JP7344841B2 - 残留応力測定方法 - Google Patents
残留応力測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7344841B2 JP7344841B2 JP2020096360A JP2020096360A JP7344841B2 JP 7344841 B2 JP7344841 B2 JP 7344841B2 JP 2020096360 A JP2020096360 A JP 2020096360A JP 2020096360 A JP2020096360 A JP 2020096360A JP 7344841 B2 JP7344841 B2 JP 7344841B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fillet
- residual stress
- center
- radius
- angle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 49
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 30
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 11
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims description 6
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L1/00—Measuring force or stress, in general
- G01L1/25—Measuring force or stress, in general using wave or particle radiation, e.g. X-rays, microwaves, neutrons
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L5/00—Apparatus for, or methods of, measuring force, work, mechanical power, or torque, specially adapted for specific purposes
- G01L5/0047—Apparatus for, or methods of, measuring force, work, mechanical power, or torque, specially adapted for specific purposes measuring forces due to residual stresses
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/2055—Analysing diffraction patterns
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
- G01N2223/33—Accessories, mechanical or electrical features scanning, i.e. relative motion for measurement of successive object-parts
- G01N2223/3303—Accessories, mechanical or electrical features scanning, i.e. relative motion for measurement of successive object-parts object fixed; source and detector move
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/60—Specific applications or type of materials
- G01N2223/607—Specific applications or type of materials strain
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/205—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials using diffraction cameras
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
本発明は、残留応力測定方法に関する。
近年、Ｘ線を用いて残留応力を測定する技術が普及している。この技術は、Ｘ線を用いることにより結晶構造を有する被検査体の内部に生じている格子ひずみを測定し、測定結果を残留応力に換算するものである。
Ｘ線を用いた残留応力測定方法としては、ｃｏｓα法が知られている。ｃｏｓα法は、被検査体に対して特定の入射角度でＸ線を照射し、このＸ線が被検査体で反射することによって生じる回折Ｘ線の強度を二次元で検出し、検出された回折Ｘ線の強度分布により形成される回折環に基づいて残留応力を測定するものである（特開平５－７２０６１号公報参照）。
Ｘ線の入射角度をΨ［°］とした場合、ｃｏｓα法の測定精度は、概ねｓｉｎ２Ψに比例する。そのため、ｃｏｓα法では、被検査体へのＸ線の入射角度Ψが４５°から離れるにつれて測定精度が低下する。例えばＸ線の入射角度Ψが１５°未満になると、測定精度が急激に悪化する。また、Ｘ線の入射角度Ψは、大きくなるに従って被検査体の表面粗さの影響を受けやすくなる。そのため、ｃｏｓα法では、被検査体へのＸ線の入射角度Ψは、通常１５°以上６５°以下に設定され、好ましくは３５°に設定される。
しかしながら、円柱状の軸部とこの軸部から径方向に突出するフランジ部（板状部）とを備え、軸部とフランジ部との接続部分に応力集中を緩和するためのフィレット部が設けられた構造物に対し、フィレット部の残留応力を測定しようとすると、所望の入射角度Ψに設定し難い場合がある。すなわち、Ｘ線の入射角度Ψを１５°以上６５°以下に設定しようとすると、測定装置が被検査体と干渉する場合がある。この際、従来では、Ｘ線の入射角度Ψを所望範囲外の適当な角度に設定して残留応力を測定している。しかしながら、この従来の方法によると、被検査体の残留応力を精度よく測定することは困難である。
本発明は、このような事情に基づいてなされたもので、フィレット部の残留応力を高精度に測定することが可能な残留応力測定方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するためになされた本発明の一態様に係る残留応力測定方法は、軸部とこの軸部から径方向に突出するフランジ部とを有し、上記軸部と上記フランジ部との接続部分にフィレット部を有する金属構造物の上記フィレット部の残留応力測定方法であって、Ｘ線を照射する照射部と、この照射部から上記フィレット部に照射されたＸ線のブラッグ回折により生じる回折環を検出する二次元検出器と、上記照射部及び上記二次元検出器が装着される筐体とを有するＸ線応力測定装置を用い、ｃｏｓα法によって上記残留応力を算出する工程を備え、上記Ｘ線の入射角度をΨ［°］、上記フィレット部のフィレット半径をＲ［ｍｍ］、上記フィレット部のフィレット角度をθ［°］、上記筐体の上下幅をＷ［ｍｍ］、上記二次元検出器の検出領域の幅をＤ［ｍｍ］、ブラッグ角の余角をη［°］、フィレット中心を通り上記フランジ部に平行な仮想直線と上記フランジ部との間隔をａ［ｍｍ］とした場合、下記式１を満たし、
かつ、Ψ≧０の場合、上記算出工程における上記二次元検出器を基準とするＸ線の照射距離Ｌ［ｍｍ］が下記式２を満たし、
Ψ＜０の場合、上記算出工程における上記照射距離Ｌが下記式３を満たす。
但し、上記入射角度Ψは、測定部位及びフィレット中心を通る仮想直線に対し上記軸部側に傾斜した場合をプラス、上記フランジ部側に傾斜した場合をマイナスとする。
Ψ＜０の場合、上記算出工程における上記照射距離Ｌが下記式３を満たす。
当該残留応力測定方法によると、軸部とフランジ部との接続部分に形成されるフィレット部の残留応力を測定する場合に、Ｘ線の入射角度Ψを所望の角度に近づけることができる。そのため、当該残留応力測定方法によると、上記フィレット部の残留応力を高精度に測定することができる。
上記フィレット部が、径の異なる複数の領域を有する場合、上記複数の領域のうち、径が最も大きい領域の曲率中心及び曲率半径を上記フィレット部のフィレット中心及びフィレット半径として定めるとよい。このように、上記フィレット部が、径の異なる複数の領域を有する場合、上記複数の領域のうち、径が最も大きい領域の曲率中心及び曲率半径を上記フィレット部のフィレット中心及びフィレット半径として定めることによって、上記フィレット部の残留応力を高精度かつ容易に測定することができる。
上記フィレット部が、径の異なる複数の領域を有する場合、上記複数の領域のうち、円弧が最も長い領域の曲率中心及び曲率径を上記フィレット部のフィレット中心及びフィレット半径として定めるとよい。このように、上記フィレット部が、径の異なる複数の領域を有する場合、上記複数の領域のうち、円弧が最も長い領域の曲率中心及び曲率径を上記フィレット部のフィレット中心及びフィレット半径として定めることによって、上記フィレット部の残留応力を高精度かつ容易に測定することができる。
上記算出工程が、上記式１から式３を満たす範囲内で上記入射角度Ψが設定値に近づくように上記照射距離Ｌを調整して上記Ｘ線応力測定装置を上記フィレット部に対して配置する工程を有するとよい。当該残留応力測定方法は、上記式１から式３に基づいて上記Ｘ線応力測定装置を所望の位置に配置することができ、これにより上記フィレット部の残留応力を容易かつ高精度に測定することができる。
上記設定値としては３５°又は－３５°が好ましい。上記設定値が上記値であることで、上記フィレット部の残留応力を容易かつ高精度に測定することができる。
なお、本発明において、「フィレット中心」とは、フィレット部の曲率中心を意味する。「フィレット部のフィレット半径」とは、フィレット部の曲率半径を意味する。「フィレット部のフィレット角度」とは、フィレット中心を通り軸部と直交する仮想直線（図１の仮想直線Ｖ参照）と、測定部位及びフィレット中心を通る仮想直線（図１の仮想直線Ｎ参照）との側面視におけるなす角度を意味する。「筐体の上下幅」とは、筐体の軸部に隣接する側の面（図１の下面３ａ参照）と、この面に対向し、フランジ部に隣接する側の面（図１の上面３ｂ参照）との幅（図１の幅Ｗ参照）の最大値を意味する。「フィレット中心を通りフランジ部に平行な仮想直線とフランジ部との間隔」とは、上記仮想直線と上記フランジ部（但しフィレット部を除く）との任意の５点における間隔の平均値を意味する。「二次元検出器の検出領域」とは、二次元検出器における回折環を検出可能な領域を意味する。
以上説明したように、本発明の一態様に係る残留応力測定方法は、フィレット部の残留応力を高精度に測定することができる。
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態を詳説する。
［残留応力測定方法］
図１に示すように、当該残留応力測定方法は、軸部１１と、軸部１１から径方向に突出するフランジ部１２とを有し、軸部１１とフランジ部１２との接続部分にフィレット部１３を有する金属構造物Ｍのフィレット部１３の残留応力の測定方法である。フランジ部１２は軸部１１の中心軸に対して垂直な方向に突出している。当該残留応力測定方法は、Ｘ線を照射する照射部１と、照射部１からフィレット部１３に照射されたＸ線のブラッグ回折により生じる回折環を検出する二次元検出器２と、照射部１及び二次元検出器２が装着される筐体３とを有するＸ線応力測定装置１０を用い、ｃｏｓα法によって上記残留応力を算出する工程（算出工程）を備える。
図１に示すように、当該残留応力測定方法は、軸部１１と、軸部１１から径方向に突出するフランジ部１２とを有し、軸部１１とフランジ部１２との接続部分にフィレット部１３を有する金属構造物Ｍのフィレット部１３の残留応力の測定方法である。フランジ部１２は軸部１１の中心軸に対して垂直な方向に突出している。当該残留応力測定方法は、Ｘ線を照射する照射部１と、照射部１からフィレット部１３に照射されたＸ線のブラッグ回折により生じる回折環を検出する二次元検出器２と、照射部１及び二次元検出器２が装着される筐体３とを有するＸ線応力測定装置１０を用い、ｃｏｓα法によって上記残留応力を算出する工程（算出工程）を備える。
Ｘ線応力測定装置１０は、金属構造物ＭへのＸ線の照射により、回折環を検出可能に構成されている。筐体３は、例えば略直方体状である。筐体３は、軸部１１に隣接する下面３ａと、下面３ａに対向し、フランジ部１２に隣接する上面３ｂとを有する。筐体３は、入射角度Ψがプラス側にシフトすると下面３ａが軸部１１に近づき、入射角度Ψがマイナス側にシフトすると上面３ｂがフランジ部１２に近づく。二次元検出器２は、筐体３のＸ線の出射面側の端部に設けられている。すなわち、二次元検出器２は、測定部位Ｓと対向する側の端部に設けられている。筐体３には、上記回折環を用い、ｃｏｓα法によって残留応力を算出可能な算出機（不図示）が接続されている。二次元検出器２としては、例えばイメージングプレートが挙げられる。
当該残留応力測定方法は、上記Ｘ線の入射角度をΨ［°］、フィレット部１３のフィレット半径をＲ［ｍｍ］、フィレット部１３のフィレット角度をθ［°］、筐体３の上下幅をＷ［ｍｍ］、二次元検出器２の検出領域の幅をＤ［ｍｍ］、ブラッグ角の余角をη［°］、フィレット中心Ｐを通りフランジ部１２に平行な仮想直線Ｖとフランジ部１２との間隔をａ［ｍｍ］とした場合、下記式１を満たす。
当該残留応力測定方法では、二次元検出器２に上記回折環の全体像もしくは一部を撮影してフィレット部１３の残留応力を測定する。そのため、上記式１に示すように、二次元検出器２の検出領域の幅Ｄは、筐体３の上下幅Ｗ以下とする必要がある。なお、「二次元検出器の検出領域の幅」とは、より詳しくは上記筐体の上下方向における二次元検出器の検出領域の幅（すなわち、二次元検出器の検出領域の上下幅）を意味する。
また、当該残留応力測定方法は、Ψ≧０の場合、上記算出工程における二次元検出器２を基準とするＸ線の照射距離Ｌ［ｍｍ］が下記式２を満たす。
さらに、当該残留応力測定方法は、Ψ＜０の場合、上記算出工程における二次元検出器２を基準とするＸ線の照射距離Ｌ［ｍｍ］が下記式３を満たす。
なお、Ｘ線の入射角度Ψとは、測定部位Ｓ及びフィレット中心Ｐを通る仮想直線ＮとＸ線とのなす角度をいう。また、上記入射角度Ψは、測定部位Ｓ及びフィレット中心Ｐを通る仮想直線Ｎに対し軸部１１側に傾斜した場合をプラス、フランジ部１２側に傾斜した場合をマイナスとする。
当該残留応力測定方法では、Ｘ線の照射距離Ｌが小さ過ぎると、Ｘ線の入射角度Ψが所望の値となるように筐体３を傾けた場合に、筐体３が軸部１１又はフランジ部１２と干渉することがある。一方、当該残留応力測定方法では、Ｘ線の照射距離Ｌを大きくすることでＸ線の入射角度Ψを比較的大きな範囲で設定できる。しかし、この場合、Ｘ線の照射距離Ｌを大きくし過ぎると、二次元検出器２で回折角ηの回折Ｘ線のピークを検出できなくなる。
このような観点から、測定部位Ｓ及びフィレット中心Ｐを通る仮想直線Ｎに対して筐体３を軸部１１側に傾斜させる場合（すなわち、Ｘ線の入射角度Ψがプラスの場合）、Ｘ線の照射距離Ｌの下限値は、筐体３が軸部１１に接しない条件から下記式４で表され、Ｘ線の照射距離Ｌの上限値は、回折環のピークが二次元検出器２で検出可能な条件から下記式５で表される。
一方、測定部位Ｓ及びフィレット中心Ｐを通る仮想直線Ｎに対し筐体３をフランジ部１２側に傾斜させる場合（すなわち、Ｘ線の入射角度Ψがマイナスの場合）、Ｘ線の照射距離Ｌの下限値は、筐体３がフランジ部１２に接しない条件から下記式６で表され、Ｘ線の照射距離Ｌの上限値は、回折環のピークが二次元検出器２で検出可能な条件から下記式７で表される。
＜測定条件＞
図２～図５を参照して、当該残留応力測定方法における測定条件について説明する。
図２～図５を参照して、当該残留応力測定方法における測定条件について説明する。
（照射距離）
まず、図２及び図３を参照して、当該残留応力測定方法におけるＸ線の照射距離Ｌの取り得る範囲について説明する。一般にｃｏｓα法では、測定部位ＳへのＸ線の入射角度Ψが±１５°に満たないと測定精度が急激に悪化する。そのため、図２及び図３では、Ｘ線の入射角度Ψを±１５°に設定した場合における上記式１～３を用いたＸ線の照射距離Ｌについて説明する。図２では、フィレット部１３のフィレット半径Ｒを１８ｍｍ、筐体３の上下幅Ｗを４４ｍｍ、二次元検出器２の検出領域の幅Ｄを４０ｍｍ、フィレット中心Ｐを通りフランジ部１２に平行な仮想直線Ｖとフランジ部１２との間隔ａを２ｍｍ、ブラッグ角の余角ηを２３．６°とした場合に、フィレット角度θとの関係でＸ線の照射距離Ｌが取り得る範囲Ｑ１を示している。また、図３では、図２について、フィレット角度θを６０°とし、フィレット半径Ｒを可変とした場合におけるフィレット半径Ｒとの関係でＸ線の照射距離Ｌが取り得る範囲Ｑ２を示している。
まず、図２及び図３を参照して、当該残留応力測定方法におけるＸ線の照射距離Ｌの取り得る範囲について説明する。一般にｃｏｓα法では、測定部位ＳへのＸ線の入射角度Ψが±１５°に満たないと測定精度が急激に悪化する。そのため、図２及び図３では、Ｘ線の入射角度Ψを±１５°に設定した場合における上記式１～３を用いたＸ線の照射距離Ｌについて説明する。図２では、フィレット部１３のフィレット半径Ｒを１８ｍｍ、筐体３の上下幅Ｗを４４ｍｍ、二次元検出器２の検出領域の幅Ｄを４０ｍｍ、フィレット中心Ｐを通りフランジ部１２に平行な仮想直線Ｖとフランジ部１２との間隔ａを２ｍｍ、ブラッグ角の余角ηを２３．６°とした場合に、フィレット角度θとの関係でＸ線の照射距離Ｌが取り得る範囲Ｑ１を示している。また、図３では、図２について、フィレット角度θを６０°とし、フィレット半径Ｒを可変とした場合におけるフィレット半径Ｒとの関係でＸ線の照射距離Ｌが取り得る範囲Ｑ２を示している。
図２では、フィレット部１３のフィレット角度θが５７°である場合に、Ｘ線の照射距離Ｌの取り得る範囲Ｑ１が最も限定されている。図２より、フィレット角度θが５７°以下である場合には、Ｘ線の入射角度Ψがプラスとなるように筐体３を軸部１１側に傾斜させることが好ましいことが分かる。また、フィレット角度θが５７°を超える場合には、Ｘ線の入射角度Ψがマイナスとなるように筐体３をフランジ部１２側に傾斜させることが好ましいことが分かる。
図３では、フィレット部１３のフィレット半径Ｒが２１ｍｍである場合に、Ｘ線の照射距離Ｌの取り得る範囲Ｑ２が最も限定されている。図３より、フィレット半径Ｒが２１ｍｍ以下である場合には、Ｘ線の入射角度Ψがマイナスとなるように筐体３をフランジ部１２側に傾斜させることが好ましいことが分かる。また、フィレット半径Ｒが２１ｍｍを超える場合には、Ｘ線の入射角度Ψがプラスとなるように筐体３を軸部１１側に傾斜させることが好ましいことが分かる。
（筐体の上下幅）
図４及び図５を参照して、当該残留応力測定方法における筐体３の上下幅Ｗの取り得る範囲について説明する。図４では、筐体３の上下幅Ｗ以外は図２と同様の条件とし、Ｘ線の照射距離Ｌを最大値に設定した場合におけるフィレット角度θとの関係で筐体３の上下幅Ｗが取り得る範囲を示している。また、図５では、図４について、フィレット角度θを６０°とし、フィレット半径Ｒを可変とした場合におけるフィレット半径Ｒとの関係で筐体３の上下幅Ｗが取り得る範囲を示している。
図４及び図５を参照して、当該残留応力測定方法における筐体３の上下幅Ｗの取り得る範囲について説明する。図４では、筐体３の上下幅Ｗ以外は図２と同様の条件とし、Ｘ線の照射距離Ｌを最大値に設定した場合におけるフィレット角度θとの関係で筐体３の上下幅Ｗが取り得る範囲を示している。また、図５では、図４について、フィレット角度θを６０°とし、フィレット半径Ｒを可変とした場合におけるフィレット半径Ｒとの関係で筐体３の上下幅Ｗが取り得る範囲を示している。
図４では、フィレット部１３のフィレット角度θが５７°である場合に、筐体３の上下幅Ｗの取り得る範囲が最も限定されている。図４より、フィレット角度θが５７°以下である場合には、筐体３を軸部１１側に傾けることで、筐体３の上下幅Ｗが比較的大きい場合でも所望の条件で測定できることが分かる。また、フィレット角度θが５７°を超える場合には、筐体３をフランジ部１２側に傾けることで、筐体３の上下幅Ｗが比較的大きい場合でも所望の条件で測定できることが分かる。
図５では、フィレット部１３のフィレット半径Ｒが２１ｍｍである場合に、筐体３の上下幅Ｗの取り得る範囲が最も限定されている。図５より、フィレット半径Ｒが２１ｍｍ以下である場合には、筐体３をフランジ部１２側に傾けることで、筐体３の上下幅Ｗが比較的大きい場合でも所望の条件で測定できることが分かる。また、フィレット半径Ｒが２１ｍｍを超える場合には、筐体３を軸部１１側に傾けることで、筐体３の上下幅Ｗが比較的大きい場合でも所望の条件で測定できることが分かる。
＜フィレット中心及びフィレット半径の設定＞
図６に示すように、当該残留応力測定方法では、フィレット部１３の曲率が一定である場合、フィレット中心Ｐ及びフィレット半径Ｒはこの曲率に対応して設定される。これに対し、フィレット部１３には、径の異なる複数の領域が存在する場合がある。図７及び図８を参照して、フィレット部に径の異なる複数の領域が存在する場合のフィレット中心及びフィレット半径の設定方法の一例について説明する。
図６に示すように、当該残留応力測定方法では、フィレット部１３の曲率が一定である場合、フィレット中心Ｐ及びフィレット半径Ｒはこの曲率に対応して設定される。これに対し、フィレット部１３には、径の異なる複数の領域が存在する場合がある。図７及び図８を参照して、フィレット部に径の異なる複数の領域が存在する場合のフィレット中心及びフィレット半径の設定方法の一例について説明する。
図７のフィレット部１３ａは、第１の曲率半径Ｒ１を有する第１領域Ｙ１と、第１の曲率半径Ｒ１よりも小さい第２の曲率半径Ｒ２を有する第２領域Ｙ２とを有する。この場合、曲率半径が最も大きい第１領域Ｙ１の曲率中心Ｐ１及び曲率半径Ｒ１をフィレット部１３ａのフィレット中心及びフィレット半径として定めることができる。このようにフィレット部１３ａのフィレット中心及びフィレット半径を定めることで、フィレット部１３ａの残留応力を高精度かつ容易に測定することができる。
図８のフィレット部１３ｂは、第１の円弧Ｃ１を有する第１領域Ｙ１’と、第１の円弧よりも短い第２の円弧Ｃ２を有する第２領域Ｙ２’と、第２の円弧Ｃ２よりも短い第３の円弧Ｃ３を有する第３領域Ｙ３’とを有する。この場合、円弧が最も長い第１領域Ｙ１’の曲率中心Ｐ１’及び曲率半径Ｒ１’をフィレット部１３ｂのフィレット中心及びフィレット半径として定めることができる。このようにフィレット部１３ｂのフィレット中心及びフィレット半径を定めることで、フィレット部１３ｂの残留応力を高精度かつ容易に測定することができる。
＜残留応力の測定＞
上記算出工程は、上記式１から式３を満たす範囲内でＸ線の入射角度Ψが設定値に近づくようにＸ線の照射距離Ｌを調整してＸ線応力測定装置１０をフィレット部１３、１３ａ、１３ｂに対して配置する工程（配置工程）を有することが好ましい。すなわち、上記算出工程は、上記式１から式３を用いてＸ線応力測定装置１０の配置条件を導出する工程（導出工程）と、上記導出工程で導出された条件に基づいてＸ線応力測定装置１０をフィレット部１３、１３ａ、１３ｂに対して配置する工程（配置工程）と、上記配置工程における配置でフィレット部１３、１３ａ、１３ｂの残留応力を算出する工程（残留応力算出工程）とを有しており、上記配置工程が、上記式１から式３を満たす範囲内でＸ線の入射角度Ψが設定値に近づくようにＸ線の照射距離Ｌを調整してＸ線応力測定装置１０をフィレット部１３、１３ａ、１３ｂに対して配置することが好ましい。上記配置工程では、例えばＸ線の入射角度Ψが設定値に近づくように筐体３の傾斜方向とＸ線の照射距離Ｌとを調整する。当該残留応力測定方法は、上記算出工程が、上述の配置工程を有することで、フィレット部１３、１３ａ、１３ｂの残留応力を容易かつ高精度に測定することができる。
上記算出工程は、上記式１から式３を満たす範囲内でＸ線の入射角度Ψが設定値に近づくようにＸ線の照射距離Ｌを調整してＸ線応力測定装置１０をフィレット部１３、１３ａ、１３ｂに対して配置する工程（配置工程）を有することが好ましい。すなわち、上記算出工程は、上記式１から式３を用いてＸ線応力測定装置１０の配置条件を導出する工程（導出工程）と、上記導出工程で導出された条件に基づいてＸ線応力測定装置１０をフィレット部１３、１３ａ、１３ｂに対して配置する工程（配置工程）と、上記配置工程における配置でフィレット部１３、１３ａ、１３ｂの残留応力を算出する工程（残留応力算出工程）とを有しており、上記配置工程が、上記式１から式３を満たす範囲内でＸ線の入射角度Ψが設定値に近づくようにＸ線の照射距離Ｌを調整してＸ線応力測定装置１０をフィレット部１３、１３ａ、１３ｂに対して配置することが好ましい。上記配置工程では、例えばＸ線の入射角度Ψが設定値に近づくように筐体３の傾斜方向とＸ線の照射距離Ｌとを調整する。当該残留応力測定方法は、上記算出工程が、上述の配置工程を有することで、フィレット部１３、１３ａ、１３ｂの残留応力を容易かつ高精度に測定することができる。
上記配置工程における上記設定値としては、３５°又は－３５°が好ましい。この構成によると、フィレット部１３、１３ａ、１３ｂの残留応力をより高精度に測定することができる。
上記導出工程では、Ｘ線応力測定装置１０の配置条件として、上記設定値を満たす条件が導出されることが好ましい。しかしながら、フィレット部１３、１３ａ、１３ｂの形状によっては、上記導出工程で、上記設定値を満たす条件が導出できない場合が考えられる。当該残留応力測定方法は、このように上記導出工程で上記設定値を満たす条件が導出できないような場合に、Ｘ線応力測定装置１０の配置を手探りで決定していた従来の測定方法に対して顕著な優位性を有する。当該残留応力測定方法は、例えば上記導出工程で導出されるＸ線の入射角度Ψが±３０°以内（すなわち、－３０°以上３０°以下）であってもよく、±１５°以内（すなわち、－１５°以上１５°以下）であってもよい。当該残留応力測定方法は、このような場合でも、従来の測定方法に対してフィレット部１３、１３ａ、１３ｂの残留応力を容易かつ高精度に測定することができる。
＜利点＞
当該残留応力測定方法によると、軸部１１とフランジ部１２との接続部分に形成されるフィレット部１３、１３ａ、１３ｂの残留応力を測定する場合に、Ｘ線の入射角度Ψを所望の角度に近づけることができる。そのため、当該残留応力測定方法によると、フィレット部１３、１３ａ、１３ｂの残留応力を高精度に測定することができる。
当該残留応力測定方法によると、軸部１１とフランジ部１２との接続部分に形成されるフィレット部１３、１３ａ、１３ｂの残留応力を測定する場合に、Ｘ線の入射角度Ψを所望の角度に近づけることができる。そのため、当該残留応力測定方法によると、フィレット部１３、１３ａ、１３ｂの残留応力を高精度に測定することができる。
［その他の実施形態］
上記実施形態は、本発明の構成を限定するものではない。従って、上記実施形態は、本明細書の記載及び技術常識に基づいて上記実施形態各部の構成要素の省略、置換又は追加が可能であり、それらは全て本発明の範囲に属するものと解釈されるべきである。
上記実施形態は、本発明の構成を限定するものではない。従って、上記実施形態は、本明細書の記載及び技術常識に基づいて上記実施形態各部の構成要素の省略、置換又は追加が可能であり、それらは全て本発明の範囲に属するものと解釈されるべきである。
当該残留応力測定方法は、上記フィレット部が径の異なる複数の領域を有する場合、例えば測定部位毎にフィレット中心及びフィレット半径を求めてもよい。
以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。
二次元検出器の検出領域の幅Ｄが７０ｍｍであり、筐体の上下幅が１０２ｍｍであるＸ線応力測定装置を用い、軸部及びこの軸部から径方向に突出するフランジ部を有する金属構造物のフィレット部の残留応力をｃｏｓα法を用いて測定した。このフィレット部のフィレット半径Ｒは２９ｍｍ、ブラッグ角の余角ηは２３．６°、フィレット中心を通りフランジ部に平行な仮想直線とフランジ部との間隔ａは８ｍｍであった。
［比較例］
筐体が軸部及びフランジ部に接触しないよう目視にて確認しつつ、Ｘ線の入射角度Ψができるだけ大きくなるようにＸ線応力測定装置を配置した。この比較例では、フィレット部のフィレット角度θが４５°、５０°、５５°である場合についてそれぞれＸ線応力測定装置の配置を６回変更してフィレット部の残留応力を測定した。比較例におけるＸ線の入射角度ΨとＸ線の照射距離Ｌとの関係を図９に示す。また、各フィレット角度θに対するＸ線の入射角度Ψの最大値を図１０に示す。
筐体が軸部及びフランジ部に接触しないよう目視にて確認しつつ、Ｘ線の入射角度Ψができるだけ大きくなるようにＸ線応力測定装置を配置した。この比較例では、フィレット部のフィレット角度θが４５°、５０°、５５°である場合についてそれぞれＸ線応力測定装置の配置を６回変更してフィレット部の残留応力を測定した。比較例におけるＸ線の入射角度ΨとＸ線の照射距離Ｌとの関係を図９に示す。また、各フィレット角度θに対するＸ線の入射角度Ψの最大値を図１０に示す。
［実施例］
フィレット角度θが４５°、５０°、５５°である場合について、それぞれ上述の式１～式３を用いてＸ線応力測定装置の配置を決定した。実施例では、上述の式１～式３を用いて、Ｘ線の入射角度Ψが±３５°に近づくようにＸ線応力測定装置の配置を決定した。実施例では、フィレット角度θが４５°、５０°、５５°であるいずれの場合についても、筐体を測定部位及びフィレット中心を通る仮想直線に対し軸部側に傾斜させた。実施例におけるＸ線の入射角度ΨとＸ線の照射距離Ｌとの関係を図９に示す。また、各フィレット角度θに対するＸ線の入射角度Ψを図１０に示す。
フィレット角度θが４５°、５０°、５５°である場合について、それぞれ上述の式１～式３を用いてＸ線応力測定装置の配置を決定した。実施例では、上述の式１～式３を用いて、Ｘ線の入射角度Ψが±３５°に近づくようにＸ線応力測定装置の配置を決定した。実施例では、フィレット角度θが４５°、５０°、５５°であるいずれの場合についても、筐体を測定部位及びフィレット中心を通る仮想直線に対し軸部側に傾斜させた。実施例におけるＸ線の入射角度ΨとＸ線の照射距離Ｌとの関係を図９に示す。また、各フィレット角度θに対するＸ線の入射角度Ψを図１０に示す。
図９及び図１０に示すように、比較例に比べて実施例の方が、Ｘ線の入射角度Ψを大きくできている。このことから、実施例は、比較例に比べて高精度でフィレット部の残留応力を測定できることが分かる。
以上説明したように、本発明の一態様に係る残留応力測定方法は、フィレット部の残留応力を測定するのに適している。
１ 照射部
２ 二次元検出器
３ 筐体
３ａ 下面
３ｂ 上面
１０ Ｘ線応力測定装置
１１ 軸部
１２ フランジ部
１３、１３ａ、１３ｂ フィレット部
ａ フィレット中心を通りフランジ部に平行な仮想直線とフランジ部との間隔
Ｃ１ 第１の円弧
Ｃ２ 第２の円弧
Ｃ３ 第３の円弧
Ｄ 二次元検出器の検出領域の幅
Ｌ Ｘ線の照射距離
Ｍ 金属構造物
Ｎ 測定部位及びフィレット中心を通る仮想直線
Ｐ フィレット中心
Ｐ１、Ｐ１’ 曲率中心
Ｑ１、Ｑ２ Ｘ線の照射距離の取り得る範囲
Ｒ フィレット半径
Ｒ１ 第１の曲率半径
Ｒ１’ 曲率半径
Ｒ２ 第２の曲率半径
Ｓ 測定部位
Ｖ フィレット中心を通りフランジ部に平行な仮想直線
Ｗ 筐体の上下幅
Ｙ１、Ｙ１’ 第１領域
Ｙ２、Ｙ２’ 第２領域
Ｙ３’ 第３領域
θ フィレット角度
Ψ Ｘ線の入射角度
η ブラッグ角の余角
２ 二次元検出器
３ 筐体
３ａ 下面
３ｂ 上面
１０ Ｘ線応力測定装置
１１ 軸部
１２ フランジ部
１３、１３ａ、１３ｂ フィレット部
ａ フィレット中心を通りフランジ部に平行な仮想直線とフランジ部との間隔
Ｃ１ 第１の円弧
Ｃ２ 第２の円弧
Ｃ３ 第３の円弧
Ｄ 二次元検出器の検出領域の幅
Ｌ Ｘ線の照射距離
Ｍ 金属構造物
Ｎ 測定部位及びフィレット中心を通る仮想直線
Ｐ フィレット中心
Ｐ１、Ｐ１’ 曲率中心
Ｑ１、Ｑ２ Ｘ線の照射距離の取り得る範囲
Ｒ フィレット半径
Ｒ１ 第１の曲率半径
Ｒ１’ 曲率半径
Ｒ２ 第２の曲率半径
Ｓ 測定部位
Ｖ フィレット中心を通りフランジ部に平行な仮想直線
Ｗ 筐体の上下幅
Ｙ１、Ｙ１’ 第１領域
Ｙ２、Ｙ２’ 第２領域
Ｙ３’ 第３領域
θ フィレット角度
Ψ Ｘ線の入射角度
η ブラッグ角の余角
Claims (5)
- 軸部とこの軸部から径方向に突出するフランジ部とを有し、上記軸部と上記フランジ部との接続部分にフィレット部を有する金属構造物の上記フィレット部の残留応力測定方法であって、
Ｘ線を照射する照射部と、この照射部から上記フィレット部に照射されたＸ線のブラッグ回折により生じる回折環を検出する二次元検出器と、上記照射部及び上記二次元検出器が装着される筐体とを有するＸ線応力測定装置を用い、ｃｏｓα法によって上記残留応力を算出する工程を備え、
上記Ｘ線の入射角度をΨ［°］、上記フィレット部のフィレット半径をＲ［ｍｍ］、上記フィレット部のフィレット角度をθ［°］、上記筐体の上下幅をＷ［ｍｍ］、上記二次元検出器の検出領域の幅をＤ［ｍｍ］、ブラッグ角の余角をη［°］、フィレット中心を通り上記フランジ部に平行な仮想直線と上記フランジ部との間隔をａ［ｍｍ］とした場合、
下記式１を満たし、
Ψ＜０の場合、上記算出工程における上記照射距離Ｌが下記式３を満たす残留応力測定方法。
- 上記フィレット部が、径の異なる複数の領域を有する場合、上記複数の領域のうち、径が最も大きい領域の曲率中心及び曲率半径を上記フィレット部のフィレット中心及びフィレット半径として定める請求項１に記載の残留応力測定方法。
- 上記フィレット部が、径の異なる複数の領域を有する場合、上記複数の領域のうち、円弧が最も長い領域の曲率中心及び曲率径を上記フィレット部のフィレット中心及びフィレット半径として定める請求項１に記載の残留応力測定方法。
- 上記算出工程が、上記式１から式３を満たす範囲内で上記入射角度Ψが設定値に近づくように上記照射距離Ｌを調整して上記Ｘ線応力測定装置を上記フィレット部に対して配置する工程を有する請求項１、請求項２又は請求項３に記載の残留応力測定方法。
- 上記設定値が３５°又は－３５°である請求項４に記載の残留応力測定方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020096360A JP7344841B2 (ja) | 2020-06-02 | 2020-06-02 | 残留応力測定方法 |
| FIEP21818782.1T FI4155703T3 (fi) | 2020-06-02 | 2021-04-22 | Jäännösjännityksen mittausmenetelmä |
| US18/000,464 US12241803B2 (en) | 2020-06-02 | 2021-04-22 | Method for measuring residual stress |
| CN202180034156.XA CN115516286B (zh) | 2020-06-02 | 2021-04-22 | 残留应力测定方法 |
| PCT/JP2021/016328 WO2021246080A1 (ja) | 2020-06-02 | 2021-04-22 | 残留応力測定方法 |
| EP21818782.1A EP4155703B1 (en) | 2020-06-02 | 2021-04-22 | Residual stress measurement method |
| ES21818782T ES2985780T3 (es) | 2020-06-02 | 2021-04-22 | Método de medición de tensión residual |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020096360A JP7344841B2 (ja) | 2020-06-02 | 2020-06-02 | 残留応力測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021189092A JP2021189092A (ja) | 2021-12-13 |
| JP7344841B2 true JP7344841B2 (ja) | 2023-09-14 |
Family
ID=78830402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020096360A Active JP7344841B2 (ja) | 2020-06-02 | 2020-06-02 | 残留応力測定方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12241803B2 (ja) |
| EP (1) | EP4155703B1 (ja) |
| JP (1) | JP7344841B2 (ja) |
| CN (1) | CN115516286B (ja) |
| ES (1) | ES2985780T3 (ja) |
| FI (1) | FI4155703T3 (ja) |
| WO (1) | WO2021246080A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7566698B2 (ja) * | 2020-09-10 | 2024-10-15 | 株式会社神戸製鋼所 | 測定システム及び測定方法 |
| CN115522147B (zh) * | 2022-08-15 | 2023-08-04 | 成都飞机工业（集团）有限责任公司 | 一种控制铝合金锻件加工变形的毛坯低应力制造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5148458A (en) | 1990-01-18 | 1992-09-15 | Clayton Ruud | Method and apparatus for simultaneous phase composition and residual stress measurement by x-ray diffraction |
| CN101451965A (zh) | 2008-12-29 | 2009-06-10 | 重庆大学 | 用x射线测定钢残余应力的方法 |
| US20160370303A1 (en) | 2014-03-13 | 2016-12-22 | General Electric Company | Curved digital x-ray detector for weld inspection |
| JP2019190990A (ja) | 2018-04-25 | 2019-10-31 | 株式会社神戸製鋼所 | 残留応力算出方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2833675B2 (ja) | 1991-09-13 | 1998-12-09 | マツダ株式会社 | 金属部材の応力測定方法 |
| JP2938651B2 (ja) * | 1992-01-16 | 1999-08-23 | 川崎製鉄株式会社 | Ｘ線応力測定方法 |
| JPH0684333U (ja) * | 1993-05-20 | 1994-12-02 | バブコック日立株式会社 | ゴニオメータの位置決め装置 |
| JPH08201193A (ja) * | 1995-01-26 | 1996-08-09 | Toyota Motor Corp | Ｘ線的弾性定数又はその比を算出する方法 |
| JP2000213999A (ja) * | 1999-01-22 | 2000-08-04 | Rigaku Corp | Ｘ線応力測定方法 |
| FI20041538L (fi) * | 2004-11-29 | 2006-05-30 | Stresstech Oy | Goniometri |
| JP4013986B1 (ja) * | 2006-08-24 | 2007-11-28 | Ｊｆｅエンジニアリング株式会社 | 固定構造体の曲げ応力測定方法、記録媒体及びコンピュータ |
| JP6011846B2 (ja) * | 2012-07-04 | 2016-10-19 | 国立大学法人金沢大学 | Ｘ線応力測定方法 |
| CN103018326A (zh) * | 2012-11-29 | 2013-04-03 | 北京理工大学 | 接触式超声无损检测直线自动扫查装置 |
| JP2015072171A (ja) * | 2013-10-02 | 2015-04-16 | 三菱重工業株式会社 | Ｘ線応力測定方法、及びｘ線応力測定装置 |
| JP5955301B2 (ja) * | 2013-11-14 | 2016-07-20 | 株式会社神戸製鋼所 | 残留応力算出方法 |
| JP6607127B2 (ja) * | 2016-04-04 | 2019-11-20 | 日本製鉄株式会社 | Ｘ線残留応力測定方法及びｘ線残留応力測定システム |
| JP6776181B2 (ja) * | 2017-05-31 | 2020-10-28 | 株式会社神戸製鋼所 | 応力測定方法 |
| US10613042B2 (en) * | 2017-09-28 | 2020-04-07 | International Business Machines Corporation | Measuring and analyzing residual stresses and their gradients in materials using high resolution grazing incidence X-ray diffraction |
| JP7566698B2 (ja) * | 2020-09-10 | 2024-10-15 | 株式会社神戸製鋼所 | 測定システム及び測定方法 |
-
2020
- 2020-06-02 JP JP2020096360A patent/JP7344841B2/ja active Active
-
2021
- 2021-04-22 EP EP21818782.1A patent/EP4155703B1/en active Active
- 2021-04-22 WO PCT/JP2021/016328 patent/WO2021246080A1/ja not_active Ceased
- 2021-04-22 CN CN202180034156.XA patent/CN115516286B/zh active Active
- 2021-04-22 ES ES21818782T patent/ES2985780T3/es active Active
- 2021-04-22 US US18/000,464 patent/US12241803B2/en active Active
- 2021-04-22 FI FIEP21818782.1T patent/FI4155703T3/fi active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5148458A (en) | 1990-01-18 | 1992-09-15 | Clayton Ruud | Method and apparatus for simultaneous phase composition and residual stress measurement by x-ray diffraction |
| CN101451965A (zh) | 2008-12-29 | 2009-06-10 | 重庆大学 | 用x射线测定钢残余应力的方法 |
| US20160370303A1 (en) | 2014-03-13 | 2016-12-22 | General Electric Company | Curved digital x-ray detector for weld inspection |
| JP2019190990A (ja) | 2018-04-25 | 2019-10-31 | 株式会社神戸製鋼所 | 残留応力算出方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 山田真理子，大型鍛造品のフィレット部の残留応力評価技術に関する研究，博士論文，日本，金沢大学，30-35頁 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP4155703B1 (en) | 2024-07-24 |
| EP4155703A1 (en) | 2023-03-29 |
| CN115516286A (zh) | 2022-12-23 |
| EP4155703A4 (en) | 2023-11-01 |
| US12241803B2 (en) | 2025-03-04 |
| JP2021189092A (ja) | 2021-12-13 |
| CN115516286B (zh) | 2024-12-13 |
| FI4155703T3 (fi) | 2024-07-29 |
| US20230304876A1 (en) | 2023-09-28 |
| ES2985780T3 (es) | 2024-11-07 |
| WO2021246080A1 (ja) | 2021-12-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10824079B2 (en) | Diffraction based overlay scatterometry | |
| US11519798B2 (en) | Residual stress detection device and detection method thereof | |
| JP5367549B2 (ja) | 基板計測方法 | |
| JP6403964B2 (ja) | Ｘ線散乱分析用のｘ線分析システム | |
| CN115516286B (zh) | 残留应力测定方法 | |
| US9638606B2 (en) | Tire shape inspection method and tire shape inspection device | |
| US20110235029A1 (en) | Pattern measuring method and pattern measuring apparatus | |
| KR20110029011A (ko) | 파우치형 전지 내의 이물질 검출장치 | |
| CN110709689B (zh) | 应力测定方法 | |
| JP7566698B2 (ja) | 測定システム及び測定方法 | |
| JP5206356B2 (ja) | 三次元構造物の形状測定装置 | |
| US12405234B2 (en) | Sample holder for an X-ray analysis apparatus | |
| JP6528117B2 (ja) | 触媒層形成検査装置とその検査方法 | |
| CN110678742B (zh) | 应力测定方法 | |
| JP5768349B2 (ja) | スリット光輝度分布設計方法および光切断凹凸疵検出装置 | |
| JP4866029B2 (ja) | ウェーハ外周検査装置 | |
| JP2016017908A (ja) | 放射線探傷方法及び放射線探傷装置 | |
| ES2999543T3 (en) | Non-destructive detection of surface and near surface abnormalities in a metallic product | |
| JP5681517B2 (ja) | 粒子導電性判別装置及び粒子導電性判別方法 | |
| JPWO2024180629A5 (ja) | ||
| JP2011213041A (ja) | スティフナー付きビードの良否判定方法および装置 | |
| JP2007333552A (ja) | 中性子測定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221101 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230829 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230904 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7344841 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |