JP7334165B2 - センサシステム - Google Patents

Description

（関連出願の相互参照）
[0001] 本願は、２０１８年２月２０日出願の欧州出願第１８１５７６６６．１号の優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

[0002] 本発明は、レーザビームの特徴を決定するためのシステム及び方法に関し、特に、レーザビームの位置を決定するためのセンサシステムに適用されるが、限定されない。センサシステムは、リソグラフィ装置において使用するためのレーザに関連して使用可能である。

[0003] リソグラフィ装置は、基板上に所望のパターンを付与するように構成された機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。リソグラフィ装置は、例えば、パターニングデバイス（例えば、マスク）において、基板上に提供された放射感応性材料（レジスト）の層上にパターンを投影することができる。

[0004] 基板上にパターンを投影するために、リソグラフィ装置は電磁放射を使用することができる。この放射の波長が、基板上に形成可能なフィーチャの最小サイズを決定する。４～２０ｎｍのレンジ内の波長、例えば６．７ｎｍ又は１３．５ｎｍの波長を有する極端紫外線（ＥＵＶ）放射を使用するリソグラフィ装置を使用して、例えば１９３ｎｍの波長を伴う放射を使用するリソグラフィ装置よりも小さいフィーチャを基板上に形成することができる。

[0005] ＥＵＶ放射源において、ＥＵＶ放射は、レーザビームを用いて燃料ターゲットを照明することによって形成可能である。例えば、ＥＵＶ放射放出プラズマを形成するために燃料に点火するように、レーザビームを誘導して燃料の液滴（例えば、スズの液滴）上に入射させることができる。放出されたＥＵＶ放射は、放射コレクタによって収集し、ＥＵＶリソグラフィ装置に誘導することができる。

[0006] 燃料上に入射するように誘導されたレーザビームは、レーザ源の他の部分とは別のレーザ（例えば、ＣＯ２レーザ）から放出可能である。レーザビームは、放射源の他の部分へと（例えば、ビームデリバリシステム）によって送出すること、並びに、ミラー、レンズ、及びウィンドウなどの、１つ以上の光学コンポーネント（すなわち、レーザビームと光学的に相互作用するコンポーネント）を介して、燃料上に入射するように誘導することが、可能である。例えばレーザビームは、いくつかのミラーにおいて反射を受けることができる。加えてレーザビームは、透過型ウィンドウを介して、放射源の一セクションに入ることができる。必要な特徴を備えるＥＵＶ放射を発生させるために、非常に高い精度でレーザビームをターゲットとしなければならない。複合センサを使用して、レーザビームの存在及び／又は位置に関する情報を取得することができる。こうしたセンサは、通常、レーザビームの一部をイメージセンサ又はフォトディテクタなどのメトロロジユニットに向けて反射させることによって、レーザビームをサンプリングする必要がある。こうしたメトロロジユニットは、レーザシステムにポートを追加する必要がある。加えてレーザビームのサンプリングは、このようにして、放射源に提供されるレーザビームの一部におけるパワーの量を減少させる。更に、レーザビームを燃料に渡すために使用される、レーザ及び／又はレーザビームデリバリシステムのいくつかのコンポーネント内の空間的制約に起因して、こうしたメトロロジユニットを、対象となるすべてのロケーションで同時に使用することはできない。

[0007] 本明細書で説明する第１の例示的配置によれば、レーザビームの経路内に位置する光学コンポーネント及びセンサシステムを備えるシステムが提供される。センサシステムは、光学コンポーネントに配設された導電性要素を備える。光学コンポーネントの動作使用の間、レーザビームは導電性要素上に入射する。システムは、導電性要素の電気抵抗を表す物理量を監視するように動作可能な監視システムを更に備える。監視システムは、物理量に基づき、光学コンポーネントに関したレーザビームの位置及び光学コンポーネントの温度を含むリストから選択される少なくとも１つを決定するように動作可能である。

[0008] 第１の例示的配置は、複雑でかさ高く高価なメトロロジシステムを使用することなく、レーザビームの特徴を監視することができる。このようにして、レーザビームを提供するように構成されたレーザシステムのシードレーザ及び合焦ユニットなどの容量が制約されたエリアにおいて、レーザビームの特徴を監視することが可能である。第１の例示的配置の導電性要素は、光学コンポーネントと直接統合されるため、それによって、光学コンポーネントに対するレーザビームの位置に関するインラインの直接情報が提供される。加えて、センサシステムの導電性要素はレーザビームの経路内に直接統合されるため、位置センサとレーザビームとの間のアライメントは不要である。配置は、例えばレーザビームのビーム経路の設定、診断、及びインライン制御（ミラーステアリングのためのフィードバック信号）を含む、いくつかの目的に使用可能である。加えて、第１の例示的態様のセンサシステムは、レーザビームの位置の測定と同時に、ビーム直径及びビームパワーなどのレーザビームの他の特徴を測定するために使用可能である。

[0009] システムは、物理量に基づく更なるコンポーネントの動作に対して行うべき調整を決定するように動作可能な位置制御システムを更に備えることができる。このようにして、装置は、レーザビームに関連付けられた他のコンポーネントの動作の調整を支援するために、フィードバックベースの調整情報を提供することができる。動作が調整可能な更なるコンポーネントの例は、レーザビームを発生させるように構成されたレーザのコンポーネント、及びレーザビームを所定の部位に送達するように構成されたビームデリバリシステムのコンポーネントを含む。

[00010] 位置制御システムは、調整に従って動作するようにコンポーネントを調整するように動作可能とすることができる。このようにしてシステムを使用し、調整を自動的に実施することができる。位置制御システムは、光学コンポーネントの空間属性、及び、レーザビームの経路上に位置する更なる光学コンポーネントの更なる空間属性のうちの、少なくとも１つを調整するように動作可能とすることができる。システムは、監視される物理量に応じて光学コンポーネントの温度を制御するように動作可能な熱制御システムを、更に備えることができる。

[00011] 導電性要素は、放射ビームの波長よりも短い幅を有する導電性材料のラインを備えることができる。このようにして、レーザビームの経路内における導電性要素の存在が、レーザビームの遠視野に大きな影響を与えることはない。加えて、レーザビームの意図せぬ反射も削減される。

[00012] 導電性要素は、少なくとも１つの貴金属を含む材料から形成することができる。このようにして、導電性要素の周囲ガスとの化学的相互作用を削減又は回避することができる。

[00013] 導電性要素は、光学コンポーネント上又は光学コンポーネント内に配設された複数の導電性要素のうちの１つとすることができる。監視システムは、複数の導電性要素の各々の電気抵抗を表す物理量を監視するように、及び、監視された物理量に基づいて光学コンポーネントに関したレーザビームの位置を決定するように、動作可能とすることができる。複数の導電性要素を提供することによって、光学コンポーネントに対するレーザビームの位置に関するより正確な情報を取得することができる。

[00014] 複数の導電性要素のうちの少なくとも１つは、複数の導電性要素のうちの第２の導電性要素から電気的に絶縁することができる。このようにして、１つの導電性要素の電気的特性（抵抗など）における変化が、他の導電性要素の抵抗の測定に影響を与えることはない。

[00015] 複数の導電性要素のうちの少なくとも１つは、レーザビームの入射の経路に沿った第１の深さにおいて提供され、複数の導電性要素のうちの少なくとも別の１つは、レーザビームの入射の経路に沿った第２の深さにおいて提供されることが可能である。このようにして、導電性要素を互いに電気的に絶縁することは、より容易に達成可能である。例えば、光学コンポーネントが（ウィンドウ又はレンズなどの）透過型光学系を備える場合、光学コンポーネントの対向表面上（例えば、ウィンドウ又はレンズの代替面上）に導電性要素を提供することができる。

[00016] 複数の導電性要素は、光学コンポーネントにおいてレーザビームの入射方向に沿って見た場合、格子パターンを形成することができる。格子パターンは、センサシステムの製造の容易さ、及びレーザビームの位置の正確な決定を可能にするために、導電性要素の特に好適な配置を提供することができる。格子パターンは、レーザビームの入射の経路に沿って第１の方向に延在し、第１の深さに配設された、第１の複数の導電性要素を備えることができる。格子パターンは、レーザビームの入射の経路に沿って第２の方向に延在し、第２の深さに配設された、第２の複数の導電性要素を更に備えることができる。

[00017] 光学コンポーネントは、レーザビームを発生させるように構成されたレーザシステム、レーザシステムから放射源内の燃料ターゲットへとレーザビームを送達するように構成されたビームデリバリシステム、放射源、及び／又はリソグラフィ装置のうちの、いずれか１つの機能コンポーネントとすることができる。機能的という用語によれば、導電性要素のためのプラットフォームを提供することに加えて、及び提供することとは別に、コンポーネントが機能を有することが意図される。

[00018] 光学コンポーネントは、例えば、ミラー、レンズ、及び、実質的にレーザビームに対して透過的なウィンドウを備えることができる。

[00019] 光学コンポーネントは、複数の光学コンポーネントのうちの１つとすることができる。センサシステムは、複数の光学コンポーネントの各々にそれぞれ配設された少なくとも１つの導電性コンポーネントを備えることができる。監視システムは、複数の光学コンポーネントの各々に関したレーザビームの位置を決定するように構成可能である。複数の光学コンポーネントに対するビーム位置を監視するセンサシステムを提供することによって、システムは、レーザビームの特徴をより正確に決定することが可能であり、したがって、より正確な調整を容易にする。

[00020] 本明細書で説明する第２の例示的配置において、放射システムが提供される。放射システムは、レーザビームを生成するためのレーザ、レーザビームの燃料ターゲットとの相互作用を介してプラズマを生成するためのレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）放射源、及び、第１の例示的配置のシステムを備える。

[00021] 本明細書で説明する第３の例示的配置において、リソグラフィシステムが提供される。リソグラフィシステムは、リソグラフィ装置及び第２の例示的配置の放射システムを備える。

[00022] 本明細書で説明する第４の例示的配置において、第１の例示的配置のシステム、第２の例示的配置の放射システム、又は第３の例示的配置のリソグラフィシステムにおいて使用するように構成された、光学コンポーネントが提供される。例えば、光学コンポーネントは、光学コンポーネントの動作使用中に、レーザビームに露光される光学コンポーネント上又は光学コンポーネント内に配設された導電性要素を備えることができる。

[00023] 本明細書で説明する第５の例示的配置において、方法が提供される。方法は、光学コンポーネントの動作使用中に、レーザビームに露光される光学コンポーネント上又は光学コンポーネント内に配設された導電性要素の、電気抵抗を表す物理量を監視すること、並びに、物理量に基づき、光学コンポーネントに関したレーザビームの位置、及び光学コンポーネントの温度を含む、リストから選択される少なくとも１つを決定することを含む。

[00024] 一態様に関連して説明される機構は、他の態様と共に使用することができる。例えば、第５の例示的配置の方法は、第１の例示的配置の監視システム又は下記で説明する監視システムに関連して説明する任意の処理を実行可能であることを理解されよう。

[00025] 次に本発明の実施形態を、添付の概略図を参照しながら単なる例として説明し、図面では同じ参照番号は同じコンポーネントを示す。

リソグラフィ装置及び放射源を備えるリソグラフィシステムを示す図である。 レーザビームの１つ以上の特徴を決定するための例示のセンサシステムを示す図である。 レーザビームの１つ以上の特徴を決定するための更なる例示のセンサシステムを示す図である。 レーザビームの１つ以上の特徴を決定するための更なる例示のセンサシステムを示す図である。 レーザビームの１つ以上の特徴を決定するための更なる例示のセンサシステムを示す図である。 レーザビームの１つ以上の特徴を決定するための更なる例示のセンサシステムを示す図である。 レーザビームの１つ以上の特徴を決定するための更なる例示のセンサシステムを示す図である。 レーザビームの１つ以上の特徴を決定するためのセンサシステムについての導電性要素の配置を示す図である。 センサシステムの監視システムによって実行可能な処理の例を示すフローチャートである。

[00026] 図１は、放射源ＳＯ及びリソグラフィ装置ＬＡを備えるリソグラフィシステムを示す。放射源ＳＯは、ＥＵＶ放射ビームＢを発生させるように、及びＥＵＶ放射ビームＢをリソグラフィ装置ＬＡに供給するように、構成される。リソグラフィ装置ＬＡは、照明システムＩＬ、パターニングデバイスＭＡ（例えば、マスク）を支持するように構成された支持構造ＭＴ、投影システムＰＳ、及び、基板Ｗを支持するように構成された基板テーブルＷＴを備える。

[00027] 照明システムＩＬは、ＥＵＶ放射ビームＢがパターニングデバイスＭＡ上に入射する前に、ＥＵＶ放射ビームＢを調節するように構成される。それに加えて、照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１を含むことができる。ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１は共に、ＥＵＶ放射ビームＢに、所望の断面形状及び所望の強度分布を提供する。照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１に加えて、又はこれらの代わりに、他のミラー又はデバイスを含むことができる。

[00028] ＥＵＶ放射ビームＢは、このように調節された後、パターニングデバイスＭＡと相互作用する。この相互作用の結果として、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’が発生する。投影システムＰＳは、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’を基板Ｗ上に投影するように構成される。そのために投影システムＰＳは、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’を基板テーブルＷＴによって保持される基板Ｗ上に投影するように構成された、複数のミラー１３、１４を備えることができる。投影システムＰＳは、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’に縮小係数を適用すること、したがって、パターニングデバイスＭＡ上の対応するフィーチャよりも小さいフィーチャを伴うイメージを形成することが可能である。例えば、４又は８の縮小係数が適用可能である。図１では、投影システムＰＳは２つのミラー１３、１４の実を有するように示されているが、投影システムＰＳは異なる数のミラー（例えば、６つ又は８つのミラー）を含むことができる。

[00029] 基板Ｗは、以前に形成されたパターンを含むことができる。このような場合、リソグラフィ装置ＬＡは、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’によって形成されたイメージと、基板Ｗ上に以前に形成されたパターンとを位置合わせする。

[00030] 相対的真空、すなわち、大気圧をはるかに下回る圧力での少量のガス（例えば、水素）を、放射源ＳＯ内、照明システムＩＬ内、及び／又は投影システムＰＳ内に提供することができる。

[00031] 図１に示される放射源ＳＯは、例えばレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源と呼ばれるタイプである。例えばＣＯ_２ドライブレーザ１２４を含むことができるレーザシステム１は、レーザビーム２を介して、例えば燃料放出器３から提供されるスズ（Ｓｎ）などの燃料内に、エネルギーを堆積するように配置される。固体レーザ、例えばＹＡＧレーザなどの他のタイプのドライブレーザが実現可能である。下記の説明ではスズに言及しているが、任意の好適な燃料が使用可能である。燃料は、例えば液体の形であってよく、例えば金属又は合金であってよい。燃料放出器３は、例えば液滴の形のスズを軌道に沿ってプラズマ形成領域４に向けて誘導するように構成された、ノズルを備えることができる。図面を不明瞭にしないために、一連の液滴における単一の液滴のみが参照番号１２２で示されている。レーザビーム２は、プラズマ形成領域４においてスズ液滴上に入射する。スズ液滴内へのレーザエネルギーの堆積によって、プラズマ形成領域４においてスズプラズマ７が作成される。ＥＵＶ放射を含む放射は、電子の脱励起及び再結合の間に、プラズマのイオンと共にプラズマ７から放出される。

[00032] プラズマからのＥＵＶ放射はコレクタ５によって収集及び合焦される。コレクタ５は、例えば、近法線入射放射コレクタ５（より一般的には、法線入射放射コレクタと呼ばれることもある）を備える。コレクタ５は、ＥＵＶ放射（例えば、１３．５ｎｍなどの所望の波長を有するＥＵＶ放射）を反射及び合焦するように配置された、多層ミラー構造を有することができる。コレクタ５は、２つの焦点を有する楕円構成を有することができる。下記で考察するように、焦点のうちの第１はプラズマ形成領域４にあり、焦点のうちの第２は中間焦点６にあるものとすることができる。

[00033] 当業者であれば理解されるように、レーザシステム１は、レーザビーム２がプラズマ形成領域４にある液滴に当たる前にレーザビームと相互作用する複数の光学コンポーネントを備えることができる。図に示されたようなレーザシステム１は、ドライブレーザ１２４に加えてビームデリバリシステム１２６を含む。典型的には、ドライブレーザ１２４は放射源ＳＯから空間的に分離することができる。この場合、レーザビーム２は、ビームデリバリシステム１２６の支援によって、ドライブレーザ１２４から放射源ＳＯへと通ることができる。ビームデリバリシステム１２６は、例えば誘導ミラー、ビームエキスパンダ、及び他の光学系などの、光学コンポーネントを備える。ビームデリバリシステム１２６の後、レーザビーム２は光学系アセンブリ１２８、ウィンドウ１６、及び最終ユニット１３０を通った後、プラズマ形成領域４にある液滴に当たる。光学系アセンブリ１２８及び最終ユニット１３０は、再度、レーザビーム２を誘導及び調節するための光学コンポーネントを備える。こうした光学コンポーネントは、１つ以上のミラー、１つ以上のビームエキスパンダ、１つ以上のビームコンプレッサを含むことができる。完全にするために、ビームエキスパンダ又はビームコンプレッサは、典型的にはミラーを使用して実装されることを述べておく。ウィンドウ１６は、レーザビーム２を通しながら、閉鎖構造９内で相対的真空を保持する働きをする。

[00034] コレクタ５によって反射されるプラズマからの放射は、ＥＵＶ放射ビームＢを形成する。ＥＵＶ放射ビームＢは中間焦点６で合焦され、プラズマ形成領域４にあるプラズマの中間焦点６においてイメージを形成する。中間焦点６におけるイメージは、照明システムＩＬのための仮想放射源として作用する。放射源ＳＯは、中間焦点６が、放射源ＳＯの閉鎖構造９内の開口８に、又は開口８の近くに位置するように、配置される。

[00035] 下記で更に詳細に説明するように、レーザシステム１は監視システム１７を備える。監視システム１７は、レーザビーム２の経路内に位置する光学コンポーネント上のレーザビーム２の位置を監視するように構成される。こうした光学コンポーネントの例は、レーザビーム２が閉鎖構造９に入る際に通過するウィンドウ１６である。こうした光学コンポーネントの他の例は、ドライブレーザ１２４内のレンズ、ドライブレーザ１２４内のミラー、ドライブレーザ１２４内のウィンドウ、ビームデリバリシステム１２６内のミラー、光学系アセンブリ１２８内のミラー、光学系アセンブリ１２８内のウィンドウ、最終ユニット１３０内のミラー、最終ユニット１３０内のウィンドウなどである。レーザビーム２の経路上の光学コンポーネントに関したレーザビーム２の適切な位置は、プラズマ形成領域４にある液滴の最終位置に関したレーザビーム２のアライメントに関連する。こうした液滴は、燃料放出器３によって生成されるとき、数十ミクロンの範囲内の典型的な寸法を有する。ドライブレーザ１２４がレーザビーム２を、例えばナノ秒レンジ内、更にはピコ秒レンジ内のパルスで提供するという事実を考えると、レーザビーム２の適切なアライメント及びレーザパルスの適切なタイミングがＥＵＶ放射源ＳＯの性能を決定することは明白である。

[00036] 代替又は追加として、監視システム１７は、レーザビーム２の経路内に位置するこうした光学コンポーネントの温度を監視するように構成される。レーザビーム２は高出力レーザビームであり得るため、レーザビーム２の経路内の光学コンポーネントは高い熱負荷にさらされる。したがって光学コンポーネントは、典型的には冷却されるか、あるいはその他の方法で熱的に調節される。例えば、こうした光学コンポーネントの温度が高過ぎると、例えばレーザビーム２の放射の波長などの特徴に望ましくない様式で著しく影響を及ぼすだけでなく、より深刻には、光学コンポーネントの破壊、したがってリソグラフィシステム全体の麻痺につながることさえあり得る。

[00037] 上記で述べたように、監視システム１７は、レーザビーム２の経路内の１つ以上の光学コンポーネントを監視する。一方で監視された光学コンポーネントに対するレーザビームの相対的位置と、他方で光学コンポーネントに対するレーザビームの所望の位置と、の間に矛盾が検出されるとすぐに、監視システム１７は制御システム１３４に出力信号を提供する。制御システム１３４は、例えば、レーザビーム２の経路に沿った光学コンポーネントの位置、光学コンポーネントの配向（ヨー、ピッチ、ロール）、又は光学コンポーネントの曲率などの、レーザシステム１内の光学コンポーネントの空間属性を、監視システム１７からの出力信号に依存して調整するように動作可能な、アクチュエータシステム１３６を備える。このため、監視システム１７からの出力信号の制御の下で空間属性を調整するように構成された、１つ以上のアクチュエータ（図示せず）が提供される。完全にするために、図１ではアクチュエータシステム１３６は、図が見やすいように、ドライブレーザ１２４から、ビームデリバリシステム１２６から、光学系アセンブリ１２８から、及び最終ユニット１３０から、空間的に分離されるように示されており、各々が監視される１つ以上の光学コンポーネントを含むことができることを述べておく。アクチュエータシステム１３６は、監視システム１７によって提供される信号の制御の下で空間属性が調整可能である光学コンポーネントに位置する１つ以上のアクチュエータを含むことができる。

[00038] 前述のように、監視システム１７は、ドライブレーザ１２４に収容された、又はビームデリバリシステム１２６に収容された、又は光学系アセンブリ１２８に収容された、又は最終ユニット１３０に収容された、光学コンポーネントの温度を監視することができる。一方で監視された温度と、他方で所望の温度と、の間に矛盾が検出されるとすぐに、監視システム１７は制御システム１３４に出力信号を提供する。制御システムは、例えば、監視システム１７からの出力信号に依存して光学コンポーネントの温度を制御するように構成された、熱制御システム１３８を備える。レーザビーム２の経路内の光学コンポーネントは、典型的には、光学コンポーネントと熱的に接触している冷却水を介して冷却される。例えばミラーは、バルク材料と熱的に接触しているその反射表面を有し、レーザシステムを介して流れる冷却水のための導管として働くチャネルはこのバルク材料を通過する。レンズ及びミラーは、典型的には、冷却水のためのチャネルを有するそれらの取り付け部を介して冷却される。次いで、監視システム１７からの出力信号は、監視される光学コンポーネントに局在する水の流れを制御するための熱制御システム１３８を介して使用される。熱制御システム１３８は、レーザビーム２のパワーを低下させるように、又はレーザビーム２の発生を休止させるように、更に動作可能とすることができる。

[00039] 図２は、本発明に従ったシステムの第１の実施形態２００を示す図である。システム２００は、レーザビーム２の経路２０２を備え、経路は、入口２０４と出口２０６との間であるものとみなされる。図１のレーザシステム１の光学コンポーネント２０８は、経路２０２上に位置する。光学コンポーネント２０８は、前述のように、例えばミラー、レンズ、又はウィンドウを含む。

[00040] 光学コンポーネント２０８は、図１を参照しながら考察したリソグラフィシステムにおいて、実施形態２００の動作使用中にレーザビーム２に露光される導電性要素１８を備える。監視システム１７は、導電性要素１８の電気抵抗を表す物理量を感知するように構成された、センシングシステム２１２を備える。光学コンポーネント２０８は、レーザビーム２に露光される１つ以上の更なる導電性要素、例えば更なる導電性要素２１４を備えることができる。次いで、センシングシステム２１２は、更なる導電性要素２１４の更なる電気抵抗を表す更なる物理量を感知するように構成可能である。センシングシステム２１２の実施形態を、下記で更に考察する。このように感知された１つ以上の物理量に基づいて、監視システム１７は、アクチュエータシステム１３６に信号を供給する。アクチュエータシステム１３６は、例えば１つ以上のピエゾアクチュエータ、又はステッパモータなどを備える。受信した信号に応答して、アクチュエータシステム１３６は、光学コンポーネント２０８の空間属性を調整する。例えば空間属性は、経路２０２に沿った光学コンポーネントの位置、入射レーザビーム２の方向に対する光学コンポーネント２０８の配向、光学コンポーネント２０８の表面の曲率のうちの１つ以上であり、表面はレーザビーム２と相互作用する。

[00041] 実施形態２００において、監視システム１７は、熱システム１３８に更なる信号を提供することができ、これに応答して熱システム１３８は、例えば冷却水流の調整を介して光学コンポーネント２０８の温度を制御する。

[00042] 図３は、本発明におけるシステムの第２の実施形態３００を示す図である。第２の実施形態３００は、導電性要素１８と共に提供される光学コンポーネント２０８を備える。第２の実施形態３００は、センシングシステム２１２を含む監視システム１７を更に備える。第２の実施形態３００は、アクチュエータシステム１３６及び熱システム１３８も含む。第２の実施形態３００は、例えば、レーザビーム２の伝搬方向において、更なる光学コンポーネント３０２を光学コンポーネント２０８より前に置くように、経路２０２上に位置決めされた更なる光学コンポーネント３０２を有する。第２の実施形態３００において、センシングシステム２１２は、導電性要素１８の電気抵抗（又は導電率）を表す物理量を感知するように動作可能である。次いで、監視システム１７は、光学コンポーネント２０８に関したレーザビーム２の位置を調整するように、更なる光学コンポーネント３０２の空間属性を調整するように動作可能なアクチュエータシステム１３６に、信号を供給する。空間属性の例は上記で記載している。同様に、監視システム１７は、例えば冷却水の流量の制御によって光学コンポーネント２０８の（及び／又は、更なる光学コンポーネント３０２の）熱調節を調整するように動作可能な熱調節システム１３８に、別の信号を提供することができる。

[00043] 図４は、導電性要素１８と相互作用するセンシングシステム２１２の例１５をより詳細に示す概略図である。図４において、導電性要素１８は、図１に示された光学コンポーネント２０８、ここではウィンドウ１６の表面１９上に提供される。導電性要素１８は導電性材料のライン（又は、「トレース」）を備え、ラインは（ページを縦長に見たときに垂直に延在するように示された）縦軸Ａを画定する。表面１９は、ウィンドウ１６の「前面」又は外向面（すなわち、放射源ＳＯ内部を向いていない表面）であるが、これは単なる例であり、導電性要素１８は代替として、（ウィンドウ１６の内向面上、又はウィンドウ１６内に埋め込まれるなど）光学コンポーネント１９上のどこにでも提供可能であることが理解されよう。

[00044] センシングシステム２１２は、導電性要素１８内の電気抵抗の測定を可能にするように構成された計器２０を含む。計器２０は、例えばオーム計を含むことができる。監視システム１７は、図１、図２、図３及び図４において単一のボックスによって概略的に示されているが、当業者であれば明らかなように、監視システム１７は複数のコンポーネントを備えることが可能であること、及び、例えば１つ以上のコンピューティングデバイス又は信号処理デバイスを備えることが可能であることが理解されよう。

[00045] ウィンドウ１６上での（例えば、放射源ＳＯによって放射ビームＢを発生させるためにレーザシステム１を使用する間の）レーザビーム２の受信が、導電性要素１８のロケーションにおけるウィンドウ１６の温度を変化させる可能性がある。導電性要素はウィンドウと熱的に接触しているため、導電性要素１８も、導電性要素１８の抵抗を変化させる温度の変化を経験することになる。例えば導電性要素１８は、電気抵抗の正又は負の温度係数、及び／又は、正又は負の光伝導性を呈する、材料を備えることができる。このようにして、導電性要素１８の抵抗を検出することによって、監視システム１７は、レーザビーム２がウィンドウ１６上に入射するかどうか／入射する場所を、特定することができる。

[00046] 加えて、下記でより詳細に説明するように、レーザビーム２の強度プロファイルがレーザビーム２の断面エリア全体にわたって異なる場合、導電性要素１８の抵抗を検出することによって、監視システム１７は、ウィンドウ１６に対するレーザビーム２の位置に関する情報を決定することができる。より詳細には、ウィンドウ１６に対する導電性要素１８のロケーションを知ることができる。単なる例として、導電性要素１８はウィンドウ１６の中央部分に配設することができる。レーザビーム２の断面の特定エリアによるウィンドウ１６の露光から、結果として導電性要素１８の検出される抵抗が予測される場合、監視システム１７は、特定エリアがウィンドウ１６の既知のロケーション上に現在入射しているものと決定することができる。

[00047] 一般に、導電性要素１８は、温度の変化に応答して電気抵抗の変化を提供する任意の好適な材料を備えることができる一方で、導電性要素１８のための材料の特定の選択は、特有の変動する適用要件に依存することができる。加えて、導電性要素１８は前述のようにウィンドウ１６上に配置される一方で、センシングシステム２１２は、追加又は代替として、プラズマ形成領域４にある燃料液滴に向かうレーザビーム２の経路上の他の光学コンポーネント上に配置された導電性要素を備えることができる。導電性要素のための材料の選択は、導電性要素が配置される光学コンポーネントに依存することができる。

[00048] いくつかの例示の配置において、酸化に対する耐性のある導電性要素１８のための材料を選択することが望ましい場合がある。例えば、いくつかの例示の配置において、導電性要素１８は、プラチナ、金、又は銀などの貴金属を含むことができる。いくつかの例示の配置において、導電性要素１８は、抗酸化層を備えることができる。導電性要素１８のための材料を選択する際の追加の考慮事項は、いくつかの適用例について、導電性要素１８を収容する光学コンポーネントにおけるレーザビーム２の存在によって生じる導電性要素の温度変化に応答した、抵抗性変化の大きさとすることができる。例えば、電気抵抗の高い温度係数を有する材料を選択することが望ましい場合がある。例えば、銀、金、及びプラチナなどの好適な材料は、それぞれ、およそ１度Ｃ当たり０．００３８、およそ１度Ｃ当たり０．００３９、及び１度Ｃ当たり０．００３４の、電気抵抗の温度係数を有する。

[00049] 導電性要素が光学コンポーネントの表面上に位置決めされている（すなわち、光学コンポーネント内に埋め込まれていない）場合、導電性要素は、位置決めされた表面全体にわたる拡散を防ぐために、十分低い表面拡散係数を有することが望ましい場合がある。導電性要素の表面拡散は、導電性要素の材料及び光学コンポーネントの材料の両方、並びに局所温度に依存し得ることを理解されよう。

[00050] 図４の例示の配置では、導電性要素１８はウィンドウ１６の表面１９上に存在するように示されているが、導電性要素１８は、ウィンドウ１６上又はウィンドウ１６内に提供可能である。例えば、他の例示の配置において、導電性要素は光学コンポーネント内に埋め込むことができる。このようにして、例えば導電性要素の酸化及び表面拡散を低減させることができる。

[00051] 再度図４を参照すると、導電性要素１８は、任意の好適な技法を使用してウィンドウ１６の表面１９に印加することができる。単なる例として、導電性要素１８は、リソグラフィ、スクリーン印刷、インクジェット印刷、レーザ印刷、積層造形などのうちの、任意の１つ以上を含む技法を使用する選択的堆積によって、光学コンポーネントに印加することができる。一実施形態において、導電性要素１８は、炭化プロセスを介して光学コンポーネントに印加することができる。例えば、光学コンポーネントの表面の一部の表面炭化を生じさせるために、光学コンポーネントの表面においてレーザを誘導することができる。表面の炭化部分は、導電性要素１８を提供することができる。

[00052] 光学コンポーネント１６は透過型光学系（特に、ウィンドウ又はレンズ）の形を取るが、本明細書で説明する技法は、反射型光学系（特に、ミラー）にも等しく適用可能であることを理解されよう。

[00053] 印加される光学コンポーネントの表面からの導電性要素１８の電気抵抗に与える任意の影響を低減させるために、導電性要素１８は光学コンポーネント１６から電気的に絶縁されることが望ましい。例えば、導電性要素１８が光学コンポーネントの表面に直接印加される場合、光学コンポーネントの表面は導電性でないものと保証されることが望ましい可能性がある。代替として、光学コンポーネントの表面が導電性である場合、導電性要素１８と光学コンポーネントの表面との間に電気的絶縁バリアを提供することができる。例えば、光学コンポーネントの表面と導電性要素１８との間に電気的絶縁バリアを作成するために、導電性要素１８、又は導電性要素１８が印加される光学コンポーネントの表面の少なくとも一部のいずれかに、非導電性コーティングを印加することができる。したがって、光学コンポーネント上又は光学コンポーネント内に導電性要素が提供されることが示される場合、これは、導電性要素がこうした絶縁バリアによって光学コンポーネントから分離されていることを除外しないことを理解されよう。

[00054] 図５を参照すると、導電性要素１８の幅は、（いくつかの光学コンポーネントについて、表面１９は湾曲可能であることを理解して）、表面１９によって一般に画定される平面内の、導電性要素１８の縦軸Ａに対して直角な方向２２の導電性要素１８の範囲であるとみなされる。導電性要素１８は任意の好適な幅を有することができ、実際の幅は特定の適用例に依存することができる。

[00055] いくつかの例示の配置において、導電性要素１８の幅は好ましくは小さい。いくつかの例示の配置において、導電性要素１８の幅はレーザビーム２の波長よりも短い。このようにして、レーザビーム２の経路内での導電性要素１８の存在が、レーザビーム２の遠視野に著しい影響を与えることはなく、導電性要素１８によるレーザビーム２の意図しない反射は低減されることになる。例えば、レーザシステム１がＣＯ_２レーザを備える場合、導電性要素はおよそ９～１０マイクロメートルより短い幅を有することができる。更に、導電性要素の幅が増加すると、導電性要素１８はレーザ放射に対してより多く露光されることになり得、これによって当然、レーザシステム１の使用中、導電性要素１８の温度は上昇する。導電性要素１８の幅を減少させることによって、レーザ光の吸収の結果としての光学コンポーネント１８の望ましくない加熱を低減させることができる。

[00056] 前述のように、導電性要素１８は、（高パワー）レーザビームの放射の経路内に入り、導電性要素１８が熱負荷を受けるように、光学コンポーネント１６に収容される。導電性要素１８と周囲環境、この場合には光学コンポーネント１６との間の熱伝達には、２つの主なメカニズムがある。

[00057] 第１のメカニズムは、光学コンポーネント１６と導電性要素１８との間の熱伝導率に関する。光学コンポーネント１６と導電性要素１８との間には大きな熱容量の差があるため、導電性要素１８の温度は光学コンポーネント１６の温度を前提とする。このプロセスの速さは主に２つの要因に依存する。

[00058] 第１の要因は、光学コンポーネント１６の熱伝導率である。導電性要素１８と接触している光学コンポーネント１６の材料の熱伝導率が高いほど、導電性要素１８の温度が光学コンポーネント１６の温度に達するのが速くなる。

[00059] 第２の要因は、導電性要素１８の寸法に関する。このコンテキストでは、文献「Insensitivity of the catastrophic damage threshold of laser optics to dust and other surface defects」、H.E.Bennet、STP759-EB/1981年10月、256～264頁が参照される。著者は、とりわけ、レーザ光学系コンポーネントにおけるダスト又は他の表面欠陥が小さな分離損傷部位を生じさせる可能性があるが、これらの部位は、欠陥がクリティカルディメンションを超えない限り壊滅的な損傷を生成することはないことを示している。ミラー表面上の欠陥部位が達する温度の分析は、臨界サイズを下回る欠陥には定常状態条件が存在することを示す。こうした定常状態において、ミラー表面内への拡散による熱損失は、照射によって生じる熱利得に等しい。

[00060] ラインセグメントの形状を有する導電性要素１８の例、すなわち、その長さ「Ｌ」はその幅「Ｗ」よりも大幅に大きいが、この例を事実上２次元として扱うことが可能なように、その厚み「ＴＨ」は無視できるほど小さい例を考えてみる。Ｂｅｎｎｅｔ氏の分析は、導電性要素１８の幅「Ｗ」対長さ「Ｌ」の比が小さいほど、導電性要素１８が光学コンポーネント１６の温度に達するのが速くなることを示している。

[00061] 第２のメカニズムは、導電性要素１８によるレーザビームの電磁放射の吸収に関する。関与する関連パラメータの範囲内で、吸収は、電磁放射に露光される導電性要素１８の表面積に比例する。

[00062] したがって、レーザビームの電磁放射の吸収の結果として、導電性要素１８内に熱が発生する。結果として、導電性要素１８は温められる。この効果は表面積「Ａ」に依存する。他方で、導電性要素１８は、光学コンポーネント１６の近接材料への熱伝達の結果として冷却される。導電性要素１８から光学コンポーネント１６の近接材料への熱伝達は、この近接材料の熱伝導率、並びに導電性要素１８の幅対長さの厚み比に依存する。したがって、光学コンポーネント１６の材料の熱伝導率の適切な選択によって、及び、導電性要素１８の寸法の適切な選択によって、冷却は、導電性要素がレーザビームによって焦がされるのを防ぐことになる。

[00063] 導電性要素１８が形成される材料、及び光学コンポーネントに関した導電性要素１８の配置（例えば、表面上に配置するか又は表面内に埋め込む）に依存して、導電性要素の寸法は、導電性要素１８の表面拡散係数に基づいて決定することができる。例えば、いくつかの例示の配置において、導電性要素１８の有害な表面拡散を防ぐだけの十分な大きさの幅を、導電性要素１８に与えることが必要な場合がある。

[00064] 図４及び図５に示される例示の配置は単一の導電性要素１８を示しているが、他の例示の配置では、複数の導電性要素が提供可能である。複数の導電性要素を提供することによって、監視システム１７は、光学コンポーネントに関したレーザビーム２の位置に関するより正確な情報を提供することができる。光学コンポーネントにおいて複数の導電性要素が提供される場合、複数の導電性要素のうちの１つ以上は、複数の導電性要素のうちの他の１つ以上とは異なる幅を有することができる。このようにして、複数の導電性要素のうちの異なる導電性要素の幅は、前述のように、異なる情報（例えば、レーザビーム２の位置、光学コンポーネントの温度、などに関する情報）を、監視システム１７に提供するように調節することができる。

[00065] 図６及び図７は、ウィンドウ１６に収容された導電性要素１８及び第２の導電性要素２４と相互作用する、センシングシステム２１２の別の例１５’を概略的に示す。第２の導電性要素２４は、図１の図面に示されたエンクロージャ９の内側に向いた光学コンポーネント（ウィンドウ）１６の表面２５上に提供される。導電性要素２４は、監視システム１７のセンシングシステム２１２の一部であるオーム計２６に電気的に接続される。図７を見ると最もわかりやすいように、要素２４は、導電性要素１８の縦軸Ａに垂直な（ページを縦長に見たときに水平に延在するように示された）縦軸Ｂを有する。このようにして、２次元でのレーザビーム２の相対的位置に関して、及び、レーザビーム２の断面エリアのより大きな部分にわたって、情報を集めることが可能であり、要素１６、２４に対して、及びしたがって、光学コンポーネント１６に対して、レーザビーム２の位置を決定する際に、より高い精度が可能になる。

[00066] 図６及び図７において、導電性要素１８、２４の間での電気的干渉を防ぐために、導電性要素１８、２４は光学コンポーネント１６の対向表面上に配設される（対向表面は、それぞれ前及び後ろ、又はそれぞれ内向及び外向と呼ぶことができる）。しかしながら、要素１８、２４は、他の手段によって、及び任意の好適な様式で、互いに電気的に分離可能であることを理解されよう。例えば、導電性要素１８、２４が光学コンポーネント１６の材料によって分離されるように、導電性要素１８、２４のうちの一方を光学コンポーネント１６の内部に埋め込み、導電性要素１８、２４のうちの他方を表面（例えば、表面１９）上に提供するか、又は異なる深さで埋め込むことが可能である。他の例示の配置において、導電性要素１８、２４は一般に、光学コンポーネント１６の同じ表面（例えば、表面１９）上に、又は同じ表面に近接して配設することが可能であり、電気的絶縁層を導電性要素１８、２４の間に提供することが可能である。別の例示の配置において、導電性要素１８、２４を互いに電気的に分離するために、要素１８、２４に各々、透明（又は半透明）であるが電気的に絶縁の、コーティング又はシースを提供することができる。

[00067] ２つより多くの導電性要素を単一の光学コンポーネントで提供することができることを理解されよう。例えば、パターンを形成するために複数の導電性要素を提供することができる。格子パターン２６を形成するために複数の導電性要素を備える更なる例１５’’が、図８に概略的に示されている。格子パターン２６は、第１の複数の導電性要素２７（ページを縦長に見たときに各々が垂直に延在するように示される）、及び、各々が第１の導電性要素２７のセットの各々に対して概して垂直に延在する、第２の複数の導電性要素２８（ページを縦長に見たときに水平に延在するように示される）から形成される。図７の導電性要素１８、２４を参照しながら上記で説明したように、第１の複数の導電性要素２７は、第２の導電性要素２８のセットから電気的に分離することができる。単なる例として、第１の複数の導電性要素２７は、光学コンポーネントの第１の表面（例えば、光学コンポーネント１６の表面１９）上に提供可能であり、第２の複数の導電性要素２８は、光学コンポーネントの第２の表面（例えば、光学コンポーネント１６の表面２５）上に提供可能である。

[00068] 当業者であれば、本明細書の教示に照らして、導電性要素の他の可能な配置及びパターンが容易に明らかとなろう。一般に、より多くの導電性要素は、より多くの断面強度プロファイルのサンプルを可能にするため、レーザビーム２の位置をより正確に決定できることを理解されよう。

[00069] レーザビーム２の位置を示す情報は、いくつかの手法のいずれかで生成可能である。単なる例として、監視システム１７は、様々な強度の放射による露光に応答して、導電性要素の予想される電気抵抗のモデル（又は、電気抵抗における予想される変化）を記憶することができる。監視システム１７は、記憶されたモデルを、光学コンポーネント１６に対して既知の位置を有する特定の導電性要素の抵抗（又は抵抗における変化）を示す受信された値と、比較することができる。このようにして、既知の位置の導電性要素の各々の抵抗（又は抵抗における変化）を決定することを介して、監視システム１７は、放射ビームの位置を示す情報を生成することができる。更なる例として、監視システムは、レーザビーム２の断面エリアの特定の事前に定義された部分による露光に応答して、導電性要素の予想される電気抵抗のモデル（又は、電気抵抗における予想される変化）を記憶することができる。このようにして、監視システム１７は、光学コンポーネントに対するレーザビーム２の位置を決定するために、導電性要素の測定された抵抗をレーザビーム２の断面エリアの一部と突き合わせることができる。

[00070] レーザビーム２の位置を決定するために使用される特定の方法及びアルゴリズムは、導電性要素の構成に依存し、当業者であれば本開示から好適な方法が容易に明らかとなるであろうことを理解されよう。

[00071] 位置情報に加えて、本明細書で説明するタイプのセンサシステムは、レーザビームの断面強度プロファイル、ビーム直径、及びビームパワーなどの、レーザビームに関する追加又は代替の情報を決定するように構成可能であることを理解されよう。実際に、本明細書で説明するセンサシステムは、前述の技法を使用してレーザビーム２の断面強度プロファイルのサンプルを取ることによって決定可能な、レーザビーム２の任意の特徴を決定できることを理解されよう。更に、本明細書で説明するセンサシステムは、複数の特徴を同時に決定するために使用できることを理解されよう。

[00072] 図９は、監視システム１７によって実行可能な処理の例を示すフローチャートである。ステップＳ１において、監視システム１７は、センシングシステム２１２を介して、１つ以上の導電性要素の電気抵抗を表す１つ以上の値を取得又は受信する。ステップＳ２において、監視システム１７は、受信した値を処理してレーザビーム２の１つ以上の特徴を決定する。例えば前述のように、監視システムは、レーザビーム２の存在を決定するように構成可能である。特に、電気抵抗を表す値が所定の閾値又は少なくとも所定の量の変化と一致するとき、レーザビーム２が存在する（すなわち、光学コンポーネントと相互作用する）旨を決定することができる。実際の閾値は、特定の適用例（導電性要素の材料及び幅、光学コンポーネントの材料、光学コンポーネントに関した導電性要素の位置決め、レーザビームのパワーなどを含む）に応じて変化することを理解されよう。加えて監視システム１７は、図４から図８を参照しながら上記で説明したように、レーザビーム２の位置を決定することができる。追加又は代替として、監視システム１７は、センシングシステム２１２に関連付けられた光学コンポーネントの温度を決定することができる。例えば、前述のように、導電性要素が（導電性要素及び光学コンポーネントの材料を考慮して）好適に狭い幅を有する場合、導電性要素の温度は、上（又は内部）に配設される光学コンポーネントの温度にほぼ等しくなる。

[00073] ステップＳ３からＳ６は、これらのステップが図９の例示の処理に対して任意選択であることを示すために、破線の輪郭で示されている。例えば、監視システム１７がレーザシステム１を直接制御するように構成されている場合、監視システムは、デフォルトにより、監視された特徴の指示をユーザに出力するように構成されていない（例えば、こうした出力はオンデマンドで提供可能であるか、又はまったく提供されない）可能性があることを理解されよう。

[00074] ステップＳ３において、監視システム１７は、決定された特徴を任意選択で出力することができる。例えば監視システムは、当業者であれば容易に理解されるように、特徴の指示をディスプレイデバイス（図示せず）に、又は任意の他の出力デバイスに出力することができる。決定された特徴を出力することによって、監視システム１７は、センサシステムのユーザにフィードバックを提供することができ、ユーザが、レーザシステム１、ビームデリバリシステム、及び／又は、リソグラフィ装置に伴う問題を診断できるように、又は実行できる改良点を決定できるようにする。

[00075] ステップＳ４からＳ６は、レーザシステム１、放射源ＳＯ、又はリソグラフィ装置ＬＡのコンポーネントの制御に関係する。ステップＳ４において、監視システム１７は、ステップＳ２で決定された特徴に基づいて調整が必要であるかどうかを決定する。例えば、特徴がレーザビーム２の位置である場合、監視システム１７は、レーザビーム２の位置が正しくないこと、及び調整すべきであることを決定できる。更なる例として、特徴が光学コンポーネントの温度である場合、監視システム１７は、温度が高過ぎること、及びレーザビーム２のパワーを低下させるべきであるか、又は、レーザ１が休止されるべきか、又は冷却水の流量を増加させるべきであることを決定できる。別の例では、監視システム１７は、光学コンポーネントの温度が所定の閾値を大幅に下回っていることを決定し、それによって、例えばレーザビーム２のパワーを安全に上昇できることを示すことができる。

[00076] ステップＳ４において、調整が不要であるものと決定された場合、処理はステップＳ１に戻る。他方で、ステップＳ４において調整が必要であるものと決定された場合、処理はステップＳ５へと進み、監視システム１７は、１つ以上のコンポーネント（例えば、レーザ１、ビームデリバリシステム、及び／又は、リソグラフィ装置ＬＡの１つ以上のコンポーネント）を制御するのに好適な１つ以上の制御命令を生成する。ステップＳ６において、コンポーネントの制御を達成するために１つ以上の制御命令が出力される。追加又は代替として、監視システム１７は、ステップＳ４において、オペレータに調整を行わせるためのプロンプトとして、コンポーネントに対して行うべき調整の指示を出力することができる。

[00077] 上記で説明したセンサシステムは、ＥＵＶ放射源と組み合わせて使用されるレーザシステムを参照しながら説明しているが、本明細書で説明するセンサシステムは、任意のレーザシステムと共に使用可能であることを理解されよう。したがって、本明細書で説明する技法は、上記ではＥＵＶリソグラフィ装置と組み合わせて説明しているが、深紫外線（ＤＵＶ）リソグラフィ装置などの他の形のリソグラフィ装置と共に使用可能であることを理解されよう。

[00078] 本書では、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用を特に参照可能であるが、本明細書で説明するリソグラフィ装置は他の適用例も有し得ることを理解されたい。可能な他の適用例は、集積光学システムの製造、磁気ドメインメモリのためのガイダンス及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどを含む。

[00079] 本書では、リソグラフィ装置との関連において本発明の実施形態を特に参照可能であるが、本発明の実施形態は他の装置内での使用も可能である。本発明の実施形態は、マスク検査装置、メトロロジ装置、あるいは、ウェーハ（又は、他の基板）又はマスク（又は、他のパターニングデバイス）などのオブジェクトを測定又は処理する任意の装置の、一部を形成することができる。これらの装置は、一般にリソグラフィツールと呼ばれる。こうしたリソグラフィツールは、真空状態又は大気（非真空）状態を使用することができる。

[00080] 状況が許せば、本発明の実施形態は、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、又はそれらの任意の組み合わせにおいて実装可能である。本発明の実施形態は、１つ以上のプロセッサによる読み取り及び実行が可能な、機械可読媒体上に記憶された命令としても実装可能である。機械可読媒体は、機械（例えば、コンピューティングデバイス）によって可読な形で情報を記憶又は伝送するための任意のメカニズムを含むことができる。例えば機械可読媒体は、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリデバイス、電気、光、音響、又は他の形の伝搬信号（例えば、搬送波、赤外線信号、デジタル信号など）、及びその他を含むことができる。更に、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令は、本明細書ではあるアクションを実行するものとして説明可能である。しかしながら、こうした説明は単なる便宜的なものであり、こうしたアクションは実際にはコンピューティングデバイス、プロセッサ、コントローラ、又は、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令などを実行する他のデバイスから結果的に生じること、及びこれを実行することで、アクチュエータ又は他のデバイスを物理世界と相互作用させることができることを理解されたい。

[00081] 本発明の特定の実施形態について上記で説明してきたが、本発明は説明した以外の方法で実践可能であることを理解されよう。上記の説明は例示的であり、限定的ではないものと意図される。したがって当業者であれば、下記に示される特許請求の範囲を逸脱することなく、本発明を説明したように変更可能であることを理解されよう。

Claims (22)

1. レーザビームの経路内に位置する光学コンポーネントと、センサシステムと、を備えるシステムであって、
   前記センサシステムは、前記光学コンポーネントに配設された導電性要素であって、前記システムの使用の間、前記レーザビームは前記導電性要素上に入射する、導電性要素と、監視システムと、を有し、
   前記監視システムは、前記導電性要素の電気抵抗を表す物理量を監視するように、及び、前記物理量に基づき前記光学コンポーネントに関した前記レーザビームの位置及び前記光学コンポーネントの温度を決定するように、動作可能であり、
   前記導電性要素は、前記レーザビームの波長よりも短い幅を有する導電性材料のラインを備える、システム。
2. 前記物理量に基づく更なるコンポーネントの動作に対して行うべき調整を決定するように動作可能な、位置制御システムを更に備える、請求項１に記載のシステム。
3. 前記更なるコンポーネントは、前記レーザビームを発生させるように構成されたレーザシステム、前記レーザビームを所定の部位に送達するように構成されたビームデリバリシステムのうちの、少なくとも１つのコンポーネントである、請求項２に記載のシステム。
4. 前記位置制御システムは、前記物理量に基づいて前記光学コンポーネントに関した前記レーザビームの前記位置を調整するために、前記更なるコンポーネントを制御するように動作可能である、請求項２又は３に記載のシステム。
5. 前記位置制御システムは、前記光学コンポーネントの空間属性、及び、前記レーザビームの前記経路上に位置する更なる光学コンポーネントの更なる空間属性のうちの、少なくとも１つを調整するように動作可能である、請求項４に記載のシステム。
6. 前記物理量に応じて前記光学コンポーネントの温度を制御するように動作可能な熱制御システムを備える、請求項１から５の何れか一項に記載のシステム。
7. 前記導電性要素は、前記光学コンポーネント上に配設される、請求項１から６の何れか一項に記載のシステム。
8. 前記導電性要素は、前記光学コンポーネント内に配設される、請求項１から６の何れか一項に記載のシステム。
9. 前記システムは、リソグラフィ装置の放射源内の前記レーザビームの特徴を決定するためのシステムのためのものであり、
   前記特徴は、レーザビームの断面強度プロファイル、ビーム直径、ビームパワーの少なくとも一つである、請求項１から８の何れか一項に記載のシステム。
10. 前記導電性要素は、少なくとも１つの貴金属を含む材料から形成される、請求項１から９の何れか一項に記載のシステム。
11. 前記導電性要素は、前記光学コンポーネント上又は前記光学コンポーネント内に配設された複数の導電性要素のうちの１つであり、
    前記監視システムは、前記複数の導電性要素の各々の電気抵抗を表す物理量を監視するように、及び、前記物理量に基づいて前記光学コンポーネントに関した前記レーザビームの位置を決定するように、動作可能である、請求項１から１０の何れか一項に記載のシステム。
12. 前記複数の導電性要素のうちの少なくとも１つは、前記複数の導電性要素のうちの第２の導電性要素から電気的に絶縁される、請求項１１に記載のシステム。
13. 前記複数の導電性要素のうちの少なくとも１つは、前記レーザビームの入射の経路に沿った第１の深さにおいて提供され、
    前記複数の導電性要素のうちの少なくとも別の１つは、前記レーザビームの入射の前記経路に沿った第２の深さにおいて提供される、請求項１１又は１２に記載のシステム。
14. 前記複数の導電性要素は、前記光学コンポーネントにおいて前記レーザビームの入射方向に沿って見た場合、格子パターンを形成する、請求項１１から１３の何れか一項に記載のシステム。
15. 前記格子パターンは、前記レーザビームの入射の経路に沿って第１の方向に延在し第１の深さに配設された第１の複数の導電性要素、及び、前記レーザビームの入射の経路に沿って第２の方向に延在し第２の深さに配設された第２の複数の導電性要素、を備える、請求項１４に記載のシステム。
16. 前記光学コンポーネントは、前記レーザビームを発生させるように構成されたレーザ、前記レーザビームを放射源へ送達するように構成されたビームデリバリシステム、放射源、及び／又は、リソグラフィ装置、のうちの何れか１つの機能コンポーネントである、請求項１から１５の何れか一項に記載のシステム。
17. 前記光学コンポーネントは、ミラー、レンズ、及びウィンドウを含むリストから選択される少なくとも１つを備える、請求項１から１６の何れか一項に記載のシステム。
18. 前記光学コンポーネントは、複数の光学コンポーネントのうちの１つであり、
    前記センサシステムは、前記複数の光学コンポーネントの各々にそれぞれ配設された少なくとも１つの導電性コンポーネントを備え、
    前記監視システムは、前記複数の光学コンポーネントの各々に関した前記レーザビームの位置を決定するように構成される、請求項１から１７の何れか一項に記載のシステム。
19. レーザと、前記レーザによって生成されたレーザビームの、燃料ターゲットとの相互作用を介してプラズマを生成するための、レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）放射源と、請求項１から１８の何れか一項に記載のシステムと、を備える、放射システム。
20. リソグラフィ装置と、請求項１９に記載の放射システムと、を備える、リソグラフィシステム。
21. 請求項１から１８の何れか一項に記載のシステムにおいて使用するように構成された、光学コンポーネント。
22. 光学コンポーネントの動作使用中に、レーザビームに露光される光学コンポーネントに配設された導電性要素の電気抵抗を表す物理量を監視することと、
    前記物理量に基づき、前記光学コンポーネントに関した前記レーザビームの位置及び前記光学コンポーネントの温度を決定することと、を含み、
    前記導電性要素は、前記レーザビームの波長よりも短い幅を有する導電性材料のラインを含む、方法。

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