JP7510577B2 - 少なくとも1つのレールヘッドにおける表面状態を求める方法及び装置 - Google Patents
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Description
-台車フレームと、台車フレームに回転可能に支承された走行ホィールと、を有する測定台車が準備されるステップであって、台車フレームが走行ホィールによって、レールの少なくとも1つの上に支持され、かつレールに沿って移動可能である、ステップと、
-さらに、測定ベース支持体、ガイド配置及び少なくとも1つの第1のセンサを備えた少なくとも1つの第1の測定配置を有する測定ユニットが準備されるステップであって、その少なくとも1つの第1のセンサは、測定ベース支持体に配置されている。ガイド配置自体は、台車フレームに配置されており、さらに測定ベース支持体がガイド配置によって、レール平面それぞれに関して好ましくは垂直の方向づけで、台車フレームに対して移動可能に案内されるステップと、
-測定台車をレールに沿って変位させる、ステップ。レールに沿って変位運動する間、少なくとも1つのレールの少なくとも1つのレールヘッドにおいて表面状態を求めることが行われる。さらに、
-測定ベース支持体が少なくとも1つの第1のセンサと共に、測定台車がレールに沿って移動する間、支持装置によって機械的に、少なくとも1つのレール上に、あるいはそれに接して支持されることと、
-少なくとも1つの第1のセンサが、台車が移動する間、支持装置によって、かつレール上の支持装置のそれぞれの支持位置に関して、常にレール上方であらかじめ定められた固定の間隔で案内されること、が設けられる。
-台車フレームと、その台車フレームに回転可能に支承された走行ホィールと、を備えた測定台車を有し、台車フレームが走行ホィールによってレール上に支持可能であり、かつレールに沿って変位可能であり、
-測定ベース支持体、ガイド配置及び少なくとも1つの第1のセンサを有する少なくとも1つの第1の測定配置を備えた測定ユニットを有し、その少なくとも1つの第1のセンサが、測定ベース支持体に配置されており、かつガイド配置自体は台車フレームに配置されており、さらに、測定ベース支持体がガイド配置によって好ましくはレール平面に関して垂直の方向づけにおいて、台車フレームに対して変位可能に案内されており、さらに、
-測定ベース支持体が表面状態を求めるための少なくとも1つの第1のセンサと共に、支持装置によって少なくとも1つのレールの上に機械的に支持可能であること、及び
-少なくとも1つの第1のセンサが、測定台車が変位する間、支持装置によって、かつレール上の支持装置のそれぞれの支持位置に関して、レール上方で常にあらかじめ定められた固定の間隔で案内されること、が設けられる。
-測定台車16に台車フレーム17と、台車フレーム17に回転可能に支承された走行ホィール18とを設け、その場合に台車フレーム17が走行ホィール18によってレール2上に支持されて、レール2に沿って変位可能又は走行可能であり、
-測定ベース支持体22を備えた少なくとも1つの第1の測定配置21、ガイド配置23及び少なくとも1つの第1のセンサ24を有する測定ユニット14を設け、その少なくとも1つの第1のセンサ24が測定ベース支持体22に配置され、かつガイド配置23自体が台車フレーム17に配置されており、その場合にさらに測定ベース支持体22がガイド配置23によって好ましくはそれぞれのレール平面13に関して垂直の方向づけで、台車フレーム17に関して変位可能に案内され、
-支持装置26を設け、測定ベース支持体22を少なくとも1つの第1のセンサ24と共に支持装置26を用いて、測定台車16がレール2に沿って移動する間、機械的に支持し、
-測定台車16をレール2に沿って移動させ、その場合に少なくとも1つのレール2の少なくとも1つのレールヘッド5における表面状態をもとめ、さらにその場合に
-少なくとも1つの第1のセンサ24が、測定台車16が移動する間、支持装置26によって常に、レール2の上方に沿ってあらかじめ定められた固定の間隔で案内される。第1のセンサ24のあらかじめ定められた固定の間隔は、レール2上の支持装置26のそれぞれの、かつ実際の支持位置又は添接領域に関する。
また、本開示は、以下の態様を含む。
〔態様1〕
敷設され、かつレール(2)によって形成される鉄道軌道(1)に沿って、少なくとも1つのレールヘッド(5)の、特にその走行面(10)の、表面状態を求める方法であって、2つの前記レール(2)によって少なくとも1つのレール平面(13)が定められ、前記方法においては、
-台車フレーム(17)と、前記台車フレーム(17)に回転可能に支承された走行ホィール(18)と、を有する測定台車(16)を準備するステップであって、前記台車フレーム(17)が前記走行ホィール(18)によって前記レール(2)の少なくとも1つの上に支持され、かつ前記レール(2)に沿って移動可能である、ステップと、
-測定ベース支持体(22)、ガイド配置(23)及び少なくとも1つの第1のセンサ(24)を備えた少なくとも1つの第1の測定配置(21)を有する測定ユニット(14)を準備するステップであって、前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)が前記測定ベース支持体(22)に配置されており、かつ前記ガイド配置(23)は前記台車フレーム(17)に配置されており、さらに前記測定ベース支持体(22)が前記ガイド配置(23)によって前記レール平面(13)それぞれに関して好ましくは垂直の方向づけにおいて、前記台車フレーム(17)に対して移動可能に案内される、ステップと、
-前記レール(2)に沿って前記測定台車(16)を移動させ、かつ少なくとも1つのレール(2)の少なくとも1つのレールヘッド(5)において表面状態を求める、ステップと、が実施され、
-前記レール(2)に沿って前記測定台車(16)が移動する間、前記測定ベース支持体(22)が、前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)を含めて、支持装置(26)によって少なくとも1つの前記レール(2)上に機械的に支持され、かつ
-前記測定台車(16)が移動する間、前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)が前記支持装置(26)によって、かつ前記レール(2)上の前記支持装置(26)のそれぞれの支持位置に関して、前記レール(2)の上方で常にあらかじめ定められた固定の間隔で案内される、方法において、
前記走行ホィール(18)が前記測定台車(16)の進行方向にそれぞれ対をなして相前後して前記測定台車(16)に配置されており、かつそれらによって第1の走行ホィールペア及び少なくとも1つの第2の走行ホィールペアが形成され、前記第1の走行ホィールペアが、前記測定台車(16)の前進移動方向において、互いに対して第1の軸線間隔(40)で配置され、かつ前記第2の走行ホィールペアが同じ方向において互いに対して第2の軸線間隔(41)で配置されること、及び、2つの前記軸線間隔(40、41)の互いに対する比率は、自然数を形成しないこと、を特徴とする方法。
〔態様2〕
前記測定ベース支持体(22)の前記支持装置(26)が、少なくとも1つの支持ホィール(31)によって形成される、ことを特徴とする態様1に記載の方法。
〔態様3〕
前記少なくとも1つの支持ホィール(31)が玉軸受によって形成されており、かつ前記玉軸受の一周する外側の表面に、特にエラストマー材料から作製された、緩衝層(25)が設けられている、ことを特徴とする態様2に記載の方法。
〔態様4〕
前記測定台車(16)の前記走行ホィール(18)が、玉軸受によって形成され、かつ前記玉軸受の一周する外側の表面に、特にエラストマー材料から作製された、緩衝層(25)が設けられている、ことを特徴とする態様1から3のいずれか1つに記載の方法。
〔態様5〕
第1の前記軸線間隔(40)及び第2の前記軸線間隔(41)が、互いに対して少なくとも20%だけ異なるように選択される、ことを特徴とする態様1から4のいずれか1つに記載の方法。
〔態様6〕
前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)によって、前記レール(2)の少なくとも1つにおける表面粗さが求められる、ことを特徴とする態様1から5のいずれか1つに記載の方法。
〔態様7〕
第1の前記測定配置(21)に少なくとも1つの第2のセンサ(27)が搭載されており、かつ前記測定台車(16)が前記レール(2)に沿って移動する間、前記少なくとも1つの第2のセンサ(27)によって、前記測定台車(16)の前記台車フレーム(17)に関する前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)の相対移動が求められる、ことを特徴とする態様1から6のいずれか1つに記載の方法。
〔態様8〕
前記測定台車(16)が前記レール(2)に沿って移動する間、前記測定台車(16)が移動した距離区間が、前記測定ユニット(14)の距離測定装置(28)によって求められる、ことを特徴とする態様1から7のいずれか1つに記載の方法。
〔態様9〕
前記距離測定装置(28)が、固有の距離測定ホィールにより、かつ/又は前記走行ホィール(18)の1つによって、かつ/又は前記支持装置(26)を形成する前記少なくとも1つの支持ホィール(31)によって、形成されるか又は定められる、ことを特徴とする態様10に記載の方法。
〔態様10〕
前記測定ユニット(14)にさらに、少なくとも1つの第2の測定配置(29)が搭載され、かつ第2の前記測定配置(29)が前記第1の測定配置(21)と同様に構成されており、かつ2つの前記測定配置(21、29)によってそれぞれ、2つの前記レール(2)の少なくとも1つのものの表面状態が求められる、ことを特徴とする態様1から9のいずれか1つに記載の方法。
〔態様11〕
前記測定ユニット(14)によって求められた測定値が、評価装置(15)へ伝達されるか又は転送され、かつ前記測定値から評価又は測定レポートが生成される、ことを特徴とする態様1から10のいずれか1つに記載の方法。
〔態様12〕
前記表面状態を求めることが、少なくとも1つの前記レール(2)における加工プロセスに直接連続して実施される、ことを特徴とする態様1から11のいずれか1つに記載の方法。
〔態様13〕
敷設され、かつレール(2)によって形成される鉄道軌道(1)に沿って、少なくとも1つのレールヘッド(5)の、特にその走行面(10)の、表面状態を求める測定設備(19)であって、2つの前記レール(2)によって少なくとも1つのレール平面(13)が定められ、前記測定設備(19)が、
-台車フレーム(17)と、前記台車フレーム(17)に回転可能に支承された走行ホィール(18)と、を備えた測定台車(16)を有し、前記台車フレーム(17)が前記走行ホィール(18)によって、前記レール(2)の少なくとも1つの上に支持可能であり、かつ前記レール(2)に沿って移動可能であり、
-測定ベース支持体(22)、ガイド配置(23)及び少なくとも1つの第1のセンサ(24)を備えた少なくとも1つの第1の測定配置(21)を有する測定ユニット(14)を有し、前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)が前記測定ベース支持体(22)に配置されており、かつ前記ガイド配置(23)は前記台車フレーム(17)に配置されており、さらに前記測定ベース支持体(22)が前記ガイド配置(23)によって、前記レール平面(13)それぞれに関して好ましくは垂直の方向づけで、前記台車フレーム(17)に対して移動可能に案内されている、測定設備(19)であり、特に表面状態を求めるための態様1から12のいずれか1つに記載の方法を実施するための、測定設備(19)であり、
-前記測定ベース支持体(22)が、前記表面状態を求めるための前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)と共に、支持装置(26)によって少なくとも1つの前記レール(2)上に機械的に支持可能であり、かつ
-前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)が、前記測定台車(16)が移動する間、前記支持装置(26)によって、かつ前記レール(2)上の前記支持装置(26)のそれぞれの支持位置に関して、前記レール(2)の上方で常にあらかじめ定められた固定の間隔で案内可能である、測定設備(19)において、
前記走行ホィール(18)が、前記測定台車(16)の進行方向の方向にそれぞれ対をなして相前後して前記測定台車(16)に配置されており、かつそれらによって第1の走行ホィールペア及び少なくとも1つの第2の走行ホィールペアが形成され、前記第1の走行ホィールペアが、前記測定台車(16)の進行方向において互いに対して第1の軸線間隔(40)で配置されており、かつ前記第2の走行ホィールペアが同じ方向において互いに対して第2の軸線間隔(41)で配置されていること、及び、2つの前記軸線間隔(40、41)の互いに対する比率は、自然数を形成しないこと、を特徴とする測定設備(19)。
〔態様14〕
前記支持装置(26)が、前記測定ベース支持体(22)のために少なくとも1つの支持ホィール(31)を有している、ことを特徴とする態様13に記載の測定設備(19)。
〔態様15〕
前記少なくとも1つの支持ホィール(31)が玉軸受によって形成されており、かつ前記玉軸受の一周する外側の表面に、特にエラストマー材料から作製された、緩衝層(25)が設けられている、ことを特徴とする態様14に記載の測定設備(19)。
〔態様16〕
前記測定台車(16)の前記走行ホィール(18)が、玉軸受によって形成され、かつ前記玉軸受の一周する外側の表面に、特にエラストマー材料から作製された、緩衝層(25)が設けられている、ことを特徴とする態様13から15のいずれか1つに記載の測定設備(19)。
〔態様17〕
第1の前記軸線間隔(40)及び第2の前記軸線間隔(41)が互いに対して少なくとも20%だけ異なるように選択されている、ことを特徴とする態様13から16のいずれか1つに記載の測定設備(19)。
〔態様18〕
前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)が、前記レール(2)の1つにおける表面粗さを求めるように構成されている、ことを特徴とする態様13から17のいずれか1つに記載の測定設備(19)。
〔態様19〕
前記第1の測定配置(21)が少なくとも1つの第2のセンサ(27)を有し、かつ前記少なくとも1つの第2のセンサ(27)が、前記レール(2)に沿って前記測定台車(16)が移動する間、前記測定台車(16)の前記台車フレーム(17)に関する前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)の相対移動を求めるように、構成されている、ことを特徴とする態様13から18のいずれか1つに記載の測定設備(19)。
〔態様20〕
前記測定ユニット(14)がさらに距離測定装置(28)を有し、かつ前記距離測定装置(28)が、前記測定台車(16)が前記レール(2)に沿って移動する間に前記測定台車(16)が移動した距離区間を求めるように構成されている、ことを特徴とする態様13から19のいずれか1つに記載の測定設備(19)。
〔態様21〕
前記測定ユニット(14)がさらに少なくとも1つの第2の測定配置(29)を有し、かつ前記第2の測定配置(29)が前記第1の測定配置(21)と同様に構成されている、ことを特徴とする態様13から20のいずれか1つに記載の測定設備(19)。
2 レール
3 軌道軸線
4 枕木
5 レールヘッド
6 レールウェブ
7 レール基部
8 内側の側面
9 外側の側面
10 走行面
11 ドライブ面
12 ドライブエッジ
13 レール平面
14 測定ユニット
15 評価装置
16 測定台車
17 台車フレーム
18 走行ホィール
19 測定設備
20 カップリング装置
21 第1の測定配置
22 測定ベース支持体
23 ガイド配置
24 第1のセンサ
25 緩衝層
26 支持装置
27 第2のセンサ
28 距離測定装置
29 第2の測定配置
30 サイドガイドローラ
31 支持ホィール
32 操作及び/又は緩衝機構
33 牽引機械
34 横結合機構
35 緩衝部材
36 支持スキッド
37 他のセンサ
38 第1のダイアグラムライン
39 第2のダイアグラムライン
40 第1の軸線間隔
41 第2の軸線間隔
Claims (21)
- 敷設され、かつレール(2)によって形成される鉄道軌道(1)に沿って、少なくとも1つのレールヘッド(5)の、特にその走行面(10)の、表面状態を求める方法であって、2つの前記レール(2)によって少なくとも1つのレール平面(13)が定められ、前記方法においては、
-台車フレーム(17)と、前記台車フレーム(17)に回転可能に支承された走行ホィール(18)と、を有する測定台車(16)を準備するステップであって、前記台車フレーム(17)が前記走行ホィール(18)によって前記レール(2)の少なくとも1つの上に支持され、かつ前記レール(2)に沿って移動可能である、ステップと、
-測定ベース支持体(22)、ガイド配置(23)及び少なくとも1つの第1のセンサ(24)を備えた少なくとも1つの第1の測定配置(21)を有する測定ユニット(14)を準備するステップであって、前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)が前記測定ベース支持体(22)に配置されており、かつ前記ガイド配置(23)は前記台車フレーム(17)に配置されており、さらに前記測定ベース支持体(22)が前記ガイド配置(23)によって前記レール平面(13)それぞれに関して好ましくは垂直の方向づけにおいて、前記台車フレーム(17)に対して移動可能に案内される、ステップと、
-前記レール(2)に沿って前記測定台車(16)を移動させ、かつ少なくとも1つの前記レール(2)の少なくとも1つのレールヘッド(5)において表面状態を求める、ステップと、が実施され、
-前記レール(2)に沿って前記測定台車(16)が移動する間、前記測定ベース支持体(22)が、前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)を含めて、支持装置(26)によって少なくとも1つの前記レール(2)上に機械的に支持され、かつ
-前記測定台車(16)が移動する間、前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)が前記支持装置(26)によって、かつ前記レール(2)上の前記支持装置(26)のそれぞれの支持位置に関して、前記レール(2)の上方で常にあらかじめ定められた固定の間隔で案内される、方法において、
前記走行ホィール(18)が前記測定台車(16)の進行方向にそれぞれ対をなして相前後して前記測定台車(16)に配置されており、かつそれらによって第1の走行ホィールペア及び少なくとも1つの第2の走行ホィールペアが形成され、前記第1の走行ホィールペアが、前記測定台車(16)の前進移動方向において、互いに対して第1の軸線間隔(40)で配置され、かつ前記第2の走行ホィールペアが同じ方向において互いに対して第2の軸線間隔(41)で配置されること、及び、2つの前記軸線間隔(40、41)の互いに対する比率は、自然数を形成しないこと、を特徴とする方法。 - 前記測定ベース支持体(22)の前記支持装置(26)が、少なくとも1つの支持ホィール(31)によって形成される、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの支持ホィール(31)が玉軸受によって形成されており、かつ前記玉軸受の一周する外側の表面に、特にエラストマー材料から作製された、緩衝層(25)が設けられている、ことを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記測定台車(16)の前記走行ホィール(18)が、玉軸受によって形成され、かつ前記玉軸受の一周する外側の表面に、特にエラストマー材料から作製された、緩衝層(25)が設けられている、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 第1の前記軸線間隔(40)及び第2の前記軸線間隔(41)が、互いに対して少なくとも20%だけ異なるように選択される、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)によって、前記レール(2)の少なくとも1つにおける表面粗さが求められる、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 第1の前記測定配置(21)に少なくとも1つの第2のセンサ(27)が搭載されており、かつ前記測定台車(16)が前記レール(2)に沿って移動する間、前記少なくとも1つの第2のセンサ(27)によって、前記測定台車(16)の前記台車フレーム(17)に関する前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)の相対移動が求められる、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記測定台車(16)が前記レール(2)に沿って移動する間、前記測定台車(16)が移動した距離区間が、前記測定ユニット(14)の距離測定装置(28)によって求められる、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記測定ベース支持体(22)の前記支持装置(26)が、少なくとも1つの支持ホィール(31)によって形成されること、及び
前記距離測定装置(28)が、固有の距離測定ホィールにより、かつ/又は前記走行ホィール(18)の1つによって、かつ/又は前記支持装置(26)を形成する前記少なくとも1つの支持ホィール(31)によって、形成されるか又は定められる、ことを特徴とする請求項8に記載の方法。 - 前記測定ユニット(14)にさらに、少なくとも1つの第2の測定配置(29)が搭載され、かつ第2の前記測定配置(29)が前記第1の測定配置(21)と同様に構成されており、かつ2つの前記測定配置(21、29)によってそれぞれ、2つの前記レール(2)の少なくとも1つのものの表面状態が求められる、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記測定ユニット(14)によって求められた測定値が、評価装置(15)へ伝達されるか又は転送され、かつ前記測定値から評価又は測定レポートが生成される、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記表面状態を求めることが、少なくとも1つの前記レール(2)における加工プロセスに直接連続して実施される、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 敷設され、かつレール(2)によって形成される鉄道軌道(1)に沿って、少なくとも1つのレールヘッド(5)の、特にその走行面(10)の、表面状態を求める測定設備(19)であって、2つの前記レール(2)によって少なくとも1つのレール平面(13)が定められ、前記測定設備(19)が、
-台車フレーム(17)と、前記台車フレーム(17)に回転可能に支承された走行ホィール(18)と、を備えた測定台車(16)を有し、前記台車フレーム(17)が前記走行ホィール(18)によって、前記レール(2)の少なくとも1つの上に支持可能であり、かつ前記レール(2)に沿って移動可能であり、
-測定ベース支持体(22)、ガイド配置(23)及び少なくとも1つの第1のセンサ(24)を備えた少なくとも1つの第1の測定配置(21)を有する測定ユニット(14)を有し、前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)が前記測定ベース支持体(22)に配置されており、かつ前記ガイド配置(23)は前記台車フレーム(17)に配置されており、さらに前記測定ベース支持体(22)が前記ガイド配置(23)によって、前記レール平面(13)それぞれに関して好ましくは垂直の方向づけで、前記台車フレーム(17)に対して移動可能に案内されている、測定設備(19)であり、特に表面状態を求めるための請求項1から12のいずれか1項に記載の方法を実施するための、測定設備(19)であり、
-前記測定ベース支持体(22)が、前記表面状態を求めるための前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)と共に、支持装置(26)によって少なくとも1つの前記レール(2)上に機械的に支持可能であり、かつ
-前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)が、前記測定台車(16)が移動する間、前記支持装置(26)によって、かつ前記レール(2)上の前記支持装置(26)のそれぞれの支持位置に関して、前記レール(2)の上方で常にあらかじめ定められた固定の間隔で案内可能である、測定設備(19)において、
前記走行ホィール(18)が、前記測定台車(16)の進行方向の方向にそれぞれ対をなして相前後して前記測定台車(16)に配置されており、かつそれらによって第1の走行ホィールペア及び少なくとも1つの第2の走行ホィールペアが形成され、前記第1の走行ホィールペアが、前記測定台車(16)の進行方向において互いに対して第1の軸線間隔(40)で配置されており、かつ前記第2の走行ホィールペアが同じ方向において互いに対して第2の軸線間隔(41)で配置されていること、及び、2つの前記軸線間隔(40、41)の互いに対する比率は、自然数を形成しないこと、を特徴とする測定設備(19)。 - 前記支持装置(26)が、前記測定ベース支持体(22)のために少なくとも1つの支持ホィール(31)を有している、ことを特徴とする請求項13に記載の測定設備(19)。
- 前記少なくとも1つの支持ホィール(31)が玉軸受によって形成されており、かつ前記玉軸受の一周する外側の表面に、特にエラストマー材料から作製された、緩衝層(25)が設けられている、ことを特徴とする請求項14に記載の測定設備(19)。
- 前記測定台車(16)の前記走行ホィール(18)が、玉軸受によって形成され、かつ前記玉軸受の一周する外側の表面に、特にエラストマー材料から作製された、緩衝層(25)が設けられている、ことを特徴とする請求項13に記載の測定設備(19)。
- 第1の前記軸線間隔(40)及び第2の前記軸線間隔(41)が互いに対して少なくとも20%だけ異なるように選択されている、ことを特徴とする請求項13に記載の測定設備(19)。
- 前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)が、前記レール(2)の1つにおける表面粗さを求めるように構成されている、ことを特徴とする請求項13に記載の測定設備(19)。
- 前記第1の測定配置(21)が少なくとも1つの第2のセンサ(27)を有し、かつ前記少なくとも1つの第2のセンサ(27)が、前記レール(2)に沿って前記測定台車(16)が移動する間、前記測定台車(16)の前記台車フレーム(17)に関する前記少なくとも1つの第1のセンサ(24)の相対移動を求めるように、構成されている、ことを特徴とする請求項13に記載の測定設備(19)。
- 前記測定ユニット(14)がさらに距離測定装置(28)を有し、かつ前記距離測定装置(28)が、前記測定台車(16)が前記レール(2)に沿って移動する間に前記測定台車(16)が移動した距離区間を求めるように構成されている、ことを特徴とする請求項13に記載の測定設備(19)。
- 前記測定ユニット(14)がさらに少なくとも1つの第2の測定配置(29)を有し、かつ前記第2の測定配置(29)が前記第1の測定配置(21)と同様に構成されている、ことを特徴とする請求項13に記載の測定設備(19)。
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