JP7367036B2 - 組成物、偏光子層、積層体、および画像表示装置 - Google Patents

組成物、偏光子層、積層体、および画像表示装置 Download PDF

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拓史 松山
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Description

本発明は、組成物、偏光子層、積層体、および画像表示装置に関する。
従来、レーザー光または自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、または、遮光機能等が必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、画像表示装置（例えば、液晶表示装置）では、表示における旋光性または複屈折性を制御するために直線偏光子または円偏光子が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光子が使用されている。
従来、これらの偏光子には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光子についても検討されている。
例えば、特許文献１には、高分子液晶化合物、低分子液晶化合物および二色性物質を含有する液晶組成物が記載されている（請求項１）。
国際公開第２０１８／１９９０９６号公報
本発明者らは、特許文献１に記載された液晶組成物を用いて得られた光吸収異方性層（偏光子層）について検討したところ、液晶組成物に含まれる高分子液晶化合物および低分子液晶化合物の種類によっては、高配向度と、積層体に適用した場合において偏光子層と他の層との高い密着性と、を両立することが難しいことが明らかになった。
そこで、本発明は、配向度に優れ、かつ、積層体に適用した場合に他の層との密着性に優れた偏光子層を形成できる組成物、偏光子層、積層体および画像表示装置の提供を課題とする。
本発明者らが鋭意検討した結果、特定の関係を満たす高分子液晶化合物と低分子液晶化合物とを併用した組成物を用いれば、配向度に優れ、かつ、積層体に適用した場合に他の層との密着性に優れた偏光子層を形成できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成できることを見出した。
［１］
少なくとも、高分子液晶化合物、二色性物質、および、低分子液晶化合物を含有する組成物であり、
上記高分子液晶化合物が、後述の式（１）で表される繰り返し単位（１）を有する共重合体であり、
上記低分子液晶化合物が、後述の式（ＬＣ）で表される化合物であり、
下記式（１１）～（１３）の関係を満たす、組成物。
後述の式（１）中、ＰＣ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、ＭＧ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
後述の式（ＬＣ）中、ＳＰＬ１およびＳＰＬ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、ＭＬはメソゲン基を表し、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に架橋性基または末端基を表し、Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方は架橋性基を表す。
|ｌｏｇＰ（ＳＰ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≦ ２．０ （１１）
|ｌｏｇＰ（ＭＧ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰ１）| ≧ ４．５ （１２）
|ｌｏｇＰ（ＭＬ）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≧ ４．０ （１３）
式（１１）～（１３）中、ｌｏｇＰ（ＳＰ１）は後述の式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＭＧ１）は後述の式（１）におけるＭＧ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）は後述の式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＭＬ）は後述の式（ＬＣ）におけるＭＬのｌｏｇＰ値を表す。
［２］
さらに、下記式（２０）および（２１）の関係を満たす、［１］に記載の組成物。
Ｄ（ＳＰＬ１） ≧ Ｄ（ＳＰＬ２） （２０）
|Ｄ（ＳＰ１）－Ｄ（ＳＰＬ１）| ≦ ４．０Å （２１）
式（２０）および式（２１）中、Ｄ（ＳＰＬ１）は後述の式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１の分子長を表し、Ｄ（ＳＰＬ２）は後述の式（ＬＣ）におけるＳＰＬ２の分子長を表し、Ｄ（ＳＰ１）は後述の式（１）におけるＳＰ１の分子長を表す。
［３］
さらに、下記式（２０）および（４１’）の関係を満たす、［１］に記載の組成物。
Ｄ（ＳＰＬ１） ≧ Ｄ（ＳＰＬ２） （２０）
Ｄ（ＳＰＬ２） ≦ ４．０Å （４１’）
式（２０）および式（４１’）中、Ｄ（ＳＰＬ１）は後述の式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１の分子長を表し、Ｄ（ＳＰＬ２）は後述の式（ＬＣ）におけるＳＰＬ２の分子長を表す。
［４］
下記式（３１）の関係を満たす、［１］～［３］のいずれかに記載の組成物。
ｌｏｇＰ（ＳＰＬ２） ≦ １．５ （３１）
ここで、式（３１）中、ｌｏｇＰ（ＳＰＬ２）は、後述の式（ＬＣ）におけるＳＰＬ２のｌｏｇＰ値を表す。
［５］
上記高分子液晶化合物が、さらに後述の式（４）で表される繰り返し単位（４）を有し、
上記繰り返し単位（４）の含有量が、上記高分子液晶化合物の全繰り返し単位に対して、１０質量％以上である、［１］～［４］のいずれかに記載の組成物。
ここで、後述の式（４）中、ＰＣ４は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ４は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ４はスペーサー基を表し、Ｔ４は架橋性基を表す。
［６］
後述の式（４）におけるＳＰ４の主鎖の原子数が、１５以上である、［５］に記載の組成物。
［７］
後述の式（１）におけるＳＰ１がオキシエチレン構造である、［１］～［６］のいずれかに記載の組成物。
［８］
さらに、高分子界面改良剤を含有する、［１］～［７］のいずれかに記載の組成物。
［９］
［１］～［８］のいずれかに記載の組成物を用いて形成される、偏光子層。
［１０］
基材と、上記基材上に［９］に記載の偏光子層とを有する、積層体。
［１１］
上記基材上に、さらに、架橋性基を有する繰り返し単位を有する重合体を含有する配向層を有し、
上記架橋性基を有する繰り返し単位の含有量が、上記重合体の全繰り返し単位に対して、２０質量％以上である、［１０］に記載の積層体。
［１２］
上記重合体が、さらに、後述の式（ＰＡ）で表される部分構造を有する繰り返し単位を有する、［１１］に記載の積層体。
後述の式（ＰＡ）中、２つの＊は、結合位置を表し、ＲＰ１～ＲＰ４はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
［１３］
上記偏光子層上に屈折率調整層を有する、［１０］～［１２］のいずれかに記載の積層体。
［１４］
ヘイズが０．２～１．５％である、［１０］～［１３］のいずれかに記載の積層体。
［１５］
［９］に記載の偏光子層と、紫外線吸収剤を含有する層とを有する、積層体。
［１６］
さらに、λ／４板を有する、［１０］～［１５］のいずれかに記載の積層体。
［１７］
上記偏光子層における上記λ／４板が設けられた面とは反対面側に、ガラス基板を有し、
上記積層体が上記基材を有する場合には、上記基材が上記ガラス基板である、［１６］に記載の積層体。
［１８］
上記偏光子層における上記λ／４板が設けられた面とは反対面側に、バリヤ層を有する、［１６］に記載の積層体。
［１９］
［９］に記載の偏光子層、または［１０］～［１８］のいずれかに記載の積層体を有する、画像表示装置。
本発明によれば、配向度に優れ、かつ、積層体に適用した場合に他の層との密着性に優れた偏光子層を形成できる組成物、偏光子層、積層体および画像表示装置を提供できる。
図１は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図２は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、「アクリル酸」および「メタクリル酸」の総称であり、（メタ）アクリロイルとは、「アクリロイル」および「メタクリロイル」の総称であり、（メタ）アクリルとは、「アクリル」および「メタクリル」の総称である。
本明細書において、平行、直交とは厳密な意味での平行、直交を意味するのではなく、平行または直交から±５°の範囲を意味する。
本明細書において、液晶化合物を含む組成物、および、液晶化合物とは、硬化等により、もはや液晶性を示さなくなったものも概念として含まれる。
本明細書において、各成分は１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。ここで各成分について２種以上併用する場合、その成分の含有量とは特段の断りがない限り、合計の含有量を指す。
本明細書において、配向度および密着性のうちの少なくとも１つがより優れることを、本発明の効果がより優れるということがある。
〔置換基Ｗ〕
本明細書で用いられる置換基Ｗは、以下の基を表す。
置換基Ｗとしては、例えば、ハロゲン原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のシクロアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルキニル基、炭素数１～２０のアリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ(ＯＨ)2）、ホスファト基（－ＯＰＯ(ＯＨ)2）、スルファト基（－ＯＳＯ3Ｈ）、その他の公知の置換基などが挙げられる。
なお、置換基の詳細については、特開２００７-２３４６５１号公報の段落［００２３］に記載される。
また、置換基Ｗは、下記式（Ｗ１）で表される基であってもよい。
Figure 0007367036000001
式（Ｗ１）中、
＊は、結合位置を表し、
ＬＷは、単結合または２価の連結基を表し、
ＳＰＷは、２価のスペーサー基を表し、
Ｑは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖、分岐または環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルキニル基、炭素数１～２０のアリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ(ＯＨ)2）、ホスファト基（－ＯＰＯ(ＯＨ)2）、スルファト基（－ＯＳＯ3Ｈ）、下記式（Ｐ１）～（Ｐ－３０）で表される架橋性基、
を表す。
ＬＷが表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｇ－、－（ＣＦ２）ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）２－Ｃ（Ｚ’）２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ’’）－、－Ｎ（Ｚ’’）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ’’はそれぞれ独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、などが挙げられる。ＬＷは、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい（以下「Ｌ－Ｃ」とも省略する）。
Figure 0007367036000002
上記式（Ｐ－１）～（Ｐ－３０）中、ＲＰは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖、分岐、または環状のアルキレン基、炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルキニル基、炭素数１～２０のアリール基、複素環基（ヘテロ環基といってもよい）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（－Ｂ(ＯＨ)2）、ホスファト基（－ＯＰＯ(ＯＨ)2）、スルファト基（－ＯＳＯ3Ｈ）、を表し、複数のＲＰはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
架橋性基の好ましい態様としては、ラジカル重合性基、またはカチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基としては、上記式（Ｐ－１）で表されるビニル基、上記式（Ｐ－２）で表されるブタジエン基、上記式（Ｐ－４）で表される（メタ）アクリロイルオキシ基、上記式（Ｐ－５）で表される（メタ）アクリルアミド基、上記式（Ｐ－６）で表される酢酸ビニル基、上記式（Ｐ－７）で表されるフマル酸エステル基、上記式（Ｐ－８）で表されるスチリル基、上記式（Ｐ－９）で表されるビニルピロリドン基、上記式（Ｐ－１１）で表される無水マレイン酸、上記式（Ｐ－１２）で表されるマレイミド基、が好ましく、カチオン重合性基としては、上記式（Ｐ－１８）で表されるビニルエーテル基、上記式（Ｐ－１９）で表されるエポキシ基、上記式（Ｐ－２０）で表されるオキセタニル基、が好ましい。
ＳＰＷが表すスペーサー基としては、炭素数１～５０の直鎖、分岐、または環状のアルキレン基、炭素数１～２０複素環基が挙げられる。
上記アルキレン基、複素環基の炭素原子は、－Ｏ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）２－Ｃ（Ｚ’）２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ’’）－、－Ｎ（Ｚ’’）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ’’は独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｓ）－、－Ｓ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、これらの基を２つ以上組み合わせた基で置換されていてもよい（以下「ＳＰ－Ｃ」とも省略する）。
上記アルキレン基、複素環基の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、－ＺＨ、－ＯＨ、－ＯＺＨ、－ＣＯＯＨ、－Ｃ（Ｏ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＯＺＨ’、－Ｃ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＯＣ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＮＺＨ’ＯＺＨ’’、－ＳＨ、－ＳＺＨ、－Ｃ（Ｓ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＳＺＨ、－ＳＣ（Ｏ）ＺＨ、で置換されていてもよい（以下、「ＳＰ－Ｈ」とも省略する）。ここで、ＺＨ、ＺＨ’は炭素数１～１０のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、－Ｌ－ＣＬ（Ｌは単結合または連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬＷおよびＳＰＷと同じである。ＣＬは、架橋性基（上記式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表される基が好ましい。）を表す。
＜組成物＞
本発明の組成物（以下、「偏光子層形成用組成物」ともいう。）は、高分子液晶化合物、二色性物質、および、低分子液晶化合物を含有する組成物である。
また、上記高分子液晶化合物が後述する式（１）で表される繰り返し単位（１）を有する共重合体であり、上記低分子液晶化合物が後述する式（ＬＣ）で表される化合物である。
また、下記式（１１）～（１３）の関係を満たす。
|ｌｏｇＰ（ＳＰ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≦ ２．０ （１１）
|ｌｏｇＰ（ＭＧ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰ１）| ≧ ４．５ （１２）
|ｌｏｇＰ（ＭＬ）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≧ ４．０ （１３）
式（１１）～（１３）中、
ｌｏｇＰ（ＳＰ１）は上記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値を表し、
ｌｏｇＰ（ＭＧ１）は上記式（１）におけるＭＧ１のｌｏｇＰ値を表し、
ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）は上記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１のｌｏｇＰ値を表し、
ｌｏｇＰ（ＭＬ）は上記式（ＬＣ）におけるＭＬのｌｏｇＰ値を表す。
なお、上記高分子液晶化合物が繰り返し単位（１）を２種以上有する場合、少なくとも１種の繰り返し単位（１）と、上記低分子液晶化合物と、が上記関係式を満たしていればよい。
本発明の組成物によれば、高配向度（すなわち、配向度に優れること）、かつ、積層体に適用した場合に他の層との密着性に優れた偏光子層を形成できる。この理由については明らかではないが、概ね以下のように推定している。
偏光子層の密着性向上には、偏光子層の硬化度を上げることが考えられ、例えば架橋性基を複数持つ化合物を併用する方法が挙げられる。しかしながら、高分子液晶化合物と、架橋性基を複数持つ化合物とを併用した場合、これらの化合物の相溶性が悪くなって、得られる偏光子層の配向度が低下する。
この問題に対して、高分子液晶化合物と相溶性の高い架橋性基を持つ化合物として、上述の式（１１）～（１３）を満たす低分子液晶化合物を用いることで、配向度に優れつつ、他の層との密着性にも優れた偏光子層が得られたと推定している。
また、本発明の組成物を垂直配向に用いた場合、配向度に優れた偏光子層を形成できる。
〔高分子液晶化合物〕
本発明の組成物に含まれる高分子液晶化合物は、下記式（１）で表される繰り返し単位（１）を有する共重合体である。
繰り返し単位（１）と共重合可能な繰り返し単位の具体例としては、後述の繰り返し単位（２）～（５）が挙げられる。
高分子液晶化合物は、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。
Figure 0007367036000003
式（１）中、ＰＣ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、ＭＧ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
ＳＰ１のｌｏｇＰ値を表すｌｏｇＰ（ＳＰ１）は、後述する式（ＬＣ）で表される低分子液晶化合物のＳＰＬ１のｌｏｇＰ値を表すｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）と、下記式（１１）の関係を満たし、本発明の効果がより優れる点から、下記式（１１’）の関係を満たすことが好ましい。
|ｌｏｇＰ（ＳＰ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≦ ２．０ （１１）
|ｌｏｇＰ（ＳＰ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≦ １．５ （１１’）
また、ＳＰ１のｌｏｇＰ値を表すｌｏｇＰ（ＳＰ１）およびＭＧ１のｌｏｇＰ値を表すｌｏｇＰ（ＭＧ１）は、下記式（１２）の関係を満たし、本発明の効果がより優れる点から、下記式（１２’）の関係を満たすことが好ましい。
|ｌｏｇＰ（ＭＧ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰ１）| ≧ ４．５ （１２）
|ｌｏｇＰ（ＭＧ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰ１）| ≧ ５．０ （１２’）
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。
例えば、式（１）で表される繰り返し単位の部分構造であるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、ＳＰ１の構造式をソフトウェアに入力することで算出される。また、式（ＬＣ）で表される低分子液晶化合物の部分構造であるＳＰＬ１のｌｏｇＰ値は、ＳＰＬ１の構造式をソフトウェアに入力することで算出される。
さらに、本発明の効果がより優れる点から、上記式（１）におけるＳＰ１の分子長を表すＤ（ＳＰ１）は、後述する式（ＬＣ）で表される低分子液晶化合物のＳＰＬ１の分子長を表すＤ（ＳＰＬ１）と下記式（２１）の関係を満たすことが好ましく、下記式（２１’）の関係を満たすことがより好ましい。ただし、後述する式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１の分子長を表すＤ（ＳＰＬ１）と、後述する式（ＬＣ）におけるＳＰＬ２の分子長を表すＤ（ＳＰＬ２）とは、下記式（２０）の関係を満たす。
また、ＭＧ１の分子長を表すＤ（ＭＧ１）は、本発明の効果がより優れる点から、後述する式（ＬＣ）で表される低分子液晶化合物のＭＬの分子長を表すＤ（ＭＬ）と、下記式（２２）の関係を満たすことが好ましく、下記式（２２’）の関係を満たすことがより好ましい。
Ｄ（ＳＰＬ１） ≧ Ｄ（ＳＰＬ２） （２０）
|Ｄ（ＳＰ１）－Ｄ（ＳＰＬ１）| ≦ ４．０Å （２１）
|Ｄ（ＳＰ１）－Ｄ（ＳＰＬ１）| ≦ ３．０Å （２１’）
|Ｄ（ＭＧ１）－Ｄ（ＭＬ）| ≦ ４．０Å （２２）
|Ｄ（ＭＧ１）－Ｄ（ＭＬ）| ≦ ２．０Å （２２’）
ここで、スペーサー基およびメソゲン基などの分子長は、商用化されているＷｉｎｍｏｓｔａｒなどの分子力学計算が可能な計算ソフトを用いて計算することができる。本発明では特に断りのない限り、スペーサー基およびメソゲン基などの分子長は、以下の方法で算出される分子長の値を採用する。ＣｈｅｍＤｒａｗで作製した分子構造をＭＤＬＭｏｌｆｉｌｅ形式とし、Ｗｉｎｍｏｓｔａｒで開く。Ｗｉｎｍｏｓｔａｒの簡易分子力場法により構造最適化する。構造最適化後のスペーサー基およびメソゲン基の両末端の原子間距離を分子長として算出する。
ＰＣ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。
Figure 0007367036000004
式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ１４（ＯＲ１５）２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ１４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ１４と同義であり、複数のＲ１５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。
Ｌ１は、単結合または上記式（Ｗ１）中のＬＷと同様の２価の連結基であり、好ましい態様としては、単結合、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１６－、－ＮＲ１６Ｃ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）２－、および、－ＮＲ１６Ｒ１７－などが挙げられる。式中、Ｒ１６およびＲ１７はそれぞれ独立に、水素原子、置換基（例えば、置換基Ｗ）を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。上記２価の連結基の具体例において、左側の結合手がＰＣ１と結合し、右側の結合手がＳＰ１と結合する。
ＰＣ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－または－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１６－で表される基が好ましい。ＰＣ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、Ｌ１は単結合が好ましい。
ＳＰ１が表すスペーサー基としては、上記式（Ｗ１）中のＳＰＷで表される基が挙げられる。
ＳＰ１が表すスペーサーは、配向度の観点から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基、または、炭素数２～２０の直鎖または分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＮＲ－（Ｒは炭素数１～１０のアルキル基を表す）、または、－Ｓ（Ｏ）２－を含んでいてもよい（すなわち、アルキレン基中の炭素原子がこれらの基で置換されていてもよいことを意味する。）。また、上記アルキレン基の水素原子は、－ＯＨで置換されていてもよい。
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基であるがより好ましく、オキシエチレン構造を含む基が特に好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ２－ＣＨ２Ｏ）ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊はＬ１またはＭＧ１との結合位置を表す。ｎ１は、本発明の効果がより優れる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～６の整数がより好ましく、２～４であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、＊－（ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２Ｏ）ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭＧ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、＊－（Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ）ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭＧ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、＊－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭＧ１との結合位置を表す。
式（１）中、ＭＧ１は後述するメソゲン基を表す。ＭＧ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
ＭＧ１が表すメソゲン基は、環状構造を２～１０個含むのが好ましく、２～７個含むことがより好ましい。
環状構造の具体例としては、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基などが挙げられる。
ＭＧ１が表すメソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、ならびに、本発明の効果がより優れるから、下記式（ＭＧ－Ａ）または下記式（ＭＧ－Ｂ）で表される基が好ましく、式（ＭＧ－Ｂ）で表される基がより好ましい。
Figure 0007367036000005
式（ＭＧ－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、置換基Ｗなどの置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４～１５員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、結合位置を表す。
式（ＭＧ－Ａ）中、Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基、ナフチレン基が好ましい。
式（ＭＧ－Ａ）中、Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基、下記の構造（ＩＩ－１）～（ＩＩ－４）などが挙げられる。
Figure 0007367036000006
式（ＩＩ－１）～（ＩＩ－４）中、Ｄ１は、－Ｓ－、－Ｏ－、またはＮＲ１１－を表し、Ｒ１１は水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｙ１は炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表し、Ｚ１、Ｚ２、およびＺ３はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＮＲ１２Ｒ１３または－ＳＲ１２を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｊ１およびＪ２は各々独立に、－Ｏ－、－ＮＲ２１－（Ｒ２１は水素原子または置換基を表す。）、－Ｓ－および－Ｃ（Ｏ）－からなる群から選ばれる基を表し、Ｅは水素原子または置換基が結合していてもよい第１４～１６族の非金属原子を表し、Ｊｘは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表し、Ｊｙは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表し、ＪｘおよびＪｙが有する芳香環は置換基を有していてもよく、ＪｘとＪｙは結合して、環を形成していてもよく、Ｄ２は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
式（ＩＩ－２）中、Ｙ１が炭素数６～１２の芳香族炭化水素基である場合、単環でも多環でもよい。Ｙ１が炭素数３～１２の芳香族複素環基である場合、単環でも多環でもよい。
式（ＩＩ－２）中、Ｊ１およびＪ２が、－ＮＲ２１－を表す場合、Ｒ２１の置換基としては、例えば特開２００８－１０７７６７号公報の段落００３５～００４５の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
式（ＩＩ－２）中、Ｅが、置換基が結合していてもよい第１４～１６族の非金属原子である場合、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ’、＝Ｃ(Ｒ’)Ｒ’が好ましい。Ｒ’は置換基を表し、置換基としては例えば特開２００８－１０７７６７号公報の段落［００３５］～［００４５］の記載を参酌でき、窒素原子が好ましい。
式（ＭＧ－Ａ）中、Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられ、炭素原子は、－Ｏ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｏ）－、（Ｚ、は独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｓ－、－Ｃ（Ｓ）－、－Ｓ（Ｏ）－、およびＳＯ２－、これらの基を２つ以上組み合わせた基によって置換されていてもよい。
式（ＭＧ－Ａ）中、ａ１は２～１０の整数を表す。複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。
式（ＭＧ－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（ＭＧ－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（ＭＧ－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、本発明の効果がより優れる理由から、２以上であることがより好ましい。
式（ＭＧ－Ｂ）中、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、上記式（Ｗ１）中のＬＷが挙げられる。
ＭＧ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられ、以下の構造中、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基上の水素原子は、上記の置換基Ｗで置換されていてもよい。
Figure 0007367036000007
Figure 0007367036000008
Figure 0007367036000009
Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、－ＳＨ、カルボキシル基、ボロン酸基、－ＳＯ３Ｈ、－ＰＯ３Ｈ２、－ＮＲ１１Ｒ１２（Ｒ１１およびＲ１２はそれぞれ独立に水素原子または置換または非置換の炭素数１～１０のアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表す。）、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、架橋性基含有基（すなわち、架橋性基を含む基）などが挙げられる。
上記架橋性基としては、例えば、上記式（Ｗ１）中の（Ｐ－１）～（Ｐ－３０）で表される基が好ましい。また、Ｔ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
Ｔ１は、本発明の効果がより優れる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、本発明の効果がより優れる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
繰り返し単位（１）の含有量は、配向の均一性が優れる点から、高分子液晶化合物の全繰り返し単位（１００質量％）に対して、５０質量％以上が好ましく、５５質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が特に好ましい。
繰り返し単位（１）の含有量の上限値は、配向度が向上する点から、９９質量％以下が好ましく、９７質量％以下がより好ましい。
繰り返し単位（１）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶化合物が繰り返し単位（１）を２種以上含むと、高分子液晶化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（１）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
本発明において、高分子液晶化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
高分子液晶化合物は、配向度を向上させる観点から、末端に電子供与性および／または電子吸引性を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。より具体的には、メソゲン基とこれの末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基とを有する繰り返し単位（２１）と、メソゲン基とこれの末端に存在するσｐ値が０以下の基とを有する繰り返し単位（２２）と、を含むことがより好ましい。このように、高分子液晶化合物が繰り返し単位（２１）と繰り返し単位（２２）を含む場合、上記繰り返し単位（２１）または上記繰り返し単位（２２）のいずれかのみを含む場合と比べて、これを用いて形成される偏光子の配向度が向上する。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。
すなわち、繰り返し単位（２１）と繰り返し単位（２２）に発生する逆向きの双極子モーメントが、分子間相互作用をすることによって、メソゲン基の短軸方向への相互作用が強くなって、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなると考えられる。これにより、二色性物質の配向性も良好になるので、形成される偏光子の配向度が高くなると推測される。
なお上記繰り返し単位（２１）および（２２）は、上記式（１）で表される繰り返し単位であってもよい。
繰り返し単位（２１）は、メソゲン基と、上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基と、を有する。
上記電子吸引性基は、メソゲン基の末端に位置しており、σｐ値が０より大きい基である。電子吸引性基（σｐ値が０よりも大きい基）としては、後述の式（ＬＣＰ－２１）におけるＥＷＧで表される基が挙げられ、その具体例も同様である。
上記電子吸引性基のσｐ値は、０よりも大きく、偏光子の配向度がより高くなる点から、０．３以上が好ましく、０．４以上がより好ましい。上記電子吸引性基のσｐ値の上限値は、配向の均一性が優れる点から、１．２以下が好ましく、１．０以下がより好ましい。
σｐ値とは、ハメットの置換基定数σｐ値（単に「σｐ値」とも略記する）であり、置換安息香酸の酸解離平衡定数における置換基の効果を数値で表したものであり、置換基の電子吸引性および電子供与性の強度を示すパラメータである。本明細書におけるハメットの置換基定数σｐ値は、置換基が安息香酸のパラ位に位置する場合の置換基定数σを意味する。
本明細書における各基のハメットの置換基定数σｐ値は、文献「Ｈａｎｓｃｈ ｅｔ ａｌ．， Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ， １９９１， Ｖｏｌ， ９１， Ｎｏ． ２， １６５－１９５」に記載された値を採用する。なお、上記文献にハメットの置換基定数σｐ値が示されていない基については、ソフトウェア「ＡＣＤ／ＣｈｅｍＳｋｅｔｃｈ（ＡＣＤ／Ｌａｂｓ ８．００ Ｒｅｌｅａｓｅ Ｐｒｏｄｕｃｔ Ｖｅｒｓｉｏｎ：８．０８）」を用いて、安息香酸のｐＫａと、パラ位に置換基を有する安息香酸誘導体のｐＫａとの差に基づいて、ハメットの置換基定数σｐ値を算出できる。
繰り返し単位（２１）は、側鎖にメソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０より大きい電子吸引性基とを有していれば、特に限定されないが、偏光子の配向度がより高くなる点から、下記式（ＬＣＰ－２１）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
Figure 0007367036000010
式（ＬＣＰ－２１）中、ＰＣ２１は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ２１は単結合または２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、ＳＰ２１ＡおよびＳＰ２１Ｂはそれぞれ独立にスペーサー基を表し、より具体的には上記式（１）中のＳＰ１と同様の構造を表し、ＭＧ２１はメソゲン構造、より具体的には上記式（１）中のメソゲン基ＭＧ１を表し、ＥＷＧはσｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。
ＳＰ２１ＡおよびＳＰ２１Ｂが表すスペーサー基は、上記式（１）中のＳＰ１と同様の基を表し、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含む基、または、炭素数２～２０の直鎖または分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、または－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－を含んでいてもよい。
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましく、オキシエチレン構造であることがさらに好ましい。
ＳＰ２１Ｂが表すスペーサー基は、単結合、または、炭素数２～２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基が好ましい。ただし、上記アルキレン基は、－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、または－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－を含んでもよい。
これらの中でも、ＳＰ２１Ｂが表すスペーサー基は、偏光子の配向度がより高くなる点から、単結合が好ましい。換言すれば、繰り返し単位２１は、式（ＬＣＰ－２１）における電子吸引性基であるＥＷＧが、式（ＬＣＰ－２１）におけるメソゲン基であるＭＧ２１に直結する構造を有するのが好ましい。このように、電子吸引性基がメソゲン基に直結していると、高分子液晶化合物中に適度な双極子モーメントによる分子間相互作用がより効果的に働くことで、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなり、配向度がより高くなると考えられる。
ＥＷＧは、σｐ値が０より大きい電子吸引性基を表す。σｐ値が０より大きい電子吸引性基としては、エステル基（具体的には、＊－Ｃ（Ｏ）Ｏ－ＲＥで表される基）、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、カルボキシ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－ＯＲＥ、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－ＲＥ、－Ｏ－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－ＲＥ、アシル基（具体的には、＊－Ｃ（Ｏ）ＲＥで表される基）、アシルオキシ基（具体的には、＊－ＯＣ（Ｏ）ＲＥで表される基）、イソシアネート基（－Ｎ＝Ｃ（Ｏ））、＊－Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＲＦ）２、ハロゲン原子、ならびに、これらの基で置換されたアルキル基（炭素数１～２０が好ましい。）が挙げられる。上記各基において、＊はＳＰ２１Ｂとの結合位置を表す。ＲＥは、炭素数１～２０（好ましくは炭素数１～４、より好ましくは炭素数１～２）のアルキル基を表す。ＲＦはそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～２０（好ましくは炭素数１～４、より好ましくは炭素数１～２）のアルキル基を表す。
上記基の中でも、ＥＷＧは、本発明の効果がより発揮される点から、＊－Ｃ（Ｏ）Ｏ－ＲＥで表される基、（メタ）アクリロイルオキシ基、または、シアノ基、ニトロ基、が好ましい。
繰り返し単位（２１）の含有量は、偏光子の高い配向度を維持しつつ、高分子液晶化合物および二色性物質を均一に配向できる点から、高分子液晶化合物の全繰り返し単位（１００質量％）に対して、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、４５質量％以下が特に好ましい。
繰り返し単位（２１）の含有量の下限値は、本発明の効果がより発揮される点から、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。
繰り返し単位（２１）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶化合物が繰り返し単位（２１）を２種以上含むと、高分子液晶化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（２１）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
繰り返し単位（２１）を２種以上含む場合には、ＥＷＧに架橋性基を含まない繰り返し単位（２１）と、ＥＷＧに架橋性基を含む繰り返し単位（２１）と、を併用してもよい。これにより、偏光子の硬化性がより向上する。なお、架橋性基としては、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、マレイミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、および、オキセタニル基が好ましい。
この場合、偏光子層の硬化性と配向度のバランスの点から、ＥＷＧに架橋性基を含む繰り返し単位（２１）の含有量が、高分子液晶化合物の全繰り返し単位（１００質量％）に対して、１～３０質量％であることが好ましい。
以下において、繰り返し単位（２１）の一例を示すが、繰り返し単位（２１）は、以下の繰り返し単に限定されるものではない。
Figure 0007367036000011
本発明者らは、繰り返し単位（２１）および繰り返し単位（２２）について、組成（含有割合）ならびに末端基の電子供与性および電子吸引性について鋭意検討した結果、繰り返し単位（２１）の電子吸引性基の電子吸引性が強い場合（すなわち、σｐ値が大きい場合）には、繰り返し単位（２１）の含有割合を低くすれば偏光子の配向度がより高くなり、繰り返し単位（２１）の電子吸引性基の電子吸引性が弱い場合（すなわち、σｐ値が０に近い場合）には、繰り返し単位（２１）の含有割合を高くすれば偏光子の配向度がより高くなることを見出した。
この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。すなわち、高分子液晶化合物中に適度な双極子モーメントによる分子間相互作用が働くことで、液晶の配向する向きがより均一となると推察され、その結果、液晶の秩序度が高くなり、偏光子の配向度がより高くなると考えられる。
具体的には、繰り返し単位（２１）における上記電子吸引性基（式（ＬＣＰ－２１）においてはＥＷＧ）のσｐ値と、高分子液晶化合物中の繰り返し単位（２１）の含有割合（質量基準）と、の積は、０．０２０～０．１５０が好ましく、０．０５０～０．１３０がより好ましく、０．０５５～０．１２５が特に好ましい。上記積が上記範囲内であれば、偏光子の配向度がより高くなる。
繰り返し単位（２２）は、メソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０以下の基とを有する。高分子液晶化合物が繰り返し単位（２２）を有することで、高分子液晶化合物および二色性物質を均一に配向できる。
メソゲン基は、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基であり、詳細は後述の式（ＬＣＰ－２２）におけるＭＧで説明する通りであり、その具体例も同様である。
上記基は、メソゲン基の末端に位置しており、σｐ値が０以下の基である。上記基（σｐ値が０以下である基）としては、σｐ値が０である水素原子、および、σｐ値が０よりも小さい後述の式（ＬＣＰ－２２）におけるＴ２２で表される基（電子供与性基）が挙げられる。上記基のうち、σｐ値が０よりも小さい基（電子供与性基）の具体例は、後述の式（ＬＣＰ－２２）におけるＴ２２と同様である。
上記基のσｐ値は、０以下であり、配向の均一性がより優れる点から、０よりも小さいことが好ましく、－０．１以下がより好ましく、－０．２以下が特に好ましい。上記基のσｐ値の下限値は、－０．９以上が好ましく、－０．７以上がより好ましい。
繰り返し単位（２２）は、側鎖にメソゲン基と上記メソゲン基の末端に存在するσｐ値が０以下である基とを有していれば、特に限定されないが、液晶の配向の均一性がより高くなる点から、上記式（ＬＣＰ－２１）で表される繰り返し単位に該当せず、下記式（ＰＣＰ－２２）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
Figure 0007367036000012
式（ＬＣＰ－２２）中、ＰＣ２２は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ２２は単結合または２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、ＳＰ２２はスペーサー基を表し、より具体的には上記式（１）中のＳＰ１と同様の構造を表し、ＭＧ２２はメソゲン構造、より具体的には上記式（１）中のメソゲン基ＭＧ１と同様の構造を表し、Ｔ２２はハメットの置換基定数σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。
Ｔ２２は、σｐ値が０より小さい電子供与性基を表す。σｐ値が０より小さい電子供与性基としては、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、および、炭素数１～１０のアルキルアミノ基などが挙げられる。
Ｔ２２の主鎖の原子数が２０以下であることで、偏光子の配向度がより向上する。ここで、Ｔ２２おける「主鎖」とは、ＭＧ２２と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ２２の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ２２がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ２２がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
以下において、繰り返し単位（２２）の一例を示すが、繰り返し単位（２２）は、以下の繰り返し単に限定されるものではない。
Figure 0007367036000013
繰り返し単位（２１）と繰り返し単位（２２）は、構造の一部が共通しているのが好ましい。繰り返し単位同士の構造が類似しているほど、液晶が均一に整列すると推察される。これにより、偏光子の配向度がより高くなる。
具体的には、偏光子の配向度がより高くなる点から、式（ＬＣＰ－２１）のＳＰ２１と式（ＬＣＰ－２２）のＳＰ２２とが同一構造であること、式（ＬＣＰ－２１）のＭＧ２１と式（ＬＣＰ－２２）のＭＧ２２とが同一構造であること、および、式（ＬＣＰ－２１）のＬ２１と式（ＬＣＰ－２２）のＬ２２とが同一構造であること、のうち、少なくとも１つを満たすことが好ましく、２つ以上を満たすことがより好ましく、全てを満たすことが特に好ましい。
繰り返し単位（２２）の含有量は、配向の均一性が優れる点から、高分子液晶化合物の全繰り返し単位（１００質量％）に対して、５０質量％以上が好ましく、５５質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が特に好ましい。
繰り返し単位（２２）の含有量の上限値は、配向度が向上する点から、９９質量％以下が好ましく、９７質量％以下がより好ましい。
繰り返し単位（２２）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶化合物が繰り返し単位（２２）を２種以上含むと、高分子液晶化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（２２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
本発明に用いられる高分子液晶化合物は、汎用溶媒に対する溶解性を向上させる観点から、メソゲンを含有しない繰り返し単位（３）を含むことができる。
繰り返し単位（３）の具体例としては、架橋性基（例えば、エチレン性不飽和基）を含まない繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（３－１）」ともいう。）、および、架橋性基を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（３－２）」ともいう。）が挙げられる。
繰り返し単位（３－１）の重合に使用されるモノマーの具体例としては、アクリル酸、α－アルキルアクリル酸類（例えば、メタクリル酸、イタコン酸）、それらから誘導されるエステル類およびアミド類（例えば、Ｎ－ｉ－プロピルアクリルアミド、Ｎ－ｎ－ブチルアクリルアミド、Ｎ－ｔ－ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ－メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ－メチロールアクリルアミド、Ｎ－メチロールメタクリルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ｎ－プロピルアクリレート、ｉ－プロピルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－メチル－２－ニトロプロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、ｉ－ブチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート、ｔ－ペンチルアクリレート、２－メトキシエチルアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、２－エトキシエトキシエチルアクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルアクリレート、２，２－ジメチルブチルアクリレート、３－メトキシブチルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ｎ－ペンチルアクリレート、ｎ－ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロペンチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ｎ－オクチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、４－メチル－２－プロピルペンチルアクリレート、メチルメタクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート、ｎ－ブチルメタクリレート、ｉ－ブチルメタクリレート、ｓｅｃ－ブチルメタクリレート、ｎ－オクチルメタクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート、２－メトキシエチルメタクリレート、２－エトキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、２－ノルボルニルメチルメタクリレート、５－ノルボルネン－２－イルメチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート）、ビニルエステル類（例えば、酢酸ビニル）、マレイン酸またはフマル酸から誘導されるエステル類（例えば、マレイン酸ジメチル、フマル酸ジエチル）、マレイミド類（例えば、Ｎ－フェニルマレイミド）、マレイン酸、フマル酸、ｐ－スチレンスルホン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジエン類（例えば、ブタジエン、シクロペンタジエン、イソプレン）、芳香族ビニル化合物（例えば、スチレン、ｐ－クロルスチレン、ｔ－ブチルスチレン、α－メチルスチレン）、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルオキサゾリドン、Ｎ－ビニルサクシンイミド、Ｎ－ビニルホルムアミド、Ｎ－ビニル－Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ－ビニルアセトアミド、Ｎ－ビニル－Ｎ－メチルアセトアミド、１－ビニルイミダゾール、４－ビニルピリジン、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸ナトリウム、ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル類（例えば、メチルビニルエーテル）、エチレン、プロピレン、１－ブテン、ならびに、イソブテン、が挙げられる。
上記モノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記モノマーの中でも、アクリル酸、α－アルキルアクリル酸類、それらから誘導されるエステル類およびアミド類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ならびに、芳香族ビニル化合物が好ましい。
上記以外のモノマーとしては、例えば、リサーチディスクロージャーＮｏ．１９５５（１９８０年、７月）に記載の化合物を使用できる。
以下において、繰り返し単位（３－１）の具体例を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
Figure 0007367036000014
繰り返し単位（３－２）において、架橋性基の具体例としては、上記Ｐ１～Ｐ３０で表される基が挙げられ、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、マレイミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基、がより好ましい。
繰り返し単位（３－２）は、重合が容易である点から、下記式（３）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
Figure 0007367036000015
上記式（３）中、ＰＣ３２は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ３２は単結合または２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、Ｐ３２は上記式（Ｗ１）中の（Ｐ－１）～（Ｐ－３０）で表される基、を表す。
以下において、繰り返し単位（３－２）の具体例を示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
Figure 0007367036000016
繰り返し単位（３）の含有量は、高分子液晶化合物の全繰り返し単位（１００質量％）に対して、５０質量％未満であり、４５質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。繰り返し単位（３）の含有量の下限値は、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。繰り返し単位（３）の含有量が５０質量％未満であれば、偏光子層の配向度がより向上する。繰り返し単位（３）の含有量が１質量％以上であれば、高分子液晶化合物の溶解性がより向上する。
繰り返し単位（３）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（３）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
本発明に用いられる高分子液晶化合物は、密着性や面状均一性の観点を向上させる観点から、分子鎖の長い柔軟な構造（後述の式（４）のＳＰ４）をもつ繰り返し単位（４）を含むことができる。この理由については以下のように推定している。
すなわち、このような分子鎖の長い柔軟な構造を含むことで、高分子液晶化合物を構成する分子鎖同士の絡まりが生じやすくなり、偏光子層の凝集破壊（具体的には、偏光子層自体が破壊すること）が抑制される。その結果、偏光子層と、下地層（例えば、基材または配向層）との密着性が向上すると推測される。また、面状均一性の低下は、二色性物質と高分子液晶化合物との相溶性が低いために生じると考えられる。すなわち、二色性物質と高分子液晶化合物は相溶性が不十分であると、析出する二色性物質を核とする面状不良（配向欠陥）が発生すると考えられる。これに対して、高分子液晶化合物が分子鎖の長い柔軟な構造を含むことで、二色性物質の析出が抑制されて、面状均一性に優れた偏光子層が得られたと推測される。ここで、面状均一性に優れるとは、高分子液晶化合物を含む液晶組成物が下地層（例えば、基材または配向層）上ではじかれて生じる配向欠陥が少ないことを意味する。
上記繰り返し単位（４）は、下記式（４）で表される繰り返し単位である。
Figure 0007367036000017
上記式（４）中、ＰＣ４は繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ４は単結合または２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、ＳＰ４は主鎖の原子数が１０以上のアルキレン基を表し、Ｔ４は末端基を表し、より具体的には上記式（１）中のＴ１と同様の基を表す。
上記式（４）中、ＰＣ４の具体例および好適態様は、式（１）のＰＣ１と同様であるので、その説明を省略する。
上記式（４）中、Ｌ４の具体例および好適態様は、式（１）のＬ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（４）中、ＳＰ４は、主鎖の原子数が１０以上のアルキレン基を表す。ただし、ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－は、前述の「ＳＰ－Ｃ」より置き換えられていてもよく、特に、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｃ（Ｒ２２）＝Ｃ（Ｒ２３）－、アルキニレン基、－Ｓｉ（Ｒ２４）（Ｒ２５）－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２６）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ２７）－、－Ｃ（Ｒ２８）＝Ｎ－および－Ｓ（＝Ｏ）２－からなる群より選択される少なくとも一種の基で置き換えられていることが好ましい。ただし、Ｒ２１～Ｒ２８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基または炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。また、ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は、前述の「ＳＰ－Ｈ」により置き換えられていてもよい。
ＳＰ４は、主鎖の原子数が１０以上のアルキレン基を表し、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－は前述の「ＳＰ－Ｃ」によって置き換えられていてもよく、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は前述の「ＳＰ－Ｈ」によって置き換えられていてもよい。
ＳＰ４の主鎖の原子数は、密着性および面状均一性の少なくとも一方がより優れた光吸収異方性膜が得られる点から、１０以上が好ましく、１５以上がより好ましい。また、ＳＰ４の主鎖の原子数の上限は、配向度により優れた偏光子が得られる点から、７０以下が好ましく、６０以下がより好ましく、５０以下が特に好ましい。
ここで、ＳＰ４における「主鎖」とは、Ｌ４とＴ４とを直接連結するために必要な部分構造を意味し、「主鎖の原子数」とは、上記部分構造を構成する原子の個数を意味する。換言すれば、ＳＰ４における「主鎖」は、Ｌ４とＴ４を連結する原子の数が最短になる部分構造である。例えば、ＳＰ４が３，７－ジメチルデカニル基である場合の主鎖の原子数は１０であり、ＳＰ４が４，６－ジメチルドデカニル基の場合の主鎖の原子数は１２である。また、下記式（４－１）においては、点線の四角形で表す枠内がＳＰ４に相当し、ＳＰ４の主鎖の原子数（点線の丸で囲った原子の合計数に相当）は１０である。
ＳＰ４が表すアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
ＳＰ４が表すアルキレン基の炭素数（アルキレン基の炭素が主鎖の「ＳＰ－Ｃ」によって置き換えられている場合は主鎖の原子数）は、配向度により優れた光吸収異方性膜が得られる点から、１０～８０が好ましく、１５～８０が好ましい。
ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－は、密着性および面状均一性により優れた偏光子層が得られる点から、前述の「ＳＰ－Ｃ」によって置き換えられているのが好ましい。
また、ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する－ＣＨ２－が複数ある場合、密着性および面状均一性により優れた偏光子層が得られる点から、複数の－ＣＨ２－の一部のみが前述の「ＳＰ－Ｃ」によって置き換えられていることがより好ましい。
「ＳＰ－Ｃ」のうち、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒ２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－Ｃ（Ｒ２２）＝Ｃ（Ｒ２３）－、アルキニレン基、－Ｓｉ（Ｒ２４）（Ｒ２５）－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２６）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ２７）－、－Ｃ（Ｒ２８）＝Ｎ－および－Ｓ（＝Ｏ）２－が好ましく、密着性および面状均一性により優れた偏光子層が得られる点から、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ２１）－、－Ｃ（＝Ｏ）－および－Ｓ（＝Ｏ）２－からなる群より選択される少なくとも一種の基がさらに好ましく、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ２１）－および－Ｃ（＝Ｏ）－からなる群より選択される少なくとも１種の基が特に好ましい。
特に、ＳＰ４は、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－が－Ｏ－によって置き換えられたオキシアルキレン構造、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－ＣＨ２－が－Ｏ－および－Ｃ（＝Ｏ）－によって置き換えられたエステル構造、ならびに、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－および－ＮＨ－によって置き換えられたウレタン結合からなる群より選択される少なくとも１つを含む基であるのが好ましい。
ＳＰ４が表すアルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は、前述の「ＳＰ－Ｈ」によって置き換えられていてもよい。この場合、－ＣＨ２－に含まれる水素原子の１個以上が「ＳＰ－Ｈ」に置き換えられていればよい。すなわち、－ＣＨ２－に含まれる水素原子の１個のみが「ＳＰ－Ｈ」によって置き換えられていてもよいし、－ＣＨ２－に含まれる水素原子の全て（２個）が「ＳＰ－Ｈ」によって置き換えられていてもよい。
「ＳＰ－Ｈ」のうち、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基炭素数１～１０の分岐状のアルキル基、および、炭素数１～１０ハロゲン化アルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基であることが好ましく、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基がさらに好ましい。
Ｔ４は、架橋性基であることが好ましく、上記式（Ｗ１）中の上記式（Ｐ－１）～（Ｐ－３０）で表される基が好ましく、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、無水マレイン酸、マレイミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタニル基、が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基、がさらに好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基が特に好ましい。
エポキシ基は、エポキシシクロアルキル基であってもよく、エポキシシクロアルキル基におけるシクロアルキル基部分の炭素数は、本発明の効果がより優れる点から、３～１５が好ましく、５～１２がより好ましく、６（すなわち、エポキシシクロアルキル基がエポキシシクロヘキシル基である場合）が特に好ましい。
オキセタニル基の置換基としては、炭素数１～１０のアルキル基が挙げられ、本発明の効果がより優れる点から、炭素１～５のアルキル基が好ましい。オキセタニル基の置換基としてのアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から直鎖状であることが好ましい。
繰り返し単位（４）の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記具体例において、ｎ１は２以上の整数を表し、ｎ２は１以上の整数を表す。
Figure 0007367036000019
繰り返し単位（４）の含有量は、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、１～４０質量％が好ましく、２～３５質量％がより好ましい。繰り返し単位（４）の含有量が２質量％以上（より好ましくは１０質量％以上）であれば、密着性により優れた偏光子層が得られる。また、繰り返し単位（４）の含有量が２０質量％以下であれば、面状均一性により優れた偏光子層が得られる。
繰り返し単位（４）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（４）が２種以上含まれる場合、上記繰り返し単位（４）の含有量は、繰り返し単位（４）の含有量の合計を意味する。
高分子液晶化合物は、面状均一性の観点から、多官能モノマーを重合して導入される繰り返し単位（５）を含むことができる。特に配向度の低下を抑えながら面状均一性を向上させるためには、この多官能モノマーを重合して導入される繰り返し単位（５）を、分子液晶化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、１０質量％以下含むことが好ましい。このように、繰り返し単位（５）を１０質量％以下含むこと配向度の低下を抑えながら面状均一性を向上させられる理由としては以下のように推定している。
繰り返し単位（５）は、多官能モノマーを重合して、高分子液晶化合物に導入される単位である。そのため、高分子液晶化合物には、繰り返し単位（５）によって３次元架橋構造を形成した高分子量体が含まれていると考えられる。ここで、繰り返し単位（５）の含有量は少ないため、繰り返し単位（５）を含む高分子量体の含有率はわずかであると考えられる。
このように３次元架橋構造を形成した高分子量体が僅かに存在することで、組成物のはじきが抑制されて、面状均一性に優れた偏光子層が得られたと推測される。
また、高分子量体の含有量が僅かであるため、配向度の低下を抑えられるという効果が維持できたと推測される。
上記多官能モノマーを重合して導入される繰り返し単位（５）は、下記式（５）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
Figure 0007367036000020
式（５）中、ＰＣ５ＡおよびＰＣ５Ｂはそれぞれ独立に繰り返し単位の主鎖を表し、より具体的には上記式（１）中のＰＣ１と同様の構造を表し、Ｌ５ＡおよびＬ５Ｂはそれぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、より具体的には上記式（１）中のＬ１と同様の構造を表し、ＳＰ５ＡおよびＳＰ５Ｂはそれぞれ独立にスペーサー基を表し、より具体的には上記式（１）中のＳＰ１と同様の構造を表し、ＭＧ５ＡおよびＭＧ５Ｂはそれぞれ独立にメソゲン基、より具体的には上記式（１）中のＭＧ１と同様の構造を表し、ａおよびｂはそれぞれ独立に０または１の整数を表す。
ＰＣ５ＡおよびＰＣ５Ｂは、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、偏光子の配向度がより向上する点から、同一の基であるのが好ましい。
Ｌ５ＡおよびＬ５Ｂは、いずれも単結合であってもよいし、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、偏光子の配向度がより向上する点から、いずれも単結合または同一の基であるのが好ましく、同一の基であるのがより好ましい。
ＳＰ５ＡおよびＳＰ５Ｂは、いずれも単結合であってもよいし、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、偏光子の配向度がより向上する点から、いずれも単結合または同一の基であるのが好ましく、同一の基であるのがより好ましい。
ここで、式（５）における同一の基とは、各基が結合する向きを問わずに化学構造が同一であるという意味であり、例えば、ＳＰ５Ａが＊－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－＊＊（＊はＬ５Ａとの結合位置を表し、＊＊はＭＧ５Ａとの結合位置を表す。）であり、ＳＰ５Ｂが＊－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－＊＊（＊はＭＧ５Ｂとの結合位置を表し、＊＊はＬ５Ｂとの結合位置を表す。）である場合も、同一の基である。
ａおよびｂはそれぞれ独立に、０または１の整数であり、偏光子層の配向度がより向上する点から、１であるのが好ましい。
ａおよびｂは、同一であっても、異なっていてもよいが、偏光子層の配向度がより向上する点から、いずれも１であるのが好ましい。
ａおよびｂの合計は、偏光子層の配向度がより向上する点から、１または２であるのが好ましく（すなわち、式（５）で表される繰り返し単位がメソゲン基を有すること）、２であるのがより好ましい。
－（ＭＧ５Ａ）ａ－（ＭＧ５Ｂ）ｂ－で表される部分構造は、偏光子層の配向度がより向上する点から、環状構造を有するのが好ましい。この場合、偏光子層の配向度がより向上する点から、－（ＭＧ５Ａ２）ａ－（ＭＧ５Ｂ）ｂ－で表される部分構造における環状構造の個数は、２個以上が好ましく、２～８個がより好ましく、２～６個がさらに好ましく、２～４個が特に好ましく、３～４個が最も好ましい。
ＭＧ５ＡおよびＭＧ５Ｂが表すメソゲン基はそれぞれ独立に、偏光子層の配向度がより向上する点から、環状構造を１個以上含むのが好ましく、２～４個含むのが好ましく、２～３個含むのがより好ましく、２個含むのが特に好ましい。
環状構造の具体例としては、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基が挙げられ、これらの中でも芳香族炭化水素基が好ましい。
ＭＧ５ＡおよびＭＧ５Ｂは、同一の基であってもよいし、互いに異なる基であってもよいが、偏光子層の配向度がより向上する点から、同一の基であるのが好ましい。
ＭＧ５ＡおよびＭＧ５Ｂが表すメソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、ならびに、本発明の効果がより優れるから、上記式（１）中のメソゲン基ＭＧ１と同様の構造であることが好ましい。
特に、繰り返し単位（５）は、ＰＣ５ＡとＰＣ５Ｂが同一の基であり、Ｌ５ＡとＬ５Ｂがいずれも単結合または同一の基であり、ＳＰ５ＡとＳＰ５Ｂがいずれも単結合または同一の基であり、ＭＧ５ＡとＭＧ５Ｂが同一の基であるのが好ましい。これにより、偏光子層の配向度がより向上する。
繰り返し単位（５）の含有量は、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位（１００質量％）に対して、１０質量％以下であり、本発明の効果がより発揮される点から、０．００１～５質量％が好ましく、０．０５～３質量％がより好ましい。
繰り返し単位（５）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（５）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
高分子液晶化合物は、星型ポリマーであってもよい。本発明における星型ポリマーとは、核を起点として延びるポリマー鎖を３つ以上有するポリマーを意味し、具体的には、下記式（６）で表される。
高分子液晶化合物として式（６）で表される星型ポリマーは、高溶解性（溶媒に対する溶解性が優れること）でありながら、配向度の高い偏光子層を形成できる。
Figure 0007367036000021
式（６）中、ｎＡは、３以上の整数を表し、４以上の整数が好ましい。ｎＡの上限値は、これに限定されないが、通常１２以下であり、６以下がさらに好ましい。
複数のＰＩはそれぞれ独立に、上記式（１）、（２１）、（２２）、（３）、（４）、（５）で表される繰り返し単位のいずれかを含むポリマー鎖を表す。ただし、複数のＰＩのうちの少なくとも１つは、上記式（１）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖を表す。
Ａは、星型ポリマーの核となる原子団を表す。Ａの具体例としては、特開２０１１－０７４２８０号公報の［００５２］～［００５８］段落、特開２０１２－１８９８４７号公報の［００１７］～［００２１］段落、特開２０１３－０３１９８６号公報の［００１２］～［００２４］段落、特開２０１４－１０４６３１号公報の［０１１８］～［０１４２］段落等に記載の多官能チオール化合物のチオール基から水素原子を取り除いた構造が挙げられる。この場合、ＡとＰＩは、スルフィド結合によって結合される。
Ａの由来となる上記多官能チオール化合物のチオール基の数は、３つ以上が好ましく、４以上がより好ましい。多官能チオール化合物のチオール基の数の上限値は、通常１２以下であり、６以下がより好ましい。
多官能チオール化合物の具体例を以下に示す。
Figure 0007367036000022
Figure 0007367036000023
高分子液晶化合物は、配向度をより向上させる観点から、サーモトロピック性液晶であり、かつ、結晶性高分子であってもよい。
（サーモトロピック液晶）
サーモトロピック液晶とは、温度変化によって液晶相への転移を示す液晶であり、ネマチック相およびスメクチック相のいずれを示してもよいが、偏光子層の配向度がより高くなり、かつ、ヘイズがより観察され難くなる（ヘイズがより良好になる）理由から、少なくともネマチック相を示すことが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、偏光子層の配向度がより高くなり、かつ、ヘイズがより観察され難くなる点から、室温（２３℃）～４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、３０℃～４００℃であることがより好ましい。
（結晶性高分子）
結晶性高分子とは、温度変化によって結晶層への転移を示す高分子である。結晶性高分子は結晶層への転移の他にガラス転移を示すものであってもよい。
高分子液晶化合物は、偏光子層の配向度がより高くなり、かつ、ヘイズがより観察され難くなる点から、加熱した時に結晶相から液晶相への転移を持つ（途中にガラス転移があってもよい）高分子液晶化合物、または、加熱により液晶状態した後で温度を下降させた時に結晶相への転移（途中にガラス転移があってもよい）を持つ高分子液晶化合物であることが好ましい。
なお、高分子液晶化合物の結晶性の有無は以下のように評価する。
光学顕微鏡（Ｎｉｋｏｎ社製ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ）の二枚の偏光子を互いに直交するように配置し、二枚の偏光子の間にサンプル台をセットする。そして、高分子液晶化合物をスライドガラスに少量乗せ、サンプル台上に置いたホットステージ上にスライドガラスをセットする。サンプルの状態を観察しながら、高分子液晶化合物が液晶性を示す温度までホットステージの温度を上げ、高分子液晶化合物を液晶状態にする。高分子液晶化合物が液晶状態になった後、ホットステージの温度を徐々に降下させながら液晶相転移の挙動を観察し、液晶相転移の温度を記録する。なお、高分子液晶化合物が複数の液晶相（例えばネマチック相とスメクチック相）を示す場合、その転移温度も全て記録する。
次に、高分子液晶化合物のサンプル約５ｍｇをアルミパンに入れて蓋をし、示差走査熱量計（ＤＳＣ）にセットする（リファレンスとして空のアルミパンを使用）。上記で測定した高分子液晶化合物が液晶相を示す温度まで加熱し、その後、温度を１分保持する。その後、１０℃／分の速度で降温させながら、熱量測定を行う。得られた熱量のスペクトルから発熱ピークを確認する。
その結果、液晶相転移の温度以外の温度で発熱ピークが観測された場合は、その発熱ピークが結晶化によるピークであり、高分子液晶化合物は結晶性を有するといえる。
一方、液晶相転移の温度以外の温度で発熱ピークが観測されなかった場合は、高分子液晶化合物は結晶性を有さないといえる。
結晶性高分子を得る方法は特に制限されないが、具体例としては、上記繰り返し単位（１）を含む高分子液晶化合物を用いる方法が好ましく、なかでも、上記繰り返し単位（１）を含む高分子液晶化合物の中の好適な態様を用いる方法がより好ましい。
（結晶化温度）
上述のとおり、高分子液晶化合物は、結晶化高分子であるのが好ましい。結晶化温度は、偏光子層の配向度がより高くなり、かつ、ヘイズがより観察され難くなる点から、－５０℃以上１５０℃未満であることが好ましく、なかでも１２０℃以下であることがより好ましく、－２０℃以上１２０℃未満であることがさらに好ましく、なかでも９５℃以下であることが特に好ましい。高分子液晶化合物の結晶化温度は、偏光子層のヘイズを減らす観点から、１５０℃未満であることが好ましい。
なお、結晶化温度は、上述したＤＳＣにおける結晶化による発熱ピークの温度である。
（分子量）
高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果がより優れる点、および／または、高分子液晶化合物の取り扱いが容易になる点から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満がより好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
高分子液晶化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック性を示すことが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、０～４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、３０～４００℃であることがより好ましい。
高分子液晶化合物の含有量は、組成物中の固形分１００質量％に対して、２５～９８質量％が好ましく、３０～９７質量％がより好ましく、３５～９６質量％がさらに好ましい。高分子液晶化合物の含有量が上記範囲内にあることで、偏光子層の配向度がより向上する。
〔低分子液晶化合物〕
第１実施態様の組成物に含まれる低分子液晶化合物は、下記式（ＬＣ）で表される化合物である。
Figure 0007367036000024
式（ＬＣ）中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に架橋性基または末端基を表し、ＳＰＬ１およびＳＰＬ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、ＭＬはメソゲン基を表し、Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方は架橋性基である。本発明の効果がより優れる点から、Ｑ１およびＱ２は、両方とも架橋性基であることが好ましい。
ＳＰＬ１のｌｏｇＰ値を表すｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）およびＭＬのｌｏｇＰ値を表すｌｏｇＰ（ＭＬ）は、下記式（１３）の関係を満たし、本発明の効果がより優れる点から、下記式（１３’）の関係を満たすことが好ましい。
|ｌｏｇＰ（ＭＬ）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≧ ４．０ （１３）
|ｌｏｇＰ（ＭＬ）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≧ ４．５ （１３’）
ここで、ＳＰＬ１の分子長を表すＤ（ＳＰＬ１）と、ＳＰＬ２の分子長を表すＤ（ＳＰＬ２）とは、下記式（２０）の関係を満たす。
Ｄ（ＳＰＬ１） ≧ Ｄ（ＳＰＬ２） （２０）
ＳＰＬ１は、上記式（１）中のＳＰ１と同様の構造を表すため、その説明を省略する。また、ＳＰＬ１は、ＳＰ１と同一の構造であることが好ましい。
ＭＬは、上記式（１）中のＭＧ１と同様の構造を表すため、その説明を省略する。また、ＭＬは、ＭＧ１と同一の構造であることが好ましい。
Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に、上記式（Ｗ１）中のＱと同様の構造を表すため、その説明を省略する。
架橋性基の好ましい態様としては、ラジカル重合性基、またはカチオン重合性基であることが挙げられ、ラジカル重合性基としては、上記式（Ｐ－１）で表されるビニル基、上記式（Ｐ－２）で表されるブタジエン基、上記式（Ｐ－４）で表される（メタ）アクリロイルオキシ基、上記式（Ｐ－５）で表される（メタ）アクリルアミド基、上記式（Ｐ－６）で表される酢酸ビニル基、上記式（Ｐ－７）で表されるフマル酸エステル基、上記式（Ｐ－８）で表されるスチリル基、上記式（Ｐ－９）で表されるビニルピロリドン基、上記式（Ｐ－１１）で表される無水マレイン酸、および、上記式（Ｐ－１２）で表されるマレイミド基が好ましく、カチオン重合性基としては、上記式（Ｐ－１８）で表されるビニルエーテル基、上記式（Ｐ－１９）で表されるエポキシ基、および、上記式（Ｐ－２０）で表されるオキセタニル基が好ましい。中でも、ラジカル重合性基である（メタ）アクリロイルオキシ基が特に好ましい。
ＳＰＬ２は、上記式（１）中のＳＰ１と同様の構造を表すため、その説明を省略する。
ＳＰＬ２のｌｏｇＰ値を表すｌｏｇＰ（ＳＰＬ２）は、下記式（３１）を満たすことが好ましく、下記式（３１’）を満たすことがより好ましい。
ｌｏｇＰ（ＳＰＬ２） ≦ １．５ （３１）
ｌｏｇＰ（ＳＰＬ２） ≦ １．０ （３１’）
また、ＳＰＬ２の分子長を表すＤ（ＳＰＬ２）は、下記式（４１）を満たすことが好ましく、下記式（４１’）を満たすことがより好ましい。
Ｄ（ＳＰＬ２） ≦ ７．０Å （４１）
Ｄ（ＳＰＬ２） ≦ ４．０Å （４１’）
このようにＳＰＬ２のｌｏｇＰ値やスペーサー構造の長さを調整することで、配向度および密着性の両立に有利となる。
低分子液晶化合物としては、具体的には以下に示す構造が挙げられるが、低分子液晶化合物はこれらに限定されるものではない。
Figure 0007367036000025
低分子液晶化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよい。液晶性を示す温度範囲は、取り扱いや製造適性の観点から、室温（２３℃）～３００℃が好ましく、４０～２５０℃であることがより好ましい。
低分子液晶化合物の含有量は、組成物中の固形分１００質量％に対して、１～６０質量％が好ましく、２～５５質量％がより好ましく、３～５０質量％が特に好ましい。低分子液晶化合物の含有量が上記範囲内にあることで、偏光子層の配向度と密着性がより向上する。
〔二色性物質〕
本発明の組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、および、無機物質（例えば量子ロッド）などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、国際公開第２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、国際公開２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、形成される偏光子を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。
本発明においては、二色性物質の含有量は、形成される偏光子の配向度がより高くなり、耐熱性がより向上する理由から、組成物中の固形分１００質量％に対して１～８０質量％であることが好ましく、２～７０質量％であることがより好ましく、３～６０質量％であることが更に好ましい。
〔溶媒〕
本発明の組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、および、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキソラン、テトラヒドロフルフリルアルコール、および、シクロペンチルメチルエーテルなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン（クロロホルム）、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル、炭酸ジエチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、および、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。
これらの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、形成される偏光子の配向度がより高くなり、耐熱性がより向上する理由から、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類、エーテル類またはケトン類を用いることがより好ましい。
組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、形成される偏光子層の配向度がより高くなり、耐熱性がより向上する理由から、組成物の全質量（１００質量％）に対して、７０～９９．５質量％であることが好ましく、７５～９９質量％であることがより好ましく、８０～９８質量％であることが特に好ましい。
〔界面活性剤〕
本発明の組成物は、界面活性剤（「界面改良剤」ともいう）を含むことが好ましい。界面活性剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
界面活性剤としては、液晶化合物を水平配向させるものが好ましく、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。また、特開２００７－２７２１８５号公報の［００１８］～［００４３］等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマーも用いることができる。また、特開２００７－０６９４７１号公報の段落［００７９］～［０１０２］の記載に記載された化合物、特開２０１３－０４７２０４号公報に記載された式（４）で表される重合性液晶化合物（特に段落［００２０］～［００３２］に記載された化合物）、特開２０１２－２１１３０６号公報に記載された式（４）で表される重合性液晶化合物（特に段落［００２２］～［００２９］に記載された化合物）、特開２００２－１２９１６２号公報に記載された式（４）で表される液晶配向促進剤（特に段落［００７６］～［００７８］および段落［００８２］～［００８４］に記載された化合物）、並びに、特開２００５－０９９２４８号公報に記載された式（４）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される化合物（特に段落［００９２］～［００９６］に記載された化合物）などが挙げられる。
界面活性剤の好適態様の一つとしては、偏光子層の配向度がより向上する点、および／または、偏光子層のヘイズを低減できる点から、高分子界面改良剤が挙げられる。高分子界面改良剤とは、化学構造中に繰り返し単位を有する界面改良剤を意味する。
高分子界面活性としては、偏光子層の配向度がより向上する点、および／または、偏光子層のヘイズを低減できる点から、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｆ」とも略す。）と、環構造を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｍ」とも略す。）と、を有する共重合体であるのが好ましい。
（繰り返し単位Ｆ）
上記共重合体が有する繰り返し単位Ｆは、下記式（ａ）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
Figure 0007367036000026
上記式（ａ）中、Ｒａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒａ２は、少なくとも１つの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基もしくは炭素数２～２０のアルケニル基を表す。
上記式（ａ）中、Ｒａ２は、得られる偏光子層の配向欠陥がより抑制される理由から、少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～１０のアルキル基もしくは炭素数２～１０のアルケニレン基が好ましく、炭素数１～１０のアルキル基であることがより好ましく、Ｒａ２に含まれる半数以上の炭素原子がフッ素原子を置換基として有することが特に好ましい。
上記共重合体が有する繰り返し単位Ｆは、下記式（ｂ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。
Figure 0007367036000027
上記式（ｂ）中、Ｒａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、ｍａおよびｎａは、それぞれ独立に０以上の整数を表し、Ｘは、水素原子またはフッ素原子を表す。
ここで、ｍａは、１以上１０以下の整数であることが好ましく、ｎａは、４以上１２以下が好ましい。
上記共重合体が有する繰り返し単位Ｆを形成する単量体（以下、「フルオロアルキル基含有モノマー」とも略す。）としては、具体的には、例えば、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－３－メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ－ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ－ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、１Ｈ－１－（トリフオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロブチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロヘキシル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロオクチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－３－メチルブチル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
フルオロアルキル基含有モノマーを共重合させる割合は、反応性や表面改質効果の観点から、繰り返し単位Ｍの形成に用いるモノマー１モルに対して、０．０１～１００モルであることが好ましく、０．１～５０モルであることがより好ましく、１～３０モルであることが特に好ましい。
繰り返し単位Ｆの含有量は、高分子界面活性が有する全繰り返し単位（１００モル％）に対して、３０～８０モル％が好ましく、配向度の観点からは５０モル％以上が好ましく、ハジキの観点からは７０モル％以下が好ましい。
（繰り返し単位Ｍ）
上記共重合体が有する繰り返し単位Ｍは、環構造を含む単位であればよい。
環構造とは、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および、脂環式基からなる群から選択される少なくとも１種の環構造を表す。配向欠陥を抑制する観点からは２個以上の環構造を有することが好ましい。
上記共重合体が有する繰り返し単位Ｍは、下記式（ｂ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。
Figure 0007367036000028
上記式（ｃ）中、Ｒａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌ４およびＬ５はそれぞれ独立に単結合または炭素数１～８のアルキレン基を表し、Ｇ１およびＧ２はそれぞれ独立に２価の環状基を表し、Ｔ４は末端基を表す。ｎは、０～４の整数を表す。
Ｌ４、Ｌ５が表すアルキレン基については、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ３１－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ３２＝ＣＲ３２－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＳｉＲ３３Ｒ３４－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ３５＝Ｎ－Ｎ＝ＣＲ３６－、－ＣＲ３７＝Ｎ－、および、－ＳＯ２－からなる群より選択される少なくとも一種の基によって置き換えられていてもよく、Ｒ３１～Ｒ３７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、または、炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。
また、Ｌが、アルキレン基を表す場合、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基によって置き換えられていてもよい。
中でも、Ｌ４については炭素数４～６で末端が酸素のアルキレンオキシ基が好ましく、Ｌ５については、エステル基が最も好ましい。
Ｇ１およびＧ２が表す２価の環状基は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＨ－で置換されていてもよい。さらに、脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基は複数が単結合していても良い。中でも、ベンゼン環が好ましい。
Ｔ４が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。中でも、水素原子、シアノ基が最も好ましい。
繰り返し単位Ｍの含有量は、高分子界面活性が有する全繰り返し単位（１００モル％）に対して、５～９５モル％が好ましく、１５～８５モル％がより好ましい。
（他の繰り返し単位）
上記共重合体は、繰り返し単位Ｆおよび繰り返し単位Ｍ以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。
他の繰り返し単位としては、フッ素原子および環構造を含まない繰り返し単位が挙げられる。
他の繰り返し単位の含有量は、高分子界面活性が有する全繰り返し単位（１００モル％）に対して、０～５０モル％が好ましい。
組成物が界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の含有量は、形成される偏光子層の配向度がより高くなり、耐熱性がより向上する理由から、組成物中の固形分１００質量％に対し、０．００１～５質量％が好ましく、０．００５～３質量％がより好ましい。
〔重合開始剤〕
本発明の組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物（特開２０１６－２７３８４明細書［００６５］）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。
組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、形成される偏光子の配向度がより高くなり、耐熱性がより向上する理由から、組成物中の固形分１００質量％に対して、０．０１～３０質量％が好ましく、０．１～１５質量％がより好ましい。
〔好適態様〕
本発明の組成物の好適態様の一つとしては、上述の式（１１）～（１３）、（２０）および（２１）を満たす態様（以下、「第１実施形態」ともいう。）が挙げられる。これにより、本発明の効果がより発揮される。
第１実施形態の組成物は、さらに、上述の式（２２）、式（３１）および式（４１）から選択される少なくとも１つを満たしてもよい。これにより、本発明の効果がより発揮される。
本発明の組成物の他の好適態様の一つとしては、上述の式（１１）～（１３）、（２０）および（４１’）を満たす態様（以下、「第２実施形態」ともいう。）が挙げられる。これにより、本発明の効果がより発揮される。
第２実施形態の組成物は、さらに、上述の式（２１）、式（２２）および式（３１）から選択される少なくとも１つを満たしてもよい。これにより、本発明の効果がより発揮される。
＜偏光子層の製造方法＞
本発明の偏光子層は、上述の本発明の組成物を用いて形成される。
本発明の偏光子層を製造する方法は特に制限されないが、形成される偏光子の配向度がより高くなる理由から、配向層上に上述した本発明の組成物（「偏光子層形成用組成物」ともいう）を塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、上記塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に備える方法（以下、「本製造方法」ともいう。）が好ましい。
なお、以下における液晶性成分とは、上述した液晶化合物（すなわち、高分子液晶化合物および低分子液晶化合物を意味する。以下同様。）だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分であり、本発明の組成物（偏光子層形成用組成物）も含む。
以下、各工程について説明する。
〔塗布膜形成工程〕
塗布膜形成工程は、配向層上に上述した本発明の組成物を塗布して塗布膜を形成する工程である。塗布膜中の液晶化合物は配向層と（本発明の組成物が界面改良剤を含有する場合には）界面改良剤との相互作用により水平配向する。
上述した溶媒を含有する本発明の組成物を用いたり、本発明の組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、配向層上に本発明の組成物を塗布することが容易になる。
本発明の組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
（配向層）
配向層は、本発明の組成物に含有される液晶化合物を水平配向させる膜であれば、どのような膜でもよい。
有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向層も知られている。なかでも、本発明では、配向層のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向層が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向層も好ましい。
（１）ラビング処理配向層
ラビング処理により形成される配向層に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向層については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向層の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～２μｍであることがさらに好ましい。
（２）光配向層
光照射により形成される配向層に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。
上記材料から形成した光配向層に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向層を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。
直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色性物質偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
照射する光は、直線偏光の場合には、配向層に対して上面、または裏面から配向層表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。非偏光の場合には、配向層に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°がさらに好ましい。照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。
本発明に用いられる光配向層は、特に制限されず、公知の光配向層を用いることができる。光配向層を形成するための材料は特に制限されないが、通常、光配向性基を有する化合物が使用される。化合物としては、光配向性基を含む繰り返し単位を有する重合体（ポリマー）であってもよい。
上記光配向性基は、光照射により膜に異方性を付与することができる官能基である。より具体的には、光（例えば、直線偏光）の照射により、その基中の分子構造に変化が起こり得る基である。典型的には、光（例えば、直線偏光）の照射により、光異性化反応、光二量化反応、および光分解反応から選ばれる少なくとも１つの光反応が引き起こされる基をいう。これら光配向性基のなかでも、光異性化反応を起こす基（光異性化する構造を有する基）、および、光二量化反応を起こす基（光二量化する構造を有する基）が好ましく、光異性化反応を起こす基がより好ましい。
上記光異性化反応とは、光の作用で立体異性化、または、構造異性化を引き起こす反応をいう。このような光異性化反応を起こす物質としては、例えば、アゾベンゼン構造を有する物質（K. Ichimura et al., Mol.Cryst.Liq.Cryst., 298, page 221 (1997)）、ヒドラゾノ－β－ケトエステル構造を有する物質（S. Yamamura et al., Liquid Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993)）、スチルベン構造を有する物質（J.G.Victor and J.M.Torkelson, Macromolecules, 20, page 2241 (1987)）、およびスピロピラン構造を有する物質（K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page 1063 (1992) ；K.Ichimura et al., Thin Solid Films, vol. 235, page 101 (1993)）などが知られている。
上記光異性化反応を起こす基としては、Ｃ＝Ｃ結合またはＮ＝Ｎ結合を含む光異性化反応を起こす基が好ましく、このような基としては、例えば、アゾベンゼン構造（骨格）を有する基、ヒドラゾノ－β－ケトエステル構造（骨格）を有する基、スチルベン構造（骨格）を有する基、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、および、スピロピラン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。これら基のなかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
上記光二量化反応とは、光の作用で二つの基の間で付加反応が起こり、典型的には環構造が形成される反応をいう。このような光二量化を起こす物質としては、例えば、桂皮酸構造を有する物質（M. Schadt et al., J. Appl. Phys., vol. 31, No. 7, page 2155 (1992)）、クマリン構造を有する物質（M. Schadt et al., Nature., vol. 381, page 212 (1996)）、カルコン構造を有する物質（小川俊博他、液晶討論会講演予稿集，2AB03(1997))、ベンゾフェノン構造を有する物質（Y. K. Jang et al., SID Int. Symposium Digest, P-53(1997)）などが知られている。
上記光二量化反応を起こす基としては、例えば、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、クマリン構造（骨格）を有する基、カルコン構造（骨格）を有する基、ベンゾフェノン構造（骨格）を有する基、および、アントラセン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。これら基のなかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
また、上記光配向性基を有する化合物は、さらに、架橋性基を有していることが好ましい。上記架橋性基としては、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基、光の作用により硬化反応を起こす光架橋性基が好ましく、熱架橋性基および光架橋性基をいずれも有する架橋性基であってもよい。
上記架橋性基としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、－ＮＨ－ＣＨ2－Ｏ－Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。）で表される基、エチレン性不飽和二重結合を有する基、および、ブロックイソシアネート基からなる群から選ばれた少なくとも１つが挙げられる。なかでも、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましい。
なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
また、エチレン性不飽和二重結合を有する基としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、が挙げられ、（メタ）アクリロイル基であることが好ましい。
上記光配向層の好適態様の一つとしては、シンナメート基を含む繰り返し単位ａ１を有する重合体Ａと、シンナメート基を有し、上記重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂとを含む光配向層形成用組成物を用いて形成される光配向層が挙げられる。
ここで、本明細書において、シンナメート基とは、桂皮酸またはその誘導体を基本骨格として含む桂皮酸構造を有する基であって、下記式（Ｉ）または下記式（ＩＩ）で表される基をいう。
Figure 0007367036000029
式中、Ｒ１は水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ２は１価の有機基を表す。式（Ｉ）中、ａは０～５の整数を表し、式（ＩＩ）中、ａは０～４を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。＊は結合手であることを示す。
重合体Ａは、シンナメート基を含む繰り返し単位ａ１を有する重合体であれば特に制限されず、従来公知の重合体を用いることができる。
重合体Ａの重量平均分子量は、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましく、３０００～２０００００がさらに好ましい。
ここで、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン（ＰＳ）換算値として定義され、本発明におけるＧＰＣによる測定は、ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ、ＨＺ４０００、ＨＺ２０００を用いて測定できる。
上記重合体Ａが有するシンナメート基を含む繰り返し単位ａ１としては、例えば、下記式（Ａ１）～（Ａ４）で表される繰り返し単位が挙げられる。
Figure 0007367036000030
ここで、式（Ａ１）および式（Ａ３）中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し、式（Ａ２）および式（Ａ４）中、Ｒ４は炭素数１～６のアルキル基を表す。
式（Ａ１）および式（Ａ２）中、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ａは０～５の整数を表し、Ｒ１は水素原子または１価の有機基を表す。
式（Ａ３）および式（Ａ４）中、Ｌ２は２価の連結基を表し、Ｒ２は１価の有機基を表す。
また、Ｌ１としては、具体的には、例えば、－ＣＯ－Ｏ－Ｐｈ－、－ＣＯ－Ｏ－Ｐｈ－Ｐｈ－、－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－Ｃｙ－、および、－（ＣＨ２）ｎ－Ｃｙ－などが挙げられる。ここで、Ｐｈは置換基を有していてもよい２価のベンゼン環（例えば、フェニレン基など）を表し、Ｃｙは置換基を有していてもよい２価のシクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン－１，４－ジイル基など）を表し、ｎは１～４の整数を表す。
また、Ｌ２としては、具体的には、例えば、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－（ＣＨ２）ｍ－Ｏ－などが挙げられる。ここで、ｍは１～６の整数を表す。
また、Ｒ１の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基などが挙げられる。
また、Ｒ２の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基などが挙げられる。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ１がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したＰｈ、Ｃｙおよびアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、および、アミノ基などが挙げられる。
液晶層の配向性がより向上する点、および、液晶層の密着性がより向上する点から、上記重合体Ａは、さらに、架橋性基を含む繰り返し単位ａ２を有しているのが好ましい。
架橋性基の定義および好適態様は、上述した通りである。
なかでも、架橋性基を含む繰り返し単位ａ２としては、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有する繰り返し単位が好ましく、（メタ）アクリロイル基を有する繰り返し単位が好ましい。
エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有する繰り返し単位の好ましい具体例としては、下記の繰り返し単位が例示できる。なお、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ、上述した式（Ａ１）および式（Ａ１）中のＲ３およびＲ４と同義である。
Figure 0007367036000031
上記重合体Ａは、上述した繰り返し単位ａ１および繰り返し単位ａ２以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。
他の繰り返し単位を形成するモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、および、ビニル化合物などが挙げられる。
液晶性成分の配向性（偏光子層の配向度を含む）と、密着力の点から、上記重合体Ａの１００質量部に対し、（メタ）アクリロイル基を含有する繰り返し単位を、１０～５０質量部含むことが好ましく、１５～４５質量部含むことがさらに好ましく、２０～４０質量部含むことが特に好ましい。
光配向層形成用組成物中における上記重合体Ａの含有量は、後述する有機溶媒を含む場合、溶媒１００質量部に対して、０．１～５０質量部であるのが好ましく、０．５～３０質量部であるのがより好ましい。
低分子化合物Ｂは、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい化合物である。低分子化合物Ｂを用いることにより、作製される光配向層の配向性がより良好となる。光配向層の配向性がより向上する理由から、上記低分子化合物Ｂの分子量は、２００～５００が好ましく、２００～４００がより好ましい。
低分子化合物Ｂとしては、例えば、下記式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。
Figure 0007367036000032
式（Ｂ１）中、ａは０～５の整数を表し、Ｒ１は、水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ２は、１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｒ１の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基が挙げられ、なかでも、炭素数１～２０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～６のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がさらに好ましい。
また、Ｒ２の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基が挙げられ、なかでも、炭素数１～２０の鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～１０の分岐鎖状のアルキル基がより好ましい。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ１がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、および、アミノ基などが挙げられる。
光配向層形成用組成物中における、上記低分子化合物Ｂの含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の質量に対して、１０～５００質量部であるのが好ましく、３０～３００質量部であるのがより好ましい。
光配向層形成用組成物は、配向性がより向上する理由から、架橋性基を含む構成単位ａ２を有する重合体Ａとは別に、架橋性基を有する架橋剤Ｃを含むことが好ましい。
上記架橋剤Ｃの分子量は、１０００以下が好ましく、１００～５００がより好ましい。
上記架橋剤Ｃとしては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物（保護されたイソシアナト基を有する化合物）、および、アルコキシメチル基含有化合物などが挙げられる。
これらのうち、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、または、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
光配向層形成用組成物が上記架橋剤Ｃを含む場合、架橋剤Ｃの含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の１００質量部に対して、１～１０００質量部であるのが好ましく、１０～５００質量部であるのがより好ましい。
光配向層形成用組成物は、光配向層を作製する作業性の観点から、溶媒を含むことが好ましい。溶媒としては、水、および、有機溶媒が挙げられる。
光配向層形成用組成物は、上記以外の他の成分を含んでいてもよく、例えば、架橋触媒、密着改良剤、レベリング剤、界面活性剤、および、可塑剤などが挙げられる。
本発明における配向層の好適態様の一つとしては、架橋性基を有する繰り返し単位を有する重合体（以下、重合体Ｘ）を含有する配向層が挙げられる。
架橋性基としては、下記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基を表す。
Figure 0007367036000033
重合体Ｘは、偏光子層の配向度がより優れる点、および／または、偏光子層の配向欠陥を抑制できる点から、さらに、下記式（ＰＡ）で表される部分構造を有する繰り返し単位を有することが好ましい。ここで、式（ＰＡ）で表される部分構造は光配向性基である。
Figure 0007367036000034
式（ＰＡ）中、２つの＊は、結合位置を表し、ＲＰ１～ＲＰ４はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。
上記式（ＰＡ）で表される光配向性基は、下記式（ＰＡ２）で表される光配向性基であることが好ましい。
Figure 0007367036000035
上記式（ＰＡ２）中、＊は、Ｌ１との結合位置を表し、ＲＰ１～ＲＰ５は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、隣接する２つの基が結合して環を形成していてもよい。
ここで、ＲＰ１～ＲＰ５の一態様が表す置換基は、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、隣接する液晶層の液晶配向性がより良好となる理由から、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数６～２０のアリールオキシ基、シアノ基、アミノ基、または、下記式（ａ３）で表される基であることが好ましい。
Figure 0007367036000036
 ここで、上記式（ａ３）中、＊は、上記式（ａ２）中のベンゼン環との結合位置を表し、Ｒ９は、１価の有機基を表す。
上記式（ａ３）中のＲ９が表す１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の直鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられ、中でも、メチル基またはエチル基が好ましい。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシル基が好ましい。
なお、上記式（ａ３）中のＲ９が表す１価の有機基としては、上述した直鎖状のアルキル基および環状のアルキル基を直接または単結合を介して複数組み合わせたものであってもよい。
本発明においては、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、隣接する偏光子層の液晶配向性がより良好となる理由から、上記式（ＰＡ）中のＲＰ１～ＲＰ４、または、上記式（ＰＡ２）中のＲＰ１～ＲＰ５のうち、少なくとも１つ（特に、ＲＰ５）が上述した置換基であることが好ましく、得られる重合体Ｘの直線性が向上し、偏光照射した際に反応効率が向上する理由から、電子供与性の置換基であることがより好ましい。
ここで、電子供与性の置換基（電子供与性基）とは、ハメット値（Ｈａｍｍｅｔｔ置換基定数σｐ）が０以下の置換基のことをいい、例えば、上述した置換基のうち、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基などが挙げられる。
これらのうち、アルコキシ基であることが好ましく、隣接する偏光子層の液晶配向性が更に良好となる理由から、炭素数が６～１６のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数７～１０のアルコキシ基であることが更に好ましい。
重合体Ｘにおいて、上記式（ＰＡ）で表される部分構造を有する繰り返し単位は、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位であるのが好ましい。
Figure 0007367036000037
上記式（Ａ）中、Ｒ１は、水素原子または置換基を表し、Ｌ１は、２価の連結基を表し、Ａは、上述の式（ＰＡ）で表される光配向性基を表す。
次に、上記式（Ａ）中のＲ１が表す、水素原子または置換基について説明する。
上記式（Ａ）中、Ｒ１の一態様が示す置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数６～２０のアリールオキシ基、シアノ基、または、アミノ基であることが好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基について、直鎖状のアルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基などが挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基などが挙げられる。
環状のアルキル基としては、炭素数３～６のアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。
炭素数１～２０の直鎖状のハロゲン化アルキル基としては、炭素数１～４のフルオロアルキル基が好ましく、具体的には、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基などが挙げられ、中でも、トリフルオロメチル基が好ましい。
炭素数１～２０のアルコキシ基としては、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数６～１８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数６～１４のアルコキシ基が更に好ましい。具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基などが好適に挙げられ、中でも、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基がより好ましい。
炭素数６～２０のアリール基としては、炭素数６～１２のアリール基が好ましく、具体的には、例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
炭素数６～２０のアリールオキシ基としては、炭素数６～１２のアリールオキシ基が好ましく、具体的には、例えば、フェニルオキシ基、２－ナフチルオキシ基などが挙げられ、中でも、フェニルオキシ基が好ましい。
アミノ基としては、例えば、第１級アミノ基（－ＮＨ２）；メチルアミノ基などの第２級アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基、含窒素複素環化合物（例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジンなど）の窒素原子を結合手とした基などの第３級アミノ基；が挙げられる。
次に、上記式（Ａ）中のＬ１が表す、２価の連結基について説明する。
２価の連結基としては、光配向性基が液晶化合物と相互作用しやすくなり、隣接する偏光子層の液晶配向性がより良好となる理由から、置換基を有していてもよい炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基、置換基を有していてもよい炭素数６～１２のアリーレン基、エーテル基（－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、および、置換基を有していてもよいイミノ基（－ＮＨ－）からなる群から選択される少なくとも２以上の基を組み合わせた２価の連結基であることが好ましい。
ここで、アルキレン基、アリーレン基およびイミノ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基および水酸基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基またはエチル基であるのが特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが特に好ましい。
アリール基としては、例えば、炭素数６～１２のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。
アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ、ナフトキシ、イミダゾイルオキシ、ベンゾイミダゾイルオキシ、ピリジン－４－イルオキシ、ピリミジニルオキシ、キナゾリニルオキシ、プリニルオキシ、チオフェン－３－イルオキシなどが挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。
炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基について、直鎖状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基などが挙げられる。
また、分岐状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、ジメチルメチレン基、メチルエチレン基、２，２－ジメチルプロピレン基、２－エチル－２－メチルプロピレン基などが挙げられる。
また、環状のアルキレン基としては、具体的には、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基、シクロデシレン基、アダマンタン－ジイル基、ノルボルナン－ジイル基、ｅｘｏ－テトラヒドロジシクロペンタジエン－ジイル基などが挙げられ、中でも、シクロヘキシレン基が好ましい。
炭素数６～１２のアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、キシリレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、２，２’－メチレンビスフェニル基などが挙げられ、中でも、フェニレン基が好ましい。
上記式（Ａ）表される繰り返し単位Ａとしては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ａ－１～Ａ－１６０が挙げられる。なお、下記式中、Ｍｅはメチル基を表す。
Figure 0007367036000038
Figure 0007367036000039

Figure 0007367036000040

Figure 0007367036000041
Figure 0007367036000042
Figure 0007367036000043

Figure 0007367036000044

Figure 0007367036000045
Figure 0007367036000046
Figure 0007367036000047

Figure 0007367036000048

Figure 0007367036000049
Figure 0007367036000050
Figure 0007367036000051

Figure 0007367036000052

Figure 0007367036000053
Figure 0007367036000054
Figure 0007367036000055

Figure 0007367036000056
Figure 0007367036000057
Figure 0007367036000058

Figure 0007367036000059

Figure 0007367036000060
Figure 0007367036000061
Figure 0007367036000062

Figure 0007367036000063

Figure 0007367036000064
Figure 0007367036000065
Figure 0007367036000066

Figure 0007367036000067
Figure 0007367036000068
Figure 0007367036000069

Figure 0007367036000070
重合体Ｘにおいて、架橋性基を有する繰り返し単位は、下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位が好ましい。
Figure 0007367036000071
上記式（Ｂ）中、Ｒ２は、水素原子または置換基を表す。なお、Ｒ２の一態様が示す置換基としては、上記式（Ａ）中のＲ１の一態様が示す置換基で説明したものと同様のものが挙げられる。
また、Ｌ２は、２価の連結基を表す。なお、Ｌ２が表す２価の連結基としては、上記式（Ａ）中のＬ１が表す２価の連結基で説明したものと同様のものが挙げられる。
また、Ｂは、上記式（ＰＧ－１）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの架橋性基を表す。
本発明においては、配向度がより向上する理由から、上記式（Ｂ）で表される繰り返し単位Ｂが、繰り返し単位Ｂ１および繰り返し単位Ｂ２の２種の繰り返し単位からなり、繰り返し単位Ｂ１が、上記式（Ｂ）中のＢが上記式（ＰＧ－１）で表される重合性基を表す繰り返し単位であり、繰り返し単位Ｂ２が、上記式（Ｂ）中のＢが上記式（ＰＧ－４）～（ＰＧ－９）で表されるいずれかの重合性基を表す繰り返し単位であることが好ましい。
上記繰り返し単位Ｂ１としては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ－１～Ｂ－２９が挙げられる。
Figure 0007367036000072
Figure 0007367036000073

Figure 0007367036000074

Figure 0007367036000075
上記繰り返し単位Ｂ２としては、具体的には、例えば、以下に示す繰り返し単位Ｂ－３０～Ｂ－５２が挙げられる。
Figure 0007367036000076
Figure 0007367036000077

Figure 0007367036000078

Figure 0007367036000079

Figure 0007367036000080
重合体Ｘ中の架橋性基を有する繰り返し単位の含有量は、重合体Ｘの全繰り返し単位（１００質量％）に対して、１０質量％以上であるのが好ましく、１５質量％以上であるのがより好ましく、また、９０質量％以下であるのが好ましく、６０質量％以下であるのがより好ましく、４５質量％以下であるのが特に好ましい。
重合体Ｘ中の式（ＰＡ）で表される部分構造を有する繰り返し単位の含有量は、重合体Ｘの全繰り返し単位（１００質量％）に対して、３～４０質量％であるのが好ましく、５～３５質量％であるのがより好ましい。
重合体Ｘは、本発明の効果を阻害しない限り、上述した架橋性基を有する繰り返し単位および式（ＰＡ）で表される部分構造を有する繰り返し単位以外に、他の繰り返し単位を有していてもよい。
このような他の繰り返し単位を形成するモノマー（ラジカル重合性単量体）としては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。
〔配向工程〕
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、液晶層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、上述した本発明の組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、本発明の組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（例えば、偏光子層）が得られる。乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。
配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を偏光子として好適に使用できる。加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、偏光子を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず公知の配向処理によって実施できる。
〔他の工程〕
本製造方法は、上記配向工程後に、偏光子層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有することが好ましい。
硬化工程は、例えば、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって偏光子の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
＜積層体＞
本発明の積層体は、基材と、上記基材上に上述の偏光子層（単に、「偏光子」ともいう。）と、を有する。本発明の積層体は、基材上にさらに配向層を有することが好ましい。
本発明の積層体の好適態様の一つとしては、基材と、上記基材上に設けられた配向層と、上記配向層上に設けられた偏光子層と、を有する態様が挙げられる。
また、本発明の積層体は、屈折率調整層、バリヤ層、光学異方性層、表面保護層、機能層、粘着層、接着剤層、などを有していてもよい。
以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。
〔基材〕
基材（以下、「透明支持体」ともいう）としては、適宜選択することができ、例えば、ガラスおよびポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２－２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。
透明支持体として具体的には、例えば、ガラス基板およびプラスチック基板が挙げられる。
プラスチック基板を構成するプラスチックとしては例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロースおよびセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；ポリフェニレンオキシドおよびポリイミドなどが挙げられる。中でも、市場から容易に入手できたり、透明性に優れていたりする点から、とりわけ好ましくは、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステルである。フレキシブルの観点では、ポリイミドが優れている。ポリイミドは、屈折率が高く屈折率ギャップが大きくなる可能性があるが、シリカ粒子を混入させる等の方法で屈折率を調整することも好ましい。ポリイミドの詳細については、国際公開２０１８／０６２２９６号公報や国際公開２０１８／０６２１９０号公報に記載されている。
透明支持体の厚さは、実用的な取扱いができる程度の質量である点、および、十分な透明性が確保できる点から、強度および加工性を維持できる程度に薄い方がより好ましい。
ガラス基板の厚みは、１００～３０００μｍが好ましく、１００～１０００μｍがより好ましい。
プラスチック基板の厚みは、５～３００μｍが好ましく、５～２００μｍがより好ましい。
なお、本発明の積層体を円偏光板として使用する場合（特にモバイル機器用途の円偏光板として使用する場合）、透明基材の厚みは５～１００μｍ程度が好ましい。
基材がガラス基板である場合、ガラス基板は、偏光子層における後述するλ／４板が設けられた面とは反対面側に設けられていてもよい（すなわち、ガラス基板とλ／４板との間に偏光子層が配置されている）。
〔配向層〕
本発明の積層体は、配向層を有していてもよい。配向層は、基材と偏光子層との間に設けられていてもよいし、偏光子層と後述の光学異方性層との間に設けられていてもよいし、これらの両方の位置に設けられていてもよい。
配向層の詳細については、上述したとおりであるので、その説明を省略する。
〔偏光子層〕
偏光子層については、上述したとおりであるので、その説明を省略する。
〔屈折率調整層〕
本発明の積層体は、屈折率調整層を有していてもよい。屈折率調整層は、偏光子層上に形成されるのが好ましく、上記偏光子層界面での反射防止機能に加えて、偏光子層の密着力が向上することから、偏光子層に接するように配置されることがより好ましい。
屈折率調整層は、架橋性基を有する化合物を含有する組成物から形成され、波長５５０ｎｍにおける面内平均屈折率が１．５５以上１．７０以下である。
屈折率調整層の面内平均屈折率は、上記範囲であればよいが、１．５８～１．７０が好ましく、１．６０～１．７０がさらに好ましい。
屈折率調整層の厚みは特に制限されないが、薄型化の点から、０．０１～２．００μｍが好ましく、０．０１～０．８０μｍがより好ましく、０．０１～０．１５μｍがさらに好ましい。
屈折率調整層を構成する成分の種類は、架橋性基を有する化合物を含有していれば特に制限されない。架橋性基があることで層内の強度が確保できる。光や熱で硬化する化合物、例えば、（メタ）アクリロイル基やエポキシ基を有する重合性化合物が好ましい。また、高い面内平均屈折率が得られる点で重合性液晶化合物も好ましい。また、重合性液晶化合物は面内で屈折率を制御できる点で、面内で屈折率異方性を持つ偏光子層との屈折率最適化のポテンシャルが高い。
屈折率調整層は、架橋性基を有する化合物と共に、粒子を含んでいてもよい。粒子としては、有機粒子、無機粒子ならびに有機成分および無機成分を含む有機無機複合粒子が挙げられる。
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレン－ジビニルベンゼン共重合体粒子、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、スチレン－アクリル共重合体粒子、スチレン－メタクリル共重合体粒子、メラミン樹脂粒子およびこれらを２種以上含む樹脂粒子が挙げられる。
無機粒子を構成する成分としては、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体が挙げられる。上記金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体に含まれる金属原子としては、チタン原子、ケイ素原子、アルミニウム原子、コバルト原子、および、ジルコニウム原子が挙げられる。無機粒子の具体例としては、アルミナ粒子、アルミナ水和物粒子、シリカ粒子、ジルコニア粒子、および、粘土鉱物（例えば、スメクタイト）等の無機酸化物粒子が挙げられる。高屈折率が得られる点で、ジルコニア粒子は好ましい。
粒子の平均粒子径は、１～３００ｎｍが好ましく、１０～２００ｎｍがより好ましい。上記範囲であると、粒子の分散性に優れ、また、高温耐久性、湿熱耐久性および透明性により優れる硬化物（透明樹脂層）が得られる。
ここで、粒子の平均粒子径は、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）またはＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）の観察にて得られた写真から求めることができる。具体的には、粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径（円の直径）を粒子の平均粒子径とする。なお、本発明における平均粒子径は、１００個の粒子について求めた円相当径の算術平均値とする。
粒子は、球状、針状、繊維（ファイバー状）、柱状および板状等のいずれの形状であってもよい。
屈折率調整層中における粒子の含有量は特に制限されないが、屈折率調整層の面内平均屈折率が調整しやすい点で、屈折率調整層の全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。
屈折率調整層の形成方法は特に制限されないが、屈折率調整層形成用組成物を偏光子層上に塗布して、必要に応じて、塗膜に硬化処理を施す方法が挙げられる。
屈折率調整層形成用組成物には、屈折率調整層を構成し得る成分が含まれており、例えば、樹脂、モノマー、および、粒子が挙げられる。樹脂および粒子の例示は、上述した通りである。
モノマーとしては、光硬化性化合物および熱硬化性化合物（例えば、熱硬化性樹脂）が挙げられる。モノマーとしては、重合性基を１分子中に１つ含む単官能重合性化合物、および、同一または異なる重合性基を１分子中に２つ以上含む多官能重合性化合物が好ましい。重合性化合物は、モノマーであっても、オリゴマーまたはプレポリマー等の多量体であってもよい。
重合性基としては、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基が好ましい。ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合基等が挙げられる。カチオン重合性基としては、エポキシ基およびオキセタン基等が挙げられる。
屈折率調整層形成用組成物には、界面改良剤、重合開始剤、および、溶媒の少なくとも１種が含まれていてもよい。これらの成分としては、上述の本発明の組成物（偏光子層を形成するための組成物）に含まれていてもよい成分として例示した化合物が挙げられる。
屈折率調整層形成用組成物の塗布方法は特に制限されず、上述した本発明の組成物の塗布方法が挙げられる。
屈折率調整層形成用組成物を塗布した後、必要に応じて、塗膜に乾燥処理を施してもよい。
また、屈折率調整層形成用組成物がモノマー等の硬化性化合物を含む場合は、屈折率調整層形成用組成物を塗布した後、塗膜に硬化処理を施してもよい。
硬化処理としては、光硬化処理および熱硬化処理が挙げられ、用いられる材料に応じて最適な条件が選択される。
重合性液晶化合物を用いる場合、化合物は特に限定されない。一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
本発明においては、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物（以下、「ＣＬＣ」とも略す。）またはディスコティック液晶化合物（以下、「ＤＬＣ」とも略す。）を用いるのが好ましく、棒状液晶化合物を用いるのがより好ましい。なお、２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。
本発明においては、上述の液晶化合物の固定化のために、重合性基を有する液晶化合物を用いることが必要であり、液晶化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。なお、液晶化合物が２種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。なお、液晶化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。
また、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
屈折率調整層形成用組成物に含まれるその他の成分としては、具体的には、例えば、上述した組成物（偏光子層形成用組成物）において説明した重合開始剤、界面活性剤および溶媒などを挙げることができる。
重合性液晶化合物を含む屈折率調整層形成用組成物を用いた屈折率調整層の形成方法は特に限定されず、屈折率調整層形成用組成物を層構成に応じて上述した配向層または偏光子層上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。ここで、塗布膜形成工程および配向工程としては、上述した偏光子層の形成方法において説明したものと同様の工程が挙げられる。
〔バリヤ層〕
本発明の積層体は、偏光子層の二色性物質の耐光性を向上させる目的で、バリヤ層を有していることが好ましい。
「バリヤ層」とは、酸素遮断機能のある酸素遮断膜であり、例えば、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。さらに具体例としては、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、セルロースエーテル、ポリアミド、ポリイミド、スチレン／マレイン酸共重合体、ゼラチン、塩化ビニリデン、および、セルロースナノファイバー、などの有機化合物を含む層が挙げられる。酸素遮断能が高い点で、ポリビニルアルコールやポリエチレンビニルアルコールが好ましく、ポリビニルアルコールが特に好ましい。
なお、本明細書において酸素遮断機能とは、酸素を全く通さない状態に限らず、目的の性能に応じて若干酸素を通す状態も含む。
酸素透過度としては、４０ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下が好ましく、
４ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下がより好ましく、１ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下がさらに好ましい。
ここで、酸素透過度は、単位時間、単位面積あたりに膜を通過する酸素量を表す指標であり、２５℃５０％の環境下で、ハックウルトラアナリティカル社製ＭＯＤＥＬ３６００ 型酸素濃度装置で測定した値である。
バリヤ層の形成に使用可能な材料のうち、重合性化合物で酸素遮断機能の高い化合物としては、水素結合性の高い重合性化合物や、分子量あたりの重合性基を多く持つ化合物が挙げられる。分子量あたりの重合性基を多く持つ化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートやジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。
バリヤ層の形成に使用可能な材料のうち、水素結合性の高い重合性化合物としては、具体的には、例えば、下記式で表される化合物が挙げられ、中でも、下記ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製、商品名「セロキサイド ＣＥＬ２０２１Ｐ」）で表される３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましい。また、下記式中、サイクロマーＭ１００はダイセル社の商品名であり、ブレンマＧＭＲは日油社の商品名である。
Figure 0007367036000081
Figure 0007367036000082
また、バリヤ層としては、金属化合物からなる薄層（金属化合物薄層）も挙げられる。金属化合物薄層の形成方法は、目的の薄層を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などが適しており、具体的には特許第３４００３２４号、特開２００２－３２２５６１号、特開２００２－３６１７７４号各公報記載の形成方法を採用することができる。
金属化合物薄層に含まれる成分は、酸素遮断機能を発揮できるものであれば特に限定されないが、例えば、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｅ、またはＴａ等から選ばれる１種以上の金属を含む酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物などを用いることができる。これらの中でも、Ｓｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＺｎおよびＴｉから選ばれる金属の酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましく、特に、Ｓｉ、Ａｌ、ＳｎおよびＴｉから選ばれる金属酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましい。これらは、副次的な成分として他の元素を含有してもよい。特開２０１６－４０１２０号公報や公報特開２０１６－１５５２５５号公報に記載されているような、アルミニウム化合物とリン化合物の反応生成物からなる層も好ましい。
またバリヤ層は、例えば米国特許第６４１３６４５号公報、特開２０１５－２２６９９５号公報、特開２０１３－２０２９７１号公報、特開２００３－３３５８８０号公報、特公昭５３－１２９５３号公報、特開昭５８－２１７３４４号公報、に記載されているように、上記の有機素材を含む層と金属化合物薄層の積層した形態であってもよいし、国際公開２０１１／１１８３６号公報、特開２０１３－２４８８３２号公報、特許第３８５５００４号公報、に記載されているように、有機化合物と無機化合物とをハイブリッドした層であってもよい。
バリヤ層の膜厚は、有機化合物を含む層の場合は、０．１～１０μｍが好ましく、０．５～５．５μｍがより好ましい。金属化合物薄層の場合は、バリヤ層の膜厚は、５ｎｍ～５００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ～２００ｎｍがより好ましい。
例えば、上記屈折率調整層や、後述する接着層や表面保護層等の他の機能層に酸素遮断機能を付与して機能統合することも好ましい。屈折率調整層と表面保護層のフィルムとの接着層が酸素遮断機能を有することが特に好ましい。この場合、ポリビニルアルコール樹脂を有する接着剤を用いることも好ましい態様である。
また、表面保護として、カバーガラスや多層スパッタ金属酸化膜を有する低反射フィルムを用いることも、バリヤ層の機能を兼ねるため好ましい態様である。
カバーガラスは接触や落下による表面の傷、破損からディスプレイを保護するため、化学強化により高い強度を保つ ことが要求される。化学強化ガラスの材料となるのは主にアルミノシリケートガラス、ソーダライムガラスである。 通常、化学強化ガラスは高温のアルカリ熔融塩（KNO3）にガラスを浸漬し、ガラス表面の Na+イオンをよりイオン 半径の大きい K+イオンに置き換え、圧縮応力を発生させるイオン交換法によって作られている。特に Al2O3を多く含 有する組成を有しているアルミノシリケートガラスは圧縮応力値が大きく、且つ圧縮応力層の深い化学強化ガラスを 作ることができる。市販の化学強化ガラスとしては、例えば、松浪硝子工業社製化学強化ガラス、コーニング社製「ゴリラガラス」（登録商標）、「ゴリラガラス２」（登録商標）、「ゴリラガラス３」（登録商標）、旭硝子社製「ドラゴントレイル」（登録商標）、日本電気硝子社製「ＣＸ－０１」、「ＣＸ－０１Ｐ」、「ＣＸ－０１Ｔ」、セントラル硝子社製（ＡＲＭＯＲＥＸ）、日本板硝子社製化学強化ガラス、ショット日本株式会社製「Ｘｅｎｓａｔｉｏｎ Ｃｏｖｅｒ」、「Ｘｅｎｓａｔｉｏｎ Ｃｏｖｅｒ ３Ｄ」等が挙げられる。
カバーガラスの厚みは、２００μｍ～１０００μｍであることが多い。ガラスは、酸素遮断能や水分遮断能に優れており、酸素遮断機能を十分に実現できる。
バリヤ層は、偏光子層における後述するλ／４板または後述する表面保護層が設けられた面とは反対面側に設けられてもよい。なお、本発明の偏光子層とバリヤ層との間に、他の層（例えば、粘着層、接着層または配向層）を備える場合には、バリヤ層は、例えば、本発明の偏光子と他の層との間に設けることができる。
〔光学異方性層〕
本発明の積層体は、光学異方性層を有していてもよい。反射防止機能を付与するための積層体の場合、光学異方性層は、λ／４機能を有する。λ／４板は、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板であり、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満たす板（位相差フィルム）のことであり、ポジティブＡプレートのＲｅをλ／４に調整して作製することが好ましい。斜め方向から視認した時の色味変化や黒表示時の光漏れを改善するためには、さらにポジティブＣプレートを組み合わせることが好ましい。このとき、反射防止板のトータルＲｔｈがゼロに近くなるように調整することが好ましい。
反射防止板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置の反射防止用途に好適に用いられ、表示光のコントラスト比を向上させることができる。例えば、有機ＥＬ表示装置の光取り出し面側に反射防止板を設けることができる。この場合、外光は偏光子によって直線偏光となり、次に位相差板を通過することで、円偏光となる。これが有機ＥＬパネルの金属電極等にて反射された際に円偏光状態が反転し、再び位相差板を通過した際に、入射時から９０°傾いた直線偏光となり、偏光子に到達して吸収される。結果として、外光の影響を抑制することができる。
本発明の積層体は、例えば、偏光子層と光学異方性層であるλ／４のポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを、後述する粘着層等により貼り合わせることで製造することもできる。光学異方性層が、λ／４のポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートから構成されている場合、ポジティブＣプレート側の面で偏光子層と接着されていてもよく、その反対側の面で、偏光子層と接着されていてもよい。
あるいは偏光子層上にλ／４のポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを直接形成することにより製造することができる。特許第６２４３８６９号公報の実施例１９に記載されているように、偏光子層とポジティブＡプレートの間には、配向層を加えることも好ましい。また、特許第６１２３５６３号公報の実施例１にあるように偏光子層とポジティブＡプレートの間に保護層を加えることも可能である。あるいは、λ／４のポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを形成したのちに、偏光子層を形成する方法も可能である。
反射防止板のポジティブＡプレートの遅相軸方向と偏光子層の吸収軸方向とのなす角は４５°±１０°の範囲であることが好ましい。ポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートの光学特性としては、特に色味変化を抑制する観点から、ＲｅやＲｔｈの波長分散が逆分散性を示すことが好ましい。
反射防止板の製造の際は、例えば、偏光子層とポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートとが、それぞれ長尺の状態で連続的に積層される工程を含むことが好ましい。長尺の反射防止板は、用いられる画像表示装置の画面の大きさに合わせて裁断される。
光学異方性層は、液晶化合物から形成すると薄層化できるため、フレキシブル化の点で好ましい。また、光耐久性の観点で、後述する式（４）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層を含むことが好ましい。
以下では、まず、光学異方性層の形成に用いられる組成物（以下、「光学異方性層形成用組成物」ともいう。）中の成分について詳述し、その後、光学異方性層の製造方法および特性について詳述する。
（式（４）で表される重合性液晶化合物）
光学異方性層形成用組成物には、式（４）で表される重合性液晶化合物が含まれる。式（４）で表される重合性液晶化合物は、液晶性を示す化合物である。
Figure 0007367036000083
上記式（Ｉ）中、Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３およびＤ４は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ３Ｒ４－、－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＮＲ１－ＣＲ２Ｒ３－、または、－ＣＯ－ＮＲ１－を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、ＳＰ１およびＳＰ２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒが、下記式（Ａｒ－３）で表される芳香環である場合は、Ｌ１およびＬ２ならびに下記式（Ａｒ－３）中のＬ３およびＬ４の少なくとも１つが重合性基を表す。
上記式（Ｉ）中、ＳＰ１およびＳＰ２が示す炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、および、へプチレン基が好ましい。なお、ＳＰ１およびＳＰ２は、上述した通り、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基であってもよく、Ｑで表される置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
上記式（Ｉ）中、Ｌ１およびＬ２が示す１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、および、ヘテロアリール基が挙げられる。
アルキル基は、直鎖状、分岐状または環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。
また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが、単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１０がより好ましい。
また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、または、酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましい。
また、アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
上記式（Ｉ）中、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方が示す重合性基は特に制限されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基が挙げられる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。
上記式（Ｉ）中、積層体の熱耐久性がより優れる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう）から、上記式（４）中のＬ１およびＬ２が、いずれも重合性基であることが好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることがより好ましい。
一方、上記式（Ｉ）中、Ａｒは、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）中、＊は、上記式（Ｉ）中のＤ１またはＤ２との結合位置を表す。
Figure 0007367036000085
ここで、上記式（Ａｒ－１）中、Ｑ１は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ５）－を表し、Ｒ５は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｙ１は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
Ｒ５が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
Ｙ１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、および、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
Ｙ１が示す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、および、ピリジル基などのヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、および、ハロゲン原子が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、および、シクロヘキシル基など）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、メトキシエトキシ基など）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、中でも、フッ素原子、または、塩素原子が好ましい。
また、上記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－５）中、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ６、－ＮＲ７Ｒ８、または、－ＳＲ９を表し、Ｒ６～Ｒ９は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、または、１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基がさらに好ましく、メチル基、エチル基、または、ｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、および、エチルシクロヘキシル基などの単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、および、シクロデカジエンなどの単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、および、アダマンチル基などの多環式飽和炭化水素基；などが挙げられる。
炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、または、臭素原子が好ましい。
一方、Ｒ６～Ｒ９が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられる。
また、上記式（Ａｒ－２）および（Ａｒ－３）中、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ１０）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ１０は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ１０が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
また、上記式（Ａｒ－２）中、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４～１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、および、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、および、水酸基が挙げられる。
また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｄ５およびＤ６は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＲ３Ｒ４－、－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ１Ｒ２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ１Ｒ２－、－ＣＲ１Ｒ２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＣＲ１Ｒ２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ３Ｒ４－、－ＮＲ１－ＣＲ２Ｒ３－、または、－ＣＯ－ＮＲ１－を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
また、上記式（Ａｒ－３）中、ＳＰ３およびＳＰ４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｌ３およびＬ４は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ３およびＬ４ならびに上記式（Ｉ）中のＬ１およびＬ２の少なくとも１つが重合性基を表す。
１価の有機基としては、上記式（Ｉ）中のＬ１およびＬ２において説明したものと同様のものが挙げられる。
また、重合性基としては、上記式（Ｉ）中のＬ１およびＬ２において説明したものと同様のものが挙げられる。
また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－５）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－５）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
ＡｘおよびＡｙとしては、国際公開第２０１４／０１０３２５号の段落［００３９］～［００９５］に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基が挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
このような重合性液晶化合物（Ｉ）としては、例えば、下記式（１）～（１２）で表される化合物が好適に挙げられ、具体的には、下記式（１）～（１２）中のＫ（側鎖構造）として、下式に示す側鎖構造を有する化合物がそれぞれ挙げられる。
なお、下式中、Ｋの側鎖構造に示される「＊」は、芳香環との結合位置を表す。
また、以下の説明においては、下記式（１）で表され、かつ、下式中の１－１に示す基を有する化合物を「化合物（１－１－１）」と表記し、他の構造式および基を有する化合物についても同様の方法で表記する。例えば、下記式（２）で表され、かつ、下式中の２－３に示す基を有する化合物は「化合物（２－２－３）」と表記できる。
また、下記式中の１－２および２－２で表される側鎖構造において、それぞれアクリロイルオキシ基およびメタクリロイル基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
Figure 0007367036000086
Figure 0007367036000087
光学異方性層形成用組成物中における上記式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物の含有量は特に制限されないが、光学異方性層形成用組成物中の全固形分に対して、５０～１００質量％が好ましく、７０～９９質量％がより好ましい。
本発明において、固形分とは、組成物中の溶媒を除いた他の成分を意味し、その性状が液状であっても固形分として計算する。
光学異方性層形成用組成物には、上記式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物以外の他の成分が含まれていてもよい。
（液晶化合物）
光学異方性層形成用組成物は、上記式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物以外の他の液晶化合物を含んでいてもよい。他の液晶化合物としては、公知の液晶化合物（棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物）が挙げられる。他の液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
光学異方性層形成用組成物は、上記式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物および重合性基を有する他の液晶化合物以外の他の重合性モノマーを含んでいてもよい。なかでも、光学異方性層の強度がより優れる点で、重合性基を２個以上有する重合性化合物（多官能重合性モノマー）が好ましい。
多官能重合性モノマーとしては、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。多官能性ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、特開２００２－２９６４２３号公報中の段落［００１８］～［００２０］に記載の重合性モノマーが挙げられる。
また、光学異方性層形成用組成物中に多官能重合性モノマーが含まれる場合、多官能重合性モノマーの含有量は、上記式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物の全質量に対して、１～５０質量部が好ましく、２～３０質量部がより好ましい。
光学異方性層形成用組成物は、重合開始剤、溶媒、界面活性剤、を含んでいてもよい。これらについては偏光子層形成用組成物と同様のものを用いることができるため、その説明を省略するが、重合開始剤としてはオキシム型の重合開始剤が好ましい。また、後述する配向制御剤としての機能を兼ね備えてもよい。
（配向制御剤）
光学異方性層形成用組成物は、必要に応じて、配向制御剤を含んでいてもよい。配向制御剤により、ホモジニアス配向の他、ホメオトロピック配向（垂直配向）、傾斜配向、ハイブリッド配向、および、コレステリック配向などの種々の配向状態を形成でき、また、特定の配向状態をより均一かつより精密に制御して実現できる。
ホモジニアス配向を促進する配向制御剤としては、例えば、低分子の配向制御剤、および、高分子の配向制御剤を用いることができる。低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２－２０３６３号公報の段落［０００９］～［００８３］、特開２００６－１０６６６２号公報の段落［０１１１］～［０１２０］、および、特開２０１２－２１１３０６公報の段落［００２１］～［００２９］の記載を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４－１９８５１１号公報の段落［００２１］～［００５７］、および、特開２００６－１０６６６２号公報の段落［０１２１］～［０１６７］を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
また、ホメオトロピック配向を形成または促進する配向制御剤としては、例えば、ボロン酸化合物、オニウム塩化合物が挙げられ、具体的には、特開２００８－２２５２８１号公報の段落［００２３］～［００３２］、特開２０１２－２０８３９７号公報の段落［００５２］～［００５８］、特開２００８－０２６７３０号公報の段落［００２４］～［００５５］、および、特開２０１６－１９３８６９号公報の段落［００４３］～［００５５］などに記載された化合物を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
配向制御剤の含有する場合の含有量は、光学異方性層形成用組成物中の全固形分に対して、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０５～５質量％がより好ましい。
光学異方性層形成用組成物は、上述した成分以外の成分を含んでいてもよく、例えば、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤などが挙げられる。
（光学異方性層の製造方法）
光学異方性層の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、所定の基板（例えば後述する支持体層）に、上記光学異方性層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（活性エネルギー線の照射（光照射処理）および／または加熱処理）を施すことにより、硬化させた塗膜（光学異方性層）を製造できる。なお、必要に応じて、後述する配向層を用いてもよい。
光学異方性層形成用組成物の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法）により実施できる。
上記光学異方性層の製造方法において、上記塗膜に対する硬化処理を行う前に、上記塗膜に含まれる液晶化合物の配向処理を行うことが好ましい。
配向処理は、室温（例えば、２０～２５℃）で乾燥させる、または、加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
配向処理が加熱処理である場合、加熱時間（加熱熟成時間）は、１０秒間～５分間が好ましく、１０秒間～３分間がより好ましく、1０秒間～２分間がさらに好ましい。
上述した、塗膜に対して硬化処理（活性エネルギー線の照射（光照射処理）および／または加熱処理）は、液晶化合物の配向を固定するための固定化処理ということもできる。
固定化処理は、活性エネルギー線（好ましくは紫外線）の照射により行われることが好ましく、液晶化合物の重合により液晶が固定化される。
（光学異方性層の特性）
光学異方性層は、上述した光学異方性層形成用組成物を用いて形成されるフィルムである。光学異方性層の光学特性は特に制限されないが、λ／４板として機能することが好ましい。λ／４板は、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板であり、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満たす板（光学異方性層）のことをいう。
この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよいが、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍの関係を満たすことが好ましく、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍを満たすことがより好ましい。
光学異方性層の波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーションであるＲｅ（４５０）と、光学異方性層の波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションであるＲｅ（５５０）と、光学異方性層の波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションのであるＲｅ（６５０）とは、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にあることが好ましい。すなわち、この関係は、逆波長分散性を表す関係といえる。
光学異方性層は、Ａプレートであっても、Ｃプレートであってもよく、ポジティブＡプレートであることが好ましい。
ポジティブＡプレートは、例えば、式（４）で表される重合性液晶化合物を水平配向させることにより得ることができる。
光学異方性層の厚さは特に制限されないが、薄型化の点から、０．５～１０μｍが好ましく、１．０～５μｍがより好ましい。
〔機能層〕
偏光子層よりも視認側に、短波光を低減する機能を有する機能層を有することが好ましい。短波光を低減することで、色素化合物の光分解を抑制し、耐光性に優れた表示装置が提供できる。
機能層の一態様としては、後述の粘着層、接着剤層、支持体およびバリヤ層などが、短波光を低減する機能を有することが好ましい。
また、機能層の別の一態様として、偏光子層よりも視認側に、新たに短波光を低減する機能を有する層を設けることも好ましい。
短波光を低減する方法は特に限定されず、吸収剤等による光吸収を用いる方法、および多層膜による波長選択反射を用いる方法が例示される。
前述の短波光とは４３０ｎｍ以下の波長の光を指す。４３０ｎｍ以下の波長の光を低減することで、太陽光もしくはＪＩＳ Ｂ ７７５１およびＪＩＳ Ｂ ７７５４の耐光性試験にて使用される光源光による液晶化合物の光分解を抑制できる。
また可視光における偏光子の性能に影響を与えないために、４５０ｎｍ以上波長域では透明であることが好ましい。
透過率として、波長３５０～３９０ｎｍの範囲で０．１％以下、４１０ｎｍにおいて２０～７０％、４５０ｎｍ以上の範囲で９０％以上とするのが好ましい。
波長４１０ｎｍにおける透過率は４０～５０％であることがさらに好ましい。
短波光を吸収する化合物としては、特開２０１７－１１９７００号公報やＷＯ２０１８／１２３２６７号公報に記載のメロシアニン化合物が好ましく用いられる。
また、従来公知の紫外線吸収剤を併用することも好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤等の有機系紫外線吸収剤が挙げられる。
〔表面保護層〕
本発明の積層体は、表示装置の一部として用いられるが、その場合の最も視認側に、表面保護層を有することが好ましい。表面保護層は、表面を保護する機能があれば限定されない。一層でも良いが、複数層も好ましい。硬度が高いことも好ましいが、回復性の高いことも好ましい。空気界面で生じる表面反射を抑制した低反射層も好ましい。
好ましい態様の一つとしては、透明基材と表面コート層の構成が想定される。透明基材については上記基材と同様のためその説明を省略し、以下、表面コート層について記載する。
表面コート層としては、反射防止層、防眩層、およびハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。これらは公知の層材料が使用される。なお、これらの層は、複数層が積層してもよい。
反射防止層は、上述の光学異方性層と偏光子層から構成されるいわゆる円偏光板の反射防止板とは異なり、光の干渉を用いた構造により反射を低下させる構造体を指す。反射防止層は、最も単純な構成として、低屈折率層のみからなる構成であってもよい。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８－１２２５０４号公報、特開平８－１１０４０１号公報、特開平１０－３００９０２号公報、特開２００２－２４３９０６号公報、特開２０００－１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、膜厚変動に対するロバスト性に優れる３層構成の反射防止フィルムは特開２００８－２６２１８７号公報記載されている。上記３層構成の反射防止フィルムは、画像表示装置の表面に設置した場合、反射率の平均値を０．５％以下とすることができ、映り込みを著しく低減することができ、立体感に優れる画像を得ることができる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層、防眩性のハードコート層としたもの（例、特開平１０－２０６６０３号公報、特開２００２－２４３９０６号公報、特開２００７－２６４１１３号公報等）等が挙げられる。
本発明の一つの態様として、フォルダブル用途有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」ともいう）表示装置としては、偏光子層以外は、特開２０１８－５６０６９号公報の記載が参考にできる。カバーガラスが使用できないため、表面フィルムが必要となる。例えば、［００３０］～［００４０］において、曲率半径３ｍｍ以下（例えば、３ｍｍ、２ｍｍ、１ｍｍ）で好ましくは２０万回、より好ましくは３０万回、さらに好ましくは５０万回折り曲げ可能な屈曲性を有する基材として、ポリイミド系樹脂が好ましいこと、ハードコート層として、紫外線硬化型アクリル系樹脂にシリカ粒子やかご状シルセスキオキサン化合物などを配合した有機無機ハイブリッド材料が好ましいこと、が記載されている。
本発明における表面保護層は、特開２０１５－２１２３５３号公報や、特開２０１７－００８１４８号公報等に記載された構造のシルセスキオキサン化合物を用いたハードコートが好ましい。
〔粘着層、接着剤層〕
本発明の積層体は、上述したλ／４板や表面保護層を貼合する観点から、λ／４板を貼合する面に粘着層または接着剤層を有していてもよい。
粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。
粘着層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶媒に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。
また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。
本発明においては、任意の粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ～５０μｍであることが好ましく、４μｍ～４０μｍであることがより好ましく、５μｍ～３０μｍであることが更に好ましい。
本発明に用いられる接着剤は、貼り合わせた後の乾燥や反応により接着性を発現する。
ポリビニルアルコール系接着剤（ＰＶＡ系接着剤）は、乾燥により接着性が発現し、材料どうしを接着することが可能となる。
反応により接着性を発現する硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤のような活性エネルギー線硬化型接着剤やカチオン重合硬化型接着剤が挙げられる。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。
また、カチオン重合硬化型接着剤としては、エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物も使用することができる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）等が例として挙げられる。
図１は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。図１において、積層体１００は、光学異方性層１２、偏光子層１４、屈折率調整層１６、バリヤ層１８および表面保護層２０がこの順に積層されている。
図２は、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。図２において、積層体２００は、光学異方性層１２、配向層１３、偏光子層１４、屈折率調整層１６、バリヤ層１８および表面保護層２０がこの順に積層されている。積層体２００は、光学異方性層１２と偏光子層１４との間に配向層１３が形成されている以外は、積層体１００と同様の構造である。
図１および図２における各層の詳細は、上述した通りであるので、その説明を省略する。
〔積層体の物性〕
本発明の積層体のヘイズは、０．２～３．０％であることが好ましく、０．２～１．５％であることがより好ましく、０．２～１．０％であることが特に好ましい。
積層体のヘイズの測定方法は、実施例欄に記載の通りである。
〔用途〕
本発明の積層体は、例えば、偏光子（偏光板）として使用でき、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。
＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の偏光子または上述した本発明の積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機ＥＬ表示パネル、および、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましい。
〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の偏光子と、液晶セルと、を有する態様が好ましく挙げられる。より好適には、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光素子のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
〔液晶セル〕
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の偏光子と、λ／４板と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
より好適には、視認側から、λ／４板を有する上述した本発明の積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順に有する態様である。その一例としては、視認側から、基材、バリア層、配向層、本発明の偏光子層、および、λ／４板の順に配置された態様、視認側から、バリア層、本発明の偏光子層、配向層、基材、λ／４板の順に配置された態様、ならびに、視認側から、ガラス基板、本発明の偏光子層、配向層、λ／４板の順に配置された態様が挙げられる。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明は以下の実施例に限定され制限されるものではない。
[実施例１－１]
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
Figure 0007367036000088
（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶媒） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶媒含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１（支持体１）とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
〔配向層ＰＡ１の作製〕
後述する配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
膜厚は０．５μｍであった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記重合体ＰＡ１ １００．００質量部
下記酸発生剤ＰＡＧ-1 ８．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
キシレン １２２０．００質量部
メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
Figure 0007367036000089
Figure 0007367036000090
Figure 0007367036000091
〔偏光子層１の作製〕
得られた配向層ＰＡ１上に、下記の偏光子層形成用組成物１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層を形成した。
次いで、上記塗布層を１４０℃で３０秒間加熱し、を室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１上に偏光子層１を作製した。
偏光子層１の膜厚は０．４μｍであった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子層形成用組成物１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｙ１ ０．３７６質量部
・下記二色性物質Ｍ１ ０．４１７質量部
・下記二色性物質Ｃ１ ０．６０８質量部
・下記高分子液晶化合物Ｐ１ ３．７６１質量部
・下記低分子液晶化合物Ｌ１ ０．６３６質量部
・重合開始剤Ｉ１
（ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製） ０．１７４質量部
・下記界面活性剤Ｆ１ ０．０２９質量部
・シクロペンタノン ４７．０００質量部
・テトラヒドロフラン ４７．０００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
Figure 0007367036000092
Figure 0007367036000093
Figure 0007367036000094
Figure 0007367036000095
〔屈折率調整層Ｎ１の作製〕
得られた偏光子層１上に、下記の屈折率調整層形成用組成物Ｎ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、硬化層を形成した。
次いで、硬化層を室温乾燥させ、次いで、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で１５秒間照射することにより、偏光子層１上に屈折率調整層Ｎ１を作製した。屈折率調整層Ｎ１の膜厚は、０．０５μｍ（５０ｎｍ）であった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
屈折率調整層形成用組成物Ｎ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記棒状液晶化合物の混合物Ｌ１ ２．６１質量部
・下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ０．１１質量部
・下記光重合開始剤ＢＩ１ ０．０５質量部
・下記界面改良剤ＢＦ１ ０．２１質量部
・メチルイソブチルケトン ２９７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
棒状液晶化合物の混合物Ｌ１（下記式中の数値は質量％を表す。）
Figure 0007367036000096
Figure 0007367036000097
Figure 0007367036000098
Figure 0007367036000099
〔バリヤ層Ｂ１の作製〕
屈折率調整層Ｎ１上に、下記の組成の塗布液をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、屈折率調整層Ｎ１上に厚み１．０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）バリヤ層Ｂ１が形成された実施例１－１の積層体１－１を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
バリヤ層形成用組成物Ｂ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９） ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
変性ポリビニルアルコール
[実施例１－２～１－１３、１５～１７および比較例１－１～１－２]
偏光子層形成用組成物１を下記第１表に示した組成物に変更した以外は実施例１－１と同様にして実施例１－２～１－１３、１５～１７の積層体１－２～１－１３、１５～１７、比較例１－１～１－２の積層体１Ｈ－１～１Ｈ－２を作製した。
第１表中において記号で示した成分の概要を以下に示す。
Figure 0007367036000101
Figure 0007367036000102
Figure 0007367036000103
Figure 0007367036000104
[実施例１－１４]
配向層形成用塗布液中の重合体ＰＡ１の代わりに、重合体ＰＡ２を含む配向膜形成用塗布液を用いて得られた配向層ＰＡ２を用いた以外は、実施例１－２と同様にして、実施例１－１４の積層体１－１４を作製した。
Figure 0007367036000105
＜配向度の評価＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に積層体をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、４００～７００ｎｍの波長域における偏光子層の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出し、以下の基準で評価した。結果を下記第１表に示す。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）－１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：偏光子層の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：偏光子層の偏光軸方向の偏光に対する吸光度
Ａ：０．９６以上
Ｂ：０．９４以上０．９６未満
Ｃ：０．９０以上０．９４未満
Ｄ：０．９０未満
＜密着力の評価＞
作製した積層体のセルロースアシレートフィルム１を除去し、後述する粘着剤Ｎ２を用いて再度セルロースアシレートフィルム１に貼り合わせた。続いて、バリヤ層Ｂ１を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、合計１００個の正方形の升目を刻み、その面に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を貼りつけた。３０分経時したあとに、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、以下の基準で評価した。結果を下記第１表に示す。
Ａ：１００升において剥がれが全く認められなかった。
Ｂ：１００升において１～１０升の剥がれが認められた。
Ｃ：１００升において１１～３０升の剥がれが認められた。
Ｄ：１００升において３１升以上の剥がれが認められた。
[実施例１－１８]
屈折率調整層Ｎ１を形成しない以外は、実施例１－１の積層体１－１と同様にして積層体１－１８を作製した。実施例１－１と同様の方法で、配向度、密着力の評価を行ったところ、下記の結果であった。
配向度：Ａ
密着力：Ｃ
[実施例２－１～２－３、比較例２－１]
実施例１－１～１－３、および、比較例１－１に対し、屈折率調整層Ｎ１およびバリヤ層Ｂ１を設けない以外は同様にして、下記第２表に示した実施例２－１～２－３の積層体２－１～２－３、ならびに、比較例２－１の積層体２Ｈ－１を作製した。
＜ヘイズの評価＞
ＨａｚｅＭｅｔｅｒＮＤ４０００（日本電色社製）に、支持体１に光配向層ＰＡ１を積層したサンプルを作製し、光配向層側を入射側としてセットし、リファレンス測定を行った。続いて、作製した積層体の偏光子層側を入射側に、光配向層の偏光照射光と平行方向を水平にセットし、ヘイズ測定を３回行い、平均値（Ｈｚ１）を算出した。続いて、同じ積層体のバリヤ層側を入射側に、光配向層の偏光照射光と垂直方向を水平にセットし、ヘイズ測定を３回行い、平均値（Ｈｚ２）を算出し、Ｈｚ１とＨｚ２の平均値をヘイズ値とした。結果を第２表に示した。
本発明の組成物によれば、高配向度、密着性、に加えて、低ヘイズを鼎立した偏光子を形成できる。
＜光学異方性層の作製＞
（ポジティブＡプレートＡ１の作製）
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ１を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物Ｅ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－１ ５．０質量部
・シクロペンタノン ９５．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光活性化合物Ｅ－1
Figure 0007367036000109
（ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１の調製）
下記組成のポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶化合物Ｌ－１ ７０．００質量部
・下記液晶化合物Ｌ－２ ３０．００質量部
・重合開始剤ＯＸＥ－０３（ＢＡＳＦジャパン社製） ７．５０質量部
・重合開始剤Ｉｒｇ３６９（ＢＡＳＦ社製） ３．００質量部
・レベリング剤ＢＹＫ－３６１Ｎ ０．１０質量部
・メチルエチルケトン（溶媒） ６０．００質量部
・シクロペンタノン（溶媒） ２４０．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
Figure 0007367036000110
セルローストリアセテートフィルムＴＪ４０（富士フイルム製：厚み４０μｍ）上に、上記光配向層形成用組成物Ｅ１を塗布し、８０℃で１分間乾燥した。その後、得られた塗膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（１００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、厚み１００ｎｍの光配向層Ｅ１を作製した。
得られた光配向層Ｅ１上に、上記ポジティブＡプレート形成用組成物Ａ１をワイヤーバーで塗布した。次に、得られた塗膜に対して１２０℃で９０秒間加熱し、室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて露光量１２００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより、ポジティブＡプレートＡ１を形成した。
ポジティブＡプレートＡ１の厚みは２μｍであり、Ｒｅ（５５０）は１４５ｎｍであった。また、ポジティブＡプレートＡ１は、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たしていた。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８５であった。
（ポジティブＣプレートＣ１の作製）
仮支持体として、上記セルロースアシレートフィルム１を用いた。
セルロースアシレートフィルム１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム１を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（アルカリ溶液）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ） １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成の配向層形成用塗布液３を、＃８のワイヤーバーを用いて上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１上に連続的に塗布した。得られたフィルムを６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向層を形成した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
後述するポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１を配向層上に塗布し、得られた塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、液晶化合物を垂直配向させ、厚み０．５μｍのポジティブＣプレートＣ１を作製した。
得られたポジティブＣプレートのＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記液晶化合物Ｌ－１１ ８０質量部
下記液晶化合物Ｌ－１２ ２０質量部
下記垂直配向剤Ｓ０１（配向制御剤） １質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
下記化合物Ｂ０３（界面活性剤） ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
Figure 0007367036000111
Figure 0007367036000112
化合物 Ｂ０３
Figure 0007367036000113
＜粘着剤シートＮ１～Ｎ３の作製＞
次に、以下の手順に従い、アクリレート系ポリマーを調製した。
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５質量部、アクリル酸５質量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）３．０のアクリレート系ポリマー（Ａ１）を得た。
次に得られたアクリレート系ポリマー（Ａ１）用いて、以下の第３表の組成で、粘着剤を調製した。これらの組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し９０℃の環境下で１分間乾燥させ、紫外線（ＵＶ）を下記条件で照射して、粘着剤シートＮ１～Ｎ３を得た。粘着剤の組成と粘着剤シートの膜厚を下記第３表に示す。
＜ＵＶ照射条件＞
・フュージョン社無電極ランプ Ｈバルブ
・照度６００ｍＷ／ｃｍ２、光量１５０ｍＪ／ｃｍ２
・ＵＶ照度・光量は、アイグラフィックス製「ＵＶＰＦ－３６」を用いて測定した。
（Ａ）多官能アクリレート系モノマー：トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、分子量＝４２３、３官能型（東亜合成社製、商品名「アロニックスＭ－３１５」）（Ｂ）光重合開始剤：ベンゾフェノンと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの質量比１：１の混合物、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア５００」
（Ｃ）イソシアネート系架橋剤：トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート
（日本ポリウレタン社製「コロネートＬ」）
（Ｄ）シランカップリング剤：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＭ－４０３」）
（Ｅ）ＵＶ吸収剤（下記構造）：λmax=３８９ｎｍ（２-ブタノン中）
Figure 0007367036000115
＜ＵＶ接着剤の作製＞
下記のＵＶ接着剤を調製した。
─────────────────────────────────
ＵＶ接着剤
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル ２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル １０質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ（下記化合物） ２．２５質量部
─────────────────────────────────
Figure 0007367036000116
＜積層体１－１’～１－１７’の作製＞
上記ポジティブＡプレートＡ１の位相差側と、上記ポジティブＣプレートＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤を用いて６００ｍＪ/ｃｍ２のＵＶ照射で貼り合わせた。以下、同様の条件でＵＶ接着剤を用いた。ＵＶ接着剤層の厚みは１．５μｍであった。なお、ＵＶ接着剤で貼り合わせる表面には、それぞれコロナ処理を行った（後述においても同じ）。次に、ポジティブＡプレートＡ１側の光配向層とセルローストリアセテートフィルムＴＪ４０を除去し、位相差板１とした。
特開２００８－２６２１８７号公報の実施例１の試料Ｎｏ１を参考に低反射表面保護フィルム１を作製した。この低反射表面保護フィルム１の支持体側に、上記粘着剤シートＮ１を用いて、上記積層体１－１のバリヤ層側を貼り合わせた。次に、セルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、上記位相差板１のポジティブＡプレートＡ１の位相差側とを、上記粘着剤Ｎ１を用いて貼り合わせ、積層体１－１’を作製した。このとき、偏光子層の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。
実施例１－１の積層体１－１を、実施例１－２～１－１７の積層体１－２～１－１７に変更した以外は、上記と同様にして積層体１－２’～１－１７’を作製した。
＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ４を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記の積層体１－１’～１－１７’を粘着剤シートＮ２を用いてタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製し、反射防止の効果が見られることを確認した。
〔実施例３－１の積層体の作製〕
積層体１－２’に対し、粘着剤シートＮ１の代わりに粘着剤シートＮ３を用いること以外は同様にして、積層体３－１を作製した。積層体３－１は、下記第４表に示すように、粘着剤シートＮ１を用いた積層体３－４よりも良好な耐光性を示した。
〔実施例３－２の積層体の作製〕
積層体１－２’に対し、バリヤ層を形成しないこと、低反射表面保護フィルム１の代わりに５００μｍ厚みのガラス基材（アルミノシリケート強化ガラス）を用いること以外は同様にして、積層体３－２を作製した。積層体３－２は、下記第４表に示すように、低反射表面保護フィルム１を用いた積層体３－５よりも良好な耐光性を示した。
〔実施例３－３の積層体の作製〕
積層体１－２’に対し、バリヤ層を形成しないこと、低反射表面保護フィルム１の代わりに多層スパッタ金属酸化膜を有するＡＲフィルム（Ｄｅｘｅｒｉａｌｓ社、ＡＲ１００；９１μｍ）を用いること以外は同様にして、積層体３－３を作製した。積層体３－３は、下記第４表に示すように、低反射表面保護フィルム１を用いた積層体３－５よりも良好な耐光性を示した。
〔実施例３－４の積層体の作製〕
積層体１－２’を、積層体３－４とした。
〔実施例３－５の積層体の作製〕
積層体１－２’に対し、バリヤ層を形成しないこと以外は同様にして、積層体３－５を作製した。積層体３－５は、下記第４表に示すように、バリア層の存在する積層体３－４よりも劣る耐光性を示した。
＜耐光性の評価＞
実施例３－１～３－５の積層体を、セルロースアシレートフィルム１を除去し、粘着剤Ｎ２を用いて、１．１ｃｍのガラス基板に貼り合わせたサンプルを作製した。光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）のサンプル台にサンプルをセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、４００～７００ｎｍの波長域における吸光度を１ｎｍピッチで測定した。続いて、本サンプルをＸｅ耐光性試験機（光源ＸＢ－５０１０１ＡＡ－Ａ：ＵＳＨＩＯ社製）にセットし、ガラス基板と逆側から４０時間照射した。照射前と同様にしてサンプルの吸光度を測定し、各波長における照射前後の吸光度の変化率を算出し、４００～７００ｎｍにおける平均値を吸光度の変化率とした。
Ａ：吸光度の変化率が５０％未満
Ｂ：吸光度の変化率が５０％以上、７５％未満
Ｃ：吸光度の変化率が７５％以上
［実施例４－１]
実施例１－２の積層体１－２に対し、屈折率調整層Ｎ１およびバリヤ層Ｂ１を形成しなかった以外は同様にして、実施例４－１の積層体４－１を得た。
［実施例４－２]
〔配向層Ｒｂ１の作製〕
ケン化処理を施した上記セルロースアシレートフィルム１上に、下記の組成の配向膜塗布液Ｒｂ１を＃１７のワイヤーバーで塗布した。
その後、１１０℃の温風で２分間乾燥することにより、セルロースアシレートフィルム上に変性ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜Ｒｂ１を形成した。
なお、変性ポリビニルアルコールは、濃度が４質量％となるように配向膜塗布液中に加えた。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液Ｒｂ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・変性ビニルアルコール（下記ＰＶＡ－１） ４．００質量部
・水 ７４．０８質量部
・メタノール ２１．８６質量部
・光重合開始剤
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．０６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
変性ポリビニルアルコール
得られた配向層Ｒｂ１にラビング処理（１０００回転、ステージ速度１．８ｍ／分）を１回施して、配向層Ｒｂ１を作製した。
〔偏光子層の作製〕
得られた配向層Ｒｂ１を用いた以外は実施例４－１と同様にして、実施例４－２の積層体４－２を得た。
［実施例４－３］
偏光子層の形成において下記偏光子層形成用組成物Ｘを用いた以外は、実施例４－１と同様にして、実施例４－３の積層体４－３を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子層形成用組成物Ｘの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｙ４ ０．２７４質量部
・上記二色性物質Ｍ１ ０．３１７質量部
・上記二色性物質Ｃ１ ０．４８８質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ１ ３．３５４質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｌ２ ０．９１５質量部
・重合開始剤Ｉ１ ０．１１０質量部
・上記界面活性剤Ｆ２ ０．０５５質量部
・シクロペンタノン ４７．０００質量部
・テトラヒドロフラン ４７．０００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
［実施例４－４］
〔配向層ＰＡ３の作製〕
下記構造の光配向材料ＰＡ３を１質量部に、ブトキシエタノール４１．６質量部、及びジプロピレングリコールモノメチル４１．６質量部、純水１５．８質量部を加え、得られた溶液を０．４５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過した。得られた光配向膜用塗布液を、ラビング処理を施さない配向層Ｒｂ１上に塗布し、６０℃で１分間乾燥した。得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、配向膜ＰＡ３を作製した。
Figure 0007367036000119
 〔偏光子層の作製〕
得られた配向層ＰＡ３を用いた以外は実施例４－３と同様にして、実施例４－４の積層体４－４を得た。
＜欠陥の評価＞
上記積層体を、１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに切り出し、偏光板（ＨＣＬ２－５６１８ＨＣＳ、サンリッツ社製）を備えたバックライト上に置き、ルーペを用いて偏光子層を観察した。屑による配向欠陥の個数を数え、以下の基準により評価した。結果を第５表に示した。
Ａ：欠陥が２０個未満
Ｂ：欠陥が２０個以上
＜配向度＞
上積層体４－１～４－４の配向度について、上述した配向度の評価方法および評価基準により評価した。結果を第５表に示した。
＜密着力＞
上積層体４－１～４－４の密着力について、上述した密着力の評価方法および評価基準により評価した。結果を第５表に示した。
［実施例５－１］
界面活性剤Ｆ１の代わりに下記界面活性剤Ｆ３を用いた以外は、実施例１－２と同様にして、実施例５－１の積層体５－１を作製した。実施例１－２と同様の方法で、配向度、密着力、ヘイズの評価を行ったところ、下記の結果であった。
配向度：Ｂ
密着力：Ｂ
ヘイズ：Ｃ
Figure 0007367036000121
［実施例６－１]
〔垂直偏光子層の作製〕
セルロースアシレートフィルム１上に設けられた上記配向層Ｒｂ１の上に、下記垂直偏光子層形成用組成物Ｚを＃２０のワイヤーバーで連続的に塗布し、１２０℃で４５秒加熱した後、室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、７５℃で３０秒間加熱した後、再び室温になるまで冷却した。その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向膜Ｒｂ１上に垂直偏光子層６－１を作製した。垂直偏光子層６－１の膜厚は１．８μｍであった。垂直偏光子層において、液晶性化合物および二色性物質が垂直偏光子層の膜厚方向に向かって配向している。
――――――――――――――――――――――――――――――――
垂直偏光子層形成用組成物Ｚの組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｙ１ ０．３２２質量部
・上記二色性物質Ｍ１ ０．０８７質量部
・上記二色性物質Ｃ２ ０．５７９質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ１ ２．５２６質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｌ１ １．６６９質量部
・重合開始剤Ｉ１ ０．０８１質量部
・上記化合物Ｂ０３（界面活性剤） ０．００５質量部
・上記垂直配向剤Ｓ０１（配向制御剤） ０．０６５質量部
・下記垂直配向剤Ｓ０２（配向制御剤） ０．０６５質量部
・シクロペンタノン ８７．５０５質量部
・ベンジルアルコール ７．０９５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
Figure 0007367036000122
［実施例６－２～実施例６－４、比較例６－１]
垂直偏光子層形成用組成物Ｚを下記第６表に示した組成物に変更した以外は実施例６－１と同様にして、実施例６－２～実施例６－４および比較例６－１の各垂直偏光子層を形成した。
＜配向度の評価＞
得られた垂直偏光子層を用い、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）において、波長λにおける、垂直偏光子層のミューラーマトリックスを極角を－７０°～７０°まで５°毎に計測した。この計測結果より、透過率が極大となる角度をθとした。表面反射の影響を除去した後、スネルの式やフレネルの式を考慮した下記理論式にフィッティングすることにより、ｋｏ［λ］、ｋｅ［λ］を算出した。測定波長λは、５５０ｎｍで行った。
ｋ＝－ｌｏｇ（Ｔ）×λ／（４πｄ）
このようにして得られたｋｏ［λ］、ｋｅ［λ］より、面内方向および厚さ方向の吸光度、二色比を算出し、最終的に配向度を算出し、以下の基準で配向度を評価した。結果を下記第６表に示す。
Ａ：０．９６以上
Ｂ：０．９２以上０．９６未満
Ｃ：０．８５以上０．９２未満
Ｄ：０．８５未満
＜密着力の評価＞
作製した積層体上に実施例１－１と同様にしてバリヤ層Ｂ１を形成した。次いで、セルロースアシレートフィルム１を除去し、上記粘着剤Ｎ２を用いて再度セルロースアシレートフィルム１に貼り合わせた。続いて、バリヤ層Ｂ１を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、合計１００個の正方形の升目を刻み、その面に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を貼りつけた。３０分経時したあとに、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、以下の基準で評価した。結果を下記第６表に示す。
Ａ：１００升において剥がれが全く認められなかった。
Ｂ：１００升において１～１０升の剥がれが認められた。
Ｃ：１００升において１１～３０升の剥がれが認められた。
Ｄ：１００升において３１升以上の剥がれが認められた。
１００、２００ 積層体
１２ 光学異方性層
１３ 配向層
１４ 偏光子層
１６ 屈折率調整層
１８ バリヤ層
２０ 表面保護層

Claims (19)

  1. 少なくとも、高分子液晶化合物、二色性物質、および、低分子液晶化合物を含有する組成物であり、
    前記高分子液晶化合物が、下記式（１）で表される繰り返し単位（１）を有する共重合体であり、
    前記低分子液晶化合物が、下記式（ＬＣ）で表される化合物であり、
    下記式（１１）～（１３）、並びに、下記式（２０）および（２１）の関係を満たす、組成物。


    前記式（１）中、ＰＣ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、ＭＧ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
    前記式（ＬＣ）中、ＳＰＬ１およびＳＰＬ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、ＭＬはメソゲン基を表し、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に架橋性基または末端基を表し、Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方は架橋性基を表す。
    |ｌｏｇＰ（ＳＰ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≦ ２．０ （１１）
    |ｌｏｇＰ（ＭＧ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰ１）| ≧ ４．５ （１２）
    |ｌｏｇＰ（ＭＬ）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≧ ４．０ （１３）
    式（１１）～（１３）中、ｌｏｇＰ（ＳＰ１）は前記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＭＧ１）は前記式（１）におけるＭＧ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）は前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＭＬ）は前記式（ＬＣ）におけるＭＬのｌｏｇＰ値を表す。
    Ｄ（ＳＰＬ１） ≧ Ｄ（ＳＰＬ２） （２０）
    |Ｄ（ＳＰ１）－Ｄ（ＳＰＬ１）| ≦ ４．０Å （２１）
    式（２０）および式（２１）中、Ｄ（ＳＰＬ１）は前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１の分子長を表し、Ｄ（ＳＰＬ２）は前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ２の分子長を表し、Ｄ（ＳＰ１）は前記式（１）におけるＳＰ１の分子長を表す。
  2. 少なくとも、高分子液晶化合物、二色性物質、および、低分子液晶化合物を含有する組成物であり、
    前記高分子液晶化合物が、下記式（１）で表される繰り返し単位（１）を有する共重合体であり、
    前記低分子液晶化合物が、下記式（ＬＣ）で表される化合物であり、
    下記式（１１）～（１３）、並びに、下記式（２０）および（４１’）の関係を満たす、組成物。


    前記式（１）中、ＰＣ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、ＭＧ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
    前記式（ＬＣ）中、ＳＰＬ１およびＳＰＬ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、ＭＬはメソゲン基を表し、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に架橋性基または末端基を表し、Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方は架橋性基を表す。
    |ｌｏｇＰ（ＳＰ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≦ ２．０ （１１）
    |ｌｏｇＰ（ＭＧ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰ１）| ≧ ４．５ （１２）
    |ｌｏｇＰ（ＭＬ）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≧ ４．０ （１３）
    式（１１）～（１３）中、ｌｏｇＰ（ＳＰ１）は前記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＭＧ１）は前記式（１）におけるＭＧ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）は前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＭＬ）は前記式（ＬＣ）におけるＭＬのｌｏｇＰ値を表す。
    Ｄ（ＳＰＬ１） ≧ Ｄ（ＳＰＬ２） （２０）
    Ｄ（ＳＰＬ２） ≦ ４．０Å （４１’）
    式（２０）および式（４１’）中、Ｄ（ＳＰＬ１）は前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１の分子長を表し、Ｄ（ＳＰＬ２）は前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ２の分子長を表す。
  3. さらに、下記式（２０）および（４１’）の関係を満たす、請求項１に記載の組成物。
    Ｄ（ＳＰＬ１） ≧ Ｄ（ＳＰＬ２） （２０）
    Ｄ（ＳＰＬ２） ≦ ４．０Å （４１’）
    式（２０）および式（４１’）中、Ｄ（ＳＰＬ１）は前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１の分子長を表し、Ｄ（ＳＰＬ２）は前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ２の分子長を表す。
  4. 下記式（３１）の関係を満たす、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
    ｌｏｇＰ（ＳＰＬ２） ≦ １．５ （３１）
    ここで、式（３１）中、ｌｏｇＰ（ＳＰＬ２）は、前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ２のｌｏｇＰ値を表す。
  5. 前記高分子液晶化合物が、さらに下記式（４）で表される繰り返し単位（４）を有し、
    前記繰り返し単位（４）の含有量が、前記高分子液晶化合物の全繰り返し単位に対して、１０質量％以上である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。

    ここで、式（４）中、ＰＣ４は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ４は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ４はスペーサー基を表し、Ｔ４は架橋性基を表す。
  6. 前記式（４）におけるＳＰ４の主鎖の原子数が、１５以上である、請求項５に記載の組成物。
  7. 前記式（１）におけるＳＰ１がオキシエチレン構造である、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物。
  8. さらに、高分子界面改良剤を含有する、請求項１～７のいずれか１項に記載の組成物。
  9. 少なくとも、高分子液晶化合物、二色性物質、および、低分子液晶化合物を含有する組成物を用いて形成された偏光子層であって、
    前記高分子液晶化合物が、下記式（１）で表される繰り返し単位（１）を有する共重合体であり、
    前記低分子液晶化合物が、下記式（ＬＣ）で表される化合物であり、
    下記式（１１）、（１２）、（１３）、および、（２０）の関係を満たし、下記式（２１）および（４１’）の少なくとも一方の関係を満たす、偏光子層。


    前記式（１）中、ＰＣ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、ＭＧ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
    前記式（ＬＣ）中、ＳＰＬ１およびＳＰＬ２はそれぞれ独立にスペーサー基を表し、ＭＬはメソゲン基を表し、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に架橋性基または末端基を表し、Ｑ１およびＱ２の少なくとも一方は架橋性基を表す。
    |ｌｏｇＰ（ＳＰ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≦ ２．０ （１１）
    |ｌｏｇＰ（ＭＧ１）－ｌｏｇＰ（ＳＰ１）| ≧ ４．５ （１２）
    |ｌｏｇＰ（ＭＬ）－ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）| ≧ ４．０ （１３）
    式（１１）～（１３）中、ｌｏｇＰ（ＳＰ１）は前記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＭＧ１）は前記式（１）におけるＭＧ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＳＰＬ１）は前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１のｌｏｇＰ値を表し、ｌｏｇＰ（ＭＬ）は前記式（ＬＣ）におけるＭＬのｌｏｇＰ値を表す。
    Ｄ（ＳＰＬ１） ≧ Ｄ（ＳＰＬ２） （２０）
    |Ｄ（ＳＰ１）－Ｄ（ＳＰＬ１）| ≦ ４．０Å （２１）
    Ｄ（ＳＰＬ２） ≦ ４．０Å （４１’）
    式（２０）、式（２１）および式（４１’）中、Ｄ（ＳＰＬ１）は前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ１の分子長を表し、Ｄ（ＳＰＬ２）は前記式（ＬＣ）におけるＳＰＬ２の分子長を表し、Ｄ（ＳＰ１）は前記式（１）におけるＳＰ１の分子長を表す。
  10. 基材と、前記基材上に設けられた請求項９に記載の偏光子層とを有する、積層体。
  11. 前記基材上に、さらに、架橋性基を有する繰り返し単位を有する重合体を含有する配向層を有し、
    前記架橋性基を有する繰り返し単位の含有量が、前記重合体の全繰り返し単位に対して、２０質量％以上である、請求項１０に記載の積層体。
  12. 前記重合体が、さらに、下記式（ＰＡ）で表される部分構造を有する繰り返し単位を有する、請求項１１に記載の積層体。

    前記式（ＰＡ）中、２つの＊は、結合位置を表し、ＲＰ１～ＲＰ４はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
  13. 前記偏光子層上に屈折率調整層を有する、請求項１０～１２のいずれか１項に記載の積層体。
  14. ヘイズが０．２～１．５％である、請求項１０～１３のいずれか１項に記載の積層体。
  15. 請求項９に記載の偏光子層と、紫外線吸収剤を含有する層とを有する、積層体。
  16. さらに、λ／４板を有する、請求項１０～１５のいずれか１項に記載の積層体。
  17. 前記偏光子層における前記λ／４板が設けられた面とは反対面側に、ガラス基板を有し、
    前記積層体が前記基材を有する場合には、前記基材が前記ガラス基板である、請求項１６に記載の積層体。
  18. 前記偏光子層における前記λ／４板が設けられた面とは反対面側に、バリヤ層を有する、請求項１６に記載の積層体。
  19. 請求項９に記載の偏光子層、または請求項１０～１８のいずれか１項に記載の積層体を有する、画像表示装置。
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