JP7520672B2 - 自動分析装置、治具及び自動分析装置の校正方法 - Google Patents

Description

本明細書及び図面に開示の実施形態は、自動分析装置、治具及び自動分析装置の校正方法に関する。

臨床検査用の自動分析装置では、反応ディスクに挿入されたキュベット内で血液及び尿等の生体試料（以下、試料と称する）と試薬とを一定量混合して反応させ、この混合液に光を当てて得られる透過光又は散乱光の光量を測定する。これにより、測定対象物質の濃度、活性値、変化に掛かる時間等を求めている。測光ユニットの経年劣化により、光量調整やゲインの調整を行う必要がある。光量調整やゲインの調整を手動で行う場合、測光ユニットの光量調整やゲインの調整には時間がかかる。

また、自動分析装置を用いて凝固測定を行う場合、測光時間の都合により一つの検体に対して一組の測光ユニットが必要となる。このため、複数の検体を同時に扱う場合には、検体の数と同数の測光ユニットが必要となる。このような自動分析装置では、装置の出荷時に、測定精度を確保するため測光ユニットのそれぞれに対する光量調整やゲインの調整を行うことにより、測光ユニットを校正することが必要となる。このため、測光ユニットの数が増えるほど、光量調整やゲインの調整が難しくなり、調整にかかる時間が増加する。また、測光ユニットの数が増えるほど、システムとしての安定的な調整が難しくなる。

特許６２０８３５６号公報

本明細書及び図面に開示の実施形態が解決しようとする課題の一つは、測光ユニットに対する光量調整又はゲインの調整の精度を向上させることである。ただし、本明細書及び図面に開示の実施形態により解決しようとする課題は上記課題に限られない。後述する実施形態に示す各構成による各効果に対応する課題を他の課題として位置づけることもできる。

実施形態に係る自動分析装置は、保持部と、測光部と、調整部と、を備える。保持部は、反応管を載置するための複数の載置部を有する。測光部は、前記反応管内の溶液を測光する。測光部は、前記複数の載置部にそれぞれ設けられた複数の発光部及び複数の第１の受光部を有する。調整部は、前記複数の発光部から発生され、前記複数の載置部各々に挿入された治具により導かれた光を受光する単一の第２の受光部からの複数の光量信号に基づいて、前記複数の発光部の光量を調整する。

図１は、第１の実施形態に係る自動分析装置の機能構成を示すブロック図である。 図２は、第１の実施形態に係る自動分析装置の構成の一例を示す模式図である。 図３は、第１の実施形態に係る自動分析装置の保持部に反応菅が保持された状態を保持部の上側から見た模式図である。 図４は、第１の実施形態に係る自動分析装置における保持部に反応菅が保持された状態を示す断面図である。 図５は、第１の実施形態に係る自動分析装置に用いられる治具の構成の一例を示す図である。 図６は、第１の実施形態に係る自動分析装置の保持部に治具が保持された状態を保持部の上側から見た模式図である。 図７は、第１の実施形態に係る自動分析装置における保持部に治具が保持された状態を示す断面図である。 図８は、第１の実施形態に係る自動分析装置による光量調整処理の処理手順を例示するフローチャートである。 図９は、第１の実施形態の変形例に係る自動分析装置に用いられる治具の構成の一例を示す図である。 図１０は、第１の実施形態の変形例に係る自動分析装置における保持部に治具が保持された状態を示す断面図である。 図１１は、第２の実施形態に係る自動分析装置における保持部に治具が保持された状態を示す断面図である。 図１２は、第２の実施形態に係る自動分析装置による光量調整処理の処理手順を例示するフローチャートである。 図１３は、第２の実施形態の変形例に係る自動分析装置における保持部に治具が保持された状態を示す断面図である。 図１４は、第３の実施形態に係る自動分析装置における保持部に治具が保持された状態を示す断面図である。 図１５は、第４の実施形態に係る自動分析装置における保持部に治具が保持された状態を示す断面図である。

以下、図面を参照して各実施形態について説明する。

（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係る自動分析装置１の機能構成を示すブロック図である。自動分析装置１は、反応管に挿入された試料と試薬との反応に関する指標を測定し、測定した指標に基づいて試料の物性値を算出する。

自動分析装置１は、分析機構２、解析回路３、駆動機構４、入力インタフェース５、出力インタフェース６、通信インタフェース７、記憶回路８、制御回路９、及び調整機構１６を備える。

分析機構２は、試料と試薬との混合液を保持する反応管を支持し、反応管内の混合液に関する指標を測定する。以下、反応管としてキュベット７０が用いられる例について説明する。混合液に関する指標は、例えば、試料の物性値である。分析機構２は、例えば、血液又は尿等の試料と、各検査項目で用いられる試薬とを混合する。また、分析機構２は、検査項目によっては、所定の倍率で希釈した標準液と、この検査項目で用いられる試薬とを混合する。分析機構２は、試料、又は標準液と、試薬との混合液の光学的な物性値を連続的に測定する。この測定により、例えば、透過光強度、又は吸光度、及び散乱光強度等で表される標準データ、及び被検データが生成される。分析機構２は、分析部の一例である。

解析回路３は、分析機構２により生成される標準データ、及び被検データを解析することで、検量データ、及び分析データを生成するプロセッサである。解析回路３は、例えば、記憶回路８から解析プログラムを読み出し、読み出した解析プログラムに従って標準データ、及び被検データを解析する。なお、解析回路３は、記憶回路８で記憶されているデータの少なくとも一部を記憶する記憶領域を備えても構わない。

駆動機構４は、制御回路９の制御に従い、分析機構２を駆動させる。駆動機構４は、例えば、ギア、ステッピングモータ、ベルトコンベア、及びリードスクリュー等により実現される。

入力インタフェース５は、例えば、操作者から、又は病院内ネットワークＮＷを介して、測定を依頼された試料に係る各検査項目の分析パラメータ等の設定を受け付ける。入力インタフェース５は、例えば、マウス、キーボード、及び、操作面へ触れることで指示が入力されるタッチパッド等により実現される。入力インタフェース５は、制御回路９に接続され、操作者から入力される操作指示を電気信号へ変換し、電気信号を制御回路９へ出力する。なお、本明細書において入力インタフェース５はマウス、及びキーボード等の物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、自動分析装置１とは別体に設けられた外部の入力機器から入力される操作指示に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を制御回路９へ出力する電気信号の処理回路も入力インタフェース５の例に含まれる。

出力インタフェース６は、制御回路９に接続され、制御回路９から供給される信号を出力する。出力インタフェース６は、例えば、表示回路、印刷回路、及び音声デバイス等により実現される。表示回路には、例えば、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等が含まれる。なお、表示対象を表すデータをビデオ信号に変換し、ビデオ信号を外部へ出力する処理回路も表示回路に含まれる。印刷回路は、例えば、プリンタ等を含む。なお、印刷対象を表すデータを外部へ出力する出力回路も印刷回路に含まれる。音声デバイスは、例えば、スピーカ等を含む。なお、音声信号を外部へ出力する出力回路も音声デバイスに含まれる。

通信インタフェース７は、例えば、病院内ネットワークＮＷと接続する。通信インタフェース７は、病院内ネットワークＮＷを介してＨＩＳ（Hospital Information System）とデータ通信を行う。なお、通信インタフェース７は、病院内ネットワークＮＷと接続する検査部門システム（Laboratory Information System:ＬＩＳ）を介してＨＩＳとデータ通信を行っても構わない。

記憶回路８は、磁気的、若しくは光学的記憶媒体、又は半導体メモリ等の、プロセッサにより読み取り可能な記憶媒体等を含む。なお、記憶回路８は、必ずしも単一の記憶装置により実現される必要は無い。例えば、記憶回路８は、複数の記憶装置により実現されても構わない。

記憶回路８は、解析回路３で実行される解析プログラム、及び制御回路９に備わる機能を実現するための制御プログラムを記憶している。記憶回路８は、解析回路３により生成される検量データを検査項目毎に記憶する。記憶回路８は、解析回路３により生成される分析データを試料毎に記憶する。記憶回路８は、操作者から入力された検査オーダ、又は通信インタフェース７が病院内ネットワークＮＷを介して受信した検査オーダを記憶する。

制御回路９は、自動分析装置１の中枢として機能し、自動分析装置１全体の動作を制御する。制御回路９は、記憶回路８に記憶されているプログラムを実行することで、実行したプログラムに対応する機能を実現する。制御回路９は、記憶回路８内のプログラムを呼び出し実行することにより、システム制御機能９１、及び調整機能９２を実行するプロセッサである。なお、制御回路９は、記憶回路８で記憶されているデータの少なくとも一部を記憶する記憶領域を備えても構わない。

制御回路９は、システム制御機能９１により、入力インタフェース５から入力される入力情報に基づき、自動分析装置１における各部を統括して制御する。例えば、システム制御機能９１において制御回路９は、検査を迅速に行うように駆動機構４及び分析機構２を制御すると共に、検査項目に応じた解析を実施するように解析回路３を制御する。

制御回路９は、調整機能９２により、後述の複数の発光部６１の光量を調整する。調整機能９２を実現する制御回路９は、調整部の一例である。調整機能９２については、後述する。

図２は、自動分析装置１の構成の一例を示す模式図である。分析機構２は、反応ディスク２０１、恒温部２０２、ラックサンプラ２０３、及び試薬庫２０４を備える。

反応ディスク２０１は、反応管を載置するための複数の載置部を有する。また、反応ディスク２０１は、キュベット７０を所定の経路に沿って搬送する。反応ディスク２０１は、保持部の一例である。

具体的には、反応ディスク２０１は、複数の載置部として、複数のスロット２０１１を備える。また、反応ディスク２０１は、鉛直方向に平行な回転軸Ｒを中心として回転可能である。複数のスロット２０１１は、反応ディスク２０１の回転軸Ｒを中心とする周方向に沿って並べて配置されている。複数のスロット２０１１のそれぞれは、反応ディスク２０１の上面から下側へ向かって凹んだ溝である。スロット２０１１のそれぞれは、反応菅として、キュベット７０が挿入されることにより、１つのキュベット７０を保持する。これにより、反応ディスク２０１は、複数のキュベット７０を、環状に配列させて保持する。反応ディスク２０１にキュベット７０が保持された状態で、駆動機構４により、既定の時間間隔で回転と停止とが交互に繰り返されることにより、反応ディスク２０１は、保持するキュベット７０を搬送する。

恒温部２０２は、所定の温度に設定された熱媒体を貯留し、貯留する熱媒体にキュベット７０を浸漬させることで、キュベット７０に収容される混合液を昇温する。

ラックサンプラ２０３は、測定を依頼された試料を収容する複数の試料容器を保持可能な試料ラック２０３１を、移動可能に支持する。図２に示す例では、５本の試料容器を並列して保持可能な試料ラック２０３１が示されている。

ラックサンプラ２０３には、試料ラック２０３１が投入される投入位置から、測定が完了した試料ラック２０３１を回収する回収位置まで試料ラック２０３１を搬送する搬送領域が設けられている。搬送領域では、長手方向に整列された複数の試料ラック２０３１が、駆動機構４により、方向Ｄ１へ移動される。

また、ラックサンプラ２０３には、試料ラック２０３１で保持される試料容器を所定のサンプル吸引位置へ移動させるため、試料ラック２０３１を搬送領域から引き込む引き込み領域が設けられている。サンプル吸引位置は、例えば、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道と、ラックサンプラ２０３で支持されて試料ラック２０３１で保持される試料容器の開口部の移動軌道とが交差する位置に設けられる。引き込み領域では、搬送されてきた試料ラック２０３１が、駆動機構４により、方向Ｄ２へ移動される。

また、ラックサンプラ２０３には、試料が吸引された試料容器を保持する試料ラック２０３１を搬送領域へ戻すための戻し領域が設けられている。戻し領域では、試料ラック２０３１が、駆動機構４により、方向Ｄ３へ移動される。

試薬庫２０４は、標準液、及び試料に対して実施される各検査項目で用いられる試薬等を収容する試薬容器１００を複数保冷する。試薬庫２０４は、試薬庫カバー２０４１と、筐体２０４２とを備える。試薬庫２０４は、着脱自在な試薬庫カバー２０４１により覆われている。筐体２０４２内には、回転テーブルが回転自在に設けられている。回転テーブルは、複数の試薬容器１００を円環状に載置して保持する。試薬容器１００は、例えば、柱状のガラス製の容器である。より具体的には、試薬容器１００は、円柱状、又は所定の円筒内に収容可能な多角柱形状のガラス製の容器である。試薬庫２０４は、例えば、自動分析装置１の機能が停止している場合（例えば、自動分析装置１の電源は入っているが作動していない状態（アイドル状態）や自動分析装置１の電源がオフになっている状態）であっても、常に保冷されている。尚、試薬庫２０４の具体的な構成は後述される。

また、図２に示される分析機構２は、サンプル分注アーム２０６、サンプル分注プローブ２０７、試薬分注アーム２０８、試薬分注プローブ２０９、及び測光ユニット６０を備える。

サンプル分注アーム２０６は、反応ディスク２０１とラックサンプラ２０３との間に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、一端にサンプル分注プローブ２０７を保持する。

サンプル分注プローブ２０７は、サンプル分注アーム２０６の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、ラックサンプラ２０３上の試料ラック２０３１で保持される試料容器から試料を吸引するためのサンプル吸引位置が設けられている。また、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道上には、サンプル分注プローブ２０７が吸引した試料をキュベット７０へ吐出するためのサンプル吐出位置が設けられている。サンプル吐出位置は、例えば、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されているキュベット７０の移動軌道との交点に相当する。

サンプル分注プローブ２０７は、駆動機構４によって駆動され、サンプル吸引位置、又はサンプル吐出位置において上下方向に移動する。また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路９の制御に従い、サンプル吸引位置で停止している試料容器から試料を吸引する。また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路９の制御に従い、吸引した試料を、サンプル吐出位置で停止しているキュベット７０へ吐出する。

試薬分注アーム２０８は、反応ディスク２０１と試薬庫２０４との間に設けられている。試薬分注アーム２０８は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。試薬分注アーム２０８は、一端に試薬分注プローブ２０９を保持する。

試薬分注プローブ２０９は、試薬分注アーム２０８の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、試薬吸引位置が設けられている。試薬吸引位置は、例えば、試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、回転テーブルに円環状に載置される試薬容器１００の開口部の移動軌道とが交差する位置に設けられる。また、試薬分注プローブ２０９の回動軌道上には、試薬分注プローブ２０９が吸引した試薬をキュベット７０へ吐出するための試薬吐出位置が設定されている。試薬吐出位置は、例えば、試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されているキュベット７０の移動軌道との交点に相当する。

試薬分注プローブ２０９は、駆動機構４によって駆動され、回動軌道上の試薬吸引位置、又は試薬吐出位置において上下方向に移動する。また、試薬分注プローブ２０９は、制御回路９の制御に従い、試薬吸引位置で停止している試薬容器から試薬を吸引する。また、試薬分注プローブ２０９は、制御回路９の制御に従い、吸引した試薬を、試薬吐出位置で停止しているキュベット７０へ吐出する。

図３は、反応ディスク２０１を上側から視た図である。

反応ディスク２０１の内部には、複数の測光ユニット６０が設けられている。測光ユニット６０は、反応管内の溶液を測光する。測光ユニット６０は、測光部の一例である。具体的には、測光ユニット６０は、キュベット７０内に吐出された試料と試薬との混合液中の光学的な物性値を測定する。測光ユニット６０は、スロット２０１１と同数だけ設けられている。すなわち、測光ユニット６０は、反応ディスク２０１で保持可能なキュベット７０と同数だけ設けられている。図３では、複数設けられるスロット２０１１及び測光ユニット６０のうちの一部のみを図示しており、その他については同様の構成であるため省略している。

図４は、測光ユニット６０のうちの１つを示す図である。図４は、反応ディスク２０１の回転軸Ｒに対して略平行で、かつ、回転軸Ｒを中心とする径方向に対して略平行な断面を示す。

各々の測光ユニット６０は、発光部６１と、受光部６２とを有する。発光部６１は、第１の発光部の一例である。受光部６２は、第１の受光部の一例である。発光部６１は、スロット２０１１よりも径方向について内側（内周側）に位置する。発光部６１は、スロット２０１１と反応ディスク２０１の回転軸Ｒとの間に位置する。受光部６２は、スロット２０１１よりも径方向について外側（外周側）に位置する。

発光部６１は、径方向について外側へ向けて光を射出する光源である。発光部６１は、例えば、ＬＥＤやレーザー光源によって実現される。発光部６１から射出された光（以下、射出光と呼ぶ）Ｌは、水平方向及び反応ディスク２０１の径方向に沿って、スロット２０１１及び受光部６２へ向かって進む。発光部６１から射出される光の光軸Ｏは、反応ディスク２０１の回転軸Ｒに対して垂直であり、水平方向に対して略平行である。

標準液と試薬との混合液が内部に挿入されたキュベット７０がスロット２０１１に挿入された状態で発光部６１から光が射出されると、射出光Ｌは、キュベット７０内の標準液と試薬との混合液を透過し、受光部６２に入射する。

受光部６２は、透過光を検出する光検出器である。受光部６２は、キュベット７０内の標準液と試薬との混合液を透過した光を検出する。受光部６２は、検出した光を所定の時間間隔でサンプリングする。所定の時間間隔は、例えば、０．１秒間隔である。受光部６２は、検出結果に基づいて、透過光の光量、透過光の強度、吸光度等を測定する。測定結果は、制御回路９へ送信される。

なお、受光部６２は、検出した光の強度を検出信号として解析回路３へ出力しても構わない。このとき、解析回路３が、所定の時間間隔で検出信号をサンプリングし、標準データ、及び被検データを生成する。

各々の測光ユニット６０は、散乱光検出器をさらに備えていてもよい。この場合、散乱光検出器は、反応ディスク２０１の内部において、スロット２０１１に対して周方向に離れた位置に設けられる。散乱光検出器は、例えば、スロット２０１１の中心を中心とする周方向について、発光部６１又は受光部６２から９０度離れた位置に配置される。この場合、発光部６１から射出される光の光軸と散乱光検出器の受光軸は、スロット２０１１に挿入されたキュベット７０の内部において略９０度で交わる。発光部６１から射出された光は、キュベット７０の内部に入射され、キュベット７０の内部に投入された混合液内の粒子により散乱された後、キュベット７０の側壁から射出される。散乱光検出器は、キュベット７０内の標準液と試薬との混合液で散乱された光を検出する。散乱光検出器は、検出した光を所定の時間間隔、例えば、０．１秒間隔でサンプリングし、散乱光の光量、散乱光の強度等を測定する。測定結果は、分析機構２及び制御回路９に送られ、試料の定量分析に用いられる。

次に、キュベット７０の構成について説明する。

キュベット７０は、試料、試薬、又はこれらの混合液を保持可能に形成される容器である。キュベット７０は、例えば、上面が開口した有底円筒状の部材である。

キュベット７０は、胴体部７１と、フランジ７２を有する。キュベット７０は、例えば、ポリプロピレン（ＰＰ）又はアクリルから成り、一体成形により作成されている。

ここで、胴体部７１の長手軸Ｃ１を規定する。胴体部７１は、長手軸Ｃ１に沿って延設される。キュベット７０がスロット２０１１に挿入された状態では、胴体部７１の長手軸Ｃ１は、反応ディスク２０１の回転軸Ｒと略平行になる。長手軸Ｃ１に沿う方向のうち、キュベット７０がスロット２０１１に挿入された状態で上側を向く方向をキュベット７０の上側とし、キュベット７０がスロット２０１１に挿入された状態で下側を向く方向を、キュベット７０の下側とする。

胴体部７１は、上面が開口した有底筒状の部材である。胴体部７１は、例えば、有底円筒状の部材である。胴体部７１は、筒状部位に複数の測光部位を有する。複数の測光部位のそれぞれは、平面である。複数の測光部位のそれぞれは、測光ユニットからの光が射出される部位である。胴体部７１には、例えば、測光部位が４つ設けられる。胴体部７１の上端には、開口が形成されている。胴体部７１の上端に形成された開口を介して、試料又は試薬が胴体部７１の内部に挿入される。

フランジ７２は、円環状の部材である。フランジ７２の外径は、胴体部７１の外径よりも大きい。キュベット７０がスロット２０１１に挿入されると、反応ディスク２０１の上面によりフランジ７２が下側から支持されることにより、キュベット７０が反応ディスク２０１に支持される。

反応ディスク２０１では、スロット２０１１のそれぞれにおいて、試料及び試薬の混合液が挿入されたキュベット７０に光Ｌが射出され、混合液及びキュベット７０を透過した光の光量が測定される。例えば、臨床検査用の自動分析装置１の場合には、試料として、血液や尿などの生体試料が投入される。そして、測定された光量に基づいて、分析機構２及び制御回路９により、試料の定量分析が行われる。例えば、分析機構２及び制御回路９により、測定対象物質の濃度や活性値、又は、変化に要する時間などが分析される。

次に、調整機構１６及び調整用キュベット８０について説明する。調整機構１６は、分析機構２に取り付けられて使用される。調整機構１６は、自動分析装置１の出荷時または経年劣化に対して行うメンテナンス時において測光ユニット６０の調整を行う際に、後述の調整用キュベット８０とともに用いられる。調整用キュベット８０は、複数のスロット２０１１に１つずつ挿入され、発光部６１から射出された光をスロット２０１１の外側へ導く治具である。

図５は、調整用キュベット８０の構成の一例を示す図である。図６は、調整用キュベット８０が複数のスロット２０１１のそれぞれに配置され、調整機構１６が取り付けられた状態を上側から見た様子を示す模式図である。

調整用キュベット８０は、胴体部８１と、フランジ８２と、ミラー８３と、導光孔８４と、光路管８５とを有する。

胴体部８１及びフランジ８２は、キュベット７０の胴体部７１及びフランジ７２と同様の形状に形成されている。胴体部８１は、スロット２０１１に保持される。調整用キュベット８０は、上面が開口した有底円筒状に形成されている。胴体部８１及びフランジ８２は、例えば、ポリプロピレン（ＰＰ）又はアクリルから成り、一体成形により作成されている。また、胴体部８１及びフランジ８２は、外部からの光の入射を遮るように形成されることが好ましい。この場合、例えば、塗装、あるいは、透明アクリルを黒色化することにより、胴体部８１及びフランジ８２を黒色化する。

ここで、胴体部８１の長手軸Ｃ２を規定する。胴体部８１は、長手軸Ｃ２に沿って延設される。調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態では、胴体部８１の長手軸Ｃ２は、反応ディスク２０１の回転軸Ｒと略平行になる。長手軸Ｃ２に沿う方向のうち、調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態で上側を向く方向を調整用キュベット８０の上側とし、調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態で下側を向く方向を、調整用キュベット８０の下側とする。

胴体部８１は、上面が開口した有底筒状の部材である。胴体部８１は、有底円筒状の部材である。胴体部８１の上端には、開口が形成されている。

フランジ８２は、円環状の部材である。フランジ８２は、胴体部８１における上部に配置されている。フランジ８２の外径は、胴体部８１の外径よりも大きい。調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入されると、反応ディスク２０１の上面によりフランジ８２が下側から支持されることにより、調整用キュベット８０が反応ディスク２０１に支持される。

ミラー８３は、光を反射する鏡面を有する。ミラー８３は、胴体部８１の内部に設置されている。ミラー８３は、フランジ８２よりも下側に配置されている。ミラー８３は、調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において測光ユニット６０の発光部６１と略同一の高さに位置するように、胴体部８１の内部に設置されている。

ミラー８３は、調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において、鏡面が長手軸Ｃ２及び光軸Ｏのそれぞれに対して傾いた状態となるように、胴体部８１の内部に設置されている。具体的には、調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において、発光部６１が配置される側を鏡面が向き、かつ、鏡面が上側を向くように、ミラー８３が設置される。長手軸Ｃ２に対するミラー８３の鏡面の角度θは、発光部６１から射出される光が反応ディスク２０１の上方に配置される調整用受光部１６２へ向けて反射されるように設定される。角度θは、例えば、４５°である。

導光孔８４は、胴体部８１における有底筒形状の側面に設けられる貫通孔である。導光孔８４は、調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において、発光部６１と対向し、発光部６１及びミラー８３と略同一の高さになる位置に設けられている。導光孔８４は、発光部６１から射出される光が全て通過する形状及び大きさに形成されることが好ましい。

光路管８５は、胴体部８１の内部に設置されている。光路管８５は、胴体部８１の内部において、ミラー８３よりも上側に配置されている。光路管８５は、両端が開口している筒状の部材であり、長手軸Ｃ２に沿って延設されている。光路管８５は、内面が光を反射する素材で形成されている。光路管８５は、例えば、光ファイバーである。光路管８５は、ミラー８３の鏡面で反射した光を上側へ導く。

図７は、調整機構１６の構成の一例を示す図である。図７は、反応ディスク２０１の回転軸Ｒに対して略平行で、かつ、回転軸Ｒを中心とする径方向に対して略平行な断面を示す。調整機構１６は、分析機構２に取り付けられている。調整機構１６は、分析機構２に固定されていてもよく、分析機構２に着脱可能に取り付けられていてもよい。

調整機構１６は、支持体１６１と、調整用受光部１６２とを備える。

支持体１６１は、調整用受光部１６２を支持する。支持体１６１の一端は、分析機構２に接続される。支持体１６１の他端には、調整用受光部１６２が取り付けられている。支持体１６１は、反応ディスク２０１のスロット２０１１の上方に調整用受光部１６２が配置されるように、調整用受光部１６２を支持する。支持体１６１は、調整用受光部１６２の位置を調整可能なアームを備えていてもよい。

調整用受光部１６２は、単一の光検出器である。調整用受光部１６２は、複数の発光部から発生され、複数の載置部各々に挿入された治具により導かれた光を受光する。調整用受光部１６２は、第２の受光部の一例である。具体的には、調整用受光部１６２は、発光部６１から射出され、スロット２０１１に挿入された調整用キュベット８０の内部を通過した光を測定する。調整用受光部１６２は、検出した光を所定の時間間隔でサンプリングする。所定の時間間隔は、例えば、０．１秒間隔である。調整用受光部１６２は、検出結果に基づいて、透過光の光量、透過光の強度、吸光度等を測定する。調整用受光部１６２は、例えば、コネクタを介して制御回路９に電気的に接続されている。調整用受光部１６２は、測定した透過光の光量、透過光の強度、吸光度等を制御回路９に送信する。

調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において発光部６１から射出された射出光Ｌは、導光孔８４を通って胴体部８１の内部へ進入し、ミラー８３の鏡面で反射される。この際、射出光Ｌは、水平方向に沿って進む状態から、鉛直方向に沿って上側へ進む状態に変化する。ミラー８３の鏡面で反射された射出光Ｌは、光路管８５の内部に下側から侵入し、光路管８５の内部を通過し、調整用キュベット８０の外側へ向かって飛び出す。調整用キュベット８０から上側へ飛び出した射出光Ｌは、調整用キュベット８０の上方に設けられた調整用受光部１６２に入射する。調整用受光部１６２は、受光した射出光Ｌを検出し、射出光Ｌの光量等を測定する。

なお、本実施形態の調整用キュベット８０は、キュベット７０と同様の外形に形成されているが、これに限るものではない。調整用キュベット８０は、スロット２０１１において保持可能な外形形状と、発光部６１から射出された光を反射可能なミラー８３と、ミラー８３で反射された光をスロット２０１１の外部に配置された調整用受光部１６２へ導く光路管８５とを備えていればよい。例えば、胴体部８１は、ミラー８３と光路管８５を支持可能であればよい。また、導光孔８４は設けられなくてもよい。

次に、本実施形態の自動分析装置１を用いて、発光部６１の光量調整を行う手順を説明する。発光部６１の光量調整は、自動分析装置１を校正する際に行われ、例えば、自動分析装置１の出荷時、または、自動分析装置１の経年劣化に対して行うメンテナンス時に行われる。

発光部６１の光量調整を行う際には、作業者は、まず、図６に示すように、複数のスロット２０１１のそれぞれに、調整用キュベット８０を配置する。この際、調整用キュベット８０のミラー８３及び導光孔８４が発光部６１と対向するように、調整用キュベット８０の向きを調整する。

次に、作業者は、調整用受光部１６２を反応ディスク２０１の上方に配置する。調整機構１６が分析機構２に固定されている場合、作業者は、支持体１６１のアームを駆動させることにより、調整用キュベット８０が挿入されたスロット２０１１の真上に調整用受光部１６２を配置する。調整機構１６は、調整用受光部１６２と調整用キュベット８０との距離ができるだけ小さくなるように配置されることが好ましい。調整機構１６が分析機構２に対して着脱可能である場合、調整用キュベット８０が挿入されたスロット２０１１の真上に調整用受光部１６２が固定されるように、調整機構１６を分析機構２に取り付けるとともに、コネクタ等を用いて、調整用受光部１６２を制御回路９に接続する。

次に、作業者は、入力インタフェース５において光量調整処理を開始させる指示を入力する。光量調整処理とは、制御回路９の調整機能９２により実行され、複数の発光部６１から発生され、複数のスロット２０１１各々に挿入された調整用キュベット８０により導かれた光を受光する単一の調整用受光部１６２からの複数の光量信号に基づいて、複数の発光部６１の光量を調整する処理である。光量調整処理では、制御回路９は調整機能９２により、反応ディスク２０１に保持された調整用キュベット８０を調整用受光部１６２に対して搬送させることにより、複数の発光部６１から発生された複数の光を調整用受光部１６２に受光させる。制御回路９は、入力インタフェース５において光量調整処理を開始させる指示が入力されたことに基づいて、光量調整処理を開始する。

次に、光量調整処理について説明する。図８は、本実施形態に係る光量調整処理の手順の一例を示すフローチャートである。

なお、以下で説明する光量調整処理における処理手順は一例に過ぎず、各処理は可能な限り適宜変更可能である。また、以下で説明する処理手順について、実施の形態に応じて、適宜、ステップの省略、置換、及び追加が可能である。

（光量調整処理）
（ステップＳ１０１）
制御回路９は、調整用受光部１６２の真下に位置するスロット２０１１に配置された調整用キュベット８０へ、発光部６１から光を射出させる。発光部６１から射出された光は、調整用キュベット８０の内部においてミラー８３の鏡面で反射され、水平方向に沿って進む状態から、鉛直方向に沿って上側へ進む状態に変化する。そして、調整用キュベット８０から上側へ飛び出した射出光Ｌは、調整用キュベット８０の上方に設けられた調整用受光部１６２に入射する。調整用受光部１６２は、受光した光の光量を測定する。制御回路９は、調整用受光部１６２で測定された光の光量を、対象の測光ユニット６０の光量信号として取得する。

（ステップＳ１０２）
次に、制御回路９は、全ての測光ユニット６０に対する光量の測定が終了したか否かを判断する。全ての測光ユニット６０に対する光量の測定が終了している場合（ステップＳ１０２－Ｙｅｓ）、処理はステップＳ１０３に進む。全ての測光ユニット６０に対する光量の測定が終了していない場合（ステップＳ１０２－Ｎｏ）、制御回路９は、反応ディスク２０１を所定の角度だけ回転させることにより、調整用キュベット８０を反応ディスク２０１の周方向に沿って搬送する。このとき、調整用受光部１６２の真下に位置するスロット２０１１が切り替えられる。制御回路９は、光量の測定が終了していない測光ユニット６０に対応するスロット２０１１が調整用受光部１６２の真下に移動するように、反応ディスク２０１を回転させる。制御回路９は、例えば、光量の測定が終了したスロット２０１１に隣接するスロット２０１１を調整用受光部１６２の真下に移動させる。そして、制御回路９は、全ての測光ユニット６０に対する光量の調整が終了するまで、ステップＳ１０１－ステップＳ１０２の処理を繰り返し実行する。

なお、光量の調整を行う測光ユニット６０の順番は、上記構成に限るものではない。例えば、事前に設定された順番に従って光量の調整が行われてもよい。また、全ての測光ユニット６０に対して光量の調整を行う代わりに、事前に設定された測光ユニット６０に対してのみ光量の調整を行ってもよい。あるいは、全ての測光ユニット６０に対して光量の調整を行う代わりに、調整用キュベット８０が挿入されたスロット２０１１に対応する測光ユニット６０に対してのみ、光量の調整を行ってもよい。

（ステップＳ１０３）
全ての測光ユニット６０に対する光量の測定が終了すると、制御回路９は、測光ユニット６０のそれぞれで測定された光量に基づいて、光量調整の基準となる光量の範囲（以下、基準範囲と呼ぶ）を決定する。基準範囲は、例えば、ステップＳ１０２で取得された測光ユニット６０の光量の平均値を中心とする所定の範囲を有する光量の値である。平均値の代わりに、測光ユニット６０のそれぞれについて取得された光量の中央値が用いられてもよい。

（ステップＳ１０４）
制御回路９は、基準範囲に基づいて、測光ユニット６０各々の発光部６１から射出される光の光量を調整する。この際、制御回路９は、発光部６１から射出される光量のそれぞれが基準範囲内の値になるように、発光部６１に供給される電流を調整する。発光部６１の光量がそれぞれ基準範囲内の値になるように調整されることにより、複数の発光部６１間の光量のバラツキが抑制される。その後、制御回路９は、光量調整処理を終了する。

以下、本実施形態に係る自動分析装置１の効果について説明する。

例えば、発光部６１として用いられるＬＥＤは、個体ごとに発光量が異なることがある。同様に、受光部６２として用いられる光検出器においても、個体ごとに受光精度が異なることがある。したがって、複数の測光ユニット６０が用いられる場合、測定精度のバラツキが測光ユニット６０間において生じることがある。測光ユニット６０間の測定精度のバラツキを抑制するため、自動分析装置１の出荷時において、複数の発光部６１の発光量の調整や、複数の受光部６２のゲインの調整を行う必要がある。また、経年劣化に起因する測定精度の変化の度合いが、発光部６１及び受光部６２の個体ごとに異なることがある。したがって、複数の発光部６１の発光量の調整や、複数の受光部６２のゲインの調整を行うメンテナンスを、定期的に行う必要がある。

測光ユニット６０間の測定精度のバラツキは、発光量などの発光部６１に関するパラメータとゲインなどの受光部６２に関するパラメータとの両方に起因する。このため、測光ユニット６０間の測定精度の調整では、複数のパラメータの調整を同時に行う必要があり、調整に時間がかかる。

本実施形態の自動分析装置１は、反応ディスク２０１と、測光ユニット６０と、制御回路９とを備える。反応ディスク２０１は、複数の調整用キュベット８０を保持するための複数のスロット２０１１を有する。測光ユニット６０は、複数のキュベット７０の各々に含まれる溶液を測光する。測光ユニット６０は、複数のスロット２０１１にそれぞれ設けられた複数の発光部６１及び複数の受光部６２を有する。制御回路９は、複数の発光部６１から発生され、複数のスロット２０１１各々に挿入された調整用キュベット８０により導かれた光を受光する単一の調整用受光部１６２からの複数の光量信号に基づいて、複数の発光部６１の光量を調整する。

上記構成により、本実施形態の自動分析装置１によれば、発光部６１からの射出光を外部へ導く調整用キュベット８０と、複数の調整用キュベット８０から導かれた光を受光する単一の調整用受光部１６２を用いることにより、複数の発光部６１に対する光量調整を１つの調整用受光部１６２を用いて行うことができる。これにより、受光部６２に関するパラメータのバラツキに関わらず、発光部６１のバラツキの調整を行うことができる。

以上のように、本実施形態の自動分析装置１によれば、自動分析装置１の出荷時または経年劣化に対して行うメンテナンス時において、多数の発光部６１に対する光量の調整を自動で行うことができる。これにより、光量調整を行うシステムの安定化、光量調整の精度の向上、及び、光量調整にかかる時間の短縮を図ることができる。また、出荷時の調整工数の削減や、メンテナンス工数の削減を実現することができる。

また、光量調整処理の終了後、調整された発光部６１を用いて、受光部６２のゲインの調整が行われてもよい。この場合、測光ユニット６０のそれぞれにおいて、発光部６１から射出され受光部６２で受光した光の光量が基準範囲内の値になるように、受光部６２のゲインが調整される。この場合、測光ユニット６０間の測定精度のバラツキに影響するパラメータを１つずつ調整することができ、調整を容易に行うことができる。

また、本実施形態の調整機構１６は、分析機構２に対して着脱可能に取り付けることができる。この場合、自動分析装置１の製造時には、調整機構１６を取り外した状態で作業を行い、自動分析装置１の出荷時において光量の調整を行うときにだけ、調整機構１６を取り付けることができる。

（第１の実施形態の変形例）
第１の実施形態の変形例について説明する。本変形例は、第１の実施形態の構成を以下の通りに変形したものである。本変形例では、調整用受光部１６２は反応ディスク２０１の下方に配置される。第１の実施形態と同様の構成、動作、及び効果については、説明を省略する。

図９は、本変形例の自動分析装置１の光量の調整に用いられる調整用キュベット８０の構成の一例を示す図である。

本変形例では、胴体部８１の底面には、開口が設けられている。

ミラー８３は、調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において、発光部６１が配置される側を鏡面が向き、かつ、鏡面が下側を向くように設置される。長手軸Ｃ２に対するミラー８３の鏡面の角度θは、発光部６１から射出される光が反応ディスク２０１の下方に配置される調整用受光部１６２へ向けて反射されるように設定される。角度θは、例えば、４５°である。

導光孔８４は、調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において、発光部６１と対向し、発光部６１及びミラー８３と略同一の高さになる位置に設けられている。

光路管８５は、胴体部８１の内部において、ミラー８３よりも下側に配置されている。光路管８５は、ミラー８３の鏡面で反射した光を下側へ導く。

図１０は、本変形例の調整機構１６の構成の一例を示す図である。調整機構１６は、分析機構２に固定されている。図１０は、反応ディスク２０１の回転軸Ｒに対して略平行で、かつ、回転軸Ｒを中心とする径方向に対して略平行な断面を示す。

支持体１６１は、反応ディスク２０１のスロット２０１１の下方に調整用受光部１６２が配置されるように、調整用受光部１６２を支持する。

反応ディスク２０１のスロット２０１１には、スロット２０１１が形成する載置部の底面に開口が設けられている。また、反応ディスク２０１は、光路２０１２を有する。光路２０１２は、スロット２０１１のそれぞれに設けられている。光路２０１２のそれぞれは、スロット２０１１の底面に設けられた開口から反応ディスク２０１の下面までに亘って設けられた貫通孔である。光路２０１２のそれぞれは、スロット２０１１の底面と反応ディスク２０１の下面とを連通させる空洞である。光路２０１２は、ミラー８３の鏡面で反射した光を反応ディスク２０１の下側へ導く。

調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において発光部６１から射出された射出光Ｌは、導光孔８４を通って胴体部８１の内部へ進入し、ミラー８３の鏡面で反射される。この際、射出光Ｌは、水平方向に沿って進む状態から、鉛直方向に沿って下側へ進む状態に変化する。ミラー８３の鏡面で反射された射出光Ｌは、光路管８５の内部に上側から侵入し、光路管８５の内部を通過し、調整用キュベット８０の外側へ飛び出す。調整用キュベット８０から下側へ飛び出した射出光Ｌは、スロット２０１１の底面に設けられた開口及び光路２０１２を通過し、反応ディスク２０１の下方に設けられた調整用受光部１６２に入射する。調整用受光部１６２は、受光した射出光Ｌを検出し、射出光Ｌの光量等を測定する。

本変形例の自動分析装置１によれば、第１の実施形態と同様に、発光部６１からの射出光を外部へ導く調整用キュベット８０と、複数の調整用キュベット８０から導かれた光を受光する単一の調整用受光部１６２を用いることにより、複数の発光部６１に対する光量調整を１つの調整用受光部１６２を用いて行うことができる。 また、本実施形態の調整用受光部１６２は、反応ディスク２０１の下側に固定される。このため、自動分析装置１の使用時において、キュベット７０の挿入や抜去等の操作を調整用受光部１６２が妨げることが防止される。このため、光量の調整を行う際に、調整機構１６を着脱する手間を省略することができる。

（第２の実施形態）
第２の実施形態について説明する。本実施形態は、第１の実施形態の構成を以下の通りに変形したものである。本実施形態では、調整用受光部１６２の代わりに設けられた調整用発光部１６３を用いて、受光部６２のゲインを調整する。第１の実施形態と同様の構成、動作、及び効果については、説明を省略する。

制御回路９は、調整機能９２により、複数の受光部６２のゲインを調整する。調整機能９２を実現する制御回路９は、調整部の一例である。

図１１は、調整機構１６の構成の一例を示す図である。図１１は、反応ディスク２０１の回転軸Ｒに対して略平行で、かつ、回転軸Ｒを中心とする径方向に対して略平行な断面を示す。調整機構１６は、支持体１６１と、調整用発光部１６３とを備える。

支持体１６１は、調整用発光部１６３を支持する。支持体１６１の一端は、分析機構２に接続される。支持体１６１の他端には、調整用発光部１６３が取り付けられている。支持体１６１は、反応ディスク２０１のスロット２０１１の上方に調整用発光部１６３が配置されるように、調整用発光部１６３を支持する。

調整用発光部１６３は、下側へ向けて光を射出する光源である。調整用発光部１６３は、例えば、ＬＥＤやレーザー光源によって実現される。調整用発光部１６３は、例えば、コネクタを介して制御回路９に電気的に接続されている。調整用発光部１６３には、制御回路９から電力が供給される。調整用発光部１６３は、第２の発光部の一例である。

調整用キュベット８０は、複数のスロット２０１１に１つずつ挿入され、スロット２０１１の外側に配置された調整用発光部１６３から射出された光を受光部６２へ導く治具である。ミラー８３は、調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において、鏡面が受光部６２が配置される側を向き、かつ、鏡面が上側を向くように、配置される。ミラー８３は、反応ディスク２０１の上方に配置された調整用発光部１６３から射出された光が、受光部６２へ向けて反射されるように配置される。

調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において調整用発光部１６３から射出された射出光Ｌは、調整用キュベット８０に上側から侵入し、光路管８５の内部を通過し、ミラー８３の鏡面で反射される。この際、射出光Ｌは、鉛直方向に沿って下側へ進む状態から、水平方向に沿って進む状態に変化する。ミラー８３の鏡面で反射された射出光Ｌは、導光孔８４を通って調整用キュベット８０の外側へ飛び出し、受光部６２に入射する。受光部６２は、受光した射出光Ｌを検出し、射出光Ｌの光量等を測定する。受光部６２は、測定した光量を制御回路９に送信する。

次に、本実施形態の自動分析装置１を用いて、受光部６２のゲイン調整を行う手順を説明する。受光部６２のゲイン調整は、自動分析装置１を校正する際に行われ、例えば、自動分析装置１の出荷時、または、自動分析装置１の経年劣化に対して行うメンテナンス時に行われる。

受光部６２のゲイン調整を行う際には、作業者は、まず、複数のスロット２０１１のそれぞれに、調整用キュベット８０を配置する。この際、調整用キュベット８０のミラー８３及び導光孔８４が受光部６２と対向するように、調整用キュベット８０の向きを調整する。

次に、作業者は、調整用発光部１６３を反応ディスク２０１の上方に配置する。調整機構１６が分析機構２に固定されている場合、作業者は、支持体１６１のアームを駆動させることにより、調整用キュベット８０が挿入されたスロット２０１１の真上に調整用発光部１６３を配置する。調整機構１６は、調整用発光部１６３と調整用キュベット８０との距離ができるだけ小さくなるように配置されることが好ましい。調整機構１６が分析機構２に対して着脱可能である場合、調整用キュベット８０が挿入されたスロット２０１１の真上に調整用発光部１６３が固定されるように調整機構１６を分析機構２に取り付ける。

次に、作業者は、入力インタフェース５においてゲイン調整処理を開始させる指示を入力する。ゲイン調整処理とは、制御回路９の調整機能９２により実行され、単一の調整用発光部１６３から発生され、複数のスロット２０１１各々に挿入された調整用キュベット８０により導かれた光を受光する複数の受光部６２からの複数の光量信号に基づいて、複数の受光部６２のゲインを調整する処理である。ゲイン調整処理では、制御回路９は調整機能９２により、反応ディスク２０１に保持された調整用キュベット８０を調整用発光部１６３に対して搬送させることにより、調整用発光部１６３から発生された光を複数の受光部６２に受光させる。制御回路９は、入力インタフェース５においてゲイン調整処理を開始させる指示が入力されたことに基づいて、ゲイン調整処理を開始する。

次に、ゲイン調整処理について説明する。図１２は、本実施形態に係るゲイン調整処理の手順の一例を示すフローチャートである。

なお、以下で説明するゲイン調整処理における処理手順は一例に過ぎず、各処理は可能な限り適宜変更可能である。また、以下で説明する処理手順について、実施の形態に応じて、適宜、ステップの省略、置換、及び追加が可能である。

（ゲイン調整処理）
（ステップＳ２０１）
制御回路９は、調整用発光部１６３の真下に位置するスロット２０１１に配置された調整用キュベット８０へ、調整用発光部１６３から光を射出させる。調整用キュベット８０の上方に設けられた調整用発光部１６３から射出された光は、調整用キュベット８０へ進入する。射出光Ｌは、ミラー８３の鏡面で反射され、鉛直方向に沿って下側へ進む状態から水平方向に沿って進む状態に変化し、受光部６２に入射する。受光部６２は、受光した光の光量を測定する。制御回路９は、受光部６２で測定された光の光量を、対象の測光ユニット６０の光量信号として取得する。

（ステップＳ２０２）
次に、制御回路９は、全ての測光ユニット６０に対する光量の測定が終了したか否かを判断する。全ての測光ユニット６０に対する光量の測定が終了している場合（ステップＳ２０２－Ｙｅｓ）、処理はステップＳ２０３に進む。全ての測光ユニット６０に対する光量の測定が終了していない場合（ステップＳ２０２－Ｎｏ）、制御回路９は、反応ディスク２０１を所定の角度だけ回転させることにより、調整用キュベット８０を反応ディスク２０１の周方向に沿って搬送する。このとき、調整用発光部１６３の真下に位置するスロット２０１１が切り替えられる。制御回路９は、光量の測定が終了していない測光ユニット６０に対応するスロット２０１１が調整用発光部１６３の真下に移動するように、反応ディスク２０１を回転させる。制御回路９は、例えば、光量の測定が終了したスロット２０１１に隣接するスロット２０１１を調整用発光部１６３の真下に移動させる。そして、制御回路９は、全ての測光ユニット６０に対する光量の調整が終了するまで、ステップＳ２０１－ステップＳ２０２の処理を繰り返し実行する。

（ステップＳ２０３）
全ての測光ユニット６０に対する光量の測定が終了すると、制御回路９は、測光ユニット６０のそれぞれで測定された光量に基づいて、光量調整の基準となる光量の範囲（以下、基準範囲と呼ぶ）を決定する。基準範囲は、例えば、ステップＳ２０２で取得された測光ユニット６０の光量の平均値を中心とする所定の範囲を有する光量の値である。平均値の代わりに、測光ユニット６０のそれぞれについて取得された光量の中央値が用いられてもよい。

（ステップＳ２０４）
制御回路９は、基準範囲に基づいて、測光ユニット６０各々の受光部６２のゲインを調整する。この際、制御回路９は、受光部６２が測定する光量のそれぞれが基準範囲内の値になるように、受光部６２のゲインを調整する。受光部６２のゲインが調整されることにより、複数の受光部６２間の測定精度のバラツキが抑制される。その後、制御回路９は、ゲイン調整処理を終了する。

以下、本実施形態に係る自動分析装置１の効果について説明する。

本実施形態の自動分析装置１は、反応ディスク２０１と、測光ユニット６０と、制御回路９とを備える。反応ディスク２０１は、複数の調整用キュベット８０を保持するための複数のスロット２０１１を有する。測光ユニット６０は、複数のキュベット７０の各々に含まれる溶液を測光する。測光ユニット６０は、複数のスロット２０１１にそれぞれ設けられた複数の発光部６１及び複数の受光部６２を有する。制御回路９は、単一の調整用発光部１６３から発生され、複数のスロット２０１１各々に挿入された調整用キュベット８０により導かれた光を受光する複数の受光部６２からの複数の光量信号に基づいて、複数の受光部６２のゲインを調整する。

上記構成により、本実施形態の自動分析装置１によれば、複数の調整用キュベット８０へ光を射出する単一の調整用発光部１６３と、調整用発光部１６３からの射出光を複数の受光部６２へ導く調整用キュベット８０とを用いることにより、複数の受光部６２に対するゲインの調整を１つの調整用発光部１６３を用いて行うことができる。これにより、発光部６１に関するパラメータのバラツキに関わらず、受光部６２のバラツキの調整を行うことができる。

以上のように、本実施形態の自動分析装置１によれば、自動分析装置１の出荷時または経年劣化に対して行うメンテナンス時において、多数の受光部６２に対するゲインの調整を自動で行うことができる。これにより、ゲイン調整を行うシステムの安定化、ゲイン調整の精度の向上、及び、ゲイン調整にかかる時間の短縮を図ることができる。また、出荷時の調整工数の削減や、メンテナンス工数の削減を実現することができる。

また、ゲイン調整処理の終了後、調整された受光部６２を用いて、発光部６１の光量の調整が行われてもよい。

また、本実施形態で使用した調整用キュベット８０を用いて、第１の実施形態で説明した光量調整処理をゲイン調整処理の前に実行してもよい。この場合、ミラー８３の鏡面が発光部６１に対向するように調整用キュベット８０をスロット２０１１に挿入し、調整用受光部１６２を有する調整機構１６を用いた光量調整処理により発光部６１の光量調整を行った後、ミラー８３の鏡面が受光部６２に対向するように調整用キュベット８０の向きを変更し、調整用発光部１６３を有する調整機構１６を用いたゲイン調整処理により受光部６２のゲイン調整を行うことができる。

（第２の実施形態の変形例）
第２の実施形態の変形例について説明する。本変形例は、第２の実施形態の変形例の構成を以下の通りに変形したものである。本変形例では、調整用発光部１６３が反応ディスク２０１の下方に配置される。第２の実施形態の変形例と同様の構成、動作、及び効果については、説明を省略する。

本変形例では、反応ディスク２０１及び調整用キュベット８０は、第１の実施形態の変形例において図９及び図１０を参照して説明した構成と同様の構成のため、説明を省略する。

図１３は、本変形例の調整機構１６の構成の一例を示す図である。調整機構１６は、分析機構２に固定されている。図１３は、反応ディスク２０１の回転軸Ｒに対して略平行で、かつ、回転軸Ｒを中心とする径方向に対して略平行な断面を示す。

本変形例では、ミラー８３は、調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において、鏡面が受光部６２が配置される側を向き、かつ、鏡面が下側を向くように設置される。ミラー８３は、反応ディスク２０１の下方に配置される調整用発光部１６３から射出される光が受光部６２へ向けて反射されるように設置される。導光孔８４は、調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において、受光部６２と対向し、受光部６２及びミラー８３と略同一の高さになる位置に設けられている。

調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において調整用発光部１６３から射出された射出光Ｌは、光路管８５の内部に下側から侵入し、光路管８５の内部を通過し、ミラー８３の鏡面で反射される。この際、射出光Ｌは、鉛直方向に沿って上側へ進む状態から、水平方向に沿って進む状態に変化する。ミラー８３の鏡面で反射された射出光Ｌは、導光孔８４を通って調整用キュベット８０の外側へ飛び出し、受光部６２に入射する。受光部６２は、受光した射出光Ｌを検出し、射出光Ｌの光量等を測定する。受光部６２は、測定した光量を制御回路９に送信する。

本変形例の自動分析装置１によれば、第２の実施形態と同様に、複数の調整用キュベット８０へ光を射出する単一の調整用発光部１６３と、調整用発光部１６３からの射出光を複数の受光部６２へ導く調整用キュベット８０とを用いることにより、複数の受光部６２に対するゲイン調整を１つの調整用発光部１６３を用いて行うことができる。このため、第２の実施形態と同様の効果を得ることができる。

（第３の実施形態）
第３の実施形態について説明する。本実施形態は、第１の実施形態の構成を以下の通りに変形したものである。本実施形態では、調整用受光部を備える調整機構と、発光部６１から射出された光を調整用受光部へ導く調整用キュベットが用いられる代わりに、調整用受光部８８が内蔵された調整用キュベット８０が用いられる。第１の実施形態と同様の構成、動作、及び効果については、説明を省略する。

図１４は、本実施形態の調整用キュベット８０の構成の一例を示す図である。図１４は、スロット２０１１のそれぞれに配置された調整用キュベット８０のうちの１つを、反応ディスク２０１の回転軸Ｒに対して略平行で、かつ、回転軸Ｒを中心とする径方向に対して略平行な断面で示す図である。

調整用キュベット８０は、胴体部８１と、フランジ８２と、ミラー８３と、導光孔８４と、光路管８５と、調整用受光部８８を有する。本実施形態では、胴体部８１、フランジ８２、ミラー８３、導光孔８４、及び光路管８５は、第１の実施形態において図５及び図７を参照して説明した構成と同様の構成のため、説明を省略する。

調整用受光部８８は、胴体部８１の上部に取り付けられている。調整用キュベット８０がスロット２０１１に保持された状態では、調整用受光部８８は、スロット２０１１の上方に位置する。調整用受光部８８は、発光部６１から発生され、光路管８５により導かれた光を受光する光検出器である。具体的には、調整用受光部８８は、発光部６１から射出され、スロット２０１１に挿入された調整用キュベット８０の内部を通過した光を測定する。調整用受光部８８は、検出した光を所定の時間間隔でサンプリングする。所定の時間間隔は、例えば、０．１秒間隔である。調整用受光部８８は、検出結果に基づいて、透過光の光量、透過光の強度、吸光度等を測定する。調整用受光部８８は、例えば、コネクタを介して制御回路９に電気的に接続されている。調整用受光部１６２は、測定した透過光の光量、透過光の強度、吸光度等を制御回路９に送信する。調整用受光部８８は、無線通信により制御回路９と通信可能であってもよい。調整用受光部８８は、第３の受光部の一例である。

調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において発光部６１から射出された射出光Ｌは、導光孔８４を通って胴体部８１の内部へ進入し、ミラー８３の鏡面で反射される。この際、射出光Ｌは、水平方向に沿って進む状態から、鉛直方向に沿って上側へ進む状態に変化する。ミラー８３の鏡面で反射された射出光Ｌは、光路管８５の内部に下側から侵入し、光路管８５の内部を通過し、胴体部８１の上部に設けられた調整用受光部８８に入射する。調整用受光部８８は、受光した射出光Ｌを検出し、射出光Ｌの光量等を測定する。

次に、本実施形態の自動分析装置１を用いて、自動分析装置１を校正する際に発光部６１の光量調整を行う手順を説明する。発光部６１の光量調整は、自動分析装置１を校正する際に行われ、例えば、自動分析装置１の出荷時、または、自動分析装置１の経年劣化に対して行うメンテナンス時に行われる。

発光部６１の光量調整を行う際には、作業者は、まず、調整用キュベット８０のそれぞれに設けられる調整用受光部８８の精度を調整する。次に、作業者は、図６に示すように、複数のスロット２０１１のそれぞれに、調整用キュベット８０を配置する。この際、調整用キュベット８０のミラー８３及び導光孔８４が発光部６１と対向するように、調整用キュベット８０の向きを調整する。スロット２０１１のそれぞれに調整用キュベット８０が配置された状態では、調整用受光部８８のそれぞれは、配置されるスロット２０１１の上方に位置する。

次に、作業者は、入力インタフェース５において光量調整処理を開始させる指示を入力する。本実施形態では、制御回路９は、光量調整処理を実行することにより、事前に精度が調整された調整用受光部８８からの光量信号に基づいて、複数の発光部６１の光量を調整する。

本実施形態の自動分析装置１は、反応ディスク２０１と、測光ユニット６０と、制御回路９とを備える。反応ディスク２０１は、複数の調整用キュベット８０を保持するための複数のスロット２０１１を有する。測光ユニット６０は、複数のキュベット７０の各々に含まれる溶液を測光する。測光ユニット６０は、複数のスロット２０１１にそれぞれ設けられた複数の発光部６１及び複数の受光部６２を有する。制御回路９は、複数の発光部６１から発生され、複数のスロット２０１１に挿入される調整用キュベット８０のそれぞれに設けられた調整用受光部１６２からの複数の光量信号に基づいて、複数の発光部６１の光量を調整する。

本実施形態の自動分析装置１によれば、発光部６１からの射出光を受光する調整用受光部８８を備える調整用キュベット８０を用いることにより、複数の発光部６１に対する光量調整を事前に精度のバラツキが調整された受光部を用いて行うことができる。このため、受光部６２に関するパラメータのバラツキに関わらず、発光部６１のバラツキの調整を行うことができる。これにより、第１の実施形態の調整機構１６のような構成を用いることなく、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

（第４の実施形態）
第４の実施形態について説明する。本実施形態は、第２の実施形態の構成を以下の通りに変形したものである。本実施形態では、調整用発光部を備える調整機構と、調整用発光部から射出された光を受光部６２へ導く調整用キュベットが用いられる代わりに、調整用発光部８９が内蔵された調整用キュベット８０が用いられる。第１の実施形態と同様の構成、動作、及び効果については、説明を省略する。

図１５は、本実施形態の調整用キュベット８０の構成の一例を示す図である。図１５は、スロット２０１１のそれぞれに配置された調整用キュベット８０のうちの１つを、反応ディスク２０１の回転軸Ｒに対して略平行で、かつ、回転軸Ｒを中心とする径方向に対して略平行な断面で示す図である。

調整用キュベット８０は、胴体部８１と、フランジ８２と、ミラー８３と、導光孔８４と、光路管８５と、調整用発光部８９を有する。本実施形態では、胴体部８１、フランジ８２、ミラー８３、導光孔８４、及び光路管８５は、第１の実施形態において図５及び図７を参照して説明した構成と同様の構成のため、説明を省略する。

調整用発光部８９は、胴体部８１の上部に取り付けられている。調整用発光部８９は、例えば、コネクタを介して制御回路９に電気的に接続されている。調整用発光部８９には、制御回路９から電力が供給される。調整用発光部８９は、胴体部８１及び光路管８５が配置される下側へ向けて光を射出する光源である。調整用キュベット８０がスロット２０１１に保持された状態では、調整用発光部８９は、スロット２０１１の上方に位置する。調整用発光部８９は、第３の発光部の一例である。

調整用キュベット８０がスロット２０１１に挿入された状態において調整用発光部８９から射出された射出光Ｌは、光路管８５の内部に上側から侵入し、光路管８５の内部を通過し、ミラー８３の鏡面で反射される。この際、射出光Ｌは、鉛直方向に沿って下側へ進む状態から、水平方向に沿って進む状態に変化する。ミラー８３の鏡面で反射された射出光Ｌは、導光孔８４を通過し、受光部６２に入射する。受光部６２は、受光した射出光Ｌを検出し、射出光Ｌの光量等を測定する。

次に、本実施形態の自動分析装置１を用いて、受光部６２のゲイン調整を行う手順を説明する。受光部６２のゲイン調整は、例えば、自動分析装置１の出荷時、または、自動分析装置１の経年劣化に対して行うメンテナンス時に行われる。

受光部６２のゲイン調整を行う際には、作業者は、まず、調整用キュベット８０のそれぞれに設けられる調整用発光部８９の精度を調整する。次に、作業者は、図６に示すように、複数のスロット２０１１のそれぞれに、調整用キュベット８０を配置する。この際、調整用キュベット８０のミラー８３及び導光孔８４が受光部６２と対向するように、調整用キュベット８０の向きを調整する。スロット２０１１のそれぞれに調整用キュベット８０が配置された状態では、調整用発光部８９のそれぞれは、配置されるスロット２０１１の上方に位置する。

次に、作業者は、入力インタフェース５においてゲイン調整処理を開始させる指示を入力する。本実施形態では、制御回路９、ゲイン調整処理を実行することにより、事前に精度が調整された調整用発光部８９から射出された光を受光した受光部６２からの光量信号に基づいて、複数の受光部６２のゲインを調整する。

本実施形態の自動分析装置１は、反応ディスク２０１と、測光ユニット６０と、制御回路９とを備える。反応ディスク２０１は、複数の調整用キュベット８０を保持するための複数のスロット２０１１を有する。測光ユニット６０は、複数のキュベット７０の各々に含まれる溶液を測光する。測光ユニット６０は、複数のスロット２０１１にそれぞれ設けられた複数の発光部６１及び複数の受光部６２を有する。制御回路９は、複数のスロット２０１１に挿入される調整用キュベット８０のそれぞれに設けられた調整用発光部８９から発生された光を受光する受光部６２からの複数の光量信号に基づいて、複数の受光部６２のゲインを調整する。

本実施形態の自動分析装置１によれば、調整用発光部８９からの射出光を受光部６２へ導く調整用キュベット８０を用いることにより、複数の受光部６２に対するゲイン調整を事前に精度のバラツキが調整された発光部を用いて行うことができる。このため、発光部６１に関するパラメータのバラツキに関わらず、受光部６２のバラツキの調整を行うことができる。これにより、第２の実施形態の調整機構１６のような構成を用いることなく、第２の実施形態と同様の効果を得ることができる。

以上説明した少なくとも一つの実施形態によれば、測光ユニットに対する光量調整又はゲインの調整の精度を向上させることができる。

上記説明において用いた「プロセッサ」という文言は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＧＰＵ（Graphics Processing Unit）、或いは、特定用途向け集積回路（Application Specific Integrated Circuit：ＡＳＩＣ）、プログラマブル論理デバイス（例えば、単純プログラマブル論理デバイス（Simple Programmable Logic Device：ＳＰＬＤ）、複合プログラマブル論理デバイス（Complex Programmable Logic Device：ＣＰＬＤ）、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ（Field Programmable Gate Array：ＦＰＧＡ）等の回路を意味する。プロセッサは記憶回路に保存されたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。なお、記憶回路にプログラムを保存する代わりに、プロセッサの回路内にプログラムを直接組み込むよう構成しても構わない。この場合、プロセッサは回路内に組み込まれたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。なお、本実施形態の各プロセッサは、プロセッサごとに単一の回路として構成される場合に限らず、複数の独立した回路を組み合わせて１つのプロセッサとして構成し、その機能を実現するようにしてもよい。さらに、図１における複数の構成要素を１つのプロセッサへ統合してその機能を実現するようにしてもよい。

なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１…自動分析装置
１００…試薬容器
２…分析機構
２０１…反応ディスク
２０２…恒温部
２０３…ラックサンプラ
２０３１…試料ラック
２０４…試薬庫
２０４１…試薬庫カバー
２０４２…筐体
２０６…サンプル分注アーム
２０７…サンプル分注プローブ
２０８…試薬分注アーム
２０９…試薬分注プローブ
２０１１…スロット
２０１２…光路
３…解析回路
４…駆動機構
５…入力インタフェース
６…出力インタフェース
７…通信インタフェース
８…記憶回路
９…制御回路
１６…調整機構
１６１…支持体
１６２…調整用受光部
１６３…調整用発光部
６０…測光ユニット
６１…発光部
６２…受光部
７０…キュベット
７１…胴体部
７２…フランジ
８０…調整用キュベット
８１…胴体部
８２…フランジ
８３…ミラー
８４…導光孔
８５…光路管
８８…調整用受光部
８９…調整用発光部
９１…システム制御機能
９２…調整機能
Ｌ…光
Ｏ…光軸
Ｃ１、Ｃ２…長手軸

Claims (16)

1. 反応管を載置するための複数の載置部を有する保持部と、
   前記反応管内の溶液を測光するための測光部であって、複数の発光部及び複数の第１の受光部を有し、１つの前記載置部に対して１つの前記発光部と１つの前記第１の受光部が設けられる測光部と、
   前記複数の発光部から発生され、前記複数の載置部に挿入された治具により導かれた光を受光する単一の第２の受光部からの複数の光量信号に基づいて、前記複数の発光部の光量を調整する調整部と、
   を具備し、
   前記調整部は、前記複数の発光部のうちの選択された１つ以上の発光部のそれぞれについて、前記複数の光量信号を用いて光量を調整する、
   自動分析装置。
2. 前記調整部は、前記複数の発光部のうちのすべての発光部のそれぞれについて、前記複数の光量信号を用いて光量を調整する、
   請求項１に記載の自動分析装置。
3. 前記第２の受光部は、前記載置部に保持された複数の前記治具に対して上方に配置され、
   前記治具は、前記発光部から発生された光を前記第２の受光部へ導く、
   請求項１に記載の自動分析装置。
4. 前記第２の受光部は、前記載置部に保持された複数の前記治具に対して下方に配置され、
   前記治具は、前記発光部から発生された光を下方へ導き、
   前記保持部は、前記載置部の下方に設けられ、前記治具により導かれた光を前記第２の受光部へ導く光路管を備える、
   請求項１に記載の自動分析装置。
5. 前記調整部は、前記保持部に保持された前記治具を前記第２の受光部に対して搬送させることにより、前記複数の発光部から発生された複数の光を前記第２の受光部に受光させる、
   請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の自動分析装置。
6. 前記調整部は、前記複数の光量信号の平均値又は前記複数の光量信号の中央値に基づいて光量の基準範囲を決定し、光量が前記基準範囲内の値となるように、前記複数の発光部の光量を調整する、
   請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の自動分析装置。
7. 反応管を載置するための複数の載置部を有する保持部と、
   前記反応管内の溶液を測光するための測光部であって、複数の第１の発光部及び複数の受光部を有し、１つの前記載置部に対して１つの前記第１の発光部と１つの前記受光部が設けられる測光部と、
   単一の第２の発光部から発生され、前記複数の載置部各々に挿入された治具により導かれた光を受光する前記複数の受光部からの複数の光量信号に基づいて、前記複数の受光部のゲインを調整する調整部と、
   を具備し、
   前記調整部は、前記複数の第１の発光部のうちの選択された１つ以上の第１の発光部のそれぞれについて、前記複数の光量信号を用いて光量を調整する、
   自動分析装置。
8. 前記調整部は、前記複数の第１の発光部のうちのすべての第１の発光部のそれぞれについて、前記複数の光量信号を用いて光量を調整する、
   請求項７に記載の自動分析装置。
9. 反応管を載置するための複数の載置部を有する保持部と、
   前記反応管内の溶液を測光するための測光部であって、複数の発光部及び複数の第１の受光部を有し、１つの前記載置部に対して１つの前記発光部と１つの前記第１の受光部が設けられる測光部と、
   前記複数の載置部各々に挿入される治具のそれぞれに設けられるとともに前記複数の発光部から発生された光を受光する複数の第３の受光部からの複数の光量信号に基づいて、前記複数の発光部の光量を調整する調整部と、
   を具備し、
   前記調整部は、前記複数の発光部のうちの選択された１つ以上の発光部のそれぞれについて、前記複数の光量信号を用いて光量を調整する、
   自動分析装置。
10. 前記調整部は、前記複数の発光部のうちのすべての発光部のそれぞれについて、前記複数の光量信号を用いて光量を調整する、
    請求項９に記載の自動分析装置。
11. 反応管を載置するための複数の載置部を有する保持部と、
    前記反応管内の溶液を測光するための測光部であって、複数の第１の発光部及び複数の受光部を有し、１つの前記載置部に対して１つの前記第１の発光部と１つの前記受光部が設けられる測光部と、
    前記複数の載置部各々に挿入される治具のそれぞれに設けられた第３の発光部から発生された光を受光する前記複数の受光部からの複数の光量信号に基づいて、前記複数の受光部のゲインを調整する調整部と、
    を具備し、
    前記調整部は、前記複数の第１の発光部のうちの選択された１つ以上の第１の発光部のそれぞれについて、前記複数の光量信号を用いて光量を調整する、
    自動分析装置。
12. 前記調整部は、前記複数の第１の発光部のうちのすべての第１の発光部のそれぞれについて、前記複数の光量信号を用いて光量を調整する、
    請求項１１に記載の自動分析装置。
13. 反応管が挿入される載置部により保持される胴体部と、
    前記胴体部の内部に設けられ、前記載置部の側方に設けられた発光部から射出された射出光を前記載置部の上側または下側に設置された第２の受光部へ反射するミラーと、
    前記ミラーで反射された光を前記第２の受光部へ導く光路管と、
    を備える治具。
14. 反応管が挿入される載置部により保持される胴体部と、
    前記胴体部の内部に設けられ、前記載置部の側方に設けられた発光部から射出された射出光を反射するミラーと、
    前記胴体部の上側に設けられ、前記ミラーにより反射された光を受光する第３の受光部と、
    前記ミラーで反射された光を前記第３の受光部へ導く光路管と、
    を備える治具。
15. 反応管が挿入される載置部により保持される胴体部と、
    前記胴体部の上側に設けられた第３の発光部と、
    前記胴体部の内部に設けられ、前記第３の発光部から射出された射出光を反射するミラーと、
    前記ミラーにより反射された光を受光部へ導く光路管と、
    を備える治具。
16. 反応管を載置するための複数の載置部を有する保持部と、複数の発光部及び複数の第１の受光部を有し、１つの前記載置部に対して１つの前記発光部と１つの前記第１の受光部が設けられる測光部とを具備する自動分析装置に対して、前記複数の発光部の光量を調整する方法であって、
    前記複数の発光部から発生された光を前記載置部の外部へ導く治具を前記複数の載置部のそれぞれに配置することと、
    前記複数の載置部各々に挿入された治具により導かれた光を受光する単一の第２の受光部からの複数の光量信号を取得することと、
    前記複数の発光部のうちの選択された１つ以上の発光部のそれぞれについて、前記複数の光量信号を用いて光量を調整することと、
    を備える自動分析装置の校正方法。