JP7600742B2 - 発光部品及びこれを用いた光書込装置、画像形成装置 - Google Patents
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Description
この種の光書込装置としては例えば特許文献1に記載のものが既に知られている。
特許文献1には、光書込装置に用いられる発光部品として、主走査方向に沿って発光素子を配列した発光素子アレイが提供されている。この発光素子アレイは発光素子による発光点が主走査方向に一列には並ばず、千鳥状に二列に並んだ態様として構成されている。
請求項4に係る発明は、請求項3に係る光書込装置において、前記結像手段は、前記第1の発光素子列の各発光素子と前記第2の発光素子列の各発光素子との副走査方向の差よりも大きい直径の屈折率分布型レンズを主走査方向に配列したものであることを特徴とする光書込装置である。
請求項5に係る発明は、請求項4に係る光書込装置において、前記第1の発光素子列と前記第2の発光素子列とは、前記屈折率分布型レンズに対し副走査方向に異なる位置に出射光が入射することを特徴とする光書込装置である。
請求項6に係る発明は、請求項5に係る光書込装置において、前記第1の発光素子列と前記第2の発光素子列とを含む発光素子チップが複数あり、前記複数の発光素子チップは、副走査方向及び主走査方向に偏倚して配置され、前記結像手段は前記屈折率分布型レンズを複数列に隣接して主走査方向に配列したものであり、同じ発光素子チップの各発光素子からの光は主走査方向に並ぶ同列の屈折率分布型レンズに入射し、隣り合う発光素子チップの各発光素子からの光は異なる列の屈折率分布型レンズに入射することを特徴とする光書込装置である。
請求項8に係る発明は、請求項7に係る画像形成装置において、前記光書込装置は、前記第1の発光素子列及び前記第2の発光素子列の各発光素子から出射される光で前記画像保持手段に主走査方向に沿う線状画像を書き込んだときに、主走査方向に隣り合う発光点に対応する結像ビーム領域を重ね合うように配置することを特徴とする画像形成装置である。
特に、発光部品の発光点の実質的な配列ピッチを、第1、第2の発光素子列の各発光素子による発光点間の主走査方向の配列ピッチの1/2以下に狭めることができる。
また、発光点領域の重なり合いを適切に選定することで、光出力を維持しつつ、解像度を高めることができる。
更に、発光ビーム領域の重なり合いを適切に選定することで、光出力を維持しつつ、解像度を高めることができる。
請求項2に係る発明によれば、第1の発光素子列、第2の発光素子列による副走査方向に沿う偏倚量を適切に選定することができる。
請求項3に係る発明によれば、主走査方向に並ぶ発光素子の発光面積を確保しつつ、主走査方向に並ぶ発光素子による隣接する発光点の配列間隔を狭めることを可能とする発光部品を含む光書込装置を提供することができる。
請求項4に係る発明によれば、結像手段に傾きや配置公差があったとしても、第1、第2の発光素子列の各発光素子からの光経路のばらつきを緩和することができる。
請求項5に係る発明によれば、第1の発光素子列と第2の発光素子列の光が屈折率分布型レンズの同じ位置に入射する場合に比較して、入射位置のばらつきによる影響を抑制することができる。
請求項6に係る発明によれば、偏倚配置した各発光素子列チップからの光経路につき、複数列の屈折率分布型レンズを割り当てない場合に比べて、屈折率分布型レンズが列ごとにばらついてしまったことによる影響を抑制することができる。
請求項7に係る発明によれば、主走査方向に並ぶ発光素子の発光面積を確保しつつ、主走査方向に並ぶ発光素子による隣接する発光点の配列間隔を狭めることを可能とする発光部品を含む光書込装置を備えた画像形成装置を提供することができる。
請求項8に係る発明によれば、主走査方向に隣り合う発光点に対応する結像ビーム径を重ね合わないように配置する態様に比べて、各発光素子の発光特性のばらつきによる影響を抑制することができる。
図1(a)は本発明が適用された画像形成装置の実施の形態の概要を示す。
同図において、画像形成装置10は、光書込装置11と、光書込装置11に対向して設けられ、光書込装置11によって書き込まれた光による画像を保持する画像保持手段12と、を備えたものである。
ここで、光書込装置11は、発光部品1と、発光部品1の各発光素子4から出射される光を、光による画像が保持可能な画像保持手段12に結像させる結像手段6と、を備え、画像保持手段12に光による画像を書き込むものである。
ここでいう画像保持手段12としては感光体に限られず、誘電体等も含まれ、その形態はドラム状、ベルト状等適宜選定して差し支えない。また、光による画像とは、例えば所定レベルに帯電した後、画像パターンに応じた光により除電することで電位差を持って形成される静電潜像などが挙げられる。
また、結像手段6については、発光部品1の各発光素子4から出射される光を画像保持手段12に結像させるものであれば、表面で光を屈折させるレンズ(例えばシリンドリカルレンズ)でもよいし、内部で光を屈折させるレンズ(例えば屈折率分布型レンズ)等適宜選定して差し支えない。
ここで、発光素子4としては、例えば発光ダイオード(LED:light Emitting Diode)が挙げられる。この場合、発光素子4の具体的構成は、発光ダイオードLEDを構成するpアノード層、発光層、nカソード層が積層されたものであり、発光素子4が別々の発光点となるように、積層された層に溝が形成されている。本例では発光点領域WA1、WA2は発光ダイオードLEDのカソード層の幅と同じになっているが、これに限られるものではなく、pアノード層に設けられた電流狭窄層でより狭い領域で発光するように構成することも可能である。
尚、発光素子4としては、LEDに限定されず、VCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting LASER(垂直共振器面発光レーザ))等でもよい。
尚、本例においては、光書込装置11の発光部品1が画像を複数のラインに分割して書込む際、ライン方向への移動を主走査、次のライン方向への移動を副走査という。
また、第1、第2の発光素子列2、3の配列態様は主走査方向に沿って一直線上に並んで配列される態様が代表的であるが、一直線上に並んでいない態様も含む。例えば第1の発光素子列2及び第2の発光素子列3を含む発光素子アレイが複数の発光素子チップからなり、複数の発光素子チップが例えば千鳥状に配置される態様にあっては、奇数番目の発光素子チップと偶数番目の発光素子チップとでは、第1、第2の発光素子列2、3は一直線上に並ばない状態になるが、これらの態様も含む趣旨である。
また、発光点領域や発光ビーム領域は、発光素子4の多層構造から発光部島を分離するための幅寸法、エッチング処理のための幅寸法、電極幅を差し引き、光出射可能な開口部として確保される大きさによって決まる。
このように、発光部品1の発光素子4の主走査方向における配列を工夫すると、画像保持手段12上に形成される結像手段6による結像画像は、発光部品1の各発光素子4の発光点に対応したビームの画像になる。
先ず、第1、第2の発光素子列2、3の発光点の配列ピッチの代表的な選定法については、第1の発光素子列2の各発光素子4による発光点と、第2の発光素子列3の各発光素子4による発光点との間の主走査方向に沿う配列ピッチhpは、第1、第2の発光素子列2、3の各発光素子4による発光点間の主走査方向の配列ピッチの1/2以下であることが挙げられる。
ここで、発光部品1が第1、第2の発光素子列2、3のみを備えている態様にあっては、最大1/2の配列ピッチになるものであるが、例えば第1、第2の発光素子列2、3に加えて図示外の第3の発光素子列を付加した態様にあっては、1/2未満の配列ピッチにすることが可能である。
図1(c)の例では、2400dpiで発光素子を配置したので、第1の発光素子列2の発光素子4と第2の発光素子列3の発光素子4とは10.5μm間隔となっている。発光素子のカソード層の幅を15.4μmとしたので、第1列の1つの発光素子4に対して、第2列の隣り合う2つの発光素子4が重なるので、重なっている領域を63.6%とした。なお、これは適正値のうち中央値ではなく、重なりが多い側にしたことの理由として、本件実施例では発光点領域で発光した光を覆うように電極を配置していることも関係している。
また、図1(c)に示すように、電極5を配置した場合の電極の内側の寸法は、10.6μmとほぼ2400dpiのピッチと等しくした。発光素子4では発光点領域の全域が光るといっても、側面近くの光量は弱く中央部分の光量が強い分布になっている。発光領域は重なりが多くなるようにして、ピッチに対して幅が広くなるようにしておいて、電極5で安定した光量が得られる部分を抜き出している状態ともいえる。ただし、ピッチよりも小さくすると、特に2400dpi以上のような間隔が狭い場合は、やはり光量が足りなくなる可能性が高く、隙間のちょうどない重なり0よりもわずかに重なりがある状態にした方がよい。しかしながら、解像度の観点から10%以内としたほうがよい。
更に、副走査方向に対する発光点の好ましい配列態様としては、第1の発光素子列2の各発光素子4による発光点と、第2の発光素子列3の各発光素子4による発光点との間の副走査方向に沿う配列ピッチは、作像ライン間隔の整数N倍であることが挙げられる。本例によれば、作像ライン間隔の整数N倍に選定しておけば、Nライン分だけ書込みタイミングをずらすことで、第1、第2の発光素子列2、3により同一ラインの画像を書き込むことが可能である。
ここで、結像手段6として屈折率分布型レンズを採用する態様にあっては、第1の発光素子列2と第2の発光素子列3とは、屈折率分布型レンズに対し副走査方向に異なる位置に出射光が入射するようにすればよい。
また、第1の発光素子列2と第2の発光素子列3とを含む図示外の発光素子チップが複数あり、複数の発光素子チップは、副走査方向及び主走査方向に偏倚して配置され、結像手段6は屈折率分布型レンズを複数列に隣接して主走査方向に配列したものであり、同じ発光素子チップの各発光素子4からの光は主走査方向に並ぶ同列の屈折率分布型レンズに入射し、隣り合う発光素子チップの各発光素子4からの光は異なる列の屈折率分布型レンズに入射するようにすればよい。本例は、複数の発光素子チップを偏倚配置し、複数列の屈折率分布型レンズを使用する態様において、偏倚配置した発光素子チップからの光経路につき、複数列の屈折率分布型レンズを割り当てる態様である。両方の発光素子チップから出射される光を同じ列の屈折率分布型レンズに入射させる場合には、両方の発光素子チップからの光経路長の違いが大きくなり、その分、結像特性がばらつき易くなるのに対し、本態様では、このような影響が抑えられる点で好ましい。
◎実施の形態1
<画像形成装置の全体構成>
図2は実施の形態1に係る画像形成装置の全体構成を示す。
同図において、画像形成装置20は、一般にタンデム型と呼ばれる画像形成装置である。この画像形成装置20は、各色の画像データに対応して画像形成を行なう画像形成プロセス部21、画像形成プロセス部21を制御する画像出力制御部40、例えばパーソナルコンピュータ(PC)61や画像読取装置62に接続され、これらから受信された画像データに対して予め定められた画像処理を施す画像処理部50を備えている。
また、画像形成プロセス部21は、各作像エンジン23(23a~23d)の感光体24にて形成された各色のトナー像を記録媒体の一例としての記録用紙29に多重転写させるために、この記録用紙を搬送する用紙搬送ベルト30と、感光体24のトナー像を記録用紙に転写させる転写器(本例では転写ロールを使用)31と、記録用紙にトナー像を定着させる定着器32とを備えている。
その後、合成トナー像が静電転写された記録用紙29は、定着器32まで搬送される。定着器32に搬送された記録用紙29上の合成トナー像は、定着器32によって熱および圧力による定着処理を受けて記録用紙29上に定着され、画像形成装置20から排出される。
図3は本実施の形態が適用される光書込装置26の構成例を示し、図4はその斜視説明図を示す。
同図において、光書込装置26は、装置筐体71と、装置筐体71に保持され、発光素子として複数のLEDを備えた発光素子アレイ72と、装置筐体71に保持され、発光素子アレイ72の発光素子から出射された光出力を結像させて感光体24を露光し静電潜像を形成させるための結像手段の一例としての結像レンズ73とを備えている。
本例において、装置筐体71は、例えば金属で形成され、発光素子アレイ72及び結像レンズ73を保持し、発光素子アレイ72の発光素子80の発光点Lと結像レンズ73の焦点面とを一致させるようになっている。また、結像レンズ73は感光体24の軸方向(主走査方向に相当)に沿って配置されている。
尚、発光素子アレイ72は、フレキシブル基板74を介して信号発生回路76(図9(a)参照)が搭載された制御基板75に接続されている。
図5(a)は発光素子アレイ72の構成例を示す。
同図において、発光素子アレイ72は、回路基板90上に複数の発光素子チップC(C1~Cn)を、主走査方向に二列に向かい合わせて千鳥状に配置し、各発光素子チップC(C1~Cn)には主走査方向に発光素子80を並べて配列し、更に、制御基板75に搭載された信号発生回路76と複数の発光素子チップCの各発光素子80とを直接接続することで、信号発生回路76によって各発光素子80の発光を個々的に制御するようになっている。
尚、本例において、発光素子チップCを千鳥状に配置しているのは、複数の発光素子チップCを一方向に配列すると、発光素子チップCの端部で発光素子80の間隔を一定にできないことを避けるためである。
図5(b)は発光素子チップC(Ci~Ci+2)の構成例を示す。
同図において、発光素子チップCは、発光素子アレイ72に搭載される発光素子チップCのうち、奇数番目の発光素子チップC(本例ではCi、Ci+2:iは奇数)は、チップ基板81上の偶数番目の発光素子チップC(本例ではCi+1:iは奇数)寄りの領域に、主走査方向に配列される発光素子80なる第1の発光素子列82と、第1の発光素子列82に対して副走査方向に偏倚し且つ第1の発光素子列82の各発光素子80間に位置するように主走査方向に配列される第2の発光素子列83と、を具備している。
一方、偶数番目の発光素子チップC(本例ではCi+1:iは奇数)は、チップ基板81上の奇数番目の発光素子チップC(本例ではCi、Ci+2:iは奇数)寄りの領域に、主走査方向に配列される発光素子80なる第1の発光素子列82と、第1の発光素子列82に対して副走査方向に偏倚し且つ第1の発光素子列82の各発光素子80間に位置するように主走査方向に配列される第2の発光素子列83と、を具備している。
更に、本例では、奇数番目の発光素子チップC(例えばCi)の最後尾(図中右端)に位置する発光素子80の主走査方向中心線位置と、これに隣接する偶数番目の発光素子チップC(例えばCi+1)の最初(図中左端)に位置する発光素子80の主走査方向中心線位置との間の距離xcは、配列ピッチP/2に合うように選定されている。また、奇数番目の発光素子チップC(例えばCi+2)の最初に位置する発光素子80の主走査方向中心線位置と、これに隣接する偶数番目の発光素子チップC(例えばCi+1)の最後尾に位置する発光素子80の主走査方向中心線位置との間の距離xcも配列ピッチP/2に合うように選定されている。
また、奇数番目の発光素子チップC(Ci、Ci+2)の第1の発光素子列82と第2の発光素子列83との間の副走査方向の中心位置を結ぶ発光点Lの重心位置をm1、また、偶数番目の発光素子チップC(Ci+1)の第1の発光素子列82と第2の発光素子列83との間の副走査方向の中心位置を結ぶ発光点Lの重心位置をm2とすると、隣接する発光素子チップCの副走査方向の偏倚距離ycは|m1-m2|に選定されている。
第1、第2の発光素子列82、83の発光素子80の配置例を説明するに当たって、先に、比較の形態1に係る発光素子アレイの発光素子の配置例において、配列ピッチを狭める場合について説明する。
◎比較の形態1
比較の形態1に係る発光素子アレイ72’は、例えば発光素子チップを千鳥状に配置するにしても、各発光素子チップは、図6(a)に示すように、主走査方向に対し配列ピッチPで発光素子80を一列に配置したものである。
このとき、発光素子80の発光点Lは、等間隔の配列ピッチPで主走査方向xに並んでいる。ここで、隣り合う発光素子80の発光点領域に相当する発光部島91を分離するには幅2aが必要であり、発光素子80をウエットエッチングで素子分離を行う場合にはエッチング深さをeとすると、a>eであることが必要になる。更に、本例では、発光素子80の表面に光を通さない電極92が配置されている。電極92下の発光は取り出せないことから、電極92の幅2bが非発光領域として確保することが必要である。このため、発光素子80の発光部島91の領域のうち、実際に発光可能な領域(発光ビーム領域に相当)WはP-2a-2bであることが理解される。
今、1200dpi(dots per inch)では、P=21-2μm、a=2μm、b=2.5μmとすると、W=21.2-4-5=12.2μmになる。
そして、第1の発光素子列82の発光素子80とこれに隣り合う第2の発光素子列83の発光素子80との間の主走査方向に沿う配列ピッチはP/2であり、また、両者間の副走査方向に沿う距離(本例では各発光素子80の副走査方向中心線位置間の距離)pはライン間隔の整数N倍として選定されている。
更に、本例において、第1、第2の発光素子列82、83の各発光素子80の発光点L(L1、L2)のうち、実際に発光可能な領域は、いずれも、比較の形態1で用いられる発光素子アレイ72’と同程度に確保される。つまり、発光点L(L1、L2)のうち、電極92の内側の領域が本例における発光ビーム領域W(具体的にはW1、W2:本例ではW1=W2)となっている。
そして、本例では、第1の発光素子列82の各発光素子80による発光ビーム領域W1と、第2の発光素子列83の各発光素子80による発光ビーム領域W2とが主走査方向に対して隙間がないように配置されている。
また、第1の発光素子列82の発光素子80の発光点L(L1)の発光ビーム領域W1は、第2の発光素子列83の発光素子80の発光点Lの発光ビーム領域W2に対して主走査方向にΔWだけ重なり合うように選定されている。本例において、ΔWは発光点Lの発光ビーム領域W(W1、W2)の例えば0.05%に選定されている。ここで、ΔWが0より小さいマイナス側の値であると、第1の発光素子列82と第2の発光素子列83との間で隣り合う発光点Lの主走査方向の重なり合いが不安定になり易く、また、ΔWがWの10%を超えると、発光点Lから出射される光が重なり合い過ぎて、発光点L単位の解像度に影響し易くなる懸念がある。
このため、本例では、第1の発光素子列82と第2の発光素子列83との間で隣り合う発光点Lから出射された光を円で模式的に示したビーム径d(具体的にはd1、d2)は、主走査方向において発光点Lの重なり合いΔWに略対応して領域OLだけ重なり合う。
尚、第1の発光素子列82と第2の発光素子列83との間で隣り合う発光素子80は、副走査方向にpだけ離れているため、感光体24上で一直線に並ぶ画像を作製するには、Nライン分ずれた作像タイミング又は遅延回路を用いて画像を描画するようにすればよい。
本例において、発光素子チップCは、自己走査型発光素子(SLED:self Scanning Light Emitting Diode)が使用されており、p型の基板100上に発光ダイオードLEDを構成するpアノード層101、発光層102、nカソード層103が積層され、発光素子80が別々の発光点となるように積層された層に溝が形成されていると共に、トンネル接合層104を介して、設定サイリスタSを構成するpアノード層105、nゲート層106、pゲート層107、nカソード層108が積層されている。
そして、設定サイリスタSは、nカソード層108上に設けられたnオーミック電極111をカソード電極とし、nカソード層を除去して露出させたpゲート層107上に設けられたp型のオーミック電極112をゲート電極とするものである。尚、pアノード層101は、下側pアノード層101a、電流狭窄層101b、上側pアノード層101cで構成されている。
本例では、発光点領域WA1、WA2は発光ダイオードLEDのnカソード層103の幅と同じになっている。つまり、一つ一つの発光素子80の外周部分に相当するようなnカソード層103の幅全体が発光するようにしてnカソード層103の幅を発光点領域WA1、WA2とみなすように構成されているが、これに限られるものではなく、例えば電流狭窄層101bでより狭い領域にして、発光素子80の中心部分のみが発光するようにして発光点領域WA1、WA2を小さくするように構成してもよい。
また、発光ダイオードLEDは、矢印で示すように、光を基板100と直交する方向に出射する。よって、基板100と直交する方向に出射された光を利用する場合に用いることが可能である。そして、nオーミック電極111は中央部が開口になっているため、光はトンネル接合層104を通過して出射する。
尚、設定サイリスタSのpアノード層105に電流狭窄層を設けてもよいし、また、発光ダイオードLEDのnカソード層103、設定サイリスタSのnカソード層108に電流狭窄層を設けてもよい。
このように、本例では、発光素子80の発光点Lの発光ビーム領域W(W1、W2)は、電流狭窄層101bの幅寸法や、nオーミック電極111による光出射方向の開口部の径によって決定されるものである。
本例では、第1、第2の発光素子列82、83の各発光素子80の発光点L(具体的にはL1、L2)には、図9(a)に示すように、信号発生回路76から発光開始信号を与えるためのゲート電極120が夫々接続されている。
ここで、第1の発光素子列82の発光素子80の発光点L(具体的にはL1)はゲート半導体層121上のゲート電極120を介して接続されている。
また、第2の発光素子列83の発光素子80の発光点L(具体的にはL2)は、第1の発光素子列82の発光素子80間の領域を通すようにゲート電極を配線することが必要になるが、第1の発光素子列82と同様に、各発光素子80間にゲート電極を配線しようとすると、当該ゲート電極が第1の発光素子列82の発光素子80に接触してしまう懸念がある。
そこで、本例では、図9(b)(c)に示すように、第1の発光素子列82の各発光素子80及び各発光素子80間の領域を透過性の絶縁膜122(例えばシリコン)で覆い、この絶縁膜122の下方には第2の発光素子列83の各発光素子80の発光点L(具体的にはL2)に接続される電極端子123を設けると共に、絶縁膜122のうち第1の発光素子列82の発光素子80間の領域で分断されている分断ゲート電極124を設置し、電極端子123及び分断ゲート電極124の発光素子80側端部には夫々コンタクトホール125、126を開設し、絶縁膜122上のコンタクトホール125、126間には金属配線127を這わせ、コンタクトホール125、126を通じて金属配線127と電極端子123及び分断ゲート電極124を接続するようにしたものである。
本例においては、第1、第2の発光素子列82、83の各発光素子80の発光点L(L1、L2)の発光点領域の幅寸法を狭くすることなく、第2の発光素子列83の各発光素子80に対する配線構造を施すことが可能である。
図10は本例における発光素子アレイを駆動制御するためのフローチャートを示す。
先ず、制御基板75の信号発生回路76には主走査ラインjの画像データDTが読み込まれる。この画像データDTは発光素子アレイ72の各発光素子チップCの各発光素子80に与えられ信号開始信号である。
先ず、発光素子チップCは奇数列か否かを判断し、次いで、各発光素子80の発光点Lが一列目(第1の発光素子列82)か否かを判断する。これにより、信号発生回路76からの画像データDTが以下の四つに区分された発光素子80に供給される。
(1)発光素子チップCが奇数列、発光点一列目
(2)発光素子チップCが奇数列、発光点二列目
(3)発光素子チップCが偶数列、発光点一列目
(4)発光素子チップCが偶数列、発光点二列目
ここで、(1)の場合には、図5(b)に示すように、奇数番目の発光素子チップCの一列目の発光素子80の発光点L1を対象として駆動するものであり、発光タイミングをA設定する。
また、(2)の場合には、図5(b)に示すように、奇数番目の発光素子チップCの二列目の発光素子80の発光点L2を対象として駆動するものであり、発光タイミングをB設定する。本例のB設定は、A設定に対し、第1、第2の発光素子列82、83間の発光素子80の副走査方向の距離p(ライン距離の整数N倍)を考慮し、発光タイミングを調整するようにすればよい。
更に、(3)の場合には、図5(b)に示すように、偶数番目の発光素子チップCの一列目の発光素子80の発光点L1を対象として駆動するものであり、発光タイミングをC設定する。本例のC設定は、A設定に対し、奇数番目の発光素子チップCの一列目の発光素子80と、偶数番目の発光素子チップCの一列目の発光素子80との間の副走査方向の距離g(図5(b)中ycに相当)を考慮し、発光タイミングを調整するようにすればよい。
更にまた、(4)の場合には、図5(b)に示すように、偶数番目の発光素子チップCの二列目の発光素子80の発光点L2を対象として駆動するものであり、発光タイミングをD設定する。本例のD設定は、A設定に対し、奇数番目の発光素子チップCの一列目の発光素子80と、偶数番目の発光素子チップCの二列目の発光素子80との間の副走査方向の距離hを考慮し、発光タイミングを調整するようにすればよい。
本例において、結像レンズ73は、図3、図4及び図11(a)(b)に示すように、感光体24の軸方向に沿って延びる対構成の側板131と、側板131間の両端を塞ぐ当て板132とでレンズホルダ130を構成し、このレンズホルダ130の空間部には発光素子アレイ72と感光体24との間に延びる円柱状の屈折率分布型レンズ135を感光体24の軸方向(主走査方向に相当)に沿って二列隣接させて配置してアレイ状に構成したものである。尚、屈折率分布型レンズ135の周壁は樹脂等の保護層で覆われている。また、屈折率分布型レンズ135の配列数については二列に限られるものではなく、三列以上であってもよいし、また、一例であっても差し支えない。
本例において、屈折率分布型レンズ135は、発光素子アレイ72の発光点L(物点に相当)と、感光体24上の像点との間を共役長TCとするものであり、発光点Lから出射される光を入射し、屈折率分布によりレンズ内部を通過して出射し、像点に収束するようにしたものである。
本例では、屈折率分布型レンズ135は、長さZ0であって、発光点Lまでの距離をL0、像点までの距離をLiとするものであり、レンズ直径Dは発光点Lのビーム径d(例えば10μm)に比べて4倍以上大きい値(例えば40~45μm)に選定されている。
また、結像レンズ73は、屈折率分布型レンズ135を二列に配列したレンズアレイは全幅Wtを有しており、この全幅Wtは画像有効幅Wi以上に選定されている。
本例において、発光素子アレイ72の各発光素子80の発光点L(具体的にはL1、L2)は、図12に示すように、第1、第2の発光素子列82、83間で隣り合う発光素子80の主走査方向に沿う配列ピッチP/2で発光する。
この状態において、発光点Lから出射された光は、結像レンズ73を介して感光体24上に結像される。
このとき、発光素子アレイ72が主走査方向に延びる直線状の光による画像(線状画像)を描画したとすると、感光体24上の結像画像Gは、図12に示すように、P/2の配列ピッチでドット形成されるが、ドット状の結像画像Gは隣り合う箇所で相互に重なり合っている。この状態において、ドット状の結像画像Gは、発光素子アレイ72の発光点Lの主走査方向におけるビーム径dの重なり合いと略同程度の重なり合いで描画されており、ドッド状の結像画像Gの重なり合いにより、ドット状の結像画像Gの光量分布が大きくなっている。
尚、本例において、Pは例えば1200dpiであり、P/2は2400dpiを示す。
-実施の形態1-
実施の形態1において、隣り合う発光点L(L1、L2)から出射された光は、結像レンズ73を介して感光体24上に結像される。
このとき、隣り合う発光点L(L1、L2)に対応する隣り合うドット状の結像画像Gは、図13(a)に示すように、結像ビーム領域が一部重なり合って描画され、ドット状の結像画像Gの光量分布が増加し、正常な濃度画像を描く。
今、発光点Lの一部の発光特性がばらついている場合を想定すると、図13(a)に示すように、一方の発光点Lの発光特性のばらつきは、隣り合う正常な発光特性の発光点Lによる結像画像Gの重なり合いによって光量が増加することから、発光特性のばらついた発光点Lに対応する結像画像Gの品質はある程度補正される。
-比較の形態1-
これに対し、比較の形態1に係る発光素子アレイ(図6参照)を使用する場合には、主走査方向に隣り合う発光点Lのビーム径が重ならないことから、発光点Lに対応する結像画像Gは発光点の発光特性にそのまま依存する。つまり、発光点Lの発光特性が正常な場合には、図13(b)に示すように、ドット状の結像画像Gは正常な濃度画像を描画することになるが、発光点Lの発光特性がばらついている場合には、図13(b)に示すように、ドット状の結像画像Gの光量分布が不足し、例えば十分な画像濃度が得られないという懸念がある。
今、結像レンズ73が理想位置に設置されていると仮定すると、実施の形態1、比較の形態1のいずれも、発光素子アレイ72で主走査方向に延びる直線画像を描画した場合には、結像レンズ73を構成する屈折率分布型レンズ135の配列方向の中心位置に沿って発光素子アレイ72の発光点Lから出射される光を入射する。
このとき、実施の形態1では、発光素子アレイ72は、第1の発光素子列82、第2の発光素子列83において、配列ピッチPで配列された発光点Lにより光画像を書き込み、主走査方向に対し実質的にP/2の配列ピッチで描画するため、図14(a)に示すように、発光点Lの発光面積を大きく確保しながら、かつ、発光点Lから出射されたビーム径を一部重ね合わせることで大きな光量の光画像を感光体24側に結像させることが可能になる。
尚、比較の形態1に係る発光素子アレイにあっては、図6(b)に示すように、発光点LをP/2の配列ピッチで配列する場合には、発光点Lの発光面積が小さく、発光点Lからの発光量も少ない。
-結像レンズの倒れ、ずれ-
また、結像レンズ73を設置するに際し、結像レンズ73が傾いたり、オアセットしてしまうことがあり得る。
このような場合、発光素子アレイ72の発光点Lから出射される光は、図14(b)に示すように、屈折率分布型レンズ135の配列方向中心線から偏倚した位置に入射される。
このとき、実施の形態1に係る発光素子アレイ72にあっては、発光点Lの発光面積を大きく確保しながら、かつ、発光点Lから出射されたビーム径を一部重ね合わせることで大きな光量の光画像を感光体24側に結像させることが可能になるため、結像レンズ73の傾きθやオフセットにより拾える光量が若干減少したとしても、ビーム径の重なり合いによる光量の増加分で補填されることから、光画像の光量減少が緩和される。
この点、比較の形態1に係る発光素子アレイにあっては、実施の形態1のように、光量補填がないことから、結像レンズ73の傾きやオフセットにより拾える光量の減少すると、そのまま結像画像の品質に影響してしまう懸念がある。
本実施の形態では、発光素子アレイ72は、複数の発光素子チップCを千鳥状に配置し、各発光素子チップCには第1、第2の発光素子列82、83を配列ピッチPで主走査方向に配列し、更に、第1の発光素子列82と第2の発光素子列83との間で隣り合う発光素子80の発光点Lを主走査方向にP/2の配列ピッチで配列し、かつ、発光点Lから出射されたビーム径を一部重ね合わせるようにしている。
従って、本実施の形態にあっては、図15(a)に示すように、発光素子チップCのうち奇数番目に位置する発光素子チップCの発光点Lから出射される光Bm1は、第1列目の屈折率分布型レンズ135を通過し、一方、偶数番目に位置する発光素子チップCの発光点Lから出射される光Bm2は、第2列目の屈折率分布型レンズ135を通過する。
このように、千鳥配置された発光素子チップCから出射される光は、第1列目、第2列目の屈折率分布型レンズ135に振り分けられて入射する。このときの入射光量は、比較の形態1に係る発光素子アレイの場合(図15(b)参照)に比べて、発光点Lからのビーム径が一部重なり合っている分、多く確保されている。
また、結像レンズ73が傾いたり、オフセットした場合であっても、屈折率分布型レンズ135のレンズ直径Dはビーム径よりも十分に大きいため、千鳥配置された発光素子チップCから出射される光は、第1列目、第2列目の屈折率分布型レンズ135に振り分けられて入射し、結像レンズ73による結像特性を得ることが可能である。
図16は変形の形態1に係る発光素子アレイの要部を示す。
同図において、発光素子アレイ72は、実施の形態1と同様に、千鳥配置される複数の発光素子チップCを有しているが、実施の形態1と異なり、各発光素子チップCには第1、第2、第3の発光素子列82、83、84を有するものである。
本例において、奇数番目の発光素子チップC(Ci、Ci+2:i=奇数)は、偶数番目の発光素子チップC(Ci+1:i=奇数)から離れた位置から接近する位置に向かって、第1の発光素子列82、第2の発光素子列83及び第3の発光素子列84を有している。
本例において、第1乃至第3の発光素子列82、83、84は、主走査方向に沿って配列ピッチPで発光素子80を配列したものである。
そして、第1の発光素子列82の発光素子80と、第2の発光素子列83の発光素子80とは主走査方向に対してP/3の配列ピッチで配置され、第2の発光素子列83の発光素子80と、第3の発光素子列84の発光素子80とは主走査方向に対してP/3の配列ピッチで配置されている。
また、第1乃至第3の発光素子列82、83、84は副走査方向に対してライン間隔の整数N倍離れて配置されている。
また、偶数番目の発光素子チップC(Ci+1:i=奇数)は、奇数番目の発光素子チップC(Ci、Ci+2:i=奇数)に接近した位置から離れた位置に向かって、第1の発光素子列82、第2の発光素子列83及び第3の発光素子列84を有している。
ここで、第1乃至第3の発光素子列82、83、84の構成については、奇数番目の発光素子チップCと略同様である。
尚、図16において、xcは奇数番目の発光素子チップC(例えばCi+2)の最初に位置する発光素子80の主走査方向中心線位置と、これに隣接する偶数番目の発光素子チップC(例えばCi+1)の最後尾に位置する発光素子80の主走査方向中心線位置との間の距離を示し、本例では配列ピッチP/3に合うように選定されている。
また、奇数番目の発光素子チップC(Ci、Ci+2)の第2の発光素子列83の副走査方向の中心位置を結ぶ発光点Lの重心位置をm1、また、偶数番目の発光素子チップC(Ci+1)の第2の発光素子列83の副走査方向の中心位置を結ぶ発光点Lの重心位置をm2とすると、隣接する発光素子チップCの副走査方向の偏倚距離ycは|m1-m2|に選定されている。
よって、本例では、各発光素子チップCにおいて、3列の発光素子列82~84の発光点Lの発光タイミングを調整することで、感光体21上に結像画像を形成するようにすればよい。
特に、本例では、例えばPを800dpiとすれば、P/3=2400dpiになることから、実施の形態1と同様に、2400dpiの画像を形成することが可能である。
尚、本例では、発光素子チップCに3列の発光素子列82~84を具備させるようにしたが、これに限られるものではなく、例えば4列以上の発光素子列を用いるようにすることも可能である。
本例は、実施の形態1に係る画像形成装置を具現化したものを用い、光書込装置の発光素子アレイの光量プロファイル及び印字サンプルを採取したものである。
図17(a)は実施例1に係る光書込装置(図中LPHで表記)の発光素子アレイの光量分布を示す。
同図においては、発光素子アレイの発光素子の発光点から出射されるビームの輝度を示したものである。
ここでは、比較のために、面発光型レーザ(図中ROSで表記)による光量プロファイルを対比したところ、実施例に係る発光素子アレイの光量分布が大きいことが確認された。
尚、図17(a)の光量分布は副走査方向のものを示しているが、主走査方向についても略同様の傾向が見られた。
また、図17(b)に示すように、2400dpiの文字の印字サンプルを採取したところ、高精細な画像再現が確認された。ここで、評価条件としては、ベストピント時、ラダーは600dpi/2on2off、文字は明朝4ptである。尚、比較のために、面発光型レーザを用いた印字サンプルを採取したところ、実施例による印字サンプルの方が精細であった。
Claims (8)
- 主走査方向に配列される発光素子からなる第1の発光素子列と、
前記第1の発光素子列に対して副走査方向に偏倚し且つ前記第1の発光素子列の各発光素子の間に位置するように主走査方向に配列される第2の発光素子列と、を含み、
前記第1の発光素子列の各発光素子による発光点と、前記第2の発光素子列の各発光素子による発光点との間の主走査方向に沿う配列ピッチは、前記第1、第2の発光素子列の各発光素子による発光点間の主走査方向の配列ピッチの1/2以下であり、
前記第1の発光素子列の各発光素子が発光する領域である発光点領域と、前記第2の発光素子列の各発光素子が発光する領域である発光点領域とを主走査方向に対して重なり合うように配置し、
前記第1、第2の発光素子列の間で隣り合う発光素子の発光点領域は、主走査方向において30~70%の範囲で重なり合い、
前記第1の発光素子列の各発光素子が発光する領域である発光点領域のうち周囲に配置された非透過性の電極以外の箇所から対象物に向けて光が出射される発光ビーム領域と、前記第2の発光素子列の各発光素子が発光する領域である発光点領域のうち周囲に配置された非透過性の電極以外の箇所から対象物に向けて光が出射される発光ビーム領域とを主走査方向に対して隙間がないように配置し、
前記第1、第2の発光素子列の間で隣り合う発光素子の発光ビーム領域は、主走査方向において0~10%の範囲で重なり合うことを特徴とする発光部品。 - 請求項1に記載の発光部品において、
前記第1の発光素子列の各発光素子による発光点と、前記第2の発光素子列の各発光素子による発光点との間の副走査方向に沿う配列ピッチは、作像ライン間隔の整数N倍であることを特徴とする発光部品。 - 請求項1又は2に記載の発光部品と、
前記発光部品の各発光素子から出射される光を、光による画像が保持可能な画像保持手段に結像させる結像手段と、を備え、前記画像保持手段に光による画像を書き込むことを特徴とする光書込装置。 - 請求項3に記載の光書込装置において、
前記結像手段は、前記第1の発光素子列の各発光素子と前記第2の発光素子列の各発光素子との副走査方向の差よりも大きい直径の屈折率分布型レンズを主走査方向に配列したものであることを特徴とする光書込装置。 - 請求項4に記載の光書込装置において、
前記第1の発光素子列と前記第2の発光素子列とは、前記屈折率分布型レンズに対し副走査方向に異なる位置に出射光が入射することを特徴とする光書込装置。 - 請求項5に記載の光書込装置において、
前記第1の発光素子列と前記第2の発光素子列とを含む発光素子チップが複数あり、
前記複数の発光素子チップは、副走査方向及び主走査方向に偏倚して配置され、
前記結像手段は前記屈折率分布型レンズを複数列に隣接して主走査方向に配列したものであり、
同じ発光素子チップの各発光素子からの光は主走査方向に並ぶ同列の屈折率分布型レンズに入射し、隣り合う発光素子チップの各発光素子からの光は異なる列の屈折率分布型レンズに入射することを特徴とする光書込装置。 - 請求項3乃至6いずれかに記載の光書込装置と、
前記光書込装置に対向して設けられ、前記光書込装置によって書き込まれた光による画像を保持する画像保持手段と、を備えることを特徴とする画像形成装置。 - 請求項7に記載の画像形成装置において、
前記光書込装置は、前記第1の発光素子列及び前記第2の発光素子列の各発光素子から出射される光で前記画像保持手段に主走査方向に沿う線状画像を書き込んだときに、主走査方向に隣り合う発光点に対応する結像ビーム領域を重ね合うように配置することを特徴とする画像形成装置。
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