JP7586856B2 - 電子分光装置および分析方法 - Google Patents
電子分光装置および分析方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7586856B2 JP7586856B2 JP2022097319A JP2022097319A JP7586856B2 JP 7586856 B2 JP7586856 B2 JP 7586856B2 JP 2022097319 A JP2022097319 A JP 2022097319A JP 2022097319 A JP2022097319 A JP 2022097319A JP 7586856 B2 JP7586856 B2 JP 7586856B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- energy
- measurement
- spectrometer
- spectra
- electron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/44—Energy spectrometers, e.g. alpha-, beta-spectrometers
- H01J49/46—Static spectrometers
- H01J49/48—Static spectrometers using electrostatic analysers, e.g. cylindrical sector, Wien filter
- H01J49/484—Static spectrometers using electrostatic analysers, e.g. cylindrical sector, Wien filter with spherical mirrors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/227—Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]
- G01N23/2273—Measuring photoelectron spectrum, e.g. electron spectroscopy for chemical analysis [ESCA] or X-ray photoelectron spectroscopy [XPS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/227—Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]
- G01N23/2276—Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM] using the Auger effect, e.g. Auger electron spectroscopy [AES]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/05—Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/0027—Methods for using particle spectrometers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/025—Detectors specially adapted to particle spectrometers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/24485—Energy spectrometers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/25—Tubes for localised analysis using electron or ion beams
- H01J2237/2505—Tubes for localised analysis using electron or ion beams characterised by their application
- H01J2237/2511—Auger spectrometers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
試料から放出された電子をエネルギー分光する分光器と、
前記分光器でエネルギー分光された電子のエネルギー分散方向に並んで配置された複数の検出部を備えた検出器と、
処理部と、
を含み、
前記処理部は、
前記分光器において第1エネルギーステップでエネルギーを掃引し、前記分光器でエネルギー分光された電子を前記複数の検出部で検出して得られた、複数の第1スペクトルを取得する処理と、
前記複数の第1スペクトルの各々において、測定点を補完する処理と、
測定点が補完された前記複数の第1スペクトルを積算または平均して、前記第1エネルギーステップよりも小さい第2エネルギーステップの第2スペクトルを生成する処理と、
を行い、
前記処理部は、前記分光器において前記第1エネルギーステップでエネルギーを掃引して、前記検出部ごとに前記第1エネルギーステップの前記第1スペクトルを取得し、
前記処理部は、前記複数の第1スペクトルの各々の測定エネルギーが一致しないように、前記第1エネルギーステップを設定する。
試料から放出された電子をエネルギー分光する分光器と、
前記分光器でエネルギー分光された電子のエネルギー分散方向に並んで配置された複数の検出部を備えた検出器と、
を含む、電子分光装置を用いた分析方法であって、
前記分光器において第1エネルギーステップでエネルギーを掃引し、前記分光器でエネルギー分光された電子を前記複数の検出部で検出して、複数の第1スペクトルを取得する工程と、
前記複数の第1スペクトルの各々において、測定点を補完する工程と、
測定点が補完された前記複数の第1スペクトルを積算または平均して、前記第1エネルギーステップよりも小さい第2エネルギーステップの第2スペクトルを生成する工程と、
を含み、
前記複数の第1スペクトルを取得する工程では、
前記分光器において前記第1エネルギーステップでエネルギーを掃引して、前記検出部ごとに前記第1エネルギーステップの前記第1スペクトルを取得し、
前記複数の第1スペクトルの各々の測定エネルギーが一致しないように、前記第1エネルギーステップを設定する。
まず、本発明の一実施形態に係る電子分光装置について図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る電子分光装置100の構成を示す図である。
きる。
の情報を取得する。そのため、処理部60は、各チャンネルトロン42ごとにエネルギースペクトル(以下、単に「スペクトル」ともいう)を取得できる。すなわち、処理部60は、同時に、チャンネルトロン42の数に応じたスペクトルを取得できる。
2.1. エネルギー分解能の指定
電子分光装置100では、分光器30で測定エネルギーを掃引させながら測定を繰り返すことで、エネルギースペクトルを収集できる。以下、電子分光装置100におけるスペクトルの収集方法について説明する。
処理部60は、エネルギー分解能に基づいて、測定時のエネルギーステップΔE1を設定する。電子分光装置100では、エネルギーステップΔE1でエネルギーを掃引して測定を行う。例えば、図3に示す例では、1回目の測定において0chの測定エネルギーがE0の場合、2回目の測定では0chの測定エネルギーはE0+ΔE1となり、3回目の測定では0chの測定エネルギーはE0+2ΔE1となる。したがって、各チャンネルトロン42ごとに得られるスペクトルの測定点の間隔は、エネルギーステップΔE1となる。
ップΔE1が6eVの場合、測定結果として最大値1.0の波形が得られるとは限らない。
パターン2:1973,1979,1985,1991,1947,2003,2009.2015,2021,2027,2033
α=d・(1+0.5・d・c・γ)
β:エネルギーステップΔE1の下限
α:エネルギーステップΔE1の比例係数
c・(Ep+γ・Em):チャンネル間の測定エネルギー差D
c:分光器を通過する電子のエネルギーとチャンネル間の測定エネルギー差Dの比
Ep:CAEモードでのパスエネルギー(分光器を通過する電子のエネルギー)
γ:CRRモードでのインプットレンズの減速率
Em:測定エネルギー
d:チャンネル間の測定エネルギー差DとエネルギーステップΔE1の比
レンズ通過後に電子のエネルギーが1/2になった場合、γ=1/2となる。また、例えば、図5に示すΔE1=Dの場合、比dはd=1となり、図6に示すΔE1=D/2の場合、比dはd=1/2となる。
α=d
α=d・(1+0.5・d・c・γ)
f(Em)=max(αEm,β) ・・・(4)
ただし、式(4)のαはα=α・c・γであり、この式の右辺のαは式(2)のαである。
上記のΔE1を示す式において、c、Ep、γ、Emは、値が決まっている。これに対して、β、α、dについては、値を設定しなければならない。ここで、αは、式α=d・(1+0.5・d・c・γ)から算出できるため、ΔE1を算出するために確定すべきパラメーターは、β、dとなる。
電子分光装置100では、電子銃12から放出された電子線は、電子レンズ14によって集束されて試料S上に照射される。電子線が照射された試料Sからは、オージェ電子、二次電子等が放出される。
電子分光装置100では、測定時のエネルギーステップΔE1とは別に、スペクトル生成時のエネルギーステップΔE2を設定する。これにより、測定時およびスペクトル生成時のそれぞれにおいて、最適なエネルギーステップを設定できる。
図12は、7個のスペクトルの各々において、測定点を補完する処理を説明するための図である。
図13は、測定点が線形補完された7個のスペクトルを積算した結果を示すグラフである。
図12に示す7個のスペクトルを積算する際に、各スペクトルの測定エネルギーが一致しないことが望ましい。
るための図である。
図17は、処理部60の処理の一例を示すフローチャートである。
引し、分光器30でエネルギー分光された電子を7個のチャンネルトロン42で検出して得られた7個のスペクトルを取得する(S102)。処理部60は、分光器制御装置52を介して分光器30に、処理S100で設定したエネルギーステップΔE1でエネルギーを掃引させ、チャンネルトロン42ごとに計数された電子の計数結果を、計数演算装置54から取得する。これにより、図11に示すように、7個のスペクトルを取得できる。
測定時のエネルギーステップΔE1が大きくなるほど、測定時間を短くでき、ノイズを小さくできる。しかしながら、測定時のエネルギーステップΔE1が大きくなるほど、スペクトルのピークが歪む。このように、ノイズとスペクトルのピークの歪みがトレードオフの関係にある。
オージェ電子分光法では、バックグラウンドの影響を低減するために、微分されたスペクトルが用いられる。
ト数N0、N1、N2、・・・は、以下のように表される。
ーを(1/2)・ΔEだけシフトしてからDσmを計算した。
次に、測定ステップとスペクトルのピークの歪みの関係について説明する。
解能関数およびその微分結果を示すグラフである。図27は、図24に示す分解能関数の測定開始エネルギーを+4eVずらしたときの分解能関数およびその微分結果を示すグラフである。図28は、図24に示す分解能関数の測定開始エネルギーを+6eVずらしたときの分解能関数およびその微分結果を示すグラフである。
電子分光装置100では、処理部60は、分光器30において第1エネルギーステップΔE1(測定ステップ)でエネルギーを掃引し、分光器30でエネルギー分光された電子を複数のチャンネルトロン42で検出して得られた、複数の第1スペクトルを取得する処理と、複数の第1スペクトルの各々において測定点を補完する処理と、測定点が補完された複数の第1スペクトルに基づいて、第1エネルギーステップΔE1よりも小さい第2エネルギーステップΔE2の第2スペクトル(マルチスペクトル)を生成する処理と、を行う。そのため、電子分光装置100では、例えば、特定の1つのチャンネルトロンで電子を検出する場合と比べて、測定回数を低減できる。したがって、電子分光装置100では、スペクトルを収集するための測定時間を短くできる。
Claims (5)
- 試料から放出された電子をエネルギー分光する分光器と、
前記分光器でエネルギー分光された電子のエネルギー分散方向に並んで配置された複数の検出部を備えた検出器と、
処理部と、
を含み、
前記処理部は、
前記分光器において第1エネルギーステップでエネルギーを掃引し、前記分光器でエネルギー分光された電子を前記複数の検出部で検出して得られた、複数の第1スペクトルを取得する処理と、
前記複数の第1スペクトルの各々において、測定点を補完する処理と、
測定点が補完された前記複数の第1スペクトルを積算または平均して、前記第1エネルギーステップよりも小さい第2エネルギーステップの第2スペクトルを生成する処理と、
を行い、
前記処理部は、前記分光器において前記第1エネルギーステップでエネルギーを掃引して、前記検出部ごとに前記第1エネルギーステップの前記第1スペクトルを取得し、
前記処理部は、前記複数の第1スペクトルの各々の測定エネルギーが一致しないように、前記第1エネルギーステップを設定する、電子分光装置。 - 請求項1において、
前記処理部は、
エネルギー分解能の指定を受け付ける処理と、
前記エネルギー分解能に基づいて、前記第1エネルギーステップを設定する処理と、
を行う、電子分光装置。 - 請求項2において、
前記処理部は、
前記エネルギー分解能に基づいて隣り合う前記検出部間の測定エネルギー差と前記第1エネルギーステップの比を設定し、
前記比に基づいて、前記第1エネルギーステップを設定する、電子分光装置。 - 請求項3において、
前記処理部は、前記比を1よりも小さい値に設定する、電子分光装置。 - 試料から放出された電子をエネルギー分光する分光器と、
前記分光器でエネルギー分光された電子のエネルギー分散方向に並んで配置された複数の検出部を備えた検出器と、
を含む、電子分光装置を用いた分析方法であって、
前記分光器において第1エネルギーステップでエネルギーを掃引し、前記分光器でエネルギー分光された電子を前記複数の検出部で検出して、複数の第1スペクトルを取得する工程と、
前記複数の第1スペクトルの各々において、測定点を補完する工程と、
測定点が補完された前記複数の第1スペクトルを積算または平均して、前記第1エネルギーステップよりも小さい第2エネルギーステップの第2スペクトルを生成する工程と、
を含み、
前記複数の第1スペクトルを取得する工程では、
前記分光器において前記第1エネルギーステップでエネルギーを掃引して、前記検出部ごとに前記第1エネルギーステップの前記第1スペクトルを取得し、
前記複数の第1スペクトルの各々の測定エネルギーが一致しないように、前記第1エネルギーステップを設定する、分析方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022097319A JP7586856B2 (ja) | 2022-06-16 | 2022-06-16 | 電子分光装置および分析方法 |
| EP23174747.8A EP4293704A1 (en) | 2022-06-16 | 2023-05-23 | Electron spectrometer and analytical method |
| US18/210,169 US20230411113A1 (en) | 2022-06-16 | 2023-06-15 | Electron Spectrometer and Analytical Method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022097319A JP7586856B2 (ja) | 2022-06-16 | 2022-06-16 | 電子分光装置および分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023183677A JP2023183677A (ja) | 2023-12-28 |
| JP7586856B2 true JP7586856B2 (ja) | 2024-11-19 |
Family
ID=86497475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022097319A Active JP7586856B2 (ja) | 2022-06-16 | 2022-06-16 | 電子分光装置および分析方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230411113A1 (ja) |
| EP (1) | EP4293704A1 (ja) |
| JP (1) | JP7586856B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002323463A (ja) | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Shimadzu Corp | 電子線分析装置 |
| JP2002340827A (ja) | 2001-05-11 | 2002-11-27 | Jeol Ltd | 電子分光装置 |
| JP2017204425A (ja) | 2016-05-13 | 2017-11-16 | 日本電子株式会社 | 電子分光装置および測定方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1170375A (en) * | 1980-06-11 | 1984-07-03 | Alan F. Reid | Method and apparatus for material analysis |
| GB8612099D0 (en) * | 1986-05-19 | 1986-06-25 | Vg Instr Group | Spectrometer |
| JP3143279B2 (ja) * | 1993-09-03 | 2001-03-07 | 日本電子株式会社 | 電子エネルギー分析器 |
| JP2001312994A (ja) | 2000-04-26 | 2001-11-09 | Jeol Ltd | 電子分光装置 |
| US7569816B1 (en) * | 2007-01-15 | 2009-08-04 | Raymond Browning | Electron spectrometer |
-
2022
- 2022-06-16 JP JP2022097319A patent/JP7586856B2/ja active Active
-
2023
- 2023-05-23 EP EP23174747.8A patent/EP4293704A1/en active Pending
- 2023-06-15 US US18/210,169 patent/US20230411113A1/en active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002323463A (ja) | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Shimadzu Corp | 電子線分析装置 |
| JP2002340827A (ja) | 2001-05-11 | 2002-11-27 | Jeol Ltd | 電子分光装置 |
| JP2017204425A (ja) | 2016-05-13 | 2017-11-16 | 日本電子株式会社 | 電子分光装置および測定方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20230411113A1 (en) | 2023-12-21 |
| EP4293704A1 (en) | 2023-12-20 |
| JP2023183677A (ja) | 2023-12-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102084229B (zh) | 谱数据分析的方法和系统 | |
| JP5517584B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
| US8027811B2 (en) | Processing of spectrometer pile-up events | |
| EP2653891A1 (en) | Method for analyzing an EDS signal | |
| WO2000041206A1 (fr) | Dispositif de mappage d'elements, microscope electronique a transmission et a balayage, et procede associe | |
| JP2009250867A (ja) | エネルギー分散型x線分光器を備えるx線分析装置 | |
| JP2011038939A (ja) | エネルギー分散型x線分析装置のスペクトルの分類方法及び装置 | |
| JP6677571B2 (ja) | 電子分光装置および測定方法 | |
| JP7586856B2 (ja) | 電子分光装置および分析方法 | |
| EP3633361B1 (en) | Method of generating elemental map and surface analyzer | |
| JP2020051900A (ja) | X線分析用信号処理装置 | |
| US11698336B2 (en) | Analysis method and analysis apparatus | |
| JP7075601B2 (ja) | 分析方法および分析装置 | |
| CN101101269A (zh) | 能量分散型辐射探测系统和测量目标元素的含量的方法 | |
| US12429442B2 (en) | Scanning electron microscope and map display method for absorption edge structure | |
| JP6808693B2 (ja) | X線分析装置および計数率の補正方法 | |
| JP2004265879A (ja) | 元素マッピング装置,走査透過型電子顕微鏡および元素マッピング方法 | |
| Uchida et al. | New Spectrum Imaging Method for Solid Surfaces with Secondary Electrons acquired over Wide Energy Range (> 1000 eV) | |
| Oliveira et al. | Energy weighting in a 2D-MHSP X-ray single photon detector | |
| WO2022162975A1 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
| Chatterjee | Electron Microprobe Analysis Course 12.141 | |
| Statham | Measuring performance of energy-dispersive X-ray systems | |
| JP7126928B2 (ja) | 表面分析装置および表面分析方法 | |
| EP4700378A1 (en) | Electron count and energy enhanced diffraction analysis | |
| EP4700329A1 (en) | Thin layer thickness estimation using electron backscattering |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230831 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240523 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240604 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240719 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20241029 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20241107 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7586856 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
















