JP7604192B2 - ブラックマトリックス用顔料分散組成物、ブラックマトリックス用レジスト組成物、及び、ブラックマトリックス - Google Patents
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Description
そして、液晶表示装置では主にバックライトからの漏れ光が、また、プラズマ表示装置では主に各色光の混濁によるにじみが画面に写り込むのを防止して、表示特性(コントラスト及び色純度)を向上させるために役立っている。
このような顔料法では、顔料の分散性を高めるために、銅フタロシアニンのスルホン酸誘導体が用いられることがある。
このような画像表示装置の用途の拡大に伴い、より堅固なブラックマトリックスが求められるようになってきている。
しかしながら、特許文献1では、高温かつ長時間のポストベークを行うことによる表面抵抗値の低下については充分な検討がなされておらず、更なる改良の余地があった。
そのため、このようなブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を得ることができるブラックマトリックス用顔料分散組成物が求められているが、特許文献1においては充分な検討がなされておらず、更なる改良の余地があった。
上記エポキシ化合物は、ビスフェノール骨格を有することが好ましい。
また、本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、分子量300以下のアミン化合物を更に含み、上記分子量300以下のアミン化合物が、アミノ基の窒素原子から3原子以内に2級以上の炭素原子を有するアミン化合物及び/又はアミノ基が炭素数3以下の炭化水素基を介して1以上の芳香環に接続されているアミン化合物であることが好ましい。
上記分子量300以下のアミン化合物は、3-フェニルプロピルアミン、1,1,3,3-テトラメチルブチルアミン、及び、トリイソブチルアミンから選択される少なくとも1種であることが好ましい。
また、上記銅フタロシアニンのスルホン化物は、分子中にスルホン酸基を0.5~3個有することが好ましく、0.5~1.5個有することがより好ましい。
また、上記黒色着色剤は、カーボンブラックを含むことが好ましい。
また、上記カーボンブラックは、酸性カーボンブラックであることが好ましい。
また、本発明は、上記ブラックマトリックス用顔料分散組成物から得られるブラックマトリックス用レジスト組成物でもある。
また、本発明は、上記ブラックマトリックス用レジスト組成物から形成されるブラックマトリックスでもある。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、黒色着色剤と、銅フタロシアニンのスルホン化物と、エポキシ化合物とを含み、下記の条件(A)又は(B)を満たす。
(A)分子量300以下のアミン化合物を含まない。
(B)分子量300以下のアミン化合物を更に含み、前記分子量300以下のアミン化合物が、アミノ基の窒素原子から3原子以内に2級以上の炭素原子を有するアミン化合物及び/又はアミノ基が炭素数3以下の炭化水素基を介して1以上の芳香環に接続されているアミン化合物である。
以下、各成分について説明する。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、黒色着色剤を含有する。
上記黒色着色剤としては、カーボンブラックを含むことが好ましく、上記カーボンブラックが酸性カーボンブラックであることがより好ましい。
上記カーボンブラックとしては、平均一次粒子径20~60nmが好ましく、なかでも平均一次粒子径20~60nmの中性カーボンブラック及び/又は平均一次粒子径20~60nmの酸性カーボンブラックがより好ましい。
上記黒色着色剤の一次粒子径が20nmより小さい場合、又は60nmより大きい場合は、十分な遮光性を有しないことや、保存安定性に劣ることがある。
なお、上記平均一次粒子径は、電子顕微鏡観察による算術平均径の値である。
一方で、上記中性カーボンブラックと酸性カーボンブラックとを併用する場合には、中性カーボンブラックと酸性カーボンブラックとの合計質量に対して上記中性カーボンブラックが85質量%以下であることが好ましく、上記中性カーボンブラックが75質量%以下であることがより好ましい。
上記カーボンブラックの中性カーボンブラックの含有量が85質量%より多い場合は、シール強度が低下することがある。
カーボンブラックは、表面の構造により、酸性カーボンブラックと中性カーボンブラックに大別できる。酸性カーボンブラックとは、元々あるいは人工的に酸化した炭素質物質であり、蒸留水と混合煮沸した時に酸性を示す。一方、中性カーボンブラックは、蒸留水と混合煮沸した時に中性またはそれより高いpHを示すことが知られている。
上記黒色着色剤の含有量が3質量%未満では、ブラックマトリックスを形成した場合の遮光性が低くなることがあり、70質量%を超えると、顔料分散が困難となることがある。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、銅フタロシアニンのスルホン化物を含有する。
上記銅フタロシアニンのスルホン化物は、上記黒色着色剤の微粒子化や分散の工程において、基本骨格の部分が顔料表面に吸着し、スルホン酸基が有機溶剤や顔料分散剤との親和力を高めることにより、上記黒色着色剤の分散時の微細化や、分散後の分散安定性等を向上させる効果を有する。
このように、分子中にスルホン酸基を0.5~3個有することにより、表面抵抗値に優れた塗膜を得ることができるブラックマトリックス用組成物とすることができる。
上記銅フタロシアニンのスルホン化物は、分子中にスルホン酸基を0.5~1.5個有することがより好ましく、0.7~1.5個有することが更に好ましい。
なお、上記分子中に有するスルホン酸基の数は、元素分析による硫黄原子と銅原子の比率をもとに算出できる。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、エポキシ化合物を含有する。
上記エポキシ化合物を含有することにより、上記多官能エポキシ樹脂と、上記カーボンブラックの表面に存在する官能基とが、好適に相互作用することにより高温かつ長時間のポストベークを行っても表面抵抗値が低下しないブラックマトリックスを形成することができると推定される。
ただし、本発明は上記メカニズムに限定して解釈されなくてもよい。
上記エポキシ化合物のなかでも、表面抵抗値及びシール強度が特に優れるブラックマトリックスを形成する観点から、ビスフェノール骨格を有することがより好ましく、下記(式2)の構造であることが更に好ましい。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、表面抵抗値が高く、高温かつ長時間のポストベークをしたとしても表面抵抗値を維持できるブラックマトリックスを形成する観点から、分子量300以下のアミン化合物を更に含み、上記分子量300以下のアミン化合物が、アミノ基の窒素原子から3原子以内に2級以上の炭素原子を有するアミン化合物及び/又はアミノ基が炭素数3以下の炭化水素基を介して1以上の芳香環に接続されているアミン化合物であることが好ましい。
このようなアミン化合物を含有することにより、窒素原子上の電子対が嵩高い置換基によって埋没する結果、上記アミン化合物と銅フタロシアニンスルホン化物との中和においてイオン性がマイルドになるので、当該イオン性に起因する通電を抑制できると考えられる。また、嵩高い置換基による立体障害で顔料粒子同士の接近が抑制されると考えられる。
ただし、本発明は上記メカニズムに限定して解釈されなくてもよい。
なお、アミノ基の窒素原子から3原子以内とは、アミノ基の窒素原子に隣接する原子を1とし、上記窒素原子に隣接する原子に隣接する原子を2とし、上記窒素原子に隣接する原子に隣接する原子に隣接する原子を3としてカウントする。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、有機溶剤を含有することが好ましい。
上記有機溶剤としては、従来から液晶ブラックマトリックスレジストの分野で使用されている有機溶剤が好適に使用できる。
上記沸点が250℃を超える有機溶剤を多量に含有していると、本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物から得られるブラックマトリックス用レジスト組成物を塗布して形成される塗膜をプレベークする際に、有機溶剤が充分に蒸発せずに乾燥塗膜内に残存し、乾燥塗膜の耐熱性が低下することがある。
また、上記沸点100℃未満の有機溶剤を多量に含有していると、ムラなく均一に塗布することが困難になり、表面平滑性に優れた塗膜が得られなくなることがある。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、顔料分散剤を含有することが好ましい。
上記顔料分散剤としては、塩基性基含有顔料分散剤であり、アニオン性界面活性剤、塩基性基含有ポリエステル系顔料分散剤、塩基性基含有アクリル系顔料分散剤、塩基性基含有ウレタン系顔料分散剤、塩基性基含有カルボジイミド系顔料分散剤、酸性基含有高分子顔料分散剤等を用いることができる。
これらの塩基性基含有顔料分散剤は、単独で用いてもよく、また、2種類以上の組み合わせを用いてもよい。中でも、良好な顔料分散性が得られる点から、塩基性基含有高分子顔料分散剤が好ましい。
(1)ポリアミン化合物(例えば、ポリアリルアミン、ポリビニルアミン、ポリエチレンポリイミン等のポリ(低級アルキレンアミン)等)のアミノ基および/またはイミノ基と、遊離のカルボキシル基を有するポリエステル、ポリアミドおよびポリエステルアミドよりなる群から選択される少なくとも1種との反応生成物(特開2001-59906号公報)、
(2)ポリ(低級)アルキレンイミン、メチルイミノビスプロピルアミン等の低分子アミノ化合物と、遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応生成物(特開昭54-37082号公報、特開平01-311177号公報)、
(3)ポリイソシアネート化合物のイソシアネート基に、メトキシポリエチレングリコール等のアルコール類やカプロラクトンポリエステル等の水酸基を1個有するポリエステル類、2~3個のイソシアネート基反応性官能基を有する化合物、イソシアネート基反応性官能基と第3級アミノ基とを有する脂肪族または複素環式炭化水素化合物を順次反応させてなる反応生成物(特開平02-612号公報)、
(4)アルコール性水酸基を有するアクリレートの重合物に、ポリイソシアネート化合物とアミノ基を有する炭化水素化合物とを反応させた化合物、
(5)低分子アミノ化合物にポリエーテル鎖を付加させてなる反応生成物、
(6)イソシアネート基を有する化合物にアミノ基を有する化合物を反応させてなる反応生成物(特開平04-210220号公報)、
(7)ポリエポキシ化合物に遊離のカルボキシル基を有する線状ポリマーおよび2級アミノ基を1個有する有機アミン化合物を反応させた反応生成物(特開平09-87537号公報)、
(8)片末端にアミノ基と反応し得る官能基を有するポリカーボネート化合物とポリアミン化合物との反応生成物(特開平09-194585号公報)、
(9)メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート等のメタクリル酸エステルまたはアクリル酸エステルから選択される少なくとも1種と、アクリルアミド、メタクリルアミド、N-メチロールアミド、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン、アミノ基とポリカプロラクトン骨格を有するモノマー等の塩基性基含有重合モノマーの少なくとも1種と、スチレン、スチレン誘導体、その他の重合性モノマーの少なくとも1種との共重合体(特開平01-164429号公報)、
(10)塩基性基含有カルボジイミド系顔料分散剤(国際公開WO04/000950号公報)、
(11)3級アミノ基、4級アンモニウム塩機等の塩基性基を有するブロックと官能基を有していないブロックからなるブロック共重合体(特開2005-55814号公報の記載参照)、
(12)ポリアリルアミンにポリカーボネート化合物をマイケル付加反応させて得られる顔料分散剤(特開平09-194585号公報)、
(13)ポリブタジエン鎖と塩基性窒素含有基とをそれぞれ少なくとも1つ有するカルボジイミド系化合物(特開2006-257243号公報)、
(14)分子内にアミド基を有する側鎖と、塩基性窒素含有基とをそれぞれ少なくとも1つ有するカルボジイミド系化合物(特開2006-176657号公報)、
(15)エチレンオキサイド鎖とプロピレンオキサイド鎖を有する構成単位を有し、かつ四級化剤により四級化されたアミノ基を有するポリウレタン系化合物(特開2009-175613号公報)、
(16)分子内にイソシアヌレート環を有するイソシアネート化合物のイソシアネート基と、分子内に活性水素基を有し、かつ、カルバゾール環及び/又はアゾベンゼン骨格を有する化合物の活性水素基とを反応させて得られる化合物であって、該化合物の分子内の、イソシアヌレート環を有するイソシアネート化合物に由来するイソシアネート基と、イソシアネート基と活性水素基との反応により生じたウレタン結合及び尿素結合との合計に対するカルバゾール環とアゾベンゼン骨格の数が15~85%である化合物(特願2009-220836)、
(17)アミノ基を有するアクリレート重合物に、ポリエーテルまたは、ポリエステル側鎖を導入したグラフト共重合体等が挙げられる。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物は、バインダー樹脂を含有することが好ましい。
上記バインダー樹脂は、単独でまたは2種類以上を組み合わせて用いることができる。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物の製造方法としては、上述した各種成分を加え、混合及び練肉することにより得ることができる。
上記練肉をする方法としては特に限定されず、例えば、ビーズミル、レディーミル、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、ペイントシェーカー、ボールミル、ロールミル、サンドミル、サンドグラインダー、ダイノーミル、ディスパーマット、SCミル、ナノマイザー等を用い、公知の方法により練肉すればよい。
本発明は、本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物から得られるブラックマトリックス用レジスト組成物でもある。
本発明のブラックマトリックス用レジスト組成物は、上述した本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物を含有する。
上記ブラックマトリックス用顔料分散組成物の含有量としては、本発明のブラックマトリックス用レジスト組成物の全質量を基準として、30~80質量%であることが好ましく、40~75質量%であることがより好ましい。
本発明のブラックマトリックス用レジスト組成物は、光重合開始剤を含有することが好ましい。
上記光重合開始剤としては、紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射されることにより、ラジカルやカチオンを発生することのできるものであれば特に限定されず、例えば、1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-1-(O-アセチルオキシム)エタノン、ベンゾフェノン、N,N’-テトラエチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4’-ジメチルアミノベンゾフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α-ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、t-ブチルアントラキノン、1-クロロアントラキノン、2,3-ジクロロアントラキノン、3-クロル-2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、1,4-ナフトキノン、1,2-ベンゾアントラキノン、1,4-ジメチルアントラキノン、2-フェニルアントラキノン、2-メチル-1[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン等のベンゾフェノン系、チオキサントン系、アントラキノン系、トリアジン系等の光重合開始剤等が挙げられる。
上記光重合開始剤は単独で又は2種類以上を組み合わせて用いられる。
本発明のブラックマトリックス用レジスト組成物は、光重合性化合物を含有することが好ましい。
上記光重合性化合物としては、上述したブラックマトリックス用顔料分散組成物において記載したものを適宜選択して用いることができる。
本発明のブラックマトリックス用レジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。
上記アルカリ可溶性樹脂としては、上記黒色着色剤に対してバインダーとして作用し、かつ、ブラックマトリックスを製造する際に、その現像処理工程において用いられる現像液、特にアルカリ現像液に対して可溶性を有するものであることが好ましい。
そのブロック共重合体のなかでも、1個以上のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体からなるブロックと、他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体からなるブロックを有するブロック共重合体が好ましい。
ただし、N-ビニルピロリドン、硫黄元素含有モノマーは使用しない方が望ましい。
上記ブロック共重合体としては、リビングラジカル重合、アニオン重合にて合成されたブロック樹脂を採用できる。
上記ブロック共重合体の一部のブロック部分は、ランダム共重合体から構成されていても良い。
上記アルカリ可溶性カルド樹脂としては、フルオレンエポキシ(メタ)アクリル酸誘導体とジカルボン酸無水物及び/又はテトラカルボン酸二無水物との付加生成物であるフルオレン骨格を有するエポキシ(メタ)アクリレート酸付加物等を挙げることができる。
また、本アルカリ可溶性樹脂は、光重合性の官能基を有していても良い。
なお、本明細書において、上記酸価は理論酸価であり、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体とその含有量に基づいて算術的に求めた値である。
なお、本発明において、上記重量平均分子量は、GPCに基づいて得られるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
本明細書において、上記重量平均分子量を測定する装置としては、Water2690(ウォーターズ社製)、カラムとしてはPLgel 5μm MIXED-D(Agilent Technologies社製)を用いる。
この場合、上記アルカリ可溶性樹脂の含有量が1質量部未満では、現像特性が低下することがあり、上記アルカリ可溶性樹脂の含有量が200質量部を超えると、上記黒色着色剤の濃度が相対的に低下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難となることがある。
なお、本発明による効果を毀損しない範囲において、ブロック共重合体以外の構造を有するアルカリ可溶性樹脂を配合してもよい。
上記有機溶剤としては、上述したブラックマトリックス用顔料分散組成物で記載した有機溶剤を適宜選択して用いることができる。
本発明のブラックマトリックス用レジスト組成物は、必要に応じて、熱重合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の各種添加剤を適宜使用することができる。
本発明のブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物は、作製直後と60℃で1週間保存した後のブレークポイント変化が±3秒以内であることが好ましく、±2秒以内であることがより好ましく、±1.5秒以内であることが更に好ましく、±1.0秒以内であることが特に好ましく、±0.5秒以内であることが最も好ましい。
上記ブレークポイント変化が±3秒以内であれば、保存時間によってブレークポイントが変化しない性質を充分に備えていると判断できる。
なお、上記ブレークポイント変化は以下の方法により測定することができる。
ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を、スピンコーターにて膜厚1μmとなるようにガラス基板(EAGLE XG)上に塗布し、100℃で2分間プレベークする。
その後、5μm、8μm、10μm、15μm、20μm、30μmのラインパターンを有するフォトマスクを用いて、高圧水銀灯にて、UV積算光量50mJ/cm2で露光し、露光部(硬化部)を含むレジスト膜を作製する。
次いで、0.05%水酸化カリウム水溶液(現像液)を用い、23℃、1.0kgf/cm2のシャワー圧の条件にて、現像パターンが現れ始める時間ブレークポイントを測定する。
上記方法により、作製直後のブレークポイント(BP1)と、60℃で1週間保存した後のブレークポイント(BP2)を測定し、以下の式にてΔBP(ブレークポイント変化)を求めることができる。
ΔBP=BP2-BP1
本発明のブラックマトリックス用レジスト組成物の製造方法としては、例えば、本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物を作製し、その後、残りの材料を加えて攪拌装置等を用いて攪拌混合することにより作製することができる。
上記攪拌、混合する方法としては特に限定されず、超音波分散機、高圧乳化機、ビーズミル、3本ロール、サンドミル、ニーダー等、公知の方法を用いることができる。
また、上記攪拌、混合後にフィルターで濾過を行ってもよい。
なお、本発明のブラックマトリックス用レジスト組成物を作製する際に、必要に応じて、本発明のブラックマトリックス用顔料分散組成物で記載した上記黒色着色剤、上記エポキシ樹脂、上記オキサジン化合物等を添加してもよい。
本発明のブラックマトリックスは、本発明のブラックマトリックス用レジスト組成物から形成される。
また、上記透明基板としては、ガラス基板、プラスチック基板等、公知の透明基板を適宜選択して用いることができる。
上記厚みの範囲とすることにより、所定のパターンを好適に現像することができ、所定の光学濃度を好適に付与することができる。
上記表面抵抗値が、1.0×1014Ω/□以上であれば、短絡や電流漏れを好適に防止することができる。
なお、上記表面抵抗値は、本体:微小電流計 R8340、オプション:シールドボックス R12702A(いずれもアドバンス社製)にて測定することができる。
上記表面抵抗値が、2.0×1014Ω/□以上であれば、高温かつ長時間のポストベークをしたとしても優れた表面抵抗値を有するということができる。
<黒色着色剤>
カーボンブラック(商品名「NEROX305」、平均一次粒子径28nm程度、pH約2.8、オリオン・エンジニアドカーボンズ社製)
<顔料分散剤>
LPN22102(アミノ基を有するブロック型顔料分散剤、固形分40質量%、ビックケミー社製)
<エポキシ化合物>
VG3101L(上記(式2)の構造のエポキシ化合物、商品名「TECHMORE VG3101L」、プリンテック社製)
<アミン化合物>
3-フェニルプロピルアミン(東京化成工業社製)
1,1,3,3-テトラメチルブチルアミン(東京化成工業社製)
トリイソブチルアミン(東京化成工業社製)
<バインダー樹脂>
ZCR-1569H(エポキシアクリレート樹脂、固形分70質量%、日本化薬社製)
<有機溶剤>
PM(プロピレングリコールモノメチルエーテル)
PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
<光重合開始剤>
OXE02(製品名「イルガキュアOXE02」、1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-1-(O-アセチルオキシム)エタノン、BASF社製)
<光重合性化合物>
DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)
<アルカリ可溶性樹脂>
WR-301(製品名「WR-301」、カルド系樹脂、酸価100mgKOH/g、固形分45%、ADEKA社製)
(分散用組成物1)
ソルスパース12000(銅フタロシアニンのスルホン化物(1分子中にスルホン酸基を約0.9個含有)、日本ルーブリゾール社製)と、3-フェニルプロピルアミンとを質量比25:8で混合して、分散用組成物1を得た。
(分散用組成物2)
ソルスパース12000(銅フタロシアニンのスルホン化物(1分子中にスルホン酸基を約0.9個含有)、日本ルーブリゾール社製)と、1,1,3,3-テトラメチルブチルアミンとを質量比10:3で混合して、分散用組成物2を得た。
(分散用組成物3)
ソルスパース12000(銅フタロシアニンのスルホン化物(1分子中にスルホン酸基を約0.9個含有)、日本ルーブリゾール社製)と、トリイソブチルアミンとを質量比25:11で混合して、分散用組成物3を得た。
ソルスパース12000(銅フタロシアニンのスルホン化物(1分子中にスルホン酸基を約0.9個含有)、日本ルーブリゾール社製)
ソルスパース5000(銅フタロシアニンのスルホン化物の第4級アンモニウム塩、(1分子中にスルホン酸基を約0.9個含有)、日本ルーブリゾール社製)
VALIFAST BLUE 1605(VB1605、銅フタロシアニンのスルホン化物のナトリウム中和物、オリヱント化学工業社製)
各材料を表1の組成となるように混合し、ビーズミルで一昼夜混練してブラックマトリックス用顔料分散組成物を作製した。
高速攪拌機を用いて、上記ブラックマトリックス用顔料分散組成物と他の材料(光重合性化合物、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤及び有機溶剤)とを表2の組成になるように均一に混合した後、孔径3μmのフィルターで濾過し、実施例及び比較例のブラックマトリックス用レジスト組成物を得た。
(表面抵抗値1)
実施例及び比較例の各ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を、スピンコーターにて膜厚1μmとなるようにガラス基板(EAGLE XG)上に塗布し、100℃で2分間プレベークした後、高圧水銀灯で露光(UV積算光量50mJ/cm2)し、更に230℃で3時間ポストベークを行い、ベタ部のみで形成されたブラックレジストパターン(ブラックマトリックス)を作製した。
作製した各ブラックレジストパターンの表面抵抗値を本体:微小電流計 R8340、オプション:シールドボックス R12702A(いずれもアドバンス社製)にて測定した。その結果を表2に示した。
実施例及び比較例の各ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を、スピンコーターにて膜厚1μmとなるようにガラス基板(EAGLE XG)上に塗布し、100℃で2分間プレベークした後、高圧水銀灯で露光(UV積算光量50mJ/cm2)し、更に230℃で3時間、その後250℃で1時間ポストベークを行い、ベタ部のみで形成されたブラックレジストパターン(ブラックマトリックス)を作製した。
作製した各ブラックレジストパターンの表面抵抗値を本体:微小電流計 R8340、オプション:シールドボックス R12702A(いずれもアドバンス社製)にて測定した。その結果を表2に示した。
実施例及び比較例の各ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物について、作製直後と、60℃で1週間保存した後のブレークポイントを以下の方法で測定した。
各ブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物を、スピンコーターにて膜厚1μmとなるようにガラス基板(EAGLE XG)上に塗布し、100℃で2分間プレベークした。
その後、5μm、8μm、10μm、15μm、20μm、30μmのラインパターンを有するフォトマスクを用いて、高圧水銀灯にて、UV積算光量50mJ/cm2で露光し、露光部(硬化部)を含むレジスト膜を作製した。
次いで、0.05%水酸化カリウム水溶液(現像液)を用い、23℃、1.0kgf/cm2のシャワー圧の条件にて、現像パターンが現れ始める時間ブレークポイントを測定した。
作製直後のブレークポイント(BP1)と、60℃で1週間保存した後のブレークポイント(BP2)とし、以下の式にてΔBP(ブレークポイント変化)を求めた。その結果を表2に示した。
ΔBP=BP2-BP1
また、上記条件(B)を満たすことにより、表面抵抗値が高く、高温かつ長時間のポストベークをしたとしても表面抵抗値が低下しないブラックマトリックスを形成できることが確認された。
Claims (9)
- 黒色着色剤と、銅フタロシアニンのスルホン化物と、エポキシ化合物と、分子量300以下のアミン化合物とを含み、
前記分子量300以下のアミン化合物が、アミノ基の窒素原子から3原子以内に2級以上の炭素原子を有するアミン化合物及び/又はアミノ基が炭素数3以下の炭化水素基を介して1以上の芳香環に接続されているアミン化合物である
ブラックマトリックス用顔料分散組成物。 - エポキシ化合物は、ビスフェノール骨格を有する請求項1に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
- 前記分子量300以下のアミン化合物は、3-フェニルプロピルアミン、1,1,3,3-テトラメチルブチルアミン、及び、トリイソブチルアミンから選択される少なくとも1種である請求項1又は2に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
- 前記銅フタロシアニンのスルホン化物は、分子中にスルホン酸基を0.5~3個有する請求項1~3のいずれか1項に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
- 前記銅フタロシアニンのスルホン化物は、分子中にスルホン酸基を0.5~1.5個有する請求項4に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
- 前記黒色着色剤は、カーボンブラックを含む請求項1~5のいずれか1項に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
- 前記カーボンブラックは、酸性カーボンブラックである請求項6に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物。
- 請求項1~7のいずれか1項に記載のブラックマトリックス用顔料分散組成物から得られるブラックマトリックス用レジスト組成物。
- 請求項8に記載のブラックマトリックス用レジスト組成物から形成されるブラックマトリックス。
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