JP7515604B2 - 手続型電子ビームリソグラフィ - Google Patents

Description

（関連出願の相互参照）
本願は、３５ Ｕ．Ｓ．Ｃ １１９（ｅ）に基づいて、２０２０年２月２６日に出願され、「ＰＲＯＣＥＤＵＲＡＬ ＥＬＥＣＴＲＯＮ ＢＥＡＭ ＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＹ」と題された、米国仮出願第６２／９８１，７５６号の優先権を主張するものである

（技術分野）
本開示は、自動リソグラフィに関する。

（背景）
電子ビームリソグラフィシステムに対する既存のソフトウェアインターフェースは、例えば、ＧＤＳまたはＯＡＳＩＳファイルの形態で、ユーザに、レイアウト全体のモノシリックトップダウン仕様を提供することを要求する。デザイナメタサーフェスの成熟フィールドは、完全に、非周期的および非マンハッタン幾何学形状を伴うことができる、非常に大きな面積のレイアウトを伴う。しかしながら、これらのレイアウトは、例えば、その大きなサイズおよび設計およびレイアウトに費やされる時間のために、使用が困難である。

（要約）
対称性の本明白な不足にもかかわらず、ほぼ全ての実際に関心を引くレイアウトは、数式によって表されることができる。したがって、ユーザ提供スクリプトから、パターンジェネレータフィールドをオンザフライで要求する、手続型電子ビームリソグラフィ（ＰＥＢＬ）が、本明細書で説明される。制御システムは、次いで、関連基礎数式から、局所露光設定を産出し得る。これは、データサイズだけではなく、設計およびレイアウトに費やされる時間に関して、桁違いに、レイアウトデータ準備の複雑性を低減し得る。本アプローチは、ナノ光学系を参照して、本明細書で議論されるが、これはまた、他の分野のユーザにも適用可能である。例えば、本明細書で議論されるシステムおよび方法は、大規模ホログラフィックパターン、照明設計のための拡散パターン、ＲＦおよびテラヘルツのためのアンテナ設計、ならびにさらに、サブレイアウトが、１つのモノシリックデータベースの代わりに動的に装填される、古典的なＩＣ設計を設計する際に使用され得る。

いくつかの実装では、本明細書で議論されるＰＥＢＬシステムは、テラバイト、ペタバイト（またはより大きい）サイズであるファイル内で、回折のためのパターンを分解、離散化、および実行するように構成され、これは、既存のＥＢＬシステムをクラッシュさせるであろう。例えば、既存のＥＢＬシステムが処理することのできない、（例えば、非定期、非反復、および／または非直線パターンと関連付けられる）大規模パターンファイルは、本明細書で議論されるＰＥＢＬシステムによって処理され得る。大規模パターンファイルと関連付けられ、本明細書で議論されるＰＥＢＬシステムによって処理され得る、あるパターンの一実施例は、メタサーフェスレンズである。

本例示的メタサーフェスレンズパターンは、結果として、１ｍｍレンズに対して約１００Ｍｂであり、５０ｍｍレンズに対して５００Ｇｂまたはそれを上回る、パターンファイルをもたらし得る。さらにより複雑なパターンに対しては、ファイルサイズは、容易に、テラバイトまたはペタバイトサイズにさえ到達し得る。
本発明は、例えば、以下を提供する。
（項目１）
コンピュータシステムであって、
あるパターンと関連付けられるオラクル関数を記憶する非一過性のコンピュータ可読記憶デバイスであって、前記オラクル関数は、基板の入力座標として受信するため、および前記基板の前記座標において電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムによって使用可能な制御データを含む、出力を提供するために実行可能である、非一過性のコンピュータ可読記憶デバイスと、
１つ以上のハードウェアコンピュータプロセッサを有する制御システムであって、前記制御システムは、基板上で生産されることになる、あるパターンの複数のフィールド毎に、
基板の複数の座標毎に、
基板の座標を判定することと、
前記基板の前記判定された座標を使用して、前記オラクル関数をコールすることと、
前記オラクル関数から、電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムの動作を制御するように構成される制御データを受信することと、
前記制御データをＥＢＬ駆動電子機器に伝送することと
を行うように構成される、制御システムと、
ＥＢＬ駆動電子機器であって、
前記制御データを受信することと、
前記制御データに基づいて、前記電子ビームリソグラフィの電流、電圧、ブランキング、またはステージ制御のうちの１つ以上を判定することと
を行うように構成される、ＥＢＬ駆動電子機器と
を備える、コンピュータシステム。
（項目２）
前記制御システムはさらに、前記パターンを表す断片化データを生成するように構成される、項目１に記載のコンピューティングシステム。
（項目３）
前記断片化データは、前記パターンの複数のフィールドを含む、項目２に記載のコンピューティングシステム。
（項目４）
前記駆動電子機器はさらに、前記制御システムに、前記制御データ内に示される電子ビームアクティビティのステータスを示すフィードバックを伝送するように構成される、項目１に記載のコンピューティングシステム。
（項目５）
前記制御システムは、前記駆動電子機器からのフィードバックに応答して、前記基板の次の座標を選択する、項目１に記載のコンピューティングシステム。
（項目６）
シミュレートされた制御データを生成し、前記パターンと関連付けられる、電子ビームアクティビティの性能をシミュレートするように構成される、シミュレーションモジュールをさらに備える、項目１に記載のコンピューティングシステム。
（項目７）
前記シミュレーションモジュールは、
前記基板の複数の座標毎に、
前記基板の座標を判定することと、
前記基板の前記判定された座標を使用して、前記オラクル関数をコールすることと、
前記オラクル関数から、電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムの動作を制御するように構成される制御データを受信することと、
前記受信された制御データと関連付けられる電子ビームアクティビティをシミュレートすることと
を行うように構成される、項目５に記載のコンピューティングシステム。
（項目８）
前記シミュレーションモジュールはさらに、前記制御システムにシミュレーションフィードバックを提供するように構成される、項目６に記載のコンピューティングシステム。
（項目９）
コンピューティングシステムによって実施されるコンピュータ化された方法であって、前記コンピューティングシステムは、１つ以上のハードウェアコンピュータプロセッサと、前記コンピュータ化された方法を実施するために前記コンピューティングシステムによって実行可能なソフトウェア命令を記憶する１つ以上の非一過性のコンピュータ可読記憶デバイスとを有し、前記コンピュータ化された方法は、
複数のフィールド内で、基板上に生成されることになる、あるパターンを分割することと、
前記複数のフィールド毎に、
前記基板の座標を判定することと、
前記基板の前記判定された座標を使用してオラクル関数を評価し、断片化データを生成することであって、前記オラクル関数は、電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムによって使用可能なオンザフライ制御データを提供するように構成される、ユーザ設計機能である、ことと、
少なくとも前記断片化データに基づいて、電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムの動作を制御するように構成される制御データを生成することであって、前記制御御データは、現在のフィールドにおいて、前記ＥＢＬの電流、電圧、ブランキング、またはステージ制御のうちの１つ以上を示す、ことと、
前記制御データを前記ＥＢＬシステムに伝送することと
を含む、コンピュータ化された方法。
（項目１０）
前記複数のフィールドの次フィールドの制御データは、前記ＥＢＬシステムが、前記現在のフィールドにおいて、前記制御データを実行する間に生成される、項目９に記載のコンピュータ化された方法。
（項目１１）
前記制御データは、１つ以上の付加的なフィールドのための制御データが生成されるまで、一時的にキャッシュされる、項目９に記載のコンピュータ化された方法。
（項目１２）
前記１つ以上の付加的なフィールドの数量は、前記パターンの複雑性に基づいて判定され、より複雑であるパターンは、より高い数量と関連付けられ、あまり複雑ではないパターンは、より低い数量と関連付けられる、項目９に記載のコンピュータ化された方法。
（項目１３）
２つ以上のフィールドのための前記制御データは、並行して生成される、項目９に記載のコンピュータ化された方法。

以下の図面および関連する説明は、本開示の実施形態を図示するために提供され、請求項の範囲を限定しない。特徴および要素の相対的な配置は、例証的明瞭性の目的のために修正されている場合がある。実際には、同一のまたは類似の参照番号は、１つ以上の実施形態に従って、同一のまたは類似のまたは同等の構造、特徴、側面、または要素を意味する。

本図面は、本開示の種々の実施形態の設計および実用性を図示する。数値は、必ずしも縮尺通りに描かれておらず、類似の構造または機能の各要素は、数値全体を通して、同様の参照数字によって表されることに留意されたい。これらの図面が、本開示の例示的実施形態のみを描写し、したがって、その範囲を限定すると見なされるべきではないことを理解した上で、本開示は、付随の図面の使用を通して、付加的な具体性および詳細とともに説明および解説されるであろう。

図１は、複数のフィールドを備える、分割パターンに分割されている、例示的完全パターンを図示する図である。

図２は、電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムを使用して、ウエハまたはレチクルマスクをパターン化するための一般的なワークフローを図示する、高レベル図である。

図３Ａは、ＰＥＢＬシステムにおいて利用可能であり得る、ベクトルスキャンモードおよびラスタスキャンモードを図示する。

図３Ｂは、格子状回折格子の例示的プロットである。

図３Ｃは、例示的パターンおよびそのパターンのフィールドを図示する。

図４Ａは、例えば、次元入力（例えば、ｘ、ｙ）を受信し、ビームブランキング、ビーム電流、および／またはウエハ上のその特定の点において使用されることになる他のデータ等の種々の制御データを出力する、オラクル関数を図示する。

図４Ｂは、その中で、ユーザ提供オラクル関数が、制御システム（例えば、制御コンピュータ）上に存在する、ＰＥＢＬシステムの例示的構成を図示する、ブロック図である。

図５は、ベクトルスキャンＰＥＢＬ実装の例示的構成を図示する、ブロック図である。

図６Ａは、略線形の細片を伴うパターンの例示的近似である。

図６Ｂは、非周期的格子状パターンの例示的近似である。

（詳細な説明）
（用語）
本明細書で議論されるシステムおよび方法の理解を促進するために、いくつかの用語が、下記に説明される。これらの用語だけではなく、本明細書で使用される他の用語は、提供される説明、用語の通常かつ慣習的な意味、および／または代表的な用語に対する任意の他の言外の意味を含み、そのような構築は、用語の文脈と一致すると解釈されるものとする。したがって、以下の説明は、これらの用語の意味を限定しないが、例示的説明を提供するのみである。

図形データベースシステム（ＧＤＳ）、オープンアートワークシステム交換標準（ＯＡＳＩＳ）、および製造電子ビーム露光システム（ＭＥＢＥＳ）は、典型的には、集積回路製造プロセスと関連付けられる、パターンを定義するために、コンピュータによって使用される言語の実施例である。これらの用語は、例えば、長方形、台形、および多角形等の幾何学的形状だけではなく、それぞれが有し得る性質のタイプを定義する、コード要件を定義する。これらのファイルフォーマットおよび他の類似のファイルフォーマットは、ベンダ間で、集積回路レイアウトデータの交換を可能にする。

メタサーフェス：天然物質が行うことができない方法で、光波と相互作用するように設計された構造。メタサーフェスは、数十億分の１メートル（ナノメートル）厚の層を含み、光の反射および透過を制御することができる、ナノスケールの光学的特徴（例えば、アンテナ）を含有してもよい。

（例示的電子ビームリソグラフィワークフロー）
図１は、分割パターン１０１Ｄにおいて図示される、各フィールド（本実施例では、例えば、２０×２０＝４００フィールド）に分割されている、例示的完全パターン１０１を図示する図である。

図２は、電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムを使用して、ウエハまたはレチクルマスクをパターン化するための一般的なワークフローを図示する、高レベル図である。図２で言及されるように、例えば、プロセスは、以下を含んでもよい。
・ユーザが、電子ビームによって露光されるべき、ウエハまたはレチクル全体の全ての面積を表す多角形を含有する、ＧＤＳ等のデータファイルを準備する。
・データファイルは、典型的には、断片化と呼ばれるプロセス内で、ＥＢＬシステムを駆動する、低レベルソフトウェアによって読み取られる、専用ファイルフォーマットに処理および変換される。本プロセスは、第三者ソフトウェア（例えば、Ｓｙｎｏｐｓｉｓ ＣＡＴＳまたはＧｅｎＩＳｙｓ Ｂｅａｍｅｒ）または専用ソフトウェアによって行われてもよい。データ操作は、ブール、近接効果補正、スケーリング、ヒーリング、およびトーン反転を含んでもよい。
・断片化プロセスの間、パターンは、書込フィールドに分割され、個々の各書込フィールドでは、全ての形状が、識別され、長方形または台形に断片化され、専用露光機械フォーマット出力に変換される。図１は、分割パターン１０１Ｄにおいて図示される、各フィールド（本実施例では、例えば、２０×２０＝４００フィールド）に分割されている、完全パターン１０１の実施例を図示する。
・断片化データは、ＥＢＬ制御コンピュータに送信される。例えば、各フィールド毎に、ベクトルラスタパターンが、ウエハ上のフィールド場所へのステージの移動を引き起こすために、生成されてもよい。
・ラスタパターンは、電子ビームを駆動する電子機器に送信され、ビームブランキングシステムが、ウエハの上へパターン全体を書き込むために使用されてもよい。

上記に言及されるように、レイアウトは、コアメモリ内に適合しない程度まで、より複雑になっており、おそらく、それらは、ハードドライブまたは磁気テープの上にも適合しない。

（例示的手続型電子ビームリソグラフィ）
上記に言及されるもの等、既存のリソグラフィ手順の技術的な欠陥に対処するために、その中に、パターンデータが手続的に生成される、手続型電子ビームリソグラフィ（ＰＥＢＬ）が、本明細書に説明される。本アプローチは、既存のＥＢＬワークフローに対して、完全に「下位互換性がある」ものであり得る。実際、いくつかの実施例では、ＰＥＢＬは、モノシリックレイアウトの表現力の上位集合であり得る。

スキャンモードに応じて、ＰＥＢＬは、少なくとも２つの異なる実装、すなわち、ラスタスキャンモードまたはベクトルスキャンモードを含んでもよい。例えば、図３Ａのブロック図に図示されるように、ベクトルスキャンモード３１０は、台形または長方形の中に、書込フィールド（例えば、図２の実施例では、４００フィールドのうちの１つ）内の全ての形状を断片化することを含んでもよい。これらのプリミティブな形状は、次いで、プリミティブ形状によって定義される、領域内にのみ、ビームを移動させることによって、書き込まれてもよい。代替として、ラスタスキャンモード３２０では、ビームは、全ての書込フィールドにおいてスキャンされ、パターンの外側領域においてブランキングされる。

これらのスキャンモードはそれぞれ、ＰＥＢＬの例示的実装を参照して、下記にさらに議論される。いずれのモードにおいても、パターンは、利用可能なスクリプト言語、例えば、パイソンによって、または特化された言語によって定義され得る。いくつかの実装では、書込並みの速さで、書込フィールドを作成するための計算能力は、付加的な特化されたコンピュータ（および／またはプロセッサまたはメモリ）を用いて改良され得る。

（ラスタスキャンモード）
ＥＢＬシステムは、限定されたビーム進行に起因して、一度に１つのフィールドの露光を実施し得る。したがって、ステージは、フィールドサイズ（例えば、約１ミリメートル）に対応するインクリメントずつ移動され、次いで、電子ビームが、ラスタスキャンを実施するにつれて、安定状態を保ち得る。ウエハ全体を露光するプロセスにおいて、露光されることになる次フィールドのためのデータのみが、任意の所与の時間で要求される。したがって、パターンデータの圧倒的多数は、任意の所与の時間で要求されず、次に予定されているフィールドに対して要求される部分が、一度のみ使用され、破棄される。加えて、１つのフィールド内にローカル接続される、データに対する任意の所望の修正は、典型的には、前もって実施され、レイアウト全体上で動作する。

先の観察結果に基づいて、本明細書で議論されるように、ＰＥＢＬワークフローは、一度に全てそれを記憶することの膨大な負担を回避するためだけではなく、表現を簡素化するために、要求されるとき、パターンデータを生成してもよい。既存のデータフォーマットは、それが、図形設計システム（「ＧＤＳ」またはＧＤＳＩＩ）、ＭＥＢＥＳ、オープンアートワークシステム交換標準（ＯＡＳＩＳ）、または他の専用フォーマットであるかどうかにかかわらず、その中で、露光される面積が、多角形によって表される、境界表現を使用する。

代替表現は、ウエハ（または他の基板）上の点の座標を入力とし、当該点に適用されるべきである、露光設定（例えば、ブランキング、ビーム電流等）を返す、「オラクル（ｏｒａｃｌｅ）」関数を提供することである。オラクル関数の基本的な実施例として、図３Ｂの例示的プロット等の、両方向にチャープされる格子状回折格子は、以下のように、Ｃコードにおいて表され得るであろう。
他の場所で言及されるように、オラクル関数は、種々の形態（例えば、プログラミング言語）で提供されてもよく、上記の実施例よりもはるかにより複雑な関数を実施する等、様々な程度に複雑であってもよい。

図３Ｃは、例示的パターン３３０およびそのパターン３３０のフィールド３３２を図示する。典型的なＥＢＬシステム内に存在し得る、データ記述および取扱困難の排除を通して、本明細書に開示されるＰＥＢＬシステムは、リアルタイムにパターンの特定のフィールドに対する露光設定を計算する、オラクル関数を使用するもの（またはさらに、下記にさらに議論されるような、いくつかのフィールドのための事前計算）等、電子ビームリソグラフィを使用して、複雑なパターンの構造化を可能にする。対照的に、既存のＥＢＬシステムは、小面積内にのみ、高分解能を提供し得、これは、要素ができる限り多く反復されるという要件を伴って、直線的であり得る。これらの要件は、必ずしも、本明細書で議論されるＰＥＢＬ技術を使用していない。

図４Ａは、例えば、次元入力（例えば、ｘ、ｙ）を受信し、ビームブランキング、ビーム電流、および／またはウエハ上のその特定の点において使用されることになる他のデータ等の種々の制御データを出力する、オラクル関数を図示する。オラクルを使用することによって、パターンデータは、ＥＢＬプロセスの開始に先立って、パターンデータ全体を生成するのではなく、オンザフライで（例えば、リアルタイムにまたは実質的にリアルタイムに）生成される。制御データの本オンザフライ生成は、任意複雑パターンデータが、ＥＢＬプロセスの一環として、一度に１つの点、または一度に１つのフィールドで、生成されることを可能にする。

図４Ｂは、その中で、ユーザ提供オラクル関数が、制御システム４１０（例えば、制御コンピュータ）上に存在する、ＰＥＢＬシステムの例示的構成を図示する、ブロック図である。本実施例では、パターンジェネレータ４２０は、制御システム４１０を伴って、（例えば、具体的パターンと関連付けられる）オラクル関数インターフェースを双方向的に実装し、電子ビームによってアドレス指定されている、現在の場所上に、フィードバックを提供してもよい。制御システム４１０は、オラクルを呼び出し、個々の点場所（例えば、個々のｘ、ｙ場所）におけるパターンをクエリしてもよい、および／またはこれは、例えば、ビームおよびステージポジショナによってアドレス指定されている、現在のフィールドに対応する面積にわたって、パターンをクエリしてもよい。有利なこととして、既存のＥＢＬ技術を活用することを可能にしながらも、本ＰＥＢＬ構成が、制御およびパターン生成を管理する間、低レベル駆動電子機器およびビーム列は、変更されないままであり得る。

（下位互換性）
有利なこととして、ＰＥＢＬ構成は、４Ｂにおける実施例等、包括的レイアウトファイルと（例えば、ＧＤＳファイルの形態で）互換性がある。例えば、（例えば、制御システム４１０およびパターンジェネレータ４２０によって提供される）オラクル関数は、レイアウトファイルを読み取り、現在の書込フィールド内で要求される部分をレンダリングするように構成されてもよい。

（同期化およびバッファ）
いくつかの実施形態では、ユーザ定義オラクルは、任意複雑であり得、そのため、オンザフライデータ生成は、データパイプラインを失速させ、低レベル駆動システムのデータを不足させ得る。これは、結果として、スループットの減少および書込時間の増加をもたらし得る。したがって、いくつかの実施形態では、ＰＥＢＬシステムは、必要に応じて、オラクルを呼び出すことを通して、パターン生成プロセスの一部または全体をシミュレートする、（ＰＥＢＬシステムの随意のコンポーネントとして図４Ｂ内に図示された）シミュレーションモジュール４２５を含み、例えば、駆動電子機器に対して新しい出力データが、利用不可能である、任意の時間的な隔たりを含め、パターン全体を書き込むために要求される時間の長さを判定してもよい。例えば、シミュレーションモジュール４２５は、パターンジェネレータに結合され、シミュレーションの間、駆動電子機器４３０と通信するパターンジェネレータではなく、パターンジェネレータ４２０と通信してもよい。いったんシミュレーションが、正常に実施される（例えば、パターンジェネレータからの出力間に隔たりが存在しない）と、パターン生成は、制御信号を駆動電子機器４３０に出力する、パターンジェネレータを用いて、再び実施され得る。

非常に長いオラクル計算が存在する場合等のいくつかの実施形態では、シミュレーションモジュール４２５は、駆動電子機器４３０と同様の様式等で、計算結果をバッファしてもよい。本バッファは、制御システム内に（例えば、シミュレーションモジュール内に）、付加的なメモリを要求するが、その量は、典型的には、一度にパターン全体を記憶するために要求されるであろうものよりも桁違いに少ない。いくつかの実装では、バッファは、書込前にレイアウトを完全に断片化することと、オンザフライで各フィールドを断片化することとの間のハイブリッドアプローチを使用して、実装されることができる。例えば、シミュレーションモジュール４２５は、電子機器を失速させることを防止するために必要に応じて、パターンジェネレータから出力され、それらの制御信号を駆動電子機器にフィードする、レイアウトの一部をバッファしてもよい。

（ベクトルスキャンモード）
上記に議論される、ラスタスキャンモードにおける動作と同様に、完全パターンのデータファイルは、一度に全て生成されないが、個々のフィールドが、スクリプトによって、オンザフライで生成される。いくつかの実装では、ベクトルスキャンモードは、より優れた側壁の平滑性、および典型的には、より優れた書込時間につながり得る、露光領域の境界内で、共形的に、より知的なスキャンが、所望される状況のために、（例えば、システムによって自動的に、またはユーザ入力によって手動で）選択されてもよい。ベクトルスキャンモードは、ベクトル経路の生成のため等、ラスタモードよりも多くの事前計算を要求し得る。

図５は、ベクトルスキャンＰＥＢＬ実装の例示的構成を図示する、ブロック図である。本実施形態では、前処理システム５０５は、個々のフィールドのための露光プログラムを生成するように構成される。例えば、前処理システム５０５は、フィールドｎ（例えば、現在のフィールド）、フィールドｎ＋１（次フィールド）、および任意の他の数のフィールド（例えば、フィールドｎ＋ｍ、式中、ｍは、並行して処理されるフィールドの数である）等、１つを上回るフィールドのための露光プログラムを並行して生成するように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、各フィールドは、基本形（例えば、台形および長方形）に断片化され、前処理システム５０５が、ＥＢＬ機械入力内でフィールドデータを変換する。（例えば、図５の実施例におけるフィールドｎ内のための）フィールドデータが、前処理システム５０５から制御システム５１０へ伝送され、次フィールド（例えば、フィールドｎ＋１）が、生成される一方、制御システム５１０、パターンジェネレータ５２０、および／または駆動電子機器５３０は、ステージをフィールド座標へ移動させ、ラスタパターンを生成し、サブフィールド補正を適用し、フィールドｎ内に形状を書き込む。本プロセスは、次いで、現在のフィールドが、制御システム５１０、パターンジェネレータ５２０、および／または駆動電子機器５３０によって処理されるにつれて、生成されていく、１つ以上の次フィールドのための露光プログラムを用いて、その後に続くフィールドを伴って繰り返される。いくつかの実施形態では、前処理システムは、スキャンの開始に先立って（例えばフィールドｎ露光プログラムを制御システム５１０に提供することに先立って）、いくつかのフィールドを生成してもよい。例えば、前処理システムは、パターンの複雑性を自動的に検出し、その複雑性に基づいて、スキャンの開始に先立って、計算するべきフィールドの適切なキャッシュを判定するように構成されてもよい。

いくつかの実施形態では、前処理システム５０５によって処理されている現在のフィールド（例えば、フィールドｎ）のために、ステージは、基板上の対応する場所へ移動され、各要素的形状に対して、ラスタパターンが、サブフィールド補正が適用されながら、生成される。フィールドが書き込まれる間、次フィールド（例えば、フィールドｎ＋１）は、その形状を台形および長方形に断片化し、ＥＢＬ機械入力内で変換し、ファイルを制御システムに転送すること等によって、生成される。したがって、ＥＢＬを用いたフィールドの書き込み、および別のフィールドの前処理（それが、書き込まれるために送信される前）のタスクは、パイプライン化され得る。（例えば、少なくとも部分的に並行して実施される）。すなわち、フィールドｎが書き込まれている間、フィールドｎ＋１は、事前処理されている。次いで、フィールドｎ＋１が書き込まれるであろうし、フィールドｎ＋２は、事前処理され得、そのように続く。

（近接効果）
いくつかの実施形態では、全体のパターンレイアウトは、ある時点で既知ではなく、したがって、近接効果のための補正は、先験的に適用されない場合がある。したがって、近接効果補正が所望される実施形態では、パターンデータの局所近傍が、駆動電子機器への出力に先立って、生成されてもよい。例えば、（例えば、図５のベクトルモードにおける）、一度に１つのデータのフィールドを生成する代わりに、フィールドの３×３グリッドが維持され、近接補正が、フィールド（例えば、各方向において生成される、近接フィールドを伴う、中央フィールド）の１つ以上に適用され得る。

（実施例パターン）
本明細書で議論される、ＰＥＢＬアーキテクチャを使用して、リアルタイムで生成され得るパターンの実施例として、一次で機能し、位相関数Ｆ（ｘ、ｙ）を与える、回折光学素子（ＤＯＥ）を検討する。その結果として生じる、書き込まれることになるパターンは、下式の領域に対応し、
ｆｒａｃ｛［Ｇ＋ｇｒａｄ Ｆ（ｘ，ｙ）］．（ｘ，ｙ）｝＜０．５
式中、Ｇは、基本回折格子に対応する、一定回折格子ベクトルであり、ｇｒａｄ Ｆ（ｘ、ｙ）は、位相関数の勾配ベクトルであり、ピリオド「．」は、２Ｄドット積を表し、ｆｒａｃ｛｝は、その計算結果（常に０と１の間にある値）の端数部分をとることを表す。本実施例では、任意の座標（ｘ、ｙ）を前提として、パターンが書き込まれるべきかどうかが、上記の不等式を評価することによって、判定され得る。この場合は、結果として、略直線の縞模様のシーケンスである、パターンをもたらす。例えば、ＧＤＳファイルを使用した本パターン表現は、扱いが容易であり得る。図６Ａは、本パターンの例示的近似である。

別の実施例として、略直角方向に、ともに多重化される、２つのそのようなＤＯＥを含むパターンを検討する。本場合では、２つの縞模様状のパターンのＸＯＲが、格子状パターンに類似する島を含む、パターンを生産するが、どこにも周期的なところはない（例えば、そのようなパターンの例示的近似である、図６Ｂ参照）。ＧＤＳファイルを使用して、そのようなパターンを表すことを試みることは、例えば、大面積にわたって扱いが困難であり得る。例えば、ＧＤＳファイルにおいて、各四角形領域は、多角形によって表され得る。回折構造のために、各多角形は、光の波長よりも小さい寸法を有してもよい。（例えば、可視光に関しては、これらのサイズは、１０～１０００ナノメートルの範囲内であり得る）。大面積回折光学素子に関しては、仮に眼鏡の場合、全体寸法は、センチメートルの規模であり得る。したがって、１００ｎｍを多角形のサイズとすると、次いで、回折光学レンズの１ｃｍパッチは、１００億個の多角形を要求するであろうし、ＧＤＳファイルは、約２テラバイトのサイズを有するであろう。これは、中程度のサイズの光学レンズにとって、非実践的に大量のデータである。

（付加的考慮点）
本明細書に説明される、および／または添付の図面に描写される、プロセス、方法、およびアルゴリズムはそれぞれ、具体的かつ特定のコンピュータ命令を実行するように構成される、１つ以上の物理的コンピューティングシステム、ハードウェアコンピュータプロセッサ、特定用途向け回路網、および／または電子ハードウェアによって実行されるコードモジュールの中で具現化され、それらによって、完全にまたは部分的に自動化されてもよい。例えば、コンピューティングシステムは、具体的なコンピュータ命令とともにプログラムされた、汎用コンピュータ（例えば、サーバ）、または特殊目的コンピュータ、特殊目的回路網等を含むことができる。コードモジュールは、実行可能プログラム内にコンパイルおよびリンクされ、動的リンクライブラリ内にインストールされてもよい、または解釈型プログラミング言語で書き込まれてもよい。いくつかの実装では、特定の動作および方法が、所与の機能に特有の回路網によって実施され得る。

さらに、本開示の機能性のある実装は、十分に数学的に、計算的に、または技術的に複雑であり、特定用途向けハードウェア、または（適切な特殊化された実行可能命令を使用する）１つ以上の物理的コンピューティングデバイスは、例えば、関連する計算の量または複雑性に起因して、その機能性を実施する、または実質的にリアルタイムに計算結果を提供する必要があり得る。例えば、動画または映像は、各フレームが、何百万ものピクセルを有する、多数のフレームを含んでもよく、具体的にプログラムされたコンピュータハードウェアは、商業的に妥当な時間で、所望の画像処理タスクまたはアプリケーションを提供するために、映像データを処理する必要がある。

本開示の種々の実施形態は、任意の可能性として考えられる技術的詳細レベルの統合における、システム、方法、および／またはコンピュータプログラム製品であってもよい。コンピュータプログラム製品は、プロセッサに本開示の側面を行わせるために、その上にコンピュータ可読プログラム命令を有する、コンピュータ可読記憶媒体（または複数の媒体）を含んでもよい。

例えば、本明細書に説明される機能性は、ソフトウェア命令が、１つ以上のハードウェアプロセッサおよび／または任意の他の好適なコンピューティングデバイスによって実行される、ソフトウェア命令によって、および／またはそれに応答して実行されるにつれて、実施されてもよい。ソフトウェア命令および／または他の実行可能コードは、コンピュータ可読記憶媒体（または複数の媒体）から読み取られてもよい。

コンピュータ可読記憶媒体は、命令実行デバイスによる使用のためのデータおよび／または命令を留保および記憶し得る、有形デバイスであることができる。コンピュータ可読記憶媒体は、例えば、限定ではないが、電子記憶デバイス（任意の揮発性および／または不揮発性電子記憶デバイスを含む）、磁気記憶デバイス、光学記憶デバイス、電磁記憶デバイス、半導体記憶デバイス、または前述の任意の好適な組み合わせであってもよい。コンピュータ可読記憶媒体のより具体的実施例の非包括的リストは、以下、すなわち、ポータブルコンピュータディスケット、ハードディスク、ソリッドステートドライブ、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、読取専用メモリ（ＲＯＭ）、消去可能プログラマブル読取専用メモリ（ＥＰＲＯＭまたはフラッシュメモリ）、静的ランダムアクセスメモリ（ＳＲＡＭ）、ポータブルコンパクトディスク読取専用メモリ（ＣＤ－ＲＯＭ）、デジタル多用途ディスク（ＤＶＤ）、メモリスティック、フロッピーディスク、その上に記録される命令を有する、パンチカードまたは溝内の隆起構造等の機械的にエンコーディングされたデバイス、および前述の任意の好適な組み合わせを含む。本明細書で使用されるようなコンピュータ可読記憶媒体は、無線波または他の自由に伝搬する電磁波、導波管または他の伝送媒体を通して伝搬する電磁波、（例えば、光ファイバケーブルを通して通過する、光パルス）、もしくはワイヤを通して伝送される電気信号等、それ自体が、一過性信号であるものとして解釈されない。

本明細書に説明されるコンピュータ可読プログラム命令は、コンピュータ可読記憶媒体から、個別のコンピューティング／処理デバイスに、もしくはネットワーク、例えば、インターネット、ローカルエリアネットワーク、広域ネットワーク、および／または無線ネットワークを介して、外部コンピュータもしくは外部記憶デバイスに、ダウンロードされることができる。ネットワークは、銅伝送ケーブル、光学伝送ファイバ、無線伝送、ルータ、ファイアウォール、スイッチ、ゲートウェイコンピュータ、および／またはエッジサーバを備えてもよい。各コンピューティング／処理デバイス内のネットワークアダプタカードまたはネットワークインターフェースは、コンピュータ可読プログラム命令をネットワークから受信し、個別のコンピューティング／処理デバイス内のコンピュータ可読記憶媒体の中への記憶のために、コンピュータ可読プログラム命令を転送する。

本開示の動作を行うためのコンピュータ可読プログラム命令（本明細書では、例えば、「コード」、「命令」、「モジュール」、「アプリケーション」、「ソフトウェアアプリケーション」、および／または同等物とも称される）は、アセンブラ命令、命令セットアーキテクチャ（ＩＳＡ）命令、機械命令、機械依存命令、マイクロコード、ファームウェア命令、状態設定データ、集積回路網のための構成データ、またはＪａｖａ（登録商標）、Ｃ＋＋、もしくは同等物等のオブジェクト指向プログラミング言語、および「Ｃ」プログラミング言語または類似プログラミング言語等の手続型プログラミング言語を含む、１つ以上のプログラミング言語の任意の組み合わせにおいて書き込まれる、ソースコードもしくはオブジェクトコードのいずれかであってもよい。コンピュータ可読プログラム命令は、他の命令から、またはそれ自体からコール可能であってもよい、ならびに／もしくは検出されたイベントまたはインタラプトに応答して呼び出されてもよい。コンピューティングデバイス上での実行のために構成される、コンピュータ可読プログラム命令は、コンピュータ可読記憶媒体上に、および／または、次いで、コンピュータ可読記憶媒体上に記憶され得る、デジタルダウンロードとして提供されてもよい（かつ、元々、実行に先立って、インストール、解凍、または解読を要求する、圧縮またはインストール可能フォーマットで記憶されてもよい）。そのようなコンピュータ可読プログラム命令は、部分的または完全に、コンピューティングデバイスによる実行のために、実行コンピューティングデバイスのメモリデバイス（例えば、コンピュータ可読記憶媒体）上に記憶されてもよい。コンピュータ可読プログラム命令は、ユーザのコンピュータ（例えば、実行コンピューティングデバイス）上で完全に、ユーザのコンピュータ上で部分的に、独立型ソフトウェアパッケージとして、ユーザのコンピュータ上で部分的に、かつ遠隔コンピュータ上で部分的に、もしくは遠隔コンピュータまたはサーバ上で完全に実行されてもよい。後者のシナリオでは、遠隔コンピュータは、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）または広域ネットワーク（ＷＡＮ）を含む、任意のタイプのネットワークを通して、ユーザのコンピュータに接続されてもよい、もしくは接続は、（例えば、インターネットサービスプロバイダを使用して、インターネットを通して）外部コンピュータに行われてもよい。いくつかの実施形態では、例えば、プログラマブル論理回路網、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、またはプログラマブル論理アレイ（ＰＬＡ）を含む、電子回路網は、本開示の側面を実施するために、コンピュータ可読プログラム命令の状態情報を利用して、電子回路網を個人化することによって、コンピュータ可読プログラム命令を実行してもよい。

本開示の側面は、本開示の実施形態による、方法、装置（システム）、およびコンピュータプログラム製品のフローチャート図および／またはブロック図を参照して本明細書に説明される。フローチャート図および／またはブロック図の各ブロック、ならびにフローチャート図および／またはブロック図内のブロックの組み合わせは、コンピュータ可読プログラム命令によって実装されることができることを理解されたい。

これらのコンピュータ可読プログラム命令は、コンピュータまたは他のプログラマブルデータ処理装置のプロセッサを介して実行される命令が、フローチャートならびに／もしくはブロック図のブロックまたは複数のブロック内に規定された機能／行為を実装するための手段を作成するように、汎用コンピュータ、特殊目的コンピュータ、または他のプログラマブルデータ処理装置のプロセッサに提供され、機械を生産してもよい。これらのコンピュータ可読プログラム命令はまた、その中に記憶される命令を有するコンピュータ可読記憶媒体が、フローチャートならびに／もしくはブロック図のブロックまたは複数のブロック内に規定された機能／行為の側面を実装する、命令を含む、製造品を備えるように、コンピュータ、プログラマブルデータ処理装置、および／または他のデバイスに、特定の様式において機能するように指示し得る、コンピュータ可読記憶媒体内に記憶されてもよい。

コンピュータ可読プログラム命令はまた、コンピュータ、他のプログラマブル装置、または他のデバイス上で実行される命令が、フローチャートならびに／もしくはブロック図のブロックまたは複数のブロック内に規定された機能／行為を実装するように、コンピュータ、他のプログラマブルデータ処理装置、または他のデバイス上にロードされ、一連の動作ステップをコンピュータ、他のプログラマブル装置、または他のデバイス上で実施させ、コンピュータ実装プロセスを生産してもよい。例えば、命令は、最初に、遠隔コンピュータの磁気ディスクまたはソリッドステートドライブ上で搬送されてもよい。遠隔コンピュータは、命令および／またはモジュールをその動的メモリの中にロードし、モデムを使用して、電話、ケーブル、または光学ラインを経由して、命令を送信してもよい。サーバコンピューティングシステムにローカル接続されるモデムは、データを電話／ケーブル／光学ライン上で受信し、適切な回路網を含む、コンバータデバイスを使用して、データをバス上に設置してもよい。バスは、データをメモリに搬送し、そこからプロセッサは、命令を読み出し、実行してもよい。メモリによって受信された命令は、随意に、コンピュータプロセッサによる実行の前または後のいずれかにおいて、記憶デバイス（例えば、ソリッドステートドライブ）上に記憶されてもよい。

図中のフローチャートおよびブロック図は、本開示の種々の実施形態による、システム、方法、およびコンピュータプログラム製品の可能性として考えられる実装のアーキテクチャ、機能性、および動作を図示する。本点では、フローチャートまたはブロック図内の各ブロックは、規定された論理機能を実装するための１つ以上の実行可能命令を備える、命令のモジュール、セグメント、または一部を表し得る。いくつかの代替実装では、ブロック内に記載される機能は、図中に記載の順序外で生じてもよい。例えば、連続して示される２つのブロックは、実際は、実質的に並行して実行されてもよい、またはブロックは、時として、関わる機能性に応じて、逆順で実行されてもよい。加えて、あるブロックは、いくつかの実装では、省略されてもよい。本明細書に説明される方法およびプロセスはまた、いずれの特定のシーケンスにも限定されず、それに関連するブロックまたは状態は、適切な他のシーケンスで実施されることができる。

また、ブロック図および／またはフローチャート図の各ブロック、ならびにブロック図および／またはフローチャート図内のブロックの組み合わせは、規定の機能または行為を実施する、もしくは特殊目的ハードウェアとコンピュータの命令の組み合わせを行う、特殊目的ハードウェアベースのシステムによって実装されることができることに留意されたい。例えば、前述の節において説明される、プロセス、方法、アルゴリズム、要素、ブロック、アプリケーション、または他の機能性（または機能性の一部）のいずれかは、特定用途向けプロセッサ（例えば、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ））、プログラマブルプロセッサ（例えば、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ））、特定用途向け回路網、および／または同等物（そのうちのいずれかはまた、その技法を遂行するために、カスタムされたハードワイヤード論理、論理回路、ＡＳＩＣ、ＦＰＧＡ等を、ソフトウェア命令のカスタムされたプログラミング／実行と組み合わせ得る）等の電子ハードウェア内で具現化され、および／またはそれを介して、完全にまたは部分的に自動化され得る。

上記で述べられたプロセッサおよび／または上記で述べられたプロセッサのいずれかを組み込むデバイスのいずれかは、本明細書では、例えば、「コンピュータ」、「コンピュータデバイス」、「コンピューティングデバイス」、「ハードウェアコンピューティングデバイス」、「ハードウェアプロセッサ」、「処理ユニット」、および／または同等物と称され得る。前述の実施形態のコンピューティングデバイスは、概して（必ずしもそうではないが）、Ｍａｃ ＯＳ、ｉＯＳ、Ａｎｄｒｏｉｄ、Ｃｈｒｏｍｅ ＯＳ、Ｗｉｎｄｏｗｓ（登録商標） ＯＳ（例えば、Ｗｉｎｄｏｗｓ ＸＰ、Ｗｉｎｄｏｗｓ Ｖｉｓｔａ、Ｗｉｎｄｏｗｓ ７、Ｗｉｎｄｏｗｓ ８、Ｗｉｎｄｏｗｓ １０、Ｗｉｎｄｏｗｓサーバ等）、Ｗｉｎｄｏｗｓ ＣＥ、Ｕｎｉｘ（登録商標）、Ｌｉｎｕｘ（登録商標）、ＳｕｎＯＳ、Ｓｏｌａｒｉｓ、Ｂｌａｃｋｂｅｒｒｙ（登録商標） ＯＳ、ＶｘＷｏｒｋｓ、または他の好適なオペレーティングシステム等のオペレーティングシステムソフトウェアによって制御および／または協調され得る。他の実施形態では、コンピューティングデバイスは、専用オペレーティングシステムによって制御され得る。従来のオペレーティングシステムは、とりわけ、実行のためのコンピュータプロセスを制御およびスケジュールし、メモリ管理を実施し、ファイルシステム、ネットワーク形成、Ｉ／Ｏサービスを提供し、グラフィカルユーザインターフェース（「ＧＵＩ」）等のユーザインターフェース機能性を提供する。

上記に説明されるように、種々の実施形態において、ある機能性は、ウェブベースのビューワ（ウェブブラウザ等）または他の好適なソフトウェアプログラムを通して、ユーザによってアクセス可能であり得る。そのような実装では、ユーザインターフェースは、サーバコンピューティングシステムによって生成され、（例えば、ユーザのコンピューティングシステム上で起動している）ユーザのウェブブラウザに伝送され得る。代替として、ユーザインターフェースを生成するために必要なデータ（例えば、ユーザインターフェースデータ）は、サーバコンピューティングシステムによって、ブラウザに提供されてもよく、そこで、ユーザインターフェースは、生成され得る（例えば、ユーザインターフェースデータは、ウェブサービスにアクセスするブラウザによって実行され得、ユーザインターフェースデータに基づいて、ユーザインターフェースをレンダリングするように構成され得る）。ユーザは、次いで、ウェブブラウザを通して、ユーザインターフェースと相互作用することができる。ある実装のユーザインターフェースは、１つ以上の特化されたソフトウェアアプリケーションを通して、アクセス可能であり得る。ある実施形態では、本開示のコンピューティングデバイスおよび／またはシステムのうちの１つ以上は、モバイルコンピューティングデバイスを含んでもよく、ユーザインターフェースは、そのようなモバイルコンピューティングデバイス（例えば、スマートフォンおよび／またはタブレット）を通してアクセス可能であり得る。

これらのコンピュータプログラムはまた、プログラム、ソフトウェア、ソフトウェアアプリケーション、アプリケーション、コンポーネント、またはコードとも称され得、プログラマブルコントローラ、プロセッサ、マイクロプロセッサ、もしくは他のコンピューティングまたはコンピュータ化されたアーキテクチャのための機械命令を含んでもよく、高水準手続型言語、オブジェクト指向プログラミング言語、関数型プログラミング言語、論理型プログラミング言語において、および／またはアセンブリ／機械言語において実装され得る。本明細書内で使用されるように、用語「機械読取可能媒体」は、例えば、磁気ディスク、光ディスク、メモリ、およびプログラマブル論理デバイス（ＰＬＤ）等の任意のコンピュータプログラム製品、装置、および／またはデバイスを指し、機械命令および／またはデータをプログラマブルプロセッサに提供するために使用され、機械読取可能信号として、機械命令を受信する、機械読取可能媒体を含む。用語「機械読取可能信号」は、機械命令および／またはデータをプログラマブルプロセッサに提供するために使用される、任意の信号を指す。機械読取可能媒体は、例えば、非一過性ソリッドステートメモリまたは磁気ハードディスクもしくは任意の同等の記憶媒体であろうように等、そのような機械命令を、非一過性的に記憶し得る。機械読取可能媒体は、代替として、または追加として、例えば、プロセッサキャッシュ、または１つ以上の物理的プロセッサコアと関連付けられる、他のランダムアクセスメモリであろうように等、一過性様式で、そのような機械命令を記憶する。

多くの変形例および修正が、上記に説明される実施形態に対して行われ得、その各要素は、他の容認可能な実施例の中に存在するものとして理解されるべきである。全てのそのような修正および変形例は、本開示の範囲内で、本明細書内に含まれるように意図されている。前述の説明は、ある実施形態を詳述する。しかしながら、本文において、前述がいかに詳細に現れていても、そのシステムおよび方法は、多くの方法で実践されることができることを理解されたい。また、上記に記述されるように、システムおよび方法のある特徴または側面を説明するときの、特定の専門用語の使用は、その専門用語が、その専門用語が関連付けられている、システムおよび方法の特徴または側面に関する、任意の具体的な特性を含むことに制限されるように、本明細書で再定義されていることを含意するように捉えられるべきでなないことに留意されたい。

とりわけ、「ｃａｎ（～できる）」、「ｃｏｕｌｄ（～できるであろう）」、「ｍｉｇｈｔ（～場合がある）」、または「ｍａｙ（～し得る）」等の条件付き用語は、具体的に別様に記述されない限り、または文脈内で使用されるものとして別様に理解されない限り、概して、ある実施形態は、ある特徴、要素、および／またはステップを含むが、他の実施形態は含まないことを伝達するように意図されている。したがって、そのような条件付き用語は、概して、特徴、要素、および／またはステップが、いかようにも、１つ以上の実施形態に対して要求されること、もしくは１つ以上の実施形態が、必ず、ユーザ入力またはプロンプトの有無にかかわらず、これらの特徴、要素、および／またはステップが含まれる、もしくは任意の特定の実施形態において実施されることになるかどうかを決定するための論理を含むことを意味するように含意されない。

用語「実質的に」は、用語「リアルタイム」と併せて使用されるとき、当業者によって容易に理解されるであろう語句を形成する。例えば、そのような用語が、全くまたは殆ど遅延もしくは待機が判別不能であるような、もしくはそのような遅延が、ユーザを憤慨させない、苛立たせない、または別様に悩ませないほどに十分に短い速さを含むであろうことが容易に理解される。

語句「Ｘ、Ｙ、およびＺのうちの少なくとも１つ」または「Ｘ、Ｙ、またはＺのうちの少なくとも１つ」等の接続的な用語は、具体的に別様に記述されない限り、一般に、ある項目、用語等が、Ｘ、Ｙ、またはＺのいずれか、もしくはその組み合わせであり得ることを伝達するために使用されるものとして、文脈とともに理解されることになる。例えば、用語「ｏｒ（または）」は、その包括的な意味で（排他的な意味ではなく）使用され、例えば、要素のリストを接続するために使用されるとき、用語「ｏｒ（または）」は、リスト内の要素のうちの１つ、いくつか、または全てを意味する。したがって、そのような接続的な用語は、概して、ある実施形態が、Ｘの少なくとも１つ、Ｙの少なくとも１つ、およびＺの少なくとも１つが、それぞれ存在することを要求することを含意するように意図されない。

本明細書内で使用されるような用語「ａ（ある）」は、排他的ではなく包括的な解釈を与えられるべきである。 例えば、別様に言及されない限り、用語「ａ（ある）」は、「正確に１つ」または「１つおよび１つのみ」を意味すると理解されるべきではなく、代わりに、用語「ａ（ある）」は、請求項内で、または明細書内の他の場所で使用されるかどうか、ならびに請求項または明細書内の他の場所で、「少なくとも１つ」、「１つ以上」、または「複数」等の数量詞の使用の有無にかかわらず、「１つ以上」または「少なくとも１つ」を意味する。

本明細書内で使用されるような用語「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ（～を備える）」は、排他的ではなく包括的な解釈を与えられるべきである。例えば、１つ以上のプロセッサを備える汎用コンピュータは、他のコンピュータコンポーネントを排除するものとして解釈されるべきでなはく、とりわけ、メモリ、入力／出力デバイス、および／またはネットワークインターフェース等のコンポーネントを、場合によっては含み得る。

「ｆｏｒｗａｒｄ（前方へ）」、「ｒｅａｒｗａｒｄ（後方へ）」、「ｕｎｄｅｒ（下に）」、「ｂｅｌｏｗ（下方に）」、「ｌｏｗｅｒ（下側）」、「ｏｖｅｒ（上方に）」、「ｕｐｐｅｒ（上側）」、および同等語等の空間関連用語は、本明細書では、図に図示されるように、ある要素または特徴と別の要素または特徴との関係を説明するために、説明の容易性のために使用され得る。空間関連用語は、図に描写される方向性に加えて、使用または動作中のデバイスの異なる方向性を網羅するように意図されることを理解されたい。例えば、図の中のデバイスが反転されると、他の要素または特徴の「ｕｎｄｅｒ（下に）」または「ｂｅｎｅａｔｈ（真下に）」として説明される要素は、次いで、反転状態のため、他の要素または特徴の「ｏｖｅｒ（上方に）」位置に置かれるであろう。したがって、用語「ｕｎｄｅｒ（下に）」は、参照点または方向性に応じて、「上方に」と「下に」の両方の方向性を網羅し得る。デバイスは、別様に配向され得（９０度または他の方向に回転される）、本明細書で使用される空間関連記述子は、状況に応じて解釈される。同様に、用語「ｕｐｗａｒｄｌｙ（上方へ）」、「ｄｏｗｎｗａｒｄｌｙ（下方へ）」、「ｖｅｒｔｉｃａｌ（垂直な）」、「ｈｏｒｉｚｏｎｔａｌ（水平な）」、および同等語は、具体的に別様に示されない限り、本明細書では、説明の目的のためのみに使用され得る。

用語「ｆｉｒｓｔ（第１の）」および「ｓｅｃｏｎｄ（第２の）」は、種々の特徴／要素（ステップまたはプロセスを含む）を説明するために、本明細書で使用され得るが、これらの特徴／要素は、別様に文脈が指示しない限り、その特徴／要素の序列の指示として、もしくは一方が、他方よりも順位が上位である、またはより重要であるかどうかにかかわらず、これらの用語によって限定されるべきではない。これらの用語は、ある特徴／要素を別の特徴／要素と区別するために使用されてもよい。したがって、本明細書に提供される教示から逸脱することなく、議論される第１の特徴／要素が、第２の特徴／要素と称され得、同様に、後に議論される第２の特徴／要素が、第１の特徴／要素と称され得る。

実施例において使用されるものも含め、明細書および請求項において本明細書で使用されるように、別様に明示的に規定されない限り、全ての数字は、たとえ、用語が明示的に現れない場合においても、単語「ａｂｏｕｔ（約）」または「ａｐｐｒｏｘｉｍａｔｅｌｙ（およそ）」によって前置きされている場合と同様に、読まれてもよい。語句「ａｂｏｕｔ（約）」または「ａｐｐｒｏｘｉｍａｔｅｌｙ（およそ）」は、大きさおよび／または位置を説明するときに使用され得、説明される値および／または位置が、合理的な予期される範囲の値および／または位置の中にあることを示す。例えば、数値は、記述された値（または値の範囲）の＋／－０．１％、記述された値（または値の範囲）の＋／－１％、（または値の範囲）記述された値の＋／－２％、記述された値（または値の範囲）の＋／－５％、（または値の範囲）記述された値の＋／－１０％等である値を有し得る。本明細書で与えられる任意の数値はまた、別様に文脈が指示しない限り、約またはおよそのその値を含むことを理解されたい。

例えば、値「１０」が開示される場合、「約１０」もた、開示される。本明細書で列挙される任意の数値範囲は、その中に組み込まれる全ての下位領域を含むことが意図される。また、ある値が開示されるとき、当業者によって適切に理解されるように、その値「よりも小さいまたは等しい値」、「その値よりも大きいまたは等しい値」、および各値の間の可能性として考えられる範囲もまた、開示されることを理解されたい。例えば、値Ｘが開示されるとき、「Ｘより小さいまたは等しい値」だけではなく「Ｘよりも大きいまたは等しい値」（例えば、Ｘは、数値である）もまた、開示される。また、本願全体を通して、データは、いくつかの異なるフォーマットで提供され、本データは、終点または始点およびデータ点の任意の組み合わせのための範囲を表し得ることを理解されたい。例えば、特定のデータ点「１０」および特定のデータ点「１５」が、開示され得る場合、１０および１５より大きい、より大きいまたは等しい、より小さい、より小さいまたは等しい、および等しいデータ点だけではなく、１０と１５の間のデータ点も、開示されると見なされ得ることを理解されたい。また、２つの特定の単位間の各単位もまた、開示され得ることを理解されたい。例えば、１０および１５が開示され得る場合、１１、１２、１３、および１４もまた、開示され得る。

種々の例示的実施形態が開示されてきたが、任意のいくつかの変更のいずれかは、本明細書の教示から逸脱することなく、種々の実施形態に対して行われ得る。例えば、種々の説明される方法ステップが実施される順序は、異なるまたは代替の実施形態において、変更または再構成され得、他の実施形態では、１つ以上の方法ステップが、全部省略され得る。種々のデバイスおよびシステムの実施形態の随意のまたは望ましい特徴は、いくつかの実施形態に含まれ得るが、他の実施形態には含められ得ない。したがって、前述の説明は、主に、実施例の目的のために提供され、請求項の範囲および具体的実施例または開示される特定の詳細または特徴を限定するものとして解釈されるべきではない。

同様に、動作は、特定の順序において図面に描写され得るが、そのような動作は、望ましい結果を達成するために、示される特定の順序または順次順序で実施される、または全ての図示される動作が、実施される必要がないことを認識されたい。さらに、図面は、フローチャートの形態における１つ以上の例示的プロセスを図式的に描写し得る。しかしながら、描写されない他の動作も、図式的に図示される、例示的方法およびプロセス内に組み込まれることができる。例えば、１つ以上の付加的動作が、図示される動作のいずれかの前、後、それと同時に、またはその間に実施されることができる。加えて、動作は、他の実装では、再配列される、または並べ替えられてもよい。ある状況では、マルチタスクおよび並列処理が、有利であり得る。さらに、上記に説明される実装における種々のシステムコンポーネントの分離は、そのような分離を全ての実装において要求するものと理解されるべきではなく、説明されるプログラムコンポーネントおよびシステムは、概して、単一ソフトウェア製品内にともに統合される、または複数のソフトウェア製品の中にパッケージ化されることができることを理解されたい。加えて、他の実装も、以下の請求項の範囲内である。ある場合には、請求項に列挙されるアクションは、異なる順序で実施され、依然として、望ましい結果を達成することができる。

上記の詳細な説明は、種々の実施形態に適用されるような新規特徴を図示、説明、および指摘しているが、図示されるデバイスまたはプロセスの形態および詳細における種々の省略、代用、および変更が、本開示の精神から逸脱することなく行われてもよいことを理解されたい。認識され得るように、本明細書に説明される本発明のある実施形態は、本明細書に記載される特徴および利点の全てを提供しない、形態内に具現化されてもよく、いくつかの特徴は、その他と別個に使用または実践されてもよい。本明細書に開示されるいくつかの発明の範囲は、前述の説明によってではなく、添付の請求項によって示される。請求項の等価性の意味および範囲内に該当する、全ての変更は、その範囲内に包含されるべきである。

Claims (13)

1. コンピュータシステムであって、
   基板上に生産されることになるパターンと関連付けられるオラクル関数を記憶する非一過性のコンピュータ可読記憶デバイスであって、前記オラクル関数は、前記基板の入力座標として受信するため、および前記基板の前記座標において電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムによって使用可能な、露光設定を含む制御データを含む、出力を提供し、前記電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムによって使用可能なオンザフライ露光設定を提供し、前記パターンを生産するために実行可能である、非一過性のコンピュータ可読記憶デバイスと、
   １つ以上のハードウェアコンピュータプロセッサを有する制御システムであって、前記制御システムは、
   前記基板上に生産されることになる前記パターンを複数のフィールドに分割することと、
   前記複数のフィールド毎に、
   前記基板の複数の座標毎に、
   前記基板の座標を判定することと、
   前記基板の前記判定された座標を使用して、前記オラクル関数をコールすることと、
   前記オラクル関数から、露光設定を含む制御データを受信することであって、前記制御データは、電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムの動作を制御するように構成される、ことと、
   前記制御データをＥＢＬ駆動電子機器に伝送することと
   を行うように構成される、制御システムと、
   ＥＢＬ駆動電子機器であって、
   前記制御データを受信することと、
   前記制御データに基づいて、前記電子ビームリソグラフィの電流、電圧、ブランキング、またはステージ制御のうちの１つ以上を判定することと
   を行うように構成される、ＥＢＬ駆動電子機器と
   を備える、コンピュータシステム。
2. 前記制御システムは、前記パターンを表す断片化データを生成するようにさらに構成される、請求項１に記載のコンピューティングシステム。
3. 前記断片化データは、前記パターンの複数のフィールドを含む、請求項２に記載のコンピューティングシステム。
4. 前記駆動電子機器は、前記制御システムに、前記制御データによって制御される電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムの動作のステータスを示すフィードバックを伝送するようにさらに構成される、請求項１に記載のコンピューティングシステム。
5. 前記制御システムは、前記駆動電子機器からのフィードバックに応答して、前記基板の次の座標を選択する、請求項１に記載のコンピューティングシステム。
6. シミュレートされた制御データを生成し、前記パターンを生成するプロセスの少なくとも一部をシミュレートするように構成されるシミュレーションモジュールをさらに備える、請求項１に記載のコンピューティングシステム。
7. 前記シミュレーションモジュールは、
   前記基板の複数の座標毎に、
   前記基板の座標を判定することと、
   前記基板の前記判定された座標を使用して、前記オラクル関数をコールすることと、
   前記オラクル関数から、電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムの動作を制御するように構成される制御データを受信することと、
   前記受信された制御データを用いて、前記パターンを生成するプロセスの少なくとも一部をシミュレートすることと
   を行うように構成される、請求項６に記載のコンピューティングシステム。
8. 前記シミュレーションモジュールは、前記制御システムにシミュレーションフィードバックを提供するようにさらに構成される、請求項７に記載のコンピューティングシステム。
9. コンピューティングシステムによって実施されるコンピュータ化された方法であって、前記コンピューティングシステムは、１つ以上のハードウェアコンピュータプロセッサと、前記コンピュータ化された方法を実施するために前記コンピューティングシステムによって実行可能なソフトウェア命令を記憶する１つ以上の非一過性のコンピュータ可読記憶デバイスとを有し、前記コンピュータ化された方法は、
   基板上に生成されることになるパターンを複数のフィールドに分割することと、
   前記複数のフィールド毎に、
   前記基板の複数の座標毎に、
   前記基板の座標を判定することと、
   前記基板の前記判定された座標を使用してオラクル関数を評価し、断片化データを生成することであって、前記オラクル関数は、前記パターンを生産するために、電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムによって使用可能な、露光設定を含むオンザフライ制御データを提供するように構成される、ユーザ設計機能である、ことと、
   少なくとも前記断片化データに基づいて、露光設定を含む前記オンザフライ制御データを生成することであって、前記制御データは、前記パターンを生産するために、前記電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）システムの動作を制御するように構成され、前記制御データは、現在のフィールドにおいて、前記ＥＢＬの電流、電圧、ブランキング、またはステージ制御のうちの１つ以上を示す、ことと、
   前記制御データを前記ＥＢＬシステムに伝送することと
   を含む、コンピュータ化された方法。
10. 前記複数のフィールドの次フィールドの制御データは、前記ＥＢＬシステムが、前記現在のフィールドにおいて、前記制御データを実行する間に生成される、請求項９に記載のコンピュータ化された方法。
11. 前記制御データは、１つ以上の付加的なフィールドのための制御データが生成されるまで、一時的にキャッシュされる、請求項９に記載のコンピュータ化された方法。
12. 前記１つ以上の付加的なフィールドの数量は、前記パターンの複雑性に基づいて判定され、より複雑であるパターンは、より高い数量と関連付けられ、あまり複雑ではないパターンは、より低い数量と関連付けられる、請求項１１に記載のコンピュータ化された方法。
13. ２つ以上のフィールドのための前記制御データは、並行して生成される、請求項９に記載のコンピュータ化された方法。

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