しくはチオール基、又は、1若しくは2以上の置換基を有していてもよい、一価の炭化水素基若しくは複素環式基を表し、ここで、一価の炭化水素基若しくは複素環式基の場合は、連結基を介して窒素原子に結合していてもよく、
R3及びR6は、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基、若しくは水酸基、又は、1若しくは2以上の置換基を有していてもよい、一価の炭化水素基若しくは複素環式基を表し、ここで、一価の炭化水素基若しくは複素環式基の場合は、連結基を介して炭素原子に結合していてもよく、
ここで、R1とR3とが互いに結合して、R1が結合する炭素原子及びR3が結合する窒素原子と共に、1若しくは2以上の置換基を有していてもよい複素環を形成していてもよく、また、R4とR6とが互いに結合して、R4が結合する炭素原子及びR6が結合する窒素原子と共に、1若しくは2以上の置換基を有していてもよい複素環を形成していてもよく、
A1~A4は、それぞれ独立に、1若しくは2以上の置換基を有していてもよい炭素数1~3の二価の脂肪族炭化水素基を表し、
p1~p4は、それぞれ独立に、0又は1を表し、
m及びnは、それぞれ独立に、1以上の整数であり、かつ、[ ]内の構造で表される構成単位の数を表し、
PG1は、アミノ基の保護基を表し、
PG2は、カルボキシル基の保護基を表す。
また、上記一般式(2)の式中左側のアミノ基は、酸と塩を形成していてもよい。)
(但し、上記一般式(4-1)において、R 11 ~R 15 は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、炭素数1~10の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基又はアルコキシ基を表す。) - 前記PG1が、1又は2以上の置換基を有していてもよい一価の炭化水素基又は複素環式基を表す(但し、当該炭化水素基又は複素環式基と、前記PG1が結合するアミノ基の窒素原子との間に、連結基が存在していてもよい)、請求項1に記載の製造方法。
- 前記ルイス酸触媒が、金属触媒である、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 前記金属触媒が、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、タンタル、及びニオブからなる群より選択される1種以上の金属を含む化合物である、請求項3に記載の製造方法。
- 前記工程が、60℃以下の温度で行われる、請求項1~4のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記方法が、前記アミド結合の形成後、前記PG1により保護されたアミノ基及び/又は前記PG2により保護されたカルボキシル基を脱保護することを更に含む、請求項1~5の何れか一項に記載の製造方法。
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