JP7555433B2 - バイメタルシール - Google Patents
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Description
実施形態1.環状バイメタルシールであって、第1の材料から形成された第1のシーリング構成要素と、第1の材料とは異なる第2の材料から形成された第2のシーリング構成要素と、第1のシーリング構成要素と第2のシーリング構成要素との間に形成された接合部と、を備える、環状バイメタルシール。
実施形態2.第1のシーリング構成要素が、第1のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成するように構成され、第2のシーリング構成要素が、第2のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成するように構成されている、実施形態1に記載のバイメタルシール。
実施形態3.アセンブリであって、第1のアセンブリ構成要素と、第1のアセンブリ構成要素の周囲に配置された第2のアセンブリ構成要素と、第1のアセンブリ構成要素と第2のアセンブリ構成要素との間に配置された環状バイメタルシールと、を備え、シールが、第1の材料から形成され、第1のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成するように構成された第1のシーリング構成要素と、第1の材料とは異なる第2の材料から形成され、第2のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成するように構成された第2のシーリング構成要素と、第1のシーリング構成要素と第2のシーリング構成要素との間に形成された接合部と、を備える、アセンブリ。
実施形態4.第1のアセンブリ構成要素が環の内径(ID)を画定し、第2のアセンブリ構成要素が環の外径(OD)を画定する、実施形態1~2のいずれかに記載のバイメタルシール又は実施形態3に記載のアセンブリ。
実施形態5.第1のシーリング構成要素が、(1)第1のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成する弓状部分と、(2)接合特徴部と、を備える、実施形態1~4のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態6.第1のシーリング構成要素が、弓状部分と接合特徴部との間に配置された直線状部分を備える、実施形態5に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態7.第2のシーリング構成要素が、(1)第2のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成する弓状部分と、(2)接合特徴部と、を備える、実施形態1~6のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態8.第2のシーリング構成要素が、弓状部分と接合特徴部との間に配置された直線状部分を備える、実施形態7に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態9.第1のシーリング構成要素の接合特徴部が接合空洞であり、第2のシーリング構成要素の接合特徴部が、接合部を形成するために接合空洞内に受容される接合脚部である、実施形態7~8のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態10.接合脚部が直線状である、実施形態9に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態11.接合脚部が、接合脚部の外周に沿って隆起部を形成する対向する弓状回旋部を備える、実施形態9に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態12.接合脚部が、実質的に軸方向に又は実質的に半径方向に延在する、実施形態10~11のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態13.第1のシーリング構成要素の接合特徴部が弓状接合部分を含み、第2のシーリング構成要素の接合特徴部が相補的な弓状接合部分を含み、弓状接合部分及び相補的な弓状接合部分が少なくとも部分的に重なり合う、実施形態7~8のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態14.バイメタルシールが、第1のシーリング構成要素を少なくとも部分的に受容するように構成された第1の空洞を有し、第1の空洞の反対側にあり、第2のシーリング構成要素を少なくとも部分的に受容するように構成された第2の空洞を有するリテーナを備え、リテーナが、第1のシーリング構成要素と第2のシーリング構成要素との間に少なくとも部分的に半径方向に配置されている、実施形態7~8のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態15.バイメタルシールが、第1のシーリング構成要素及び第2のシーリング構成要素を少なくとも部分的に受容するように構成された空洞を有するリテーナを備え、第1のシーリング構成要素及び第2のシーリング構成要素がリテーナによって接触状態を維持される、実施形態14に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態16.第1のアセンブリ構成要素が、第1の金属材料から形成され、第2のアセンブリ構成要素が、第1の金属材料とは異なる第2の金属材料から形成される、実施形態1~15のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態17.第1の金属材料の熱膨張係数(CTE)が、第2の金属材料のCTEとは異なる、実施形態16に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態18.第1の金属材料のCTEが、第2の金属材料のCTEより高い、実施形態17に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態19.第1の金属材料が、鋼又はステンレス鋼を含む、実施形態18に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態20.第2の金属材料が、チタン又はチタン合金を含む、実施形態19に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態21.第1のシーリング構成要素の第1の材料が金属材料であり、第2のシーリング構成要素の第2の材料が金属材料であり、第1の材料が第2の材料とは異なる、実施形態1~20のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態22.第1のシーリング構成要素の第1の材料の熱膨張係数(CTE)が、第2のシーリング構成要素の第2の材料のCTEとは異なる、実施形態21に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態23.第1のシーリング構成要素の第1の材料のCTEが、第2のシーリング構成要素の第2の材料のCTEより高い、実施形態22に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態24.第1のシーリング構成要素の第1の材料のCTEが、第1のアセンブリ構成要素の第1の金属材料のCTEより低く、第2のアセンブリ構成要素の第2の金属材料のCTEより高い、実施形態23に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態25.第2のシーリング構成要素の第2の材料のCTEが、第2のアセンブリ構成要素の第2の金属材料のCTEより高く、第1のアセンブリ構成要素の第1の金属材料のCTEより低い、実施形態24に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態26.第1のシーリング構成要素の第1の材料が、Inconel(登録商標)などのニッケル-クロム系合金、ニッケル系合金、ニッケル、チタン又はタングステンを含む、実施形態21~25のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態27.第2のシーリング構成要素の第2の材料が、Haynes(登録商標)242(登録商標)などのニッケル-モリブデンクロム合金、ステンレス鋼、ばね鋼、鋼、アルミニウム、亜鉛、銅、マグネシウム、スズ、白金、鉛、鉄又は青銅を含む、実施形態21~26のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態28.第1のシーリング構成要素の第1の材料のCTEが、第1のアセンブリ構成要素の第1の金属材料のCTEより、少なくとも5%低い、少なくとも10%低い、少なくとも15%低い、少なくとも20%低い、少なくとも25%低い、少なくとも30%低い、少なくとも35%低い、少なくとも40%低い、又は少なくとも50%低いものと同じである、実施形態17~27のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態29.第1のシーリング構成要素の第1の材料のCTEが、第1のアセンブリ構成要素の第1の金属材料のCTEより、95%以下で低い、90%以下で低い、85%以下で低い、80%以下で低い、75%以下で低い、65%以下で低い、60%以下で低い、55%以下で低い、又は50%以下で低い、実施形態17~28のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態30.第2のシーリング構成要素の第2の材料のCTEが、第2のアセンブリ構成要素の第2の金属材料のCTEより、少なくとも5%高い、少なくとも10%高い、少なくとも15%高い、少なくとも20%高い、少なくとも25%高い、少なくとも30%高い、少なくとも35%高い、少なくとも40%高い、少なくとも45%高い、少なくとも50%高い、少なくとも55%高い、少なくとも60%高い、少なくとも65%高い、少なくとも70%高い、又は少なくとも75%高いものと同じである、実施形態17~29のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態31.第2のシーリング構成要素の第2の材料のCTEが、第2のアセンブリ構成要素の第2の金属材料のCTEより、100%超以下、95%超以下、90%超以下、85%超以下、80%超以下、又は75%超以下である、実施形態17~30のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態32.接合部が、超音波溶接、レーザ焼結、機械的圧着、冷間圧延(クーロン接合)、ブレイジング、3D印刷又はこれらの組み合わせによって形成される、実施形態1~31のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態33.接合部に漏出経路が存在しない、実施形態32に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態34.環のIDが、少なくとも5mm、少なくとも6mm、少なくとも7mm、少なくとも8mm、少なくとも9mm、少なくとも10mm、少なくとも25mm、少なくとも50mm、少なくとも75mm、少なくとも100mm、少なくとも150mm、少なくとも200mm、少なくとも250mm、少なくとも300mm、少なくとも500mm、あるいはそれより高い、実施形態4~33のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態35.環のODが、少なくとも10mm、少なくとも11mm、少なくとも12mm、少なくとも13mm、少なくとも14mm、少なくとも15mm、少なくとも25mm、少なくとも50mm、少なくとも75mm、少なくとも100mm、少なくとも150mm、少なくとも200mm、少なくとも250mm、少なくとも300mm、少なくとも500mm、少なくとも1000mm、あるいはそれより高い、実施形態4~34のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態36.バイメタルシールが、少なくとも華氏500度(摂氏約260度)、少なくとも華氏600度(摂氏約315度)、少なくとも華氏700度(摂氏約370度)、少なくとも華氏800度(摂氏約425度)、少なくとも華氏900度(摂氏約480度)、又は少なくとも華氏1000度(摂氏約535度)の動作温度で、第1のアセンブリ構成要素と第2のアセンブリ構成要素との間に流体密封シールを維持するのに好適である、実施形態1~35のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態37.第1のシーリング構成要素における応力と第2のシーリング構成要素における応力との間の差が、100kpsi(約690MPa)以下、90kpsi(約620MPa)以下、80kpsi(約550MPa)以下、70kpsi(約480MPa)以下、60kpsi(約415MPa)以下、50kpsi(約345MPa)以下、25kpsi(約175MPa)以下、20kpsi(約140MPa)以下、15kpsi(約105MPa)以下、10kpsi(約70MPa)以下、又は5kpsi(約35MPa)以下である、実施形態1~36のいずれか一項に記載のバイメタルシール又はアセンブリ。
実施形態38.シールを形成する方法であって、第1のシーリング構成要素を形成することと、第2のシーリング構成要素を形成することと、第1のシーリング構成要素と第2のシーリング構成要素と、を接合することと、を含む、方法。
実施形態39.第1のシーリング構成要素を形成することが、第1のシーリング構成要素を3D印刷することを含む、実施形態38に記載の方法。
実施形態40.第2のシーリング構成要素を形成することが、第2のシーリング構成要素を3D印刷することを含む、実施形態38~39のいずれか一項に記載の方法。
実施形態41.第1のシーリング構成要素と第2のシーリング構成要素とを接合することが、第1のシーリング構成要素を第2のシーリング構成要素に超音波溶接することと、第1のシーリング構成要素を第2のシーリング構成要素にレーザ焼結することと、第1のシーリング構成要素を第2のシーリング構成要素に機械的に圧着することと、第1のシーリング構成要素を第2のシーリング構成要素に冷間圧延(クーロン接合)することと、第1のシーリング構成要素を第2のシーリング構成要素にブレイジングすることと、第1のシーリング構成要素若しくは第2のシーリング構成要素を、もう一方の周辺に3D印刷すること、又はこれらの組み合わせと、を含む、実施形態38~40のいずれか一項に記載の方法。
実施形態42.第1の材料が第2の材料とは異なる、実施形態38~41のいずれか一項に記載の方法。
実施形態43.第1のシーリング構成要素の第1の材料の熱膨張係数(CTE)が、第2のシーリング構成要素の第2の材料のCTEとは異なる、実施形態42に記載の方法。
実施形態44.異なる金属材料から形成された第1のアセンブリ構成要素と第2のアセンブリ構成要素との間にバイメタルシールを設置し、これによって、第1のシーリング構成要素が第1のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成し、第2のシーリング構成要素が第2のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成することを更に含む、実施形態43に記載の方法。
実施形態45.バイメタルシールを、少なくとも華氏500度(摂氏約260度)、少なくとも華氏600度(摂氏約315度)、少なくとも華氏700度(摂氏約370度)、少なくとも華氏800度(摂氏約425度)、少なくとも華氏900度(摂氏約480度)、又は少なくとも華氏1000度(摂氏約535度)の動作温度に曝すことと、第1のアセンブリ構成要素と第2のアセンブリ構成要素との間に流体密封シールを維持することと、を更に含む、実施形態44に記載の方法。
実施形態46.第1のシーリング構成要素における応力と第2のシーリング構成要素における応力との間の差が、100kpsi(約690MPa)以下、90kpsi(約620MPa)以下、80kpsi(約550MPa)以下、70kpsi(約480MPa)以下、60kpsi(約415MPa)以下、50kpsi(約345MPa)以下、25kpsi(約175MPa)以下、20kpsi(約140MPa)以下、15kpsi(約105MPa)以下、10kpsi(約70MPa)以下、又は5kpsi(約35MPa)以下である、実施形態38~45のいずれか一項に記載の方法。
Claims (14)
- 環状バイメタルシールであって、
第1の材料から形成された第1のシーリング構成要素と、
前記第1の材料とは異なる第2の材料から形成された第2のシーリング構成要素と、
前記第1のシーリング構成要素と前記第2のシーリング構成要素との間に形成された接合部と、を備え、前記第1のシーリング構成要素が、(1)第1のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成する第1の弓状部分と、(2)第1の接合特徴部と、を備え、前記第2のシーリング構成要素が、(1)第2のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成する第2の弓状部分と、(2)第2の接合特徴部と、を備える、環状バイメタルシール。 - 前記第1のシーリング構成要素及び前記第2のシーリング構成要素のうちの少なくとも1つが、前記弓状部分と前記接合特徴部との間に配置された直線状部分を備える、請求項1に記載のバイメタルシール。
- 前記第1の接合特徴部及び前記第2の接合特徴部のうちの少なくとも一方が、接合空洞を備え、前記第1の接合特徴部及び前記第2の接合特徴部のうちの他方が、前記接合部を形成するように前記接合空洞内に受容される接合脚部を備える、請求項1に記載のバイメタルシール。
- 前記接合脚部が直線状であり、前記接合脚部が、実質的に軸方向若しくは実質的に半径方向、又はこれらの組み合わせに延在する、請求項3に記載のバイメタルシール。
- 前記接合脚部が、前記接合脚部の外周に沿って隆起部を形成する対向する弓状回旋部を備える、請求項3に記載のバイメタルシール。
- 前記第1の接合特徴部が弓状接合部分を備え、前記第2の接合特徴部が、相補的な弓状接合部分を備え、前記弓状接合部分及び前記相補的な弓状接合部分が、少なくとも部分的に重なり合う、請求項1に記載のバイメタルシール。
- 前記バイメタルシールが、前記第1の接合特徴部及び前記第2の接合特徴部を少なくとも部分的に受容するように構成された少なくとも1つの空洞を有するリテーナを備える、請求項1に記載のバイメタルシール。
- 前記第1のシーリング構成要素の前記第1の材料が金属材料であり、前記第2のシーリング構成要素の前記第2の材料が金属材料であり、前記第1の材料が前記第2の材料とは異なる、請求項1に記載のバイメタルシール。
- 前記第1のシーリング構成要素の前記第1の材料の熱膨張係数(CTE)が、前記第2のシーリング構成要素の前記第2の材料のCTEとは異なる、請求項8に記載のバイメタルシール。
- 前記第1のシーリング構成要素の前記第1の材料の前記CTEが、前記第2のシーリング構成要素の前記第2の材料の前記CTEより高い、請求項9に記載のバイメタルシール。
- 前記接合部に漏出経路が存在しない、請求項1に記載のバイメタルシール。
- 前記第1のシーリング構成要素及び前記第2のシーリング構成要素のうちの少なくとも1つの内部に配置された支持リング又は支持ばねを更に備える、請求項1に記載のバイメタルシール。
- 前記第1のシーリング構成要素が、環の内径(ID)を画定する第1のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成するように構成され、前記第2のシーリング構成要素が、環の外径(OD)を画定する第2のアセンブリ構成要素と共に半径方向シールを形成するように構成され、前記第1のアセンブリ構成要素が、第1の金属材料から形成され、前記第2のアセンブリ構成要素が、前記第1の金属材料とは異なる第2の金属材料から形成される、請求項1に記載のバイメタルシール。
- 前記第1のシーリング構成要素の前記第1の材料の熱膨張係数(CTE)が、前記第1のアセンブリ構成要素の前記第1の金属材料の前記CTEより低く、前記第2のアセンブリ構成要素の前記第2の金属材料の前記CTEより高く、前記第2のシーリング構成要素の前記第2の材料の前記CTEが、前記第2のアセンブリ構成要素の前記第2の金属材料の前記CTEより高く、前記第1のアセンブリ構成要素の前記第1の金属材料の前記CTEより低い、請求項13に記載のバイメタルシール。
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