JP7645219B2 - 偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は偏光板及び画像表示装置に関する。

従来、画像表示装置において、画像表示パネルの視認側に円偏光板を配置して、外来光の反射による視認性の低下を抑制する方法が採用されている。

円偏光板は、直線偏光板と位相差板とが積層された構成である。円偏光板では、画像表示パネルに向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く位相差板により円偏光に変換する。円偏光である外来光は、画像表示パネルの表面で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転し、位相差板により直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光される。その結果、外部への外来光の出射が著しく抑制される。

位相差板においては、液晶化合物の硬化物を含む位相差層を有する構成が知られている（例えば、特許文献１、２）。かかる構成によると、位相差板の薄型化を図ることができる。

特開２０１５－１６３９３５号公報 特開２０１９－９１０３０号公報

液晶化合物の硬化物を含む位相差層を複数有する位相差板においては、薄型化を優先すると、基材剥離時に付加される剥離力により位相差層、特に剥離される基材に近い位相差層に損傷が生じるという不具合が生じることがあった。

本発明は、液晶化合物の硬化物を含む位相差層を複数有する位相差板を備えた偏光板であって、基材剥離時に付加される剥離力に対する耐久性に優れた偏光板を提供することを目的とする。

本発明は、以下の偏光板を提供する。
〔１〕 直線偏光板と、第１貼合層と、位相差板と、がこの順に積層されてなる偏光板であって、
前記位相差板は、
第１位相差層と第２位相差層とを有し、
前記第１位相差層及び前記第２位相差層は液晶化合物の硬化物を含み、
突き刺し弾性率が７０ｇ／ｍｍ以上であり、
前記第１貼合層は、温度２３℃、相対湿度５５％での引張弾性率が１．０×１０^８Ｐａ以下である、偏光板。
〔２〕前記第１貼合層の厚み（ｍ）と引張弾性率（Ｐａ）との積が５００以下である、〔１〕に記載の偏光板
〔３〕 前記位相差板は、前記第１位相差層と前記第２位相差層との間に、配向膜のみを有する、または介在する他の層を有しない、〔１〕または〔２〕に記載の偏光板。
〔４〕 前記直線偏光板は偏光子を有し、
前記偏光子は、厚みが１５μｍ以下である、〔１〕～〔３〕のずれか１項に記載の偏光板。
〔５〕 前記直線偏光板は前記偏光子の前記第１貼合層とは反対側の表面に設けられた保護フィルムを有し、
前記保護フィルムは、厚みが３０μｍ以下である、〔４〕に記載の偏光板。
〔６〕 前記第１位相差層は、逆分散性のλ／４層である、〔１〕～〔５〕のいずれか１項に記載の偏光板。
〔７〕 前記第２位相差層は、ポジティブＣプレートである、〔１〕～〔６〕のいずれか１項に記載の偏光板。

本発明によると、基材剥離時に付加される剥離力に対する耐久性に優れた偏光板を提供することができる。

本実施形態の偏光板の一例を模式的に示す概略断面図である。 位相差板の具体例を模式的に示す概略断面図である。 位相差板の具体例を模式的に示す概略断面図である。 本実施形態の画像表示装置の一例を模式的に示す概略断面図である。

以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下のすべての図面においては、各構成要素を理解しやすくするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。

［偏光板］
図１は、本実施形態の偏光板の一例を模式的に示す概略断面図である。図１に示すように、偏光板１は、前面側から、直線偏光板１０と、第１貼合層２１と、位相差板３０と、がこの順に積層されている。位相差板３０は、第１位相差層３１と、第２位相差層３２と、を有する。偏光板１は、円偏光板であってもよい。本明細書において、偏光板という用語は、円偏光板も包含する。

位相差板３０は、突き刺し弾性率が７０ｇ／ｍｍ以上である。突き刺し弾性率は、実施例に記載の方法にしたがった方法により測定される値とする。位相差板３０の突き刺し弾性率は、好ましくは１４０ｇ／ｍｍ以下であり、より好ましくは１２０ｇ／ｍｍ以下であり、１１０ｇ／ｍｍ以下であってもよい。位相差板３０は、偏光板から剥離することを予定している基材を含んでいても含んでいなくてもよく、本明細書でいう位相差板３０の突き刺し弾性率は、位相差板３０の内、偏光板から剥離することを予定している基材を含まない部分の層構成の突き刺し弾性率を意味する。位相差板３０において、第１位相差層３１と第２位相差層３２との間には、介在する他の層を有していてもよいし、有していなくてもよい。

位相差板３０において、第１位相差層３１と第２位相差層３２とが貼合層（以下、「第３貼合層」とする）を介して貼合されている場合には、突き刺し弾性率は第３貼合層の硬さに依存するものの、第３貼合層が粘着剤からなる層である場合、突き刺し弾性率は低くなる傾向にあり、７０ｇ／ｍｍ未満である場合がある。一方、第３貼合層が接着剤からなる層である場合、突き刺し弾性率は高くなる傾向にあり、７０ｇ／ｍｍ以上である場合がある。位相差板３０において、第１位相差層３１と第２位相差層３２とが、その間に介在する貼合層を有さずに積層されている場合には、位相差板３０の突き刺し弾性率は高くなる傾向にあり、通常、７０ｇ／ｍｍ以上である。位相差板３０において、第１位相差層３１と第２位相差層３２とが、貼合層を有さずに積層されている構成としては、第１位相差層３１と第２位相差層３２との間に、配向膜のみを有する、または介在する他の層を有しない構成が挙げられる。

本発明者らは、突き刺し弾性率が高い位相差板を用いた偏光板は基材剥離時に付加される剥離力に対する耐久性が低いとの知見を得た。一方で、位相差板の突き刺し弾性率を低くすると、基材の剥離力が軽くなり基材が浮きやすいという問題が生じやすい。本発明者らは、さらに鋭意研究を重ね、突き刺し弾性率が７０ｇ／ｍｍ以上の位相差板を用いた偏光板であっても、直線偏光板１０と位相差板３０との間に介在する第１貼合層２１を、温度２３℃、相対湿度５５％での引張弾性率が１．０×１０^８Ｐａ以下である粘接着剤からなるようにすることにより、基材剥離時に付加される剥離力に対する耐久性に優れた偏光板とすることができるとの知見を得て本発明に至った。また、本発明はかかる構成であることにより、ヒートショックや研磨により生じるクラックの発生を抑制することができる。第１貼合層２１を形成する粘接着剤の温度２３℃、相対湿度５５％での引張弾性率は、好ましくは１．０×１０^７Ｐａ以下であり、より好ましくは１．０×１０^６Ｐａ以下であり、好ましくは１．０×１０^３Ｐａ以上であり、より好ましくは１．０×１０^５Ｐａ以上である。また、第１貼合層２１を形成する粘接着剤の厚み（ｍ）と引張弾性率（Ｐａ）との積は、好ましくは５００以下であり、より好ましくは５０以下であり、さらに好ましくは５以下である。第１貼合層２１を形成する粘接着剤の厚み（ｍ）と引張弾性率（Ｐａ）との積は、好ましくは０．００５以上であり、より好ましくは０．５以上である。この数値範囲とすることにより、剥離力に対する耐久性を向上させることができる。

本発明に係る偏光板は基材剥離時に付加される剥離力に対する耐久性が高く、より具体的には、基材を備える位相差板を有する偏光板から基材を剥離する際に位相差板の位相差層が損傷することを抑制することができる。位相差板の位相差層は、液晶化合物の硬化物を含む層である場合には薄く、基材を剥離する際に損傷しやすく、特に基材に近い位相差層ほど損傷しやすいものの、本発明に係る偏光板においては、このような損傷を抑制することができる。基材としては、位相差板の製造工程で用いられた基材が挙げられる。

第１貼合層２１を形成する粘接着剤の温度２３℃、相対湿度５５％での引張弾性率は、次の手順によって測定することができる。離型処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、「ＰＥＴフィルム」ということがある。）の離型処理面にアプリケータを用いて粘接着剤組成物を塗布する。その後、室温雰囲気下に３０分間載置して予備乾燥し、さらに温度１００℃の条件下に５分間載置して本乾燥することにより、ＰＥＴフィルムに塗布された粘接着剤組成物に含まれる溶剤を十分に揮発させる。最後に、所定の硬化処理（加熱処理や紫外線照射処理等）を行い、ＰＥＴフィルム上に貼合層を作製し、ＰＥＴフィルムを剥離して得られた貼合層を測定用のサンプルとして、後述する実施例に記載の方法によって引張弾性率を測定すればよい。

［第１貼合層］
第１貼合層２１は、直線偏光板１０と位相差板３０との貼合を担う層である。温度２３℃、相対湿度５５％での引張弾性率が１．０×１０^８Ｐａ以下の粘接着剤としては、例えば、粘着剤、接着剤が挙げられる。第１貼合層２１としては好ましくは粘着剤が用いられる。

第１貼合層２１に用いられる具体的な粘着剤としては、たとえば、アクリル系ポリマーや、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテルなどをベースポリマーとするもので構成することができる。なかでも、アクリル系ポリマーのように、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を保持し、基材との接着性にも優れ、さらには耐候性や耐熱性などを有し、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等の剥離問題を生じないものを選択して用いることが好ましい。アクリル系ポリマーにおいては、メチル基やエチル基、ブチル基等の炭素数が２０以下のアルキル基を有するアクリル酸のアルキルエステルと、（メタ）アクリル酸や（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチルなどからなる官能基含有アクリル系モノマーとを、ガラス転移温度が好ましくは２５℃以下、さらに好ましくは０℃以下となるように配合した、重量平均分子量が１０万以上のアクリル系共重合体が、ベースポリマーとして有用である。

アクリル系ポリマーとしては、特に限定されるものではないが、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルなどの（メタ）アクリル酸エステル系ベースポリマーや、これらの（メタ）アクリル酸エステルを２種類以上用いた共重合系ベースポリマーが好適に用いられる。また、これらのベースポリマーには、極性モノマーが共重合されていてもよい。極性モノマーとしては、たとえば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、２－Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートなどの、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基などの極性官能基を有するモノマーを挙げることができる。

これらのアクリル系ポリマーは、単独でも粘着剤として使用可能であるが、粘着剤には通常、架橋剤が配合される。架橋剤としては、２価または多価金属イオンであって、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成するもの、ポリアミン化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するもの、ポリエポキシ化合物やポリオール化合物であって、カルボキシル基との間でエステル結合を形成するもの、ポリイソシアネート化合物であって、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するものなどが例示される。なかでもポリイソシアネート化合物が、有機系架橋剤として広く使用されている。

本実施形態において、第１貼合層を形成する粘着剤の引張弾性率を調整するための手段としては、特に制限されないが、たとえば、上述の粘着剤成分に、オリゴマー、具体的にはウレタンアクリレート系のオリゴマーを配合する方法を好適なものとして挙げることができる。さらに、このようなウレタンアクリレート系オリゴマーを配合した粘着剤にエネルギー線を照射して硬化させたものを用いてもよい。ウレタンアクリレート系オリゴマーが配合された粘着剤、あるいは、それを支持フィルム（セパレータ）上に塗工し紫外線硬化させたセパレータ付き粘着剤は、公知であり、粘着剤メーカーから入手できる。

粘着剤には、上記のベースポリマー、架橋剤およびオリゴマーのほか、必要に応じて、粘着剤の粘着力、凝集力、粘性、弾性率、ガラス転移温度などを調整するために、たとえば、天然物や合成物である樹脂類、粘着性付与樹脂、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、消泡剤、腐食抑制剤、光重合開始剤などの適宜な添加剤を配合することもできる。紫外線吸収剤には、サリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などがある。

第１貼合層２１の厚みは、その接着力などに応じて決定されるが、通常は１～４０μｍの範囲である。粘着剤層の厚みは３～２５μｍ又は２０μｍ以下とするのが、良好な加工性を保ち、高い耐久性を示すことから、好適である。また、上記範囲の厚みであることにより、剥離力に対する耐久性をより向上させることができる。

第１貼合層２１に用いられる具体的な接着剤としては、感圧型接着剤（粘着剤）以外の接着剤であって、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。

水系接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂を水に溶解、又は分散させた接着剤が挙げられる。水系接着剤を用いた場合の乾燥方法については特に限定されるものではないが、例えば、熱風乾燥機や赤外線乾燥機を用いて乾燥する方法が採用できる。

活性エネルギー線硬化型接着剤としては、例えば、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線のような活性エネルギー線の照射によって硬化する硬化性化合物を含む無溶剤型の活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。無溶剤型の活性エネルギー線硬化型接着剤を用いることにより、層間の密着性を向上させることができる。

活性エネルギー線硬化型接着剤としては、良好な接着性を示すことから、カチオン重合性の硬化性化合物、ラジカル重合性の硬化性化合物のいずれか一方又は両方を含むことが好ましい。活性エネルギー線硬化型接着剤は、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるための光カチオン重合開始剤等のカチオン重合開始剤、又はラジカル重合開始剤をさらに含むことができる。

カチオン重合性の硬化性化合物としては、例えば、脂環式環に結合したエポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物、２個以上のエポキシ基を有し芳香環を有さない多官能脂肪族エポキシ化合物、エポキシ基を１つ有する単官能エポキシ基（但し、脂環式エポキシ化合物に含まれるものを除く）、２個以上のエポキシ基を有し芳香環を有する多官能芳香族エポキシ化合物等のエポキシ系化合物；分子内に１個又は２個以上のオキセタン環を有するオキセタン化合物；これらの組み合わせを挙げることができる。

ラジカル重合性の硬化性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル系化合物（分子内に１個又は２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物）、ラジカル重合性の二重結合を有するその他のビニル系化合物、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、必要に応じて、光増感助剤等の増感剤を含有することができる。増感剤を使用することにより、反応性が向上し、接着剤層の機械強度や接着強度をさらに向上させることができる。増感剤としては、公知のものを適宜適用することができる。増感剤を配合する場合、その配合量は、活性エネルギー線硬化型接着剤の総量１００質量部に対し、０．１～２０質量部の範囲とすることが好ましい。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、必要に応じて、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤、溶媒等の添加剤を含有することができる。

活性エネルギー線硬化型接着剤を用いた場合は、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線のような活性エネルギー線を照射し、接着剤の塗布層を硬化させて接着剤層を形成することができる。活性エネルギー線としては、紫外線が好ましく、この場合の光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等を用いることができる。

接着剤を第１貼合層２１とする場合の厚みは、その接着力などに応じて決定されるが、通常は０．０２～１０μｍの範囲である。接着剤層の厚みは１～４μｍとするのが、外力に対する耐久性をより向上させることのできる観点から、好適である。

［直線偏光板］
直線偏光板１０は、透過光より直線偏光を得る偏光機能を有するフィルムであればよい。当該フィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムを偏光子として含むフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。偏光子として用いられる、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、あるいは、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を塗布して得られる液相層を有するフィルム等が挙げられる。

＜延伸フィルムを偏光子として備える直線偏光板＞
吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムを偏光子として備える直線偏光板について説明する。偏光子である、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムは、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、及び二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程を有する、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造される。かかる偏光子をそのまま直線偏光板として用いてもよく、またはかかる偏光子の少なくとも一方の面に透明保護フィルムを貼合したものを直線偏光板として用いてもよい。

こうしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚みは好ましくは５～４０μｍであり、より好ましくは１５μｍ以下であり、さらに好ましくは１０μｍ以下である。

偏光子の片面又は両面に貼合される保護フィルムの材質としては、特に限定されるものではないが、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースのような樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートのような樹脂からなるポリエステル系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、（メタ）アクリル系樹脂フィルム、ポリプロピレン系樹脂フィルムなど、当分野において公知のフィルムを挙げることができる。保護フィルムの厚みは、薄型化の観点から、通常３００μｍ以下であり、２００μｍ以下であることが好ましく、３０μｍ以下であることがより好ましく、また、通常５μｍ以上であり、１０μｍ以上であってもよい。保護フィルムの厚みが３０μｍ以下、あるいは温度２３℃における引張弾性率が２０００ＭＰａ以上である場合、保護フィルムが基材剥離時に付加される力の緩和層として機能しにくいため、基材剥離に対する耐久性が低下し、剥離される基材に近い位相差層に損傷が生じる等の不具合が生じやすい。また、視認側の保護フィルムは位相差を有していてもよいし、位相差を有していなくてもよい。

保護フィルムは、偏光子の片面又は両面に、貼合層（以下、「第２貼合層」とする）を介して貼合することができる。

＜液晶層を有するフィルムを偏光子として備える直線偏光板＞
液晶層を有するフィルムを偏光子として備える直線偏光板について説明する。偏光子として用いられる、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物、又は二色性色素と液晶化合物とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられる。当該フィルムは、単独で直線偏光板として用いてもよく、その片面又は両面に保護フィルムを有する構成で直線偏光板として用いてもよい。当該保護フィルムとしては、上記した延伸フィルムを偏光子として備える直線偏光板と同一のものが挙げられる。保護フィルムは、偏光子の片面又は両面に、第２貼合層を介して貼合することができる。

吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。当該フィルムの厚さは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは５μｍ以下であり、さらに好ましくは０．５μｍ以上３μｍ以下である。

前記吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、具体的には、特開２０１３－３３２４９号公報等に記載のフィルムが挙げられる。

直線偏光板の一態様として、直線偏光板の第１貼合層とは反対側の表面に保護フィルムが設けられた構成が挙げられる。

＜最前面の層＞
直線偏光板１０は、最前面に反射防止層を備えていてもよい。反射防止層は、直線偏光板１０の表面又は内部での外光の反射光が視認されるのを防止する機能を有するものであり、従来に準じた反射防止層等の形成方法、すなわちコート法、スパッタ法、真空蒸着法等により形成することができる。反射防止層は、直線偏光板１０の前面側に設けられる保護フィルムの前面側に予め形成しておくことにより、かかる保護フィルムを用いて反射防止層付き直線偏光板を構成してもよいし、保護フィルムとは別に設けられてもよい。

直線偏光板１０は、最前面に、反射防止層以外の表面処理層を有していてもよい。このような表面処理層としては、ハードコート層、スティッキング防止層、アンチグレア層、拡散層等が挙げられる。

［位相差板］
位相差板３０は、第１位相差層３１と第２位相差層３２とを有し、第１位相差層３１及び第２位相差層３２は液晶化合物の硬化物を含み、突き刺し弾性率７０ｇ／ｍｍ以上であれば限定されない。位相差板３０は、第３位相差層を有してもよい。第１位相差層、第２位相差層及び第３位相差層はそれぞれ２以上の層から成っていてもよい。位相差板３０は、直線偏光板１０側とは反対側の表面に、基材を有していてもよい。当該基材は、位相差層を形成するための基材であってもよく、当該位相差層から剥離可能であることができる。

位相差板３０は、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有することが好ましい。位相差板３０がかかる光学特性を有するためには、第１位相差層３１、第２位相差層３２若しくは第３位相差層が式（１）及び式（２）で表される光学特性を有するか、又は、第１位相差層３１、第２位相差層３２及び第３位相差層から選ばれる少なくとも２つを組み合わせることで式（１）及び式（２）で表される光学特性を発現すればよい。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）

本明細書において、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍにおける面内位相差値を表す。

＜位相差層＞
位相差層としては、例えば、重合性液晶を重合させることにより形成される層及び延伸フィルムが挙げられる。位相差層の光学特性は重合性液晶の配向状態または延伸フィルムの延伸方法により調節することができる。重合性液晶を重合させることにより形成される層は、液晶化合物の硬化物を含む。位相差板３０において、薄型化の観点から、少なくとも、第１位相差層３１及び第２位相差層３２は、液晶化合物の硬化物を含む層である。

（重合性液晶を重合させることにより形成される層）
本明細書においては、重合性液晶の光軸が基材平面に対して水平に配向したものを水平配向、重合性液晶の光軸が基材平面に対して垂直に配向したものを垂直配向と定義する。光軸とは、重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体において、光軸に直交する方向で切り出した断面が円となる方向、すなわち３方向の屈折率がすべて等しくなる方向を意味する。

重合性液晶としては、棒状の重合性液晶および円盤状の重合性液晶が挙げられる。棒状の重合性液晶が基材に対して水平配向または垂直配向した場合は、該重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の長軸方向と一致する。円盤状の重合性液晶が配向した場合は、該重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の円盤面に対して直交する方向に存在する。

延伸フィルムの遅相軸方向は延伸方法により異なり、一軸、二軸または斜め延伸等、その延伸方法に応じて遅相軸および光軸が決定される。

重合性液晶を重合させることにより形成される層が面内位相差を発現するためには、重合性液晶を適した方向に配向させればよい。重合性液晶が棒状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する、この場合、光軸方向と遅相軸方向とは一致する。重合性液晶が円盤状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する、この場合、光軸と遅相軸とは直交する。重合性液晶の配向状態は、配向膜と重合性液晶との組み合わせにより調整することができる。

位相差層の面内位相差値は、位相差層の厚みによって調整することができる。面内位相差値は式（１０）によって決定されることから、所望の面内位相差値（Ｒｅ（λ））を得るためには、Δｎ（λ）と膜厚ｄを調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （１０）
式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表わす。

複屈折率Δｎ（λ）は、面内位相差値を測定して、位相差層の厚みで除することで得られる。具体的な測定方法においては、ガラス基板のように基材自体に面内位相差が無いような基材上に製膜したものを測定することで、実質的な位相差層の特性を測定することができる。

本明細書では、重合性液晶の配向又はフィルムの延伸により形成される屈折率楕円体における３方向の屈折率を、ｎx、ｎyおよびｎzとして表す。ｎxは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎyは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、該ｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。

棒状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、ｎx＞ｎy≒ｎz（ポジティブＡプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎxの方向の軸と遅相軸が一致する。

また、円盤状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、ｎx＜ｎy≒ｎz（ネガティブＡプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎyの方向の軸と遅相軸が一致する。

重合性液晶を重合させることにより形成される層が厚み方向の位相差を発現するためには、重合性液晶を適した方向に配向させればよい。本発明において、厚み方向の位相差を発現するとは、式（２０）において、Ｒth（厚み方向の位相差値）が負となる特性を示すものと定義する。Ｒthは、面内の進相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定される位相差値（Ｒ_４０）と、面内の位相差値（Ｒe）とから算出することができる。すなわち、Ｒthは、Ｒe、Ｒ_４０、ｄ（位相差層の厚み）、およびｎ0（位相差層の平均屈折率）から、以下の式(２１)～（２３）によりｎx、ｎy及びｎzを求め、これらを式（２０）に代入することで算出することができる。
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ （２０）
Ｒe ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ （２１）
Ｒ_４０＝（ｎｘ－ｎｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （２２）
(ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ)／３＝ｎ０ （２３）
ここで、
φ＝ｓｉｎ^－１〔ｓｉｎ（４０°)／ｎ0〕
ｎｙ'＝ｎｙ×ｎｚ／〔ｎｙ²×ｓｉｎ²(φ)＋ｎｚ²×ｃｏｓ²(φ)〕^1/2
また、ｎx、ｎyおよびｎzは前述の定義と同じである。

重合性液晶が棒状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して垂直に配向させることで厚み方向の位相差が発現する。重合性液晶が円盤状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで厚み方向の位相差が発現する。円盤状の重合性液晶の場合は、該重合性液晶の光軸が基材平面に対して平行であるため、Ｒeを決めると、厚みが固定されるため、一義的にＲthが決定されるが、棒状の重合性液晶の場合は、該重合性液晶の光軸が基材平面に対して垂直であるため、位相差層の厚みを調節することでＲeを変化させることなくＲthを調節することができる。

棒状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して垂直に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、ｎx≒ｎy＜ｎz（ポジティブＣプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎzの方向の軸と遅相軸方向が一致する。

また、円盤状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して平行に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、ｎx＜ｎy≒ｎz（ネガティブＡプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎyの方向の軸と遅相軸方向が一致する。

＜重合性液晶＞
重合性液晶とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でも良く、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でも良い。

棒状の重合性液晶としては、例えば、下記式（Ａ）で表される化合物、及び下記式（Ｘ）で表される基を含む化合物が挙げられる。棒状の重合性液晶としては、波長分散性発現の観点から分子軸方向に対して垂直配向さらに複屈折性を有するＴ字型あるいはＨ型にメソゲン構造を有する液晶が好ましく、より強い分散が得られる観点からＴ字型液晶がより好ましく、Ｔ字型液晶の構造としては、具体的には、下記式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。

（式（Ａ）で表される化合物）
式（Ａ）は下記のとおりである。以下、式（Ａ）で表される化合物を重合性液晶（Ａ）ということがある。

式（Ａ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。二価の基Ａｒに含まれる芳香族基が２つ以上である場合、２つ以上の芳香族基は互いに単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－などの二価の結合基で結合していてもよい。
Ｇ^１及びＧ^２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^１、Ｌ^２ _、Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ^１及びＢ^２、Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｅ^１及びＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－で置換されていてもよく、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－を複数有する場合は互いに隣接しない。Ｐ^１及びＰ^２は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。

Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４－フェニレンジイル基、無置換の１，４－フェニレンジイル基、又は無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４－フェニレンジイル基、又は無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロへキサンジイル基である。
また、複数存在するＧ^１及びＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ^１又はＬ^２に結合するＧ^１及びＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。

Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒ^ａ１ＯＲ^ａ２－、－Ｒ^ａ３ＣＯＯＲ^ａ４－、－Ｒ^ａ５ＯＣＯＲ^ａ６－、Ｒ^ａ７ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ８－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ^ｃ＝ＣＲ^ｄ－、又はＣ≡Ｃ－である。ここで、Ｒ^ａ１～Ｒ^ａ８はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１～４のアルキレン基を表し、Ｒ^ｃ及びＲ^ｄは炭素数１～４のアルキル基又は水素原子を表す。Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲ^ａ２－１－、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯＲ^ａ４－１－、又はＯＣＯＲ^ａ６－１－である。ここで、Ｒ^ａ２－１、Ｒ^ａ４－１、Ｒ^ａ６－１はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－のいずれかを表す。Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２－、又はＯＣＯ－である。

Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒ^ａ９ＯＲ^ａ１０－、－Ｒ^ａ１１ＣＯＯＲ^ａ１２－、－Ｒ^ａ１３ＯＣＯＲ^ａ１４－、又はＲ^ａ１５ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ１６－である。ここで、Ｒ^ａ９～Ｒ^ａ１６はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１～４のアルキレン基を表す。Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲ^{ａ１０－１}－、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯＲ^{ａ１２－１}－、又はＯＣＯＲ^{ａ１４－１}－である。ここで、Ｒ^{ａ１０－１}、Ｒ^{ａ１２－１}、Ｒ^{ａ１４－１}はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－のいずれかを表す。Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－、又はＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２－である。

ｋ及びｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるため好ましい。

Ｅ^１及びＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４～１２のアルカンジイル基がより好ましい。

Ｐ^１又はＰ^２で表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

式（Ａ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。

Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が好適に挙げられる。

式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１～１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１～１２のフルオロアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルキルチオ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルアミノ基、炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルアミノ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルスルファモイル基又は炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルスルファモイル基を表す。

Ｑ^１、Ｑ^２及びＱ^３は、それぞれ独立に、－ＣＲ^２’Ｒ^３’－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ^２’－、－ＣＯ－又はＯ－を表し、Ｒ^２’及びＲ^３’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。

Ｊ^１、及びＪ^２は、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。

Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、ｍは０～６の整数を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４～２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。

Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ^０は、水素原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ^１及びＺ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。

Ｑ^１、Ｑ^２及びＱ^３は、－ＮＨ－、－Ｓ－、－ＮＲ^２’－、－Ｏ－が好ましく、Ｒ^２’は水素原子が好ましい。中でも－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＨ－が特に好ましい。

式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－２３）の中でも、式（Ａｒ－６）及び式（Ａｒ－７）が分子の安定性の観点から好ましい。
式（Ａｒ－１６）～（Ａｒ－２３）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子及びＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子及びＺ^０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。

（式（Ｘ）で表される基を含む化合物）
式（Ｘ）は下記のとおりである。以下、式（Ｘ）で表される基を含む化合物を重合性液晶（Ｂ）ということがある。
Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－ （Ｘ）

［式（Ｘ）中、Ｐ１１は、重合性基を表わす。
Ａ１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１～６のアルキル基および該炭素数１～６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ１１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ^１６－、－ＮＲ^１６－ＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－または単結合を表わす。Ｒ^１６は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｂ１２およびＢ１３は、それぞれ独立に、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１６－、－ＮＲ^１６－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣＨ_２－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－または単結合を表わす。
Ｅ１１は、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－または－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］

Ａ１１の芳香族炭化水素基および脂環式炭化水素基の炭素数は、３～１８の範囲であることが好ましく、５～１２の範囲であることがより好ましく、５または６であることが特に好ましい。Ａ１１としては、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、１，４－フェニレン基が好ましい。

Ｅ１１としては、直鎖状の炭素数１～１２のアルカンジイル基が好ましい。該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、へキサン－１，６－ジイル基、へプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基およびドデカン－１，１２－ジイル基等の炭素数１～１２の直鎖状アルカンジイル基；－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－および－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－等が挙げられる。
Ｂ１１としては、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－が好ましく、中でも、－ＣＯ－Ｏ－がより好ましい。
Ｂ１２およびＢ１３としては、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－が好ましく、中でも、－Ｏ－または－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－がより好ましい。

Ｐ１１で示される重合性基としては、重合反応性、特に光重合反応性が高いという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、液晶化合物の製造自体も容易であることから、重合性基は、下記の式（Ｐ－１１）～式（Ｐ－１５）で表わされる基であることが好ましい。

［式（Ｐ－１１）～（Ｐ－１５）中、
Ｒ^１７～Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基または水素原子を表わす。］

式（Ｐ－１１）～式（Ｐ－１５）で表わされる基の具体例としては、下記式（Ｐ－１６）～式（Ｐ－２０）で表わされる基が挙げられる。

Ｐ１１は、式（Ｐ－１４）～式（Ｐ－２０）で表わされる基であることが好ましく、ビニル基、ｐ－スチルベン基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。
Ｐ１１－Ｂ１１－で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。

重合性液晶（Ｂ）としては、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）または式（ＶＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 （Ｉ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 （ＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 （ＩＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 （ＩＶ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 （Ｖ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 （ＶＩ）
（式中、
Ａ１２～Ａ１４はそれぞれ独立に、Ａ１１と同義であり、Ｂ１４～Ｂ１６はそれぞれ独立に、Ｂ１２と同義であり、Ｂ１７は、Ｂ１１と同義であり、Ｅ１２は、Ｅ１１と同義である。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１～１３のアルキル基、炭素数１～１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（－ＳＯ_３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。）

重合性液晶（Ｂ）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開２０１０－３１２２３号公報、特開２０１０－２７０１０８号公報、特開２０１１－６３６０号公報および特開２０１１－２０７７６５号公報記載の重合性液晶が挙げられる。

重合性液晶（Ｂ）の具体例としては、下記式（Ｉ－１）～式（Ｉ－４）、式（ＩＩ－１）～式（ＩＩ－４）、式（ＩＩＩ－１）～式（ＩＩＩ－２６）、式（ＩＶ－１）～式（ＩＶ－２６）、式（Ｖ－１）～式（Ｖ－２）および式（ＶＩ－１）～式（ＶＩ－６）で表わされる化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｋ1およびｋ2は、それぞれ独立して、２～１２の整数を表わす。これらの重合性液晶（Ｂ）は、その合成の容易さ、または、入手の容易さの点で、好ましい。

円盤状の重合性液晶としては、例えば、式（Ｗ）で表される基を含む化合物（以下、重合性液晶（Ｃ）ということがある）が挙げられる。

［式（Ｗ）中、Ｒ^４０は、下記式（Ｗ－１）～（Ｗ－５）を表わす。

Ｘ^４０およびＺ^４０は、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－または－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。

重合性液晶（Ｃ）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料 図６．２１」に記載された化合物、特開平７－２５８１７０号公報、特開平７－３０６３７号公報、特開平７－３０９８０７号公報、特開平８－２３１４７０号公報記載の重合性液晶が挙げられる。

式（１）および式（２）で表される光学特性を有する位相差板３０は、特定の構造を有する重合性液晶を重合させた場合、特定の構造を有する高分子フィルムを延伸した場合、又は、式（４）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層と、式（５）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層とを特定の遅相軸関係で組み合わせることで得られる。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
２００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜３２０ｎｍ （５）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００ （６）
１．００≧Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （７）

位相差板３０は、好ましくは、式（１）および式（２）で表される光学特性を有する。位相差板３０が式（１）および式（２）で表される光学特性を有すると、可視光域における各波長の光に対して、一様な偏光変換の特性が得られ、有機ＥＬ表示装置等の表示装置の黒表示時の光漏れを抑制することができる。

前記特定の構造を有する重合性液晶としては、例えば、前記重合性液晶（Ａ）が挙げられる。重合性液晶（Ａ）を、基材平面に対して光軸が水平となるように配向することで、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する位相差層が得られ、さらに、前記式（１０）に従って膜厚を調節することで、例えば、式（４）で表される光学特性等の所望の面内位相差値を有する位相差層を得ることができる。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）

式（４）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層と、式（５）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層とを特定の遅相軸関係で組み合わせる方法としては、周知の方法が挙げられる。
例えば、特開２００１－４８３７号公報、特開２００１－２１７２０号公報及び特開２０００－２０６３３１号公報には、液晶化合物からなる位相差層を少なくとも２層有する位相差フィルムが開示されている。

上記式（６）及び式（７）で表される光学特性を有する位相差層は、周知の方法で得ることができる。すなわち、上記式（１）および式（２）で表される光学特性を有する位相差層を得る方法以外の方法で得られる位相差層は、概ね式（６）及び式（７）で表される光学特性を有する。

（第１位相差層）
第１位相差層３１は、好ましくは式（４）で表される光学特性を有し（本明細書では、式（４）で表される光学特性を満たす位相差層を「λ／４層」ともいう。）、より好ましくは式（４－１）で表される光学特性を有する。面内位相差値Ｒｅ（５５０）は、上記位相差層の面内位相差値の調整方法と同じ方法で調整することができる。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
１３０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１５０ｎｍ （４－１）

さらに、第１位相差層は、好ましくは、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する（本明細書では、式（１）及び式（２）で表される光学特性を「逆分散性」ともいう）。かかる光学特性は、上記位相差層と同様の方法で得ることができる。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）

また、第１位相差層は、好ましくは、式（４）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層Ａと、式（５）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層Ｂとを有する。かかる光学特性は、上記位相差層と同じの方法で得ることができる。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
２００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜３２０ｎｍ （５）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００ （６）
１．００≧Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （７）
層Ａは好ましくは式（４－１）で表される光学特性を有する層であり、層Ｂは好ましくは式（５－１）で表される光学特性を有する層である。
１３０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１５０ｎｍ （４－１）
２６５ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜２８５ｎｍ （５－１）

また、位相差板が第３位相差層を有する場合、第１位相差層は、好ましくは、式（６）及び（７）で表される光学特性を有する。かかる光学特性は、上記位相差層と同じ方法で得ることができる。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００ （６）
１．００≧Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （７）

第１位相差層は、１以上の重合性液晶を重合させることにより形成されるコーティング層である。第１位相差層が１つの位相差層からなり、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する場合、かかる位相差層は重合性液晶（Ａ）を重合させることにより形成されるコーティング層であると好ましい。第２位相差層が式（６）及び式（７）で表される光学特性を有する場合、かかる位相差層は重合性液晶（Ｂ）を重合させることにより形成されるコーティング層であると好ましい。

層Ａは、好ましくは重合性液晶（Ｂ）を重合させることにより形成されるコーティング層である。層Ｂは、好ましくは重合性液晶（Ｃ）を重合させることにより形成されるコーティング層である。

第１位相差層は、重合性液晶を重合させることにより形成される層であり、その厚さは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５μｍ以上３μｍ以下である。第１位相差層の厚さは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡または触針式膜厚計による測定によって求めることができる。

（第２位相差層）
第２位相差層３２は、好ましくは式（３）で表される光学特性を有する（ポジティブＣプレート）。
ｎx≒ｎy＜ｎz （３）

第２位相差層の面内位相差値Ｒｅ（５５０）は通常０～１０ｎｍの範囲であり、好ましくは０～５ｎｍの範囲である。厚み方向の位相差値Ｒthは、通常－１０～－３００ｎｍの範囲であり、好ましくは－２０～－２００ｎｍの範囲である。かかる面内位相差値Ｒｅ（５５０）及び厚み方向の位相差値Ｒｔｈは、上記位相差層と同じ方法で調整することができる。

第２位相差層は、１以上の重合性液晶を重合することで形成されるコーティング層である。より好ましくは重合性液晶（Ｂ）を重合することで形成されるコーティング層である。

第２位相差層は、重合性液晶を重合させることにより形成される層であり、その厚さは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．３μｍ以上３μｍ以下である。第２位相差層の厚さは、第１位相差層と同じ方法で求めることができる。また、第１位相差層及び第２位相差層の厚さは、それぞれ５μｍ以下であると好ましい。

（第３位相差層）
第３位相差層は、好ましくは式（５）で表される光学特性を有し、さらに好ましくは式（５－１）で表される光学特性を有する。面内位相差値Ｒｅ（５５０）は、上記位相差層の面内位相差値の調整方法と同じ方法で調整することができる。
２００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜３２０ｎｍ （５）
２６５ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜２８５ｎｍ （５－１）

また、第３位相差層は、好ましくは式（６）及び（７）で表される光学特性を有する。かかる光学特性は、上記位相差層と同様の方法で得ることができる。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００ （６）
１．００≧Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （７）

第３位相差層は、好ましくは１以上の重合性液晶を重合することで形成されるコーティング層である。より好ましくは重合性液晶（Ｂ）又は（Ｃ）を重合することで形成されるコーティング層である。

第３位相差層は延伸フィルムであってもよく、延伸フィルムの場合、その厚さは、通常３００μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以上１００μｍ以下であり、より好ましくは１０μｍ以上５０μｍ以下である。第３位相差層が重合性液晶を重合させることにより形成される層の場合、その厚さは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５μｍ以上５μｍ以下である。第３位相差層の厚さは、第１位相差層と同じ方法で求めることができる。

（基材）
位相差板３０は、基材を有していてもよい。基材は通常透明基材である。透明基材とは、光、特に可視光を透過し得る透明性を有する基材を意味し、透明性とは、波長３８０～７８０ｎｍにわたる光線に対しての透過率が８０％以上となる特性をいう。具体的な透明基材としては、透光性樹脂基材が挙げられる。透光性樹脂基材を構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ノルボルネン系ポリマーなどの環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシドが挙げられる。入手のしやすさや透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステル、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂またはポリカーボネートが好ましい。

配向膜、第１位相差層、第２位相差層及び第３位相差層が形成される側の基材の面には、配向膜又は位相差層を形成する前に、表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、真空下又は大気圧下、コロナ又はプラズマで基材の表面を処理する方法、基材表面をレーザー処理する方法、基材表面をオゾン処理する方法、基材表面をケン化処理する方法又は基材表面を火炎処理する方法、基材表面にカップリング剤を塗布するプライマー処理する方法、反応性モノマーや反応性を有するポリマーを基材表面に付着させた後、放射線、プラズマ又は紫外線を照射して反応させるグラフト重合法等が挙げられる。中でも、真空下や大気圧下で、基材表面をコロナ又はプラズマ処理する方法が好ましい。

コロナ又はプラズマで基材の表面処理を行う方法としては、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法、及び、低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法が挙げられる。

中でも、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、又は、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法が好ましい。かかるコロナ又はプラズマによる表面処理は、通常、市販の表面処理装置により行われる。

基材は、位相差が小さい基材が好ましい。位相差が小さい基材としては、ゼロタック（登録商標）（コニカミノルタオプト（株））、Ｚタック（富士フィルム（株））などの位相差を有しないセルロースエステルフィルムが挙げられる。また、未延伸の環状オレフィン系樹脂基材も好ましい。

また、配向膜、第１位相差層、第２位相差層及び第３位相差層が形成されていない基材の面には、ハードコート処理、帯電防止処理等がなされてもよい。また、性能に影響しない範囲で、紫外線吸収剤などの添加剤を含んでいてもよい。

基材の厚みは、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向があるため、通常５～３００μｍであり、好ましくは１０～２００μｍである。

（重合性液晶組成物）
重合性液晶を重合させることにより形成される層（位相差層）は、通常、１以上の重合性液晶を含有する組成物（以下、重合性液晶組成物ということがある。）を、基材、配向膜、保護層又は位相差層の上に塗布し、得られた塗膜中の重合性液晶を重合させることにより形成される。

重合性液晶組成物は、通常溶剤を含み、溶剤としては、重合性液晶を溶解し得る溶剤であって、且つ、重合性液晶の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。
具体的な溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ－メチル－２－ピロリジノン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；が挙げられる。これら他の溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

重合性液晶組成物における溶剤の含有量は、通常、固形分１００質量部に対して、１０質量部～１００００質量部が好ましく、より好ましくは５０質量部～５０００質量部である。固形分とは、重合性液晶組成物から溶剤を除いた成分の合計を意味する。

重合性液晶組成物の塗布は、通常、スピンコ－ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法によって行われる。塗布後、通常、得られた塗布膜中に含まれる重合性液晶が重合しない条件で溶剤を除去することにより、乾燥被膜が形成される。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法が挙げられる。

（配向膜）
本明細書において、配向膜とは、重合性液晶を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。
配向膜としては、重合性液晶組成物の塗布などにより溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や重合性液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。かかる配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向膜等が挙げられる。

配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを組み合わせて用いてもよい。

配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物（以下、配向性ポリマー組成物ということがある。）を基材に塗布し、溶剤を除去する、又は、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去し、ラビングする（ラビング法）ことで得られる。

前記溶剤としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチルなどのエステル溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤、および、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマー材料が、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１～２０％が好ましく、０．１から１０％程度がさらに好ましい。

配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、スピンコ－ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。本光学フィルムを、後述するＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式の連続的製造方法により製造する場合、当該塗布方法には通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法などの印刷法が採用される。

配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられる。

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じてラビングを行うことができる（ラビング法）。

ラビング法により配向規制力を付与する方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を、接触させる方法が挙げられる。

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じて光配向を行うことができる（光配向法）。

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ということがある。）を基材に塗布し、光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。

光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起または異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ－ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物を基材上に塗布することにより、基材上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶剤としては、上述の配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマーあるいはモノマーの溶解性に応じて適宜選択することができる。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚みによって適宜調節できるが、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３～１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコ－ルやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、例えば、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。

偏光を照射するには、基板上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光ＵＶを照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０～４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レ－ザ－などが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテ－ラ－などの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。

なお、ラビング又は偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ配向膜は、膜表面の凹凸パターンまたは複数の溝によって、液晶配向が得られる膜である。Ｈ．Ｖ．ケネルらによって、複数の等間隔に並んだ直線状のグルブ（溝）を有する基材に液晶分子を置いた場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向するという事実が報告されている（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ Ａ２４（５）、２７１３ページ、１９８１年）。

グルブ配向膜を得る具体的な例としては、感光性ポリイミド表面に周期的なパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像およびリンス処理を行って不要なポリイミド膜を除去し凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤にＵＶ硬化樹脂層を形成し、樹脂層を基材フィルムへ移してから硬化する方法、ＵＶ硬化樹脂層を形成した基材フィルムを搬送し、複数の溝を有するロール状の原盤をＵＶ硬化樹脂層表面に押し当てて凹凸を形成後硬化する方法等が挙げられ、特開平６－３４９７６号公報、特開２０１１－２４２７４３号公報記載の方法等を用いることができる。

上記方法の中でも、複数の溝を有するロール状の原盤をＵＶ硬化樹脂層表面に押し当てて凹凸を形成後硬化する方法が好ましい。ロール状原盤としては、耐久性の観点からステンレス（ＳＵＳ）鋼を用いることができる。

ＵＶ硬化樹脂としては、単官能アクリレートの重合体、多官能アクリレートの重合体またはこれらの混合物の重合体を用いることができる。
単官能アクリレートとは、アクリロイルオキシ基（ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＯＯ－）及びメタクリロイルオキシ基（ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）－ＣＯＯ－）からなる群より選ばれる基（以下、（メタ）アクリロイルオキシ基と記すこともある。）を分子内に１個有する化合物である。

（メタ）アクリロイルオキシ基を１個有する単官能アクリレートとしては、炭素数４から１６のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のβカルボキシアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のアルキル化フェニル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート及びイソボニル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

多官能アクリレートとは、通常、（メタ）アクリロイルオキシ基を分子内に２個乃至６個有する化合物である。

（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有する２官能アクリレートとしては、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート；１，３－ブタンジオール（メタ）アクリレート；１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジアクリレート；ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート；プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート及び３－メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレートなどが例示される。

（メタ）アクリロイルオキシ基を３個乃至６個有する多官能アクリレートとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、及びカプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物などが挙げられる。なお、ここに示した多官能アクリレートの具体例において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。また、カプロラクトン変性とは、（メタ）アクリレート化合物のアルコール由来部位と（メタ）アクリロイルオキシ基との間に、カプロラクトンの開環体、又は、開環重合体が導入されていることを意味する。

かかる多官能アクリレートには市販品を用いることもできる。かかる市販品としては、Ａ－ＤＯＤ－Ｎ、Ａ－ＨＤ－Ｎ、Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、ＡＰＧ－１００、ＡＰＧ－２００、ＡＰＧ－４００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＰＴ、ＡＤ－ＴＭＰ、ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－ＴＭＭＴ、Ａ－９５５０、Ａ－ＤＰＨ、ＨＤ－Ｎ、ＮＯＤ－Ｎ、ＮＰＧ、ＴＭＰＴ（新中村化学株式会社製）、”ＡＲＯＮＩＸＭ－２２０”、同”Ｍ－３２５”、同”Ｍ－２４０”、同”Ｍ－２７０”、同”Ｍ－３０９”同”Ｍ－３１０”、同”Ｍ－３２１”、同”Ｍ－３５０”、同”Ｍ－３６０”、同”Ｍ－３０５”、同”Ｍ－３０６”、同”Ｍ－４５０”、同”Ｍ－４５１”、同”Ｍ－４０８”、同”Ｍ－４００”、同”Ｍ－４０２”、同”Ｍ－４０３”、同”Ｍ－４０４”、同”Ｍ－４０５”、同”Ｍ－４０６”（東亜合成株式会社製）、”ＥＢＥＣＲＹＬ１１”、同”１４５”、同”１５０”、同”４０”、同”１４０”、同”１８０”、ＤＰＧＤＡ、ＨＤＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＨＰＮＤＡ、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＤＰＨＡ、ＥＢＥＣＲＹＬシリーズ（ダイセル・サイテック株式会社製）などを挙げることができる。

グルブ配向膜の凹凸としては、凸部の幅は０．０５～５μｍであることが好ましく、凹部の幅は０．１～５μｍであることが好ましく、凹凸の段差の深さは２μｍ以下、好ましくは０．０１～１μｍ以下であることが好ましい。この範囲であれば、配向乱れの小さな液晶配向を得ることができる。

配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ～１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０ｎｍ～１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ～５００ｎｍの範囲である。

重合性液晶の液晶配向は、配向膜及び重合性液晶の性質によって制御される。例えば、配向膜が配向規制力として水平配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶は水平配向またはハイブリッド配向を形成することができ、垂直配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶は垂直配向または傾斜配向を形成することができる。配向規制力は、配向膜が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。

重合性液晶の重合は、重合性官能基を有する化合物を重合させる公知の方法により行うことができる。具体的には、熱重合および光重合が挙げられ、重合の容易さの観点から、光重合が好ましい。光重合により重合性液晶を重合させる場合、光重合開始剤を含有した重合性液晶組成物を塗布し、乾燥して得られる乾燥被膜中の重合性液晶を液晶相状態にした後、該液晶状態を保持したまま、光重合させることが好ましい。

光重合は、通常、乾燥被膜に光を照射することにより実施される。照射する光としては、乾燥被膜に含まれる光重合開始剤の種類、重合性液晶の種類（特に、重合性液晶が有する光重合基の種類）およびその量に応じて、適宜選択され、具体的には、可視光、紫外光およびレーザー光からなる群より選択される光、活性電子線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶と光重合開始剤との種類を選択することが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥被膜を冷却しながら、光照射することで、重合温度を制御することもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶の重合を実施すれば、基材が比較的耐熱性が低いものを用いたとしても、適切に位相差層を形成できる。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた位相差層を得ることもできる。

重合性液晶組成物は、反応性添加剤を含んでもよい。反応性添加剤としては、その分子内に炭素－炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）、水酸基（－ＯＨ）、アミノ基（－ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が有する、炭素－炭素不飽和結合及び活性水素反応性基の個数は、通常、それぞれ１～２０個であり、好ましくはそれぞれ１～１０個である。

反応性添加剤において、活性水素反応性基は少なくとも２つ存在すると好ましく、この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。

反応性添加剤が有する炭素－炭素不飽和結合とは、炭素－炭素二重結合又は炭素－炭素三重結合、あるいはそれらの組み合わせであってよいが、炭素－炭素二重結合であると好ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基として炭素－炭素不飽和結合を含むと好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種であるものが好ましく、アクリル基と、イソシアネート基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。

反応性添加剤の具体例としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテルなどの、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリンなどの、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、２－イソシアナトエチルアクリレート及び２０イソシアナトエチルメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とイソシアネート基とを有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸及びビニル無水マレイン酸などの、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物などが挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２－イソシアナトエチルアクリレート、２－イソシアナトエチルメタクリレート及び前記のオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、２－イソシアナトエチルアクリレート及び前記のオリゴマーが特に好ましい。

具体的には、下記式（Ｙ）で表される化合物が好ましい。

［式（Ｙ）中、
ｎは１～１０までの整数を表わし、Ｒ１’は、炭素数２～２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５～２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある２つのＲ２’は、一方が－ＮＨ－であり、他方が＞Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ３’で示される基である。Ｒ３’は、水酸基又は炭素－炭素不飽和結合を有する基を表す。
式（Ｙ）中のＲ３’のうち、少なくとも１つのＲ３’は炭素－炭素不飽和結合を有する
基である。］

前記式（Ｙ）で表される反応性添加剤の中でも、下記式（ＹＹ）で表される化合物（以下、化合物（ＹＹ）という場合がある。）が特に好ましいものである（なお、ｎは前記と同じ意味である）。

化合物（ＹＹ）には、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることができる。市販品としては、例えば、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ－９０００（ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。

重合性液晶組成物が反応性添加剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶１００質量部に対して、通常０．１質量部～３０質量部であり、好ましくは０．１質量部～５質量部である。

重合性液晶組成物は、１種以上のレベリング剤を含有することが好ましい。レベリング剤は、重合性液晶組成物の流動性を調整し、重合性液晶組成物を塗布することにより得られる塗布膜をより平坦にする機能を有し、具体的には、界面活性剤が挙げられる。レベリング剤としては、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤およびフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤としては、”ＢＹＫ－３５０”、”ＢＹＫ－３５２”、”ＢＹＫ－３５３”、”ＢＹＫ－３５４”、”ＢＹＫ－３５５”、”ＢＹＫ－３５８Ｎ”、”ＢＹＫ－３６１Ｎ”、”ＢＹＫ－３８０”、”ＢＹＫ－３８１”および”ＢＹＫ－３９２”［ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社］が挙げられる。

フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤としては、”メガファック（登録商標）Ｒ－０８”、同”Ｒ－３０”、同”Ｒ－９０”、同”Ｆ－４１０”、同”Ｆ－４１１”、同”Ｆ－４４３”、同”Ｆ－４４５”、同”Ｆ－４７０”、同”Ｆ－４７１”、同”Ｆ－４７７”、同”Ｆ－４７９”、同”Ｆ－４８２”および同”Ｆ－４８３”［ＤＩＣ（株）］；”サーフロン（登録商標）Ｓ－３８１”、同”Ｓ－３８２”、同”Ｓ－３８３”、同”Ｓ－３９３”、同”ＳＣ－１０１”、同”ＳＣ－１０５”、”ＫＨ－４０”および”ＳＡ－１００”［ＡＧＣセイミケミカル（株）］；”Ｅ１８３０”、”Ｅ５８４４”［（株）ダイキンファインケミカル研究所］；”エフトップＥＦ３０１”、”エフトップＥＦ３０３”、”エフトップＥＦ３５１”および”エフトップＥＦ３５２”［三菱マテリアル電子化成（株）］が挙げられる。

重合性液晶組成物がレベリング剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶１００質量部に対して、０．０１質量部以上５質量部以下が好ましく、０．０５質量部以上５質量部以下がより好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が前記の範囲内であると、重合性液晶を水平配向させることが容易であり、かつ、得られる偏光層がより平滑となる傾向がある。重合性液晶に対するレベリング剤の含有量が前記の範囲内であると、得られる位相差層にムラが生じにくい傾向がある。

重合性液晶組成物は、１種以上の重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤は、重合性液晶の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカルまたは酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。

重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。

ベンゾイン化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルおよびベンゾインイソブチルエーテルが挙げられる。

ベンゾフェノン化合物としては、ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンおよび２，４，６－トリメチルベンゾフェノンが挙げられる。

アルキルフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルチオフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１，２－ジフェニル－２，２－ジメトキシエタン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンおよび２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（１－メチルビニル）フェニル〕プロパン－１－オンのオリゴマーが挙げられる。

アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドおよびビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイドが挙げられる。

トリアジン化合物としては、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（フラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジンおよび２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジンが挙げられる。

重合開始剤には、市販のものを用いることができる。市販の重合開始剤としては、”イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７”、”イルガキュア（登録商標）１８４”、”イルガキュア（登録商標）６５１”、”イルガキュア（登録商標）８１９”、”イルガキュア（登録商標）２５０”、”イルガキュア（登録商標）３６９”（チバ・ジャパン（株））；”セイクオール（登録商標）ＢＺ”、”セイクオール（登録商標）Ｚ”、”セイクオール（登録商標）ＢＥＥ”（精工化学（株））；”カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００”（日本化薬（株））；”カヤキュアー（登録商標）ＵＶＩ－６９９２”（ダウ社製）；”アデカオプトマーＳＰ－１５２”、”アデカオプトマーＳＰ－１７０”（（株）ＡＤＥＫＡ）；”ＴＡＺ－Ａ”、”ＴＡＺ－ＰＰ”（日本シイベルヘグナー社）；および”ＴＡＺ－１０４”（三和ケミカル社）が挙げられる。

重合性液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、その含有量は、該組成物に含有される重合性液晶の種類およびその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶１００質量部に対して、０．１～３０質量部が好ましく、０．５～１０質量部がより好ましく、０．５～８質量部がさらに好ましい。重合性開始剤の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶の配向を乱すことなく重合させることができる。

重合性液晶組成物が光重合開始剤を含有する場合、該組成物は光増感剤をさらに含有していてもよい。光増感剤としては、キサントン、チオキサントンなどのキサントン化合物（例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントンなど）；アントラセン、アルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセンなど)などのアントラセン化合物；フェノチアジンおよびルブレンが挙げられる。

重合性液晶組成物が光重合開始剤および光増感剤を含有する場合、該組成物に含有される重合性液晶の重合反応をより促進することができる。光増感剤の使用量は、光重合開始剤および重合性液晶の種類およびその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶１００質量部に対して、０．１～３０質量部が好ましく、０．５～１０質量部がより好ましく、０．５～８質量部がさらに好ましい。

重合性液晶の重合反応をより安定的に進行させるために、重合性液晶組成物は適量の重合禁止剤を含有してもよく、これにより、重合性液晶の重合反応の進行度合いを制御しやすくなる。

重合禁止剤としては、ハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコールなど）、ピロガロール、２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジニルオキシラジカルなどのラジカル捕捉剤；チオフェノール類；β－ナフチルアミン類およびβ－ナフトール類が挙げられる。

重合性液晶組成物が重合禁止剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶の種類およびその量、並びに光増感剤の使用量などに応じて適宜調節できるが、重合性液晶１００質量部に対して、０．１～３０質量部が好ましく、０．５～１０質量部がより好ましく、０．５～８質量部がさらに好ましい。重合禁止剤の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶の配向を乱すことなく重合させることができる。

［位相差板の製造方法］
位相差板を製造する場合、第１位相差層、第２位相差層及び第３位相差層を形成する順序は任意である。また、第１位相差層における層Ａと層Ｂを形成する順序も任意である。

基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Ａを形成し、該層Ａの上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Ｂが形成し、該層Ｂの上に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成してもよい。
基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Ｂを形成し、該層Ｂの上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Ａを形成し、該層Ａの上に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成してもよい。
基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成し、該第２位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Ａを形成し、該層Ａの上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Ｂを形成してもよい。
基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成し、該第２位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Ｂを形成し、該層Ｂの上に、配向膜を介す
るかまたは介さずに層Ａを形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに層Ａを形成し、該層Ａの上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Ｂを形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに層Ｂを形成し、該層Ｂの上に、配向膜を介するかまたは介さずに層Ａを形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成してもよい。

層Ａの上に配向膜を介するかまたは介さずに層Ｂが形成される場合、又は、層Ｂの上に配向膜を介するかまたは介さずに層Ａが形成される場合は、層Ａと層Ｂとの間に保護層があってもよい。また、第２位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに層Ａが形成される場合、第２位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに層Ａが形成される場合、層Ａの上に配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層が形成される場合、又は、層Ｂの上に配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層が形成される場合は、第２の位相差層と層Ａ又は層Ｂとの間に保護層があってもよい。

基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第１位相差層を形成し、該第１位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成し、該第２位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第３位相差層を形成してもよい。
基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第３位相差層を形成し、該第３位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成し、該第２位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第１位相差層を形成してもよい。基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第１位相差層を形成し、該第１位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第３位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成し、該第２位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第１位相差層を形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第３位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第３位相差層を形成し、該第３位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第１位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成し、該第２位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第３位相差層を形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第１位相差層を形成してもよい。

基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第１位相差層を形成し、該第１位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成てもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成し、該第２位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第１位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層を形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第１位相差層を形成してもよい。

第１位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層が形成される場合、又は、第２位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに第１位相差層が形成される場合は、第１位相差層と第２位相差層との間に保護層があってもよい。また、第２位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに第３位相差層が形成される場合、又は、第３位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに第２位相差層が形成される場合は、第２位相差層と第３位相差層との間に保護層があってもよい。

（保護層）
保護層は、通常、多官能アクリレート（メタクリレート）、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等からなるアクリル系オリゴマーあるいはポリマー、ポリビニルアルコール、エチレン－ビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、デンプン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマーと溶剤とを含有する保護層形成用組成物から形成されることが好ましい。

保護層形成用組成物に含有される溶剤は、前記した溶剤と同様のものが挙げられ、中でも、水、アルコール溶剤およびエーテル溶剤からなる群より選ばれる少なくとも一つの溶剤が、保護層を形成する層を溶解させることがない点で、好ましい。アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルが挙げられる。エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。

保護層の厚さは、通常２０μｍ以下である。保護層の厚さは、０．５μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、１μｍ以上５μｍ以下がより好ましい。保護層の厚さは、通常、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡または触針式膜厚計による測定によって求めることができる。

続いて、連続的に位相差板を製造する方法について説明する。このような連続的に本光学フィルムを製造する好適な方法として、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式による方法が挙げられる。ここでは、重合性液晶を重合させることにより形成される位相差層の製造方法について説明するが、重合性液晶を重合させることにより形成される位相差層にかえて、延伸フィルムからなる位相差層を用いてもよい、この場合、下記製造工程における「重合性液晶組成物を塗布し」を「延伸フィルムを積層し」に読み替えればよい。
また、下記に代表的な構成の製造方法を例示するが、その他の構成は、下記製造方法に準じて実施すればよい。

（１）基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
（２）該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
（３）該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
（４）該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第１位相差層を形成する工程、
（５）前記（４）で得られた第１位相差層の上に保護層を連続的に形成する工程、
（６）前記（５）で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
（７）前記（６）で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第２位相差層を形成する工程、
（８）連続的に得られた光学フィルムを第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程を順に行う方法が挙げられる。なお、工程（３）、（５）及び（６）は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程（４）における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程（６）における「前記（５）で得られた保護層」は、「該第１位相差層」に、工程（７）における「前記（６）で得られた配向膜」は、「該第１位相差層」又は「前記（５）で得られた保護層」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。

また、
（１ａ）基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
（２ａ）該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
（３ａ）該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
（４ａ）該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第２位相差層を形成する工程、
（５ａ）前記（４ａ）で得られた第２位相差層の上に保護層を連続的に形成する工程、
（６ａ）前記（５ａ）で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
（７ａ）前記（６ａ）で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第１位相差層を形成する工程、
（８ａ）連続的に得られた光学フィルムを第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程を順に行う方法も挙げられる。なお、工程（３ａ）、（５ａ）及び（６ａ）は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程（４ａ）における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程（６ａ）における「前記（５ａ）で得られた保護層」は、「該第２位相差層」に、工程（７ａ）における「前記（６ａ）で得られた配向膜」は、「該第２位相差層」又は「前記（５ａ）で得られた保護層」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。

また、
（１ｂ）基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
（２ｂ）該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
（３ｂ）該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
（４ｂ）該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第１位相差層を形成する工程、
（５ｂ）前記（４ｂ）で得られた第１位相差層と反対の基材面に配向膜を連続的に形成する工程、
（６ｂ）前記（５ｂ）で得られた配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第２位相差層を形成する工程、
（７ｂ）連続的に得られた光学フィルムを第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程、を順に行う方法も挙げられる。なお、工程（３ｂ）、及び（５ｂ）は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程（４ｂ）における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程（６ｂ）における「前記（５ｂ）で得られた配向膜上」は、「前記（４ｂ）で得られた第１位相差層と反対の基材面」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。

また、
（１ｃ）透明基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
（２ｃ）該ロールから、該透明基材を連続的に送り出す工程、
（３ｃ）該透明基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
（４ｃ）該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第２位相差層を形成する工程、
（５ｃ）前記（４ｃ）で得られた第２位相差層と反対の基材面に配向膜を連続的に形成する工程、
（６ｃ）前記（５ｃ）で得られた配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第１位相差層を形成する工程、
（７ｃ）連続的に得られた光学フィルムを第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程、を順に行う方法も挙げられる。なお、工程（３ｃ）、及び（５ｃ）は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程（４ｃ）における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程（６ｃ）における「前記（５ｃ）で得られた配向膜上」は、「前記（４ｃ）で得られた第２位相差層と反対の基材面」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。

また、
（１ｄ）基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
（２ｄ）該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
（３ｄ）該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
（４ｄ）該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に層Ａを形成する工程、
（５ｄ）前記（４ｄ）で得られた層Ａの上に保護層を連続的に形成する工程、
（６ｄ）前記（５ｄ）で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
（７ｄ）前記（６ｄ）で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に層Ｂを形成する工程、
（８ｄ）前記（７ｄ）で得られた層Ｂの上に保護層を連続的に形成する工程、
（９ｄ）前記（８ｄ）で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
（１０ｄ）前記（９ｄ）で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第２位相差層を形成する工程、
（１１ｄ）連続的に得られた光学フィルムを第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程を順に行う方法が挙げられる。なお、工程（３ｄ）、（５ｄ）、（６ｄ）、（８ｄ）、及び（９ｄ）、は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程（４ｄ）における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程（６ｄ）における「前記（５ｄ）で得られた保護層」は、「該層Ａ」に、工程（７ｄ）における「前記（６ｄ）で得られた配向膜」は、「該層Ａ」又は「前記（５ｄ）で得られた保護層」に、工程（９ｄ）における「前記（８ｄ）で得られた保護層」は、「該層Ｂ」に、工程（１０ｄ）における「前記（９ｄ）で得られた配向膜」は、「該層Ｂ」又は「前記（９ｄ）で得られた保護層」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。

また、
（１ｅ）基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
（２ｅ）該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
（３ｅ）該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
（４ｅ）該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第１位相差層を形成する工程、
（５ｅ）前記（４ｅ）で得られた第１位相差層の上に保護層を連続的に形成する工程、
（６ｅ）前記（５ｅ）で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
（７ｅ）前記（６ｅ）で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第２位相差層を形成する工程、
（８ｅ）前記（４ｅ）で得られた第１位相差層と反対の基材面に配向膜を連続的に形成する工程、
（９ｅ）前記（８ｅ）で得られた配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第３位相差層を形成する工程、
（１０ｅ）連続的に得られた光学フィルムを第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程を順に行う方法も挙げられる。なお、
工程（３ｅ）、（５ｅ）及び（８ｅ）は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程（４ｅ）における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程（６ｅ）における「前記（５ｅ）で得られた保護層」は、「前記（４ｅ）で得られた第１位相差層」に、工程（９ｅ）における、「前記（８ｅ）で得られた配向膜上」は、「前記（４ｅ）で得られた第１位相差層と反対の基材面」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。

図２は、位相差板３０の具体例を模式的に示す概略断面図である。図２（ａ）は、第１位相差層３１及び第２位相差層３２が積層された位相差板３０である。図２（ｂ）は、基材３３、第１位相差層３１及び、第２位相差層３２が、この順番で積層された位相差板３０である。図２（ｃ）は、基材３３、第２位相差層３２及び、第１位相差層３１が、この順番で積層された位相差板３０である。図２（ｄ）は、第１位相差層３１、基材３３及び、第２位相差層が、この順番で積層された位相差板３０である。

基材３３を有する位相差板３０から基材を取り除くことで基材を有さない位相差板３０（図２（ａ））を得ることができる。

また、第１位相差層３１を有する基材３３と、第２位相差層３２を有する基材３３’を貼り合せることでも、位相差板３０を製造することができる。具体例としては、図２（ｅ）、図２（ｆ）及び図２（ｇ）が挙げられる。貼り合せには、貼合層（以下、位相差板３０内での層間の貼合に用いられる貼合層を「第３貼合層」とも称する。）を用いることができる。

図３は、第１位相差層が層Ａ及び層Ｂから構成される場合、又は、第３位相差層を有する場合の、位相差板３０の具体例を模式的に示す概略断面図である。図３（ａ）は、層Ａ３４、層Ｂ３５、第２位相差層３２がこの順で積層された位相差板３０である。図３（ｂ）は、層Ｂ３５、層Ａ３４、第２位相差層３２がこの順で積層された位相差板３０である。図３（ｃ）は、基材３３、層Ａ３４、層Ｂ３５及び第２位相差層３２がこの順番で積層された位相差板３０である。図３（ｄ）は、基材３３、第１位相差層３１、第２位相差層３２及び第３位相差層３８がこの順番で積層された位相差板３０である。図３（ｅ）は、基材３３、層Ｂ３５、層Ａ３４及び第２位相差層３２がこの順番で積層された位相差板３０である。図３（ｆ）は、基材３３、第３位相差層３８、第２位相差３２及び第１位相差層３１がこの順番で積層された位相差板３０である。図３（ｇ）は、基材３３、第２位相差３２、層Ｂ３５及び層Ａ３４がこの順番で積層された位相差板３０である。図３（ｈ）は、基材３３、第２位相差３２、層Ａ３４及び層Ｂ３５がこの順番で積層された位相差板３０である。基材３３を有する位相差板３０から基材３３を剥離することで基材３３を有さない位相差板３０（図３（ａ）、（ｂ））を得ることもできる。

第１位相差層３１、層Ａ３４及び層Ｂ３５を含む構成の場合、又は、第３位相差層３３を有する場合には基材３３の両面にそれぞれの層を積層してもよい。具体的な例として、例えば、図３（ｉ）は、第２位相差層３２、基材３３、層Ａ３４及び層Ｂ３５がこの順番で積層された位相差板３０である。図３（ｊ）は、第２位相差層３２、基材３３、層Ｂ３５及び層Ａ３４がこの順番で積層された位相差板３０である。図３（ｋ）は、第１位相差層３１、基材３３、第３位相差層３８及び第２位相差層３２がこの順番で積層された位相差板３０である。図３（ｌ）は、第１位相差層３１、基材３３、第２位相差層３２及び第３位相差層３８がこの順番で積層された位相差板３０である。図３（ｍ）は、第３位相差層３８、基材３３、第１位相差層３１及び第２位相差層３２がこの順番で積層された位相差板３０である。図３（ｎ）は、第３位相差層３８、基材３３、第２位相差層３２及び第１位相差層３１がこの順番で積層された位相差板３０である。第２位相差層３２、層Ａ３４及び層Ｂ３５は、各層上に直接塗布により形成してもよく、各層を製造後貼合によって貼り合せてもよく、また各層を順次転写によって積層してもよい。

位相差板３０は、第１位相差層３１と第２位相差層３２との間に、介在する他の層を有する構成であっても、介在する他の層を有しない構成であってもよい。介在する他の層としては、基材３３、上述の保護層、上述の配向膜、第３貼合層が挙げられる。位相差板３０は、第１位相差層３１と第２位相差層３２との間に、介在する他の層として配向膜のみを有する構成や、介在する他の層を有しない構成においては、突き刺し弾性率が３５ｇ／ｍｍ以上となりやすくなる。本明細書において、第１位相差層３１と第２位相差層３２との間に介在する層は、第１位相差層３１の第２位相差層３２側の最表面から第２位相差層３２の第１位相差層３１側の最表面との間に介在する層を意味する。したがって、第１位相差層３１が層Ａと層Ｂとから構成される場合、層Ａと層Ｂとの間に介在する層は、第１位相差層３１と第２位相差層３２との間に介在する層とはみなさない。

［第２貼合層、第３貼合層］
第２貼合層は、直線偏光板１０内で層同士を貼合するために用いられる貼合層であり、第３貼合層は、位相差板３０内で層同士を貼合するために用いられる貼合層である。以下、貼合層という場合には、第２貼合層および第３貼合層のどちらをも含むものとする。

貼合層は、粘着剤組成物を用いて形成された粘着剤層、又は、接着剤組成物を用いて形成された接着剤層である。第２貼合層および第３貼合層は、熱付与時の熱収縮挙動を抑制する観点からは接着剤層であることが好ましい。

貼合層が粘着剤層である場合、粘着剤層を形成するために用いる粘着剤組成物としては、上記の透湿度を満たすことができるものであれば特に限定されない。粘着剤組成物としては、例えば、ゴム系ポリマー、（メタ）アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリビニルエーテル系ポリマー、ポリビニルアルコール系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、ビニルアルキルエーテル系ポリマー、ポリビニルピロリドン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリルアミド系ポリマー、セルロース系ポリマー等のポリマーを主成分として含むものであればよい。本明細書において、主成分とは、粘着剤組成物の全固形分のうち５０質量％以上を含む成分をいう。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。粘着剤組成物としては、ゴム系ポリマーが好ましい。なお、上記「（メタ）アクリル」とは、「アクリル及びメタクリルの少なくとも１種」を意味する。「（メタ）アクリレート」等の表記も同様である。

ゴム系ポリマーとしては、天然ゴム；ポリイソブチレンゴム（ＰＩＢ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、イソブチレン－イソプレンゴム（ＩＩＲ）、ノルマルブチレン－イソブチレン共重合体ゴム、ブタジエンゴム（ＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、アクリロニトリル－ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、スチレン－ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、スチレン－イソプレンゴム（ＳＩＲ）、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体ゴム（ＳＩＢＳ）、スチレン－エチレン－ブチレン－スチレンブロック共重合体ゴム（ＳＥＢＳ）、スチレン－エチレン－プロピレン－スチレンブロック共重合体ゴム（ＳＥＰＳ）、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体ゴム（ＳＢＳ）、スチレン－エチレン－プロピレンブロック共重合体ゴム（ＳＥＰ）等の合成ゴム等を挙げることができる。ゴム系ポリマーは、ポリイソブチレンゴム（ＰＩＢ）、イソブチレン－イソプレンゴム（ＩＩＲ）、ノルマルブチレン－イソブチレン共重合体ゴムが好ましく、ポリイソブチレンゴム（ＰＩＢ）がより好ましい。

（メタ）アクリル系ポリマーとしては、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステルの１種又は２種以上をモノマーとする重合体又は共重合体が好適に用いられる。ベースポリマーには、極性モノマーを共重合させることが好ましい。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等を有するモノマーを挙げることができる。

活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する粘着剤組成物である。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。さらに必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を含有させることもある。

粘着剤組成物は、ポリマーに加えて溶剤；粘着付与剤、軟化剤、充填剤（金属粉やその他の無機粉末等）、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、着色剤、消泡剤、腐食防止剤、光重合開始剤等の添加剤を含むことができる。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物を用いた場合は、形成された粘着剤層に、活性エネルギー線を照射することにより所望の硬化度を有する硬化物とすることができる。

粘着剤層は、上記粘着剤組成物の有機溶剤希釈液を基材上に塗布し、乾燥させることにより形成することができる。

貼合層が接着剤層である場合、接着剤層を形成するために用いる接着剤組成物としては、上記の透湿度を満たすことができるものであれば特に限定されない。接着剤組成物としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、天然ゴム接着剤、α－オレフィン系接着剤、ウレタン樹脂系接着剤、エチレン－酢酸ビニル樹脂エマルション接着剤、エチレン－酢酸ビニル樹脂系ホットメルト接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、塩化ビニル樹脂溶剤系接着剤、クロロプレンゴム系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、シリコーン系接着剤、スチレン－ブタジエンゴム溶剤系接着剤、ニトリルゴム系接着剤、ニトロセルロース系接着剤、反応性ホットメルト接着剤、フェノール樹脂系接着剤、変性シリコーン系接着剤、ポリエステル系ホットメルト接着剤、ポリアミド樹脂ホットメルト接着剤、ポリイミド系接着剤、ポリウレタン樹脂ホットルト接着剤、ポリオレフィン樹脂ホットメルト接着剤、ポリ酢酸ビニル樹脂溶剤系接着剤、ポリスチレン樹脂溶剤系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリビニルピロリドン樹脂系接着剤、ポリビニルブチラール系接着剤、ポリベンズイミダゾール接着剤、ポリメタクリレート樹脂溶剤系接着剤、メラミン樹脂系接着剤、ユリア樹脂系接着剤、レゾルシノール系接着剤等が挙げられる。このような接着剤は、１種単独又は２種以上を混合して使用することができる。

水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルション接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性（メタ）アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。

貼合層の厚みは特に限定されないが、貼合層が粘着剤層である場合、５μｍ以上であることが好ましく、１５μｍ以上であってもよく、２０μｍ以上であってもよく、２５μｍ以上であってもよく、通常２００μｍ以下であり、１００μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよい。貼合層が接着剤層である場合、貼合層の厚みは、０．０１μｍ以上であることが好ましく、０．０５μｍ以上であってもよく、０．５μｍ以上であってもよく、また５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であってもよく、２μｍ以下であってもよい。

［偏光板の製造方法］
本実施形態の偏光板は、上記位相差板と上記直線偏光板とを、第１貼合層を用いて貼り合わせることで得ることができる。位相差板の第１位相差層が一層のみから構成され、かつ遅相軸が一つしか存在しない場合、位相差板の第１位相差層の遅相軸（光軸）に対して、該直線偏光板の透過軸が実質的に４５°となるように設定するのが好ましい。実質的に４５°とは、通常４５±５°の範囲である。このような角度の配置において、偏光板は、円偏光板として機能することができる。

直線偏光板へ、基材を有さない位相差板を貼合する方法としては、基材を取り除いた（剥離した）位相差板を、第１貼合層を用いて直線偏光板へ貼合する方法、及び、位相差板を第１貼合層を用いて直線偏光板へ貼合した後に、基材を取り除く（剥離する）方法等が挙げられる。本実施形態としては、位相差板を直線偏光板へ貼合した後に基材を取り除く形態が好ましい。本発明によると、このような形態であっても、基材を取り除く際に、位相差板の位相差層における損傷を抑制することができる。

第１貼合層は、位相差板が有する位相差層側に粘接着剤を塗布することにより直接形成されてもよく、直線偏光板側へ粘接着剤を塗布することにより直接形成されてもよく、または予め他の基材上に形成されている第１貼合層を直線偏光板と位相差板との間に介在させてもよい。基材と、位相差層との間に配向膜がある場合は、基材と共に配向膜も取り除いてもよい。

位相差層又は配向膜等と化学結合を形成する官能基を表面に有する基材は、位相差層又は配向膜等と化学結合を形成し、取り除き難くなる傾向がある。よって基材を剥離して取り除く場合は、表面の官能基が少ない基材が好ましく、また、表面に官能基を形成する表面処理を施していない基材が好ましい。

また、基材と化学結合を形成する官能基を有する配向膜は、基材と配向膜との密着力が大きくなる傾向があるため、基材を剥離して取り除く場合は、基材と化学結合を形成する官能基が少ない配向膜が好ましい。また、基材と配向膜とを架橋する試薬が含まれないことが好ましく、さらに、配向性ポリマー組成物及び光配向膜形成用組成物等の溶液には基材を溶解する、溶剤等の成分が含まれないことが好ましい。

また、位相差層と化学結合を形成する官能基を有する配向膜は、位相差層と配向膜との密着力が大きくなる傾向がある。よって基材と共に配向膜を取り除く場合は、位相差層と化学結合を形成する官能基が少ない配向膜が好ましい。また、位相差層及び配向膜には、位相差層と配向膜とを架橋する試薬が含まれないことが好ましい。

また、配向膜と化学結合を形成する官能基を有する位相差層は、配向膜と位相差層との密着力が大きくなる傾向がある。よって基材を取り除く場合又は、基材と共に配向膜を取り除く場合は、基材又は配向膜と化学結合を形成する官能基が少ない位相差層が好ましい。また、重合性液晶組成物は、好ましくは基材又は配向膜と位相差層とを架橋する試薬を含まない。

例えば、基材、第２位相差層３２及び、第１位相差層３１がこの順番で積層された位相差板３０の第１位相差層３１の表面に第１貼合層２１を貼付し、そこへ直線偏光板１０を貼合し、その後、位相差板３０の基材を取り除くことで、直線偏光板１０、第１貼合層２１、第１位相差層３１及び、第２位相差層３２がこの順番で積層された、図１に示される構成の偏光板を製造することができる。また、基材、第１位相差層及び、第２位相差層がこの順番で積層された位相差板の第２位相差層の表面に第１貼合層を貼付し、そこへ直線偏光板を貼合し、その後、位相差板の基材を取り除くことで、直線偏光板、第２位相差層及び、第１位相差層がこの順番で積層された偏光板を製造することができる。薄膜化の観点から、基材を剥離する事が好ましい。

第１位相差層が層Ａ及び層Ｂを含む場合、又は、第３位相差層を含む場合は、各層の積層方向に制限がある。
具体的には、λ／４の位相差を有する層Ａと、λ／２の位相差を有する層Ｂを積層する場合、直線偏光板の吸収軸に対して、まず層Ｂを、層Ｂの遅相軸が７５°となるように形成し、次に層Ａを、層Ａの遅相軸が１５°となるように形成する。
また、λ／４の位相差を有する第１位相差層と、λ／２の位相差を有する第３位相差層を有する場合、直線偏光板の吸収軸に対して、まず第３位相差層を、第３位相差層の遅相軸が７５°となるように形成し、次に第１位相差層を、第１位相差層の遅相軸が１５°となるように形成する。第２位相差層の位置に制限はないが、直線偏光板、層Ｂ及び層Ａがこの順番で積層されか、又は、直線偏光板、第３位相差層及び第１位相差層がこの順番で積層される必要がある。このように積層することで、得られる偏光板は広帯域円偏光板として機能を発現することが可能となる。ここで、層Ａと層Ｂを形成する軸角度に制限はなく、例えば、特開２００４－１２６５３８号公報に記載のように、層Ａと層Ｂの遅相軸角度を偏光板の吸収軸に対して３０°と－３０°、あるいは４５°と－４５°としても、広帯域λ／４板としての機能を発現させることができることは公知であるから、所望の方法で層を積層することが可能である。

［画像表示装置］
図４は、本実施形態の画像表示装置の一例を模式的に示す概略断面図である。画像表示装置２は、図４に示すように、前面側から、図１に示す偏光板１、画像表示パネル４０をこの順に有する。画像表示装置２において、偏光板１は、直線偏光板１０側が位相差板３０よりも前面側となるような向きで配置される。

偏光板１が円偏光板である場合、画像表示装置２において、外部からの入射光は、偏光板１で反射する光と、偏光板１を透過する光とがある。偏光板１は、最前面に反射防止層を有する構成であってもよく、反射防止層を設けることにより、偏光板１の表面で反射する光（以下、「外部反射光」ともいう）を低減することができる。偏光板１を透過する光は、画像表示パネル４０で反射されて反射光となり（以下、「内部反射光」ともいう）、偏光板１に吸収される。内部反射光は、偏光板１で全て吸収されることが望ましいものの、一部は前面から放出される（以下、かかる光を「放出内部反射光」ともいう）。

偏光板１は、偏光板１を画像表示パネル４０に貼合させるために用いることができる粘着剤層を後面上に備え、粘着剤層付き偏光板として構成されていてもよい。

＜画像表示装置が有していてもよい他の層＞
画像表示装置２は、上記した層以外の層を有していてもよい。以下、画像表示装置２が有していてもよい他の層を例示する。

（タッチセンサパネル）
タッチセンサパネルは、画像表示装置の画面に接触（タッチ）する指などを検知（センシング）する装置（センサ）であり、画面上の指の位置を検知して画像表示装置に入力する入力手段として用いられる。タッチセンサパネルは、偏光板１と画像表示パネル４０の間に配置されてもよく、偏光板１の前面側に配置されていてもよい。タッチセンサパネルとしては、タッチされた位置を検出可能なセンサであれば、検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量結合方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式、赤外線方式等のタッチセンサパネルが例示される。低コストであることから、抵抗膜方式、静電容量結合方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。

抵抗膜方式のタッチセンサパネルの一例は、互いに対向配置された一対の基板と、それら一対の基板の間に挟持された絶縁性スペーサーと、各基板の内側の前面に抵抗膜として設けられた透明導電膜と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。抵抗膜方式のタッチセンサパネルを設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、対向する抵抗膜が短絡して、抵抗膜に電流が流れる。タッチ位置検知回路が、このときの電圧の変化を検知し、タッチされた位置が検出される。

静電容量結合方式のタッチセンサパネルの一例は、基板と、基板の全面に設けられた位置検出用透明電極と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。静電容量結合方式のタッチセンサパネルを設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、タッチされた点で人体の静電容量を介して透明電極が接地される。タッチ位置検知回路が、透明電極の接地を検知し、タッチされた位置が検出される。静電容量方式タッチセンサパネルは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。

タッチセンサパネルの厚みは、例えば５μｍ以上２，０００μｍ以下であってよく、５μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。

＜フレキシブル画像表示装置＞
画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置であってもよい。フレキシブル画像表示装置は、折り曲げ可能な画像表示装置である。フレキシブル画像表示装置は、光学式指紋認証システムが組み込まれ、折り曲げ可能な画像表示素子と、本発明の偏光板とを備える。折り曲げ可能な画像表示素子は、例えば有機ＥＬ表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に本発明の偏光板が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル画像表示装置用偏光板は、さらに前面板やタッチセンサパネルを備えていてもよい。
視認側から前面板、本発明の偏光板、およびタッチセンサパネルがこの順に積層されているか、または視認側から前面板、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板が、この順に積層されていることが好ましい。タッチセンサパネルよりも視認側に偏光子が存在すると、タッチセンサパネルのパターンが視認されにくくなり、結果として表示画像の視認性が良くなるので、タッチセンサパネルよりも視認側に本発明の偏光板を備える構成、すなわち、前面板、本発明の偏光板及びタッチセンサパネルをこの順で備えることがさらに好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前面板、偏光板、タッチセンサパネルのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。

視認側から前面板、本発明の偏光板および、折り曲げ可能な画像表示パネルを備えるフレキシブル画像表示装置において、前面板および本発明の偏光板は、偏光板と、前面板とを備える前面板付き偏光板を構成する。この前面板付き偏光板において、前面板は通常、偏光板の視認側に配置され、偏光板とは、例えば粘着剤または接着剤により積層される。
視認側からタッチセンサパネル、本発明の偏光板および、折り曲げ可能な画像表示パネルを備えるフレキシブル画像表示装置において、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板は、偏光板とタッチセンサパネルとを備えるタッチセンサパネル付き偏光板を構成する。また、視認側から、本発明の偏光板、タッチセンサパネル、および折り曲げ可能な画像表示素子を備えるフレキシブル画像表示装置において、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板は、偏光板とタッチセンサパネルとを備えるタッチセンサパネル付き偏光板を構成する。このタッチセンサパネル付き偏光板において、タッチセンサパネルは偏光板よりも背面側（視認側とは反対側）に配置されてもよいし、偏光板よりも視認側に配置されてもよい。タッチセンサパネルと偏光板とは、例えば粘着剤または接着剤により積層される。

本発明の偏光板は、その視認側に前面板を積層して前面板付き偏光板として用いることもできる。前面板付き偏光板は、本発明の偏光板と、その視認側に配置された前面板とを備える。

（前面板）
前面板としては、ガラス、樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなるもの等が挙げられる。ガラスとしては、例えば、高透過ガラスや、強化ガラスを用いることができる。特に薄い透明面材を使用する場合には、化学強化を施したガラスが好ましい。ガラスの厚みは、例えば１００μｍ～５ｍｍとすることができる。

樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなる前面板は、既存のガラスのように硬直ではなく、フレキシブルな特性を有することができる。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、５μｍ～１００μｍであってもよい。

樹脂フィルムとしては、例えばノルボルネン、多環ノルボルネン系単量体のようなシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体、セルロース（ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、イソブチルエステルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース）エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリシクロオレフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアクリル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ等の高分子で形成されたフィルムであってもよい。これらの高分子はそれぞれ単独又は２種以上混合して使用することができる。
樹脂フィルムは、未延伸フィルムであってもよいし、延伸フィルム、例えば１軸延伸フィルム、２軸延伸フィルムであってもよい。樹脂フィルムとしては、透明性及び耐熱性に優れている点で、ポリアミドイミドフィルム、ポリイミドフィルム、１軸延伸ポリエステルフィルム、２軸延伸ポリエステルフィルムが好ましく、透明性及び耐熱性に優れるとともに、フィルムの大型化に対応できる点で、シクロオレフィン系誘導体フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムが好ましく、透明性と光学的に異方性のない樹脂フィルムが比較的入手しやすい点で、トリアセチルセルロース及びイソブチルエステルセルロースフィルムが、それぞれ好ましい。樹脂フィルムの厚さは、通常５～２００μｍであり、好ましくは２０～１００μｍである。

（遮光パターン）
遮光パターンはベゼルとも呼ばれる部材であり、前面板における表示素子側に形成することができる。遮光パターンを備えることにより、表示装置を構成する各配線を隠して使用者に視認されないようにすることができる。遮光パターンの色及び材質は特に制限されることはなく、黒色、白色、金色等の多様な色を有する樹脂物質で形成することができる。一実施形態において、遮光パターンの厚さは２μｍ～５０μｍであってもよく、好ましくは４μｍ～３０μｍであってもよく、より好ましくは６μｍ～１５μｍの範囲であってもよい。また、遮光パターンと表示部の間の段差による気泡混入及び境界部の視認を抑制するために、遮光パターンに形状を付与することができる。

以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。実施例、比較例中の「％」及び「部」で表される配合量は、特記しない限り、質量％及び質量部である。

［円偏光板の評価（基材剥離に対する耐久性）］
円偏光板の、直線偏光板の最表面の保護フィルムに粘着剤層を積層した。これを裁断し、幅２５ｍｍ×長さ約１５０ｍｍの試験片を作製した。試験片の粘着剤層をガラス板に貼合した。円偏光板の、位相差体の最表面の基材（第２位相差層の形成に用いた基材）の表面（幅２５ｍｍの一辺）に剥離用テープ（幅２５ｍｍ×長さ約１８０ｍｍ）を貼り付けた。剥離用テープの一端をつかみ、引張り試験機を用いて基材層を剥離した。剥離速度は３００ｍｍ／分、１５０００ｍｍ／分の両方で行った。剥離角度は１８０°とした。剥離時に、基材に近い側の位相差層に損傷が生じた場合はジッピング発生（評価Ｃ）、この現象が観察されない場合はジッピングなし（評価Ａ）、この現象が僅かに見られる場合はジッピング僅かにあり（評価Ｂ）、と判定した。

［位相差板の突き刺し弾性率の測定］
カトーテック株式会社製のハンディー圧縮試験機「ＮＤＧ５突き刺し試験機、ニードル貫通力測定仕様」にニードルを取り付けた。ニードルを最表面から基材を剥離した位相差体の第２位相差層側の表面から表面に対して垂直に突刺した。測定試料突刺し試験用サンプルが破断する直前の応力Ｆ（ｇ）とそのときのひずみ量Ｓ（ｍｍ）を算出し、突き刺し弾性率（ｇ／ｍｍ）を応力Ｆ（ｇ）／ひずみ量Ｓ（ｍｍ）の式から算出した。この操作を、５枚の測定試料に対してそれぞれ行い、その平均値を突き刺し弾性率とした。ニードルとしては、先端径が１ｍｍφ、０．５Ｒであるものを使用した。ニードルを突き刺す速度は、０．３３ｃｍ／秒とした。測定は温度２３℃、相対湿度５５％の室温環境下で行った。
上記方法にて、後述の実施例１～６、比較例１～２、参考例１の円偏光板の作製に用いられた位相差板Ａ、Ｂ、Ｃの突き刺し弾性率を測定した。表１に測定結果を示す。

［第１貼合層の引張弾性率の測定］
第１貼合層として用いる粘着剤を、剥離紙の片面に、塗工機〔バーコーター、第一理化（株）製〕を用いて塗工し、その粘着層の上面にさらに剥離紙を積層させ、９０℃で１分間加熱処理し、温度２３℃、相対湿度５５％の条件下で７日間養生した。かかる積層体を、ＭＤ長さ１００ｍｍ、ＴＤ長さ５０ｍｍの大きさに裁断し、両面の剥離紙を剥がして粘着層のみからなる粘着層フィルムを得た。接着剤層についても、所定の硬化方法で接着剤を硬化させて、接着剤層のみからなるフィルムを得た。

ＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４及びＪＩＳ Ｋ７１２７：１９９９に準拠し、試験片が降伏点を持たない場合には引張り破壊ひずみを、降伏点を持つ場合には引張り破壊伸びひずみを破断伸度とし、破断伸度を測定した。上記の様に得られた粘着層フィルムを、引張試験機〔（株）島津製作所製 オートグラフ ＡＧ－Ｘｐｌｕｓ試験機〕の上下つかみ具で、つかみ具の間隔が５ｃｍとなるように測定用サンプルのＭＤ長さ方向の両端を挟み、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下、引張速度３００ｍｍ／分で測定用サンプルをＭＤ長さ方向に引っ張り、温度２３℃、相対湿度５５％でのＭＤ長さ方向における引張弾性率〔Ｐａ〕を算出した。

［製造例１：第１位相差層を含む積層体の作製］
（ｉ）光配向膜形成用組成物の調製
下記構造の光配向性材料５部（重量平均分子量：３００００）とシクロペンタノン（溶媒）９５部とを混合した。得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物を得た。

（ｉｉ）第１位相差層形成用組成物の調製
以下に示す重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂを９０：１０の質量比で混合した。この混合物１００部に対して、レベリング剤（Ｆ－５５６；ＤＩＣ株式会社製）を１．０部、及び重合開始剤である２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（「イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６部添加した。

さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、第１位相差層形成用組成物を得た。

重合性液晶化合物Ａは、特開２０１０－３１２２３号公報に記載された方法で製造した。また、重合性液晶化合物Ｂは、特開２００９－１７３８９３号公報に記載された方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。

（重合性液晶化合物Ａ）

（重合性液晶化合物Ｂ）

（ｉｉｉ）位相差層基材の準備
厚みが５０μｍであるシクロオレフィン系樹脂フィルム（日本ゼオン株式会社製、「ＺＦ－１４－５０」）上にコロナ処理を施し、位相差層基材とした。コロナ処理は、ウシオ電機株式会社製のＴＥＣ－４ＡＸを使用して行った。コロナ処理は、出力０．７８ｋＷ、処理速度１０ｍ／分の条件で１回行った。

（ｉｖ）光配向膜の形成
位相差層基材に、光配向膜形成用組成物をバーコーターにより塗布した。塗布膜を８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた水平配向膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。

（ｖ）第１位相差層の形成
続いて、室温２５℃、相対湿度３０％の環境下において、第１位相差層形成用組成物を孔径０．２μｍのＰＴＦＥ製メンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製、品番；Ｔ３００Ａ０２５Ａ）に通し、２５℃に保温した配向膜付き基材フィルム上にバーコーターを用いて塗布した。塗膜を１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）した。得られた塗膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ２μｍであった。
得られた第１位相差層の位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）＝１２１ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１３９ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４６ｎｍであった。
各波長での面内位相差値の関係は以下のとおりとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８７
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０５

［製造例２：第２位相差層を含む積層体の作製］
（ｉ）配向性ポリマー組成物（１）の調製
サンエバーＳＥ－６１０（日産化学株式会社製）１部と２－ブトキシエタノールを９９部とを混合して配向性ポリマー組成物（１）を得た。

（ｉｉ）第２位相差層形成用組成物の調製
下図で示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製、ＬＣ２４２）を１９．２部、レベリング剤（ビックケミージャパン社製、「ＢＹＫ－３６１Ｎ」）を０．１部、重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン製「イルガキュア ９０７」）を０．５部、反応添加剤（ＢＡＳＦジャパン製、「Ｌａｒｏｍａｅｒ ＬＲ－９０００」）１．１部、及びプロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセタート７９．１部を混合した。混合液を８０℃で１時間攪拌することにより、第２位相差層形成用組成物を得た。

（ｉｉｉ）位相差層基材の準備
厚みが５０μｍであるシクロオレフィン系樹脂フィルム（日本ゼオン株式会社製、「ＺＦ－１４－５０」）上にコロナ処理を施し、位相差層基材とした。コロナ処理は、ウシオ電機株式会社製のＴＥＣ－４ＡＸを使用して行った。コロナ処理は、出力０．７８ｋＷ、処理速度１０ｍ／分の条件で１回行った。

（ｉｖ）配向性ポリマー膜の形成
位相差層基材に、配向性ポリマー組成物（１）を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥し、配向膜を得た。得られた配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、３４ｎｍであった。

（ｖ）第２位相差層の形成
続いて、配向膜上に第２位相差層形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、温度：２５℃、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより第２位相差層を得た。得られた第２位相差層の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、膜厚は４５０ｎｍであった。また、得られた位相差フィルム（２）の波長５５０ｎｍでの位相差値を測定したところＲｅ（５５０）＝１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝－７０ｎｍであった。すなわち、第２位相差層は下記式（３）で表される光学特性を有した。なお、ＣＯＰの波長５５０ｎｍにおける位相差値は略０であるため、当該光学特性には影響しない。
ｎx≒ｎy＜ｎz （３）

［製造例３：位相差板Ａの作製］
製造例１で得られた第１位相差層を含む積層体と、製造例２で得られた第２位相差層を含む積層体とを、下記の活性エネルギー線硬化型接着剤Ａにより、それぞれの位相差層面（基材側の表面とは反対側の表面）が貼合面となるように貼り合わせた。次いで、紫外線を照射して活性エネルギー線硬化型接着剤Ａを硬化させた。このようにして、第１位相差層及び第２位相差層の２層の位相差層を含む位相差板Ａを作製した。

＜活性エネルギー線硬化型接着剤Ａ＞
下記成分を配合して混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化型接着剤Ａを調製した。
・３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（商品名：ＣＥＬ２０２１Ｐ、株式会社ダイセル製）：７０質量部
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－２１１、ナガセケムテックス株式会社製）：２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル（商品名：ＥＸ－１２１、ナガセケムテックス株式会社製）：１０質量部
・カチオン重合開始剤（商品名：ＣＰＩ－１００＿５０％溶液、サンアプロ株式会社製）：４．５質量部（実質固形分２．２５質量部）
・１，４－ジエトキシナフタレン：２質量部

［製造例４：位相差板Ｂの作製］
基材／配向層／第２位相差層（ポジティブＣプレート）／配向層／第１位相差層（λ／４層）、がこの順に積層された位相差板Ｂを以下のようにして作製した。

（基材）
基材として、シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）（日本ゼオン株式会社製のＺＦ－１４）を準備した。

（コロナ処理）
コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ－Ｂ１０を用いた。コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。

（高圧水銀ランプ）
高圧水銀ランプには、ウシオ電機株式会社製のユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａを用いた。

コロナ処理を施した基材の表面に、位相差板Ａの作製において調製した配向性ポリマー組成物（１）を、バーコータ-を用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した。得られた配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、３４ｎｍであった。続いて、配向膜上に、位相差板Ａの作製において調製した第２位相差層形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより第２位相差層（ポジディブＣプレート）を形成し、第２位相差層を有する第２位相差フィルムを得た。得られた第２位相差層の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、膜厚は４５０ｎｍであった。また、得られた第２位相差フィルムの波長５５０ｎｍでの位相差値を測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝－７０ｎｍであった。すなわち、第２位相差層は、下記式（３）：
ｎx≒ｎy＜ｎz （３）
で表される光学特性を有した。なお、基材の波長５５０ｎｍにおける位相差値は略０であるため、当該光学特性には影響しない。

次に、第２位相差フィルムの第２位相差層の上に、下記配向性ポリマー組成物（２）を、バーコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間乾燥した。得られた配向膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。続いて、配向膜をラビング処理し処理面に位相差板Ａの作製において調製した第１位相差層形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した。高圧水銀ランプを用いて、塗膜に紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、第２位相差層の上に第１位相差層を形成し、位相差板Ｂを得た。得られた第１位相差層の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ２μｍであった。得られた位相差板Ｂの位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）＝１２１ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１３９ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４６ｎｍであった。
各波長での面内位相差値の関係は以下のとおりとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８７
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０５
すなわち、得られた位相差板Ｂは上述の式（１）、（２）及び（４）で表される光学特性を有した。

（配向性ポリマー組成物（２））
市販のポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製)、水を加えて１００℃で１時間加熱し、固形分量２質量％（溶剤濃度９８質量％）の配向性ポリマー組成物（２）を得た。

［製造例５：位相差板Ｃの作製］
位相差板Ａの作製において、第１位相差層を含む積層体と、第２位相差層を含む積層体との貼り合わせに、活性エネルギー線硬化型接着剤Ａに代えて、粘着剤層３（厚み５μｍのシート状のアクリル系粘着剤）を用いて位相差板を作製したこと以外は、位相差板Ａと同様にして位相差板Ｃを作製した。

［製造例６：偏光子の作製］
厚み２０μｍ、重合度２,４００、ケン化度９９.９％以上のポリビニルアルコールフィルムを、乾式で延伸倍率４．５倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、水１００重量部あたりヨウ素０．０５重量部及びヨウ化カリウム５重量部を含有する、２８℃の染色浴に６０秒間浸漬した。

次いで、水１００重量部あたりホウ酸５．５重量部及びヨウ化カリウム１５重量部を含有する、６４℃のホウ酸水溶液１に、１１０秒間浸漬した。次いで、水１００重量部あたりホウ酸５．５重量部及びヨウ化カリウム１５重量部を含有する、６７℃のホウ酸水溶液２に、３０秒間浸漬した。その後、３℃の純水を用いて水洗し、乾燥して、厚みが８μｍの偏光子を得た。

［製造例７：直線偏光板の作製］
以下の保護フィルムを準備した。
保護フィルム：厚さ１３μｍのノルボルネン系樹脂フィルム〔日本ゼオン株式会社製、商品名「ＺＥＯＮＯＲ」〕
上記で作製した偏光子の片面に水系接着剤を介して、上記の保護フィルムを、ロール貼合機を用いて貼合した。貼合後、８０℃で３分間乾燥処理を行った。偏光子の片面にのみ保護フィルムが積層された直線偏光板を得た。直線偏光板は、偏光子、接着剤層及び保護フィルムがこの順に積層されたものであった。

［製造例８：粘着剤層１の作製］
冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル８１．８部、アクリル酸ブチル９０．０部、アクリル酸メチル５．０部及びアクリル酸５．０部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１５部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤を添加した後、１時間この温度で保持し、次いで内温を５４～５６℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７.３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、（メタ）アクリル系樹脂の濃度が３５質量％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から６時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えて（メタ）アクリル系樹脂の濃度が２０質量％となるように調節し、アクリル樹脂溶液１を調製した。得られたアクリル樹脂は、重量平均分子量Ｍｗ が１６０万、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが４．５であった。なお、Ｍｗ及びＭｎは、ＧＰＣ装置にカラムとして、東ソー（株）製の「ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＨＲ－Ｈ（Ｓ）」を２本直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用い、試料濃度２ｍｇ／ｍＬ、試料導入量１００μＬ、温度４０℃、流速１ｍＬ／分の条件で、標準ポリスチレン換算により測定した。

上記アクリル樹脂溶液１の固形分１００部に対して、架橋剤（東ソー株式会社製：商品名「コロネートＬ」（トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５質量％））を有効成分ベースで０．１５部、シランカップリング剤（信越化学工業株式会社製：商品名「ＫＢＭ－４０３」）を０．２部添加し、更に固形分濃度が１３％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物１を得た。

粘着剤組成物１を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック（株）から入手した「ＰＬＲ－３８２１９０」〕の離型処理面に、アプリケータを用いて乾燥後の厚みが２５μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層（粘着剤シート）を作製した。次いで得られた粘着剤層のセパレータフィルムと反対側の表面を離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック（株）から入手した「ＰＥＴ－２５１１３０」〕の離型処理面と貼合し、粘着剤層１を作製した。

［製造例９：粘着剤層２の作製］
冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル１００部、アクリル酸ブチル９９．０部、アクリル酸２－ヒドロキシエチル０．５部、及びアクリル酸０．５部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１２部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤を添加した後、１時間この温度で保持し、次いで内温を５４～５６℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７.３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、（メタ）アクリル系樹脂の濃度が３５質量％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から６時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えて（メタ）アクリル系樹脂の濃度が２０質量％となるように調節し、アクリル樹脂溶液２を調製した。得られたアクリル樹脂は、重量平均分子量Ｍｗ が１７０万、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが３．９であった。なお、Ｍｗ及びＭｎは、ＧＰＣ装置にカラムとして、東ソー（株）製の「ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＨＲ－Ｈ（Ｓ）」を２本直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用い、試料濃度２ｍｇ／ｍＬ、試料導入量１００μＬ、温度４０℃、流速１ｍＬ／分の条件で、標準ポリスチレン換算により測定した。

アクリル樹脂溶液２の固形分８０部に対して、二官能アクリレート（新中村化学工業株式会社より入手；品番「Ａ－ＤＯＧ」）を２０部（固形分）、架橋剤（東ソー株式会社製：商品名「コロネートＬ」（トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５質量％））を有効成分ベースで２．５部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：商品名「イルガキュア５００」）を１．５部、シランカップリング剤（信越化学工業株式会社製：商品名「ＫＢＭ－４０３」）を０．３部添加し、更に固形分濃度が１３％となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物２を得た。
Ａ－ＤＯＧは、ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンとのアセタール化合物のジアクリレートであって、下式の構造を有する。

粘着剤組成物２を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック（株）から入手した「ＰＬＺ－３８３０３０」〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みが１５μｍとなるように塗布し、１００℃で１分間乾燥して粘着剤層（粘着剤シート）を作製した。次いで得られた粘着剤層のセパレータフィルムと反対側の表面を離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなるセパレートフィルム〔リンテック（株）から入手した「ＰＬＲ－３８１０３１」〕の離型処理面と貼合した。続けて紫外線を下記の条件で照射し、粘着剤層２を作製した。
＜ＵＶ照射条件＞
・Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶランプシステム（フュージョンＵＶシステムズ社製）Ｈバルブ使用・ＵＶ波長領域ＵＶＡの積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ^２（測定器：ＦｕｓｉｏｎＵＶ社製ＵＶ Ｐｏｗｅｒ ＰｕｃｋＩＩによる測定値）

［製造例１０：粘着剤層３の作製］
粘着剤組成物２を、乾燥後の厚みが５μｍとなるように塗布したこと以外は、製造例９と同様にして、粘着剤層３を作製した。

［実施例１］
実施例１の積層体（円偏光板）を次のようにして作製した。上記で作製した直線偏光板の偏光子に粘着剤層１（厚み２５μｍのシート状のアクリル系粘着剤）を積層した。粘着剤層１の上記方法により測定した引張弾性率は表１に示す通りであった。製造例３で作製した位相差板Ａから、第１位相差層の形成に用いた基材を剥離した。露出した水平配向膜と前記粘着剤層（第１貼合層）とを貼り合わせ、直線偏光板と、第１貼合層と、位相差板Ａとがこの順で積層された積層体（円偏光板）を作製した。偏光子の吸収軸と、第１位相差層の遅相軸とのなす角度は４５°であった。

［実施例２］
実施例１の積層体（円偏光板）の作製で用いた粘着剤層１に代えて、粘着剤層２（厚み１５μｍのシート状のアクリル系粘着剤）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、直線偏光板と、第１貼合層と、位相差板Ａとがこの順で積層された積層体（円偏光板）を得た。粘着剤層２の上記方法により測定した引張弾性率は表１に示す通りであった。

［実施例３］
実施例１の積層体（円偏光板）の作製で用いた粘着剤層１に代えて、粘着剤層３（厚み５μｍのシート状のアクリル系粘着剤）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、直線偏光板と、第１貼合層と、位相差板Ａとがこの順で積層された積層体（円偏光板）を得た。粘着剤層３の上記方法により測定した引張弾性率は表１に示す通りであった。

［実施例４］
実施例１の積層体（円偏光板）の作製で用いた位相差板Ａに代えて、製造例４で作製した位相差板Ｂを用いて、位相差板Ｂの第１位相差層に粘着剤層１（第１貼合層）を貼り合わせたこと以外は、実施例１と同様にして、直線偏光板と、第１貼合層と、位相差板Ｂとがこの順で積層された積層体（円偏光板）を得た。

［実施例５］
実施例２の積層体（円偏光板）の作製で用いた位相差板Ａに代えて、製造例４で作製した位相差板Ｂを用いて、位相差板Ｂの第１位相差層に粘着剤層２（第１貼合層）を貼り合わせたこと以外は、実施例２と同様にして、直線偏光板と、第１貼合層と、位相差板Ｂとがこの順で積層された積層体（円偏光板）を得た。

［実施例６］
実施例４の積層体（円偏光板）の作製で用いた粘着剤層１に代えて、粘着剤層３（厚み５μｍのシート状粘着剤）を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、直線偏光板と、第１貼合層と、位相差板Ｂとがこの順で積層された積層体（円偏光板）を得た。

［比較例１］
実施例１の積層体（円偏光板）の作製で用いた粘着剤層１に代えて、上述の活性エネルギー線硬化型接着剤Ａにより形成された接着剤層Ａ（乾燥後の厚み１．５μｍ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、直線偏光板と、第１貼合層と、位相差板Ａとがこの順に積層された積層体（円偏光板）を得た。接着剤層Ａの上記方法により測定した引張弾性率は表１に示す通りであった。

［比較例２］
実施例４の積層体（円偏光板）の作製で用いた粘着剤層１に代えて、上述の活性エネルギー線硬化型接着剤Ａにより形成された接着剤層Ａ（乾燥後の厚み１．５μｍ）を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、直線偏光板と、第１貼合層と、位相差板Ｂとがこの順に積層された積層体（円偏光板）を得た。

［参考例１］
実施例３の積層体（円偏光板）の作製で用いた位相差板Ａに代えて、製造例５で作製した位相差板Ｃを用いたこと以外は、実施例３と同様にして、直線偏光板と、第１貼合層と、位相差板とがこの順で積層された積層体（円偏光板）を得た。

［評価］
実施例１～６、比較例１～２、参考例１の円偏光板について、第２位相差層の形成に用いた基材を剥離した際の耐久性を、上述の方法にしたがって評価した。表１に評価結果を示す。

１ 偏光板、２ 画像表示装置、１０ 直線偏光板、２１ 第１貼合層、３０ 位相差板、３１ 第１位相差層、３２ 第２位相差層、４０ 画像表示パネル。

Claims (6)

1. 直線偏光板と、第１貼合層と、位相差板と、がこの順に積層されてなる偏光板であって、
   前記位相差板は、
   第１位相差層と、接着剤層と、第２位相差層とをこの順に有し、
   さらに前記第１貼合層とは反対側の表面に基材を有し、
   前記第１位相差層及び前記第２位相差層は液晶化合物の硬化物を含み、
   突き刺し弾性率が７０ｇ／ｍｍ以上であり、
   前記第１貼合層は、温度２３℃、相対湿度５５％での引張弾性率が１．３×１０^５Ｐａ以上１．０×１０ ^６ Ｐａ以下であり、
   前記基材が剥離されてから画像表示パネルに貼合して用いられる、偏光板。
2. 前記第１貼合層の厚み（ｍ）と前記引張弾性率（Ｐａ）との積が５００以下である、請求項１に記載の偏光板。
3. 前記直線偏光板は偏光子を有し、
   前記偏光子は、厚みが１５μｍ以下である、請求項１または２に記載の偏光板。
4. 前記直線偏光板は前記偏光子の前記第１貼合層とは反対側の表面に設けられた保護フィルムを有し、
   前記保護フィルムは、厚みが３０μｍ以下である、請求項３に記載の偏光板。
5. 前記第１位相差層は、逆分散性のλ／４層である、請求項１または２に記載の偏光板。
6. 前記第２位相差層は、ポジティブＣプレートである、請求項１または２に記載の偏光板。

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