JP7677004B2 - 照明光学系および露光装置 - Google Patents

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Description

本発明は、照明光学系および露光装置に関する。
半導体素子、フラットパネルディスプレイ、ＭＥＭＳ（マイクロエレクトロメカニカルシステムス)などの製造工程で用いる露光装置および照明光学系が知られている。
従来、露光装置の光源として、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどの高輝度の放電ランプが用いられていた。これに対し、近年のＬＥＤ、ＬＤなどの発光素子の技術の進歩に伴い、複数のＬＥＤを露光装置の光源に用いる技術が提案されている。
ＬＥＤは、露光用の光源としては１チップ当たりの放射光量が少ない。このため、被照射面において所要の高い照度を得るためには、複数のチップからの光を照明光学系で合成して被照射面に導くことが求められる。
例えば特許文献１には、複数のＬＥＤにおける各発光面の像が、フライアイレンズの入射側の面の有効領域を覆う大きさまで拡大され、拡大された像がフライアイレンズの入射側で互いに重なり合うように投影される照明光学系および露光装置が開示されている。
特開２０１６－１８８８７８号公報
しかし、特許文献１に記載の照明光学系および露光装置を実際に組み立てる(実際に使用してみる)と、発光素子から発せられた光のうち被照射面に達する光の割合(光の利用効率)が低い。このため、露光するパターンサイズに応じて露光解像度を高めるために開口絞りを狭めた場合には被照射面での照度が不足して、露光時間が長時間化することになる。
そこで、本発明は、複数の発光素子からの光を高い効率で利用することを目的とする。
上記目的を解決するために、本発明に係る照明光学系の一態様は、各々が発光面から光を発する複数の発光素子が、当該発光面の広がる方向に互いに並んでいる光源と、上記発光素子が発した光の配光分布を照度分布に変換すると共に、上記複数の発光素子に対応した複数の当該照度分布を重畳面上で互いに重ね合わせるリレー光学系と、上記リレー光学系による照射光を波面分割して複数の光束として伝達する複数の波面分割要素が互いに並列的に配置されたオプティカルインテグレータと、上記複数の光束を被照射面で重畳させるコンデンサ光学系と、を備える。
上記照明光学系によれば、各発光素子からの光が重畳面上に丸い形状の照度分布となって互いに重ね合わされることになり、丸い形状の開口絞りを通った光がコンデンサ光学系へと導かれる効率が高く、光源から発せられる光の利用効率が高い。
上記照明光学系において、上記リレー光学系が、上記複数の発光素子に対応した複数の第１レンズ要素を有し、各第１レンズ要素が各発光素子からの光を集光する集光レンズ群と、上記複数の第１レンズ要素に対応した複数の第２レンズ要素を有し、各発光素子からの光の配光分布に相当する照度分布の照射光が各第１レンズ要素により各第２レンズ要素の入射面に照射されるレンズアレイと、上記レンズアレイの各第２レンズ要素の出射面と光学的に協働して、各第２レンズ要素の入射面に照射された各照射光を上記重畳面上に導いて互いに重ね合わせるリレーレンズと、を備えることが好ましい。
集光レンズ群、レンズアレイ、およびリレーレンズによりリレー光学系の機能が分担され、リレー光学系が容易に実現される。
上記照明光学系において、上記リレーレンズから上記オプティカルインテグレータの入射面までの距離は、当該リレーレンズから上記重畳面までの距離よりも短いことが好ましい。オプティカルインテグレータの入射面がこの距離に位置しても光の利用効率は殆ど変わらず開口絞りの面で周辺までフラットな照度分布になるためより微細なパターンの露光に適している。
上記照明光学系において、上記レンズアレイは、上記複数の第２レンズ要素のそれぞれが、光軸に沿った方向に見て四角形の外形を有し、当該複数の第２レンズ要素が束ねられたことも好ましい。四角形の第２レンズ要素が用いられることで、丸い第２レンズ要素が用いられる場合に較べて光の利用効率が向上する。
上記照明光学系において、上記集光レンズ群は、上記複数の第１レンズ要素のそれぞれの出射側が、光軸に沿った方向に見て四角形の外形を有し、当該複数の第１レンズ要素が束ねられたことも好ましい。出射側が四角形の第１レンズ要素が用いられることで、丸い第１レンズ要素が用いられる場合に較べて光の利用効率が向上する。
出射側が四角形の第１レンズ要素が用いられる場合、上記集光レンズ群は、上記複数の第１レンズ要素のそれぞれが、上記発光素子側に位置する前要素と上記レンズアレイ側に位置する後要素とを有し、当該前要素は光軸に沿った方向に見て丸い外形を有し、当該後要素は光軸に沿った方向に見て四角形の外形を有することが更に好ましい。丸い外形の前要素と四角形の外形の後要素との組み合わせにより光の利用効率が更に向上する。
また、上記課題を解決するために、本発明に係る露光装置の一態様は、上記照明光学系で上記被照射面に配置されたパターンを照射して、当該パターンを露光対象物に露光する。上記露光装置によれば、効率の良い光照射によってパターン露光の露光時間の短縮化が図られる。
上記露光装置において、上記照明光学系によって照射された前記パターンの像を上記露光対象物に投影する投影光学系を備えてもよい。
本発明によれば、複数の発光素子からの光を高い効率で利用することができる。
本発明の照明光学系の一実施形態を示す図である。 本発明の露光装置の一実施形態を示す図である。 発光素子と集光レンズとレンズ要素との位置関係を示す図である 組み合わせレンズの集光レンズを示す図である。 発光素子の配光特性を示す図である。 比較例の照明光学系におけるオプティカルインテグレータの入射面における照度分布を示す図である。 比較例の照明光学系における開口絞りの位置における照度分布を示す図である。 図１に示す照明光学系におけるオプティカルインテグレータの入射面における照度分布を示す図である。 図１に示す照明光学系における開口絞りの位置における照度分布を示す図である。 発光素子、集光レンズ、およびレンズ要素の配置に関する第１の変形例を示す図である。 発光素子、集光レンズ、およびレンズ要素の配置に関する第２の変形例を示す図である。 レンズアレイの構造が異なる変形例を示す図である。 リレー光学系とオプティカルインテグレータとの距離が異なる変形例を示す図である 図１３に示す照明光学系におけるオプティカルインテグレータの入射面における照度分布を示す図である。 図１３に示す照明光学系における開口絞りの位置における照度分布を示す図である。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。但し、以下の説明が不必要に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするため、必要以上に詳細な説明は省略する場合がある。例えば、既によく知られた事項の詳細説明や実質的に同一の構成に対する重複説明を省略する場合がある。また、先に説明した図に記載の要素については、後の図の説明において適宜に参照する場合がある。
図１は、本発明の照明光学系の一実施形態を示す図である。
図１に示す照明光学系１は、マスクＭに光を照射する光学系である。マスクＭには、照射された光を透過するパターンが形成されており、マスクＭは被照射面に配置される。
照明光学系１は、光源１０と、リレー光学系２０と、オプティカルインテグレータ３０と、開口絞り４０と、コンデンサレンズ５０とを備えている。照明光学系１の光軸ＡＸは図の上下方向を向いている。以下の説明では、光軸ＡＸの向きを基準として用い、光軸ＡＸに沿う方向をＺ方向と称し、光軸ＡＸに垂直な２次元方向をＸＹ方向と称する場合がある。
光源１０は複数の発光素子１１を有し、発光素子１１としては例えばＬＥＤが用いられる。発光素子１１は発光面から光を発するものであり、ＬＥＤに限定されない。発光素子１１は、例えば、半導体レーザの光が光ファイバーなどで導かれて発光面から発せられるものでもよい。
リレー光学系２０は、光源１０の各発光素子１１から発せられる光を重ね合わせてオプティカルインテグレータ３０の入射面３１へと導く。リレー光学系２０の詳しい構造と作用については後述する。
オプティカルインテグレータ３０は、入射面３１に入射する光の波面を複数の波面分割要素３２で波面分割して出射面３３側へと伝達する。なお、オプティカルインテグレータ３０における波面分割要素３２の数は、光源１０の発光素子１１の数に依存しない。
開口絞り４０は、オプティカルインテグレータ３０の出射面３３から出射される光を絞る。開口絞り４０は開閉自在のものであってもよいが、本実施形態における開口絞り４０は、マスクＭに形成されたパターンの細密さ(粗いパターンか微細なパターンか)に合わせた固定の開口径を有する。開口絞り４０のサイズは照明光学系のＮＡ（開口数）に相当し開口絞り４０のサイズや開口絞り面に於ける照度分布は投影光学系のＮＡとの関係で露光の各パターンサイズに対する解像性能に影響する。
コンデンサレンズ５０は、本発明にいうコンデンサ光学系の一例に相当し、開口絞り４０を通過した光を被照射面上に(即ちマスクＭ上に)照射する。コンデンサレンズ５０は、複数のレンズが組み合わせられた組み合わせレンズであってもよい。
図２は、本発明の露光装置の一実施形態を示す図である。
露光装置１００には、照明光学系１と、マスクステージ１１０と、投影光学系１２０と、ワークステージ１３０が備えられている。
マスクステージ１１０はマスクＭを保持し、そのマスクＭには照明光学系１によって光が照射される。
ワークステージ１３０には、例えばガラス基板や半導体基板などといった露光対象となるワークＷが保持される。
投影光学系１２０は、マスクＭを透過した光をワークＷ上に投影してワークＷをパターン露光する。
露光装置１００は、投影光学系１２０を有さずに、ワークＷがマスクＭに近接あるいは接触して保持される方式のものであってもよい。
図１に戻って、リレー光学系２０の詳細について説明する。
リレー光学系２０は、一例として、集光レンズ群２１と、レンズアレイ２２と、リレーレンズ２３とを有する。
集光レンズ群２１は、光源１０の複数の発光素子１１に対応した複数の集光レンズ２１１を有し、レンズアレイ２２は、複数の集光レンズ２１１に対応した複数のレンズ要素２２１を有する。集光レンズ群２１の集光レンズ２１１は本発明にいう第１レンズ要素の一例に相当し、レンズアレイ２２のレンズ要素２２１は本発明にいう第２レンズ要素の一例に相当する。
各集光レンズ２１１は、対応する各発光素子１１から発せられた光を、対応するレンズ要素２２１の入射側に集光する。具体的には、発光素子１１から発せられた光の平行光束成分は、集光レンズ２１１により、平行光束の方向に応じた箇所に集光される。また、発光素子１１上の１点から発せられた発散光束成分は、集光レンズ２１１により、平行光束として、あるいは平行光束に近い角度の光束としてレンズ要素２２１に入射される。
レンズアレイ２２の各レンズ要素２２１は、入射側から出射側へと光を伝達し、本実施形態では、入射側の１点に集光された光は平行光束、あるいは平行光束に近い角度の光束として出射され、入射側で平行光束、あるいは平行光束に近い角度の光束として入射された光は出射側の１点から発散光束として出射される。
図３は、発光素子１１と集光レンズ２１１とレンズ要素２２１との位置関係を示す図である。
図３には、光源１０と集光レンズ群２１とレンズアレイ２２をＺ方向に見た場合の発光素子１１と集光レンズ２１１とレンズ要素２２１との位置関係が示されている。なお、図３に示された位置関係はマスクＭ（面）での照射形状が正方形の場合における位置関係である。
複数の発光素子１１はＸＹ方向に配列されており、各発光素子１１は四角い発光面を有している。
各発光素子１１に対応して各集光レンズ２１１と各レンズ要素２２１が配備されている。集光レンズ２１１の外形は四角形となっていて、集光レンズ群２１は四角形の集光レンズ２１１がＸＹ方向に束ねられたものとなっている。同様に、レンズ要素２２１の外形は四角形となっていて、レンズアレイ２２は四角形のレンズ要素２２１がＸＹ方向に束ねられたものとなっている。本実施形態の場合、集光レンズ群２１およびレンズアレイ２２の外形も四角形となっている。
上述したように、集光レンズ２１１は本発明にいう第１レンズ要素の一例に相当し、本発明にいう第１レンズ要素は丸い外形のものであってもよいが、四角い外形の集光レンズ２１１が束ねられた集光レンズ群２１によれば、光源１０の各発光素子１１から発せられる光が効率よく集光されるので光の利用効率が高い。
また、レンズ要素２２１は本発明にいう第２レンズ要素の一例に相当し、本発明にいう第２レンズ要素は丸い外形のものであってもよいが、四角い外形のレンズ要素２２１が束ねられたレンズアレイ２２によれば、光源１０の各発光素子１１から発せられる光が効率よく入射されて伝達されるので光の利用効率が高い。
集光レンズ群２１の集光レンズ２１１は、図１に示すいわゆる単玉レンズであってもよいが、例えば２枚のレンズによる組み合わせレンズであってもよい。
図４は、組み合わせレンズの集光レンズ２１１を示す図である。
図４には、側面図（Ａ）と正面図（Ｂ）が示されている。
組み合わせレンズの集光レンズ２１１は、発光素子１１側の前レンズ２１２と、レンズアレイ２２側の後レンズ２１３との組み合わせからなる。正面図（Ｂ）に示されているように、前レンズ２１２の外形は丸く、後レンズ２１３の外形は四角い。集光レンズ２１１が組み合わせレンズである場合には、丸い前レンズ２１２と四角い後レンズ２１３との組み合わせによって光の利用効率が向上する。前レンズ２１２は、本発明にいう前要素の一例に相当し、後レンズ２１３は、本発明にいう後要素の一例に相当する。
図４に示す集光レンズ２１１からなる集光レンズ群２１が図３に示すレンズアレイ２２と組み合わされることにより、図４に示す集光レンズ２１１からなる集光レンズ群２１が図３に示すレンズアレイ２２と組み合わされない場合（後述する比較例）と比較して光の利用効率が１０％程度向上することが期待される。
再び図１に戻って説明を続ける。
リレーレンズ２３は、レンズアレイ２２の各レンズ要素２２１から出射された光を互いに重ね合わせてオプティカルインテグレータ３０の入射面３１に入射させる。具体的には、レンズアレイ２２の出射側の１点から出射された発散光束成分は、オプティカルインテグレータ３０の入射面３１に平行光束、あるいは平行光束に近い角度の光束として入射され、レンズアレイ２２から出射された平行光束成分、あるいは平行光束に近い角度の成分は、オプティカルインテグレータ３０の入射面３１上の中央に集光される。
本実施形態では、レンズアレイ２２の入射面と、オプティカルインテグレータ３０の入射面３１とが光学的な共役関係となっていて、各発光素子１１の配光分布に相当する照度分布を有する像が入射面３１上で互いに重畳される。
図５は、発光素子１１の配光特性を示す図である。
図５には、Ｚ方向を０°とした極座標が示され、発光素子１１の配光特性が実線で表されている。図５に点線で示された配光特性は、光源がランバーシアン配光の場合の配光特性である。実線も点線も０°方向を１とした相対値で表示されており、点線で示されたランバーシアン配光と比較すると発光素子１１では、大きな角度に対して光束が弱くなっている分、小さな角度でより強い光束となっている。レンズアレイ２２の各レンズ要素２２１の入射面には配光特性に相当する光の内、レンズ要素２１１で捕捉された例えば－５０°～＋５０°の範囲の光が照射されている。レンズ要素２２１が四角い外形の場合、その入射面に照射されている光は四角形の内接円よりも広い範囲になるが、オプティカルインテグレータ３０の入射面３１上に重畳される光は丸に近い形状の光となり、これにより、被照射面上のマスクＭに高い利用効率で光が照射されることになる。
ここで、図１に示す実施形態における照度分布を比較例と比較して説明する。
比較例としては、図１に示すレンズアレイ２２が無くて、オプティカルインテグレータ３０の入射面３１上で発光素子１１の発光面の像が重ね合わされる照明光学系が用いられる。
図６は、比較例の照明光学系におけるオプティカルインテグレータ３０の入射面３１における照度分布を示す図であり、図７は、比較例の照明光学系における開口絞り４０の位置における照度分布を示す図である。
図６および図７には、ＸＹ方向における２次元的な照度分布を示す照度分布図３０１,４０１と、照度分布図３０１,４０１の中心を通るＸ方向(図の横方向)の直線上における照度分布を示す照度グラフ３０１ａ,４０１ａと、照度分布図３０１,４０１の中心を通るＹ方向(図の縦方向)の直線上における照度分布を示す照度グラフ３０１ｂ,４０１ｂとが示されている。(以下、照度分布の図において同様。)
図６の照度分布図３０１に示されるように、比較例ではオプティカルインテグレータ３０の入射面３１に四角い形状で光が照射される。また、照度グラフ３０１ａ,３０１ｂに示されるように、光が照射された範囲内において均一に近い照度分布となっている。
比較例における照度分布は、被照射面において光の利用効率が最も良くなるよう設計された場合の照度分布である。
オプティカルインテグレータ３０の入射面３１全体での合計光量は、光源１０における発光量を基準とした相対値で７５６．２となっている。
均一に近い照度分布の光が四角い形状でオプティカルインテグレータ３０の入射面３１に照射された結果、図７の照度分布図４０１に示されるように、丸い形状の開口絞り４０によって照度分布の４隅で光が遮られる。この結果、比較例では、開口絞り４０を通過する合計光量が上記相対値で５０７．０となる。また、図７の照度グラフ４０１ａ、４０１ｂに示されるように、開口絞り４０を通過する光は上下左右方向の周辺部で照度が大きく低下する。微細なパターンに対してはこの領域の照度が低下しないよう照明範囲が広くなるよう設計した方が良い。この場合は開口絞り４０によって遮られる光が増加し、合計光量が上記相対値で４５４．１となり、光の利用効率がさらに低くなる。
図８は、図１に示す照明光学系１におけるオプティカルインテグレータ３０の入射面３１における照度分布を示す図であり、図９は、図１に示す照明光学系１における開口絞り４０の位置における照度分布を示す図である。
図８の照度分布図３０２に示されるように、図１に示す実施形態の照明光学系１では、オプティカルインテグレータ３０の入射面３１に丸い形状で光が照射される。また、照度グラフ３０２ａ,３０２ｂに示されるように、光が照射された範囲内において均一に近い照度分布となり、照射範囲の外縁では照度がやや高めとなっている。本実施形態の照明光学系１において、オプティカルインテグレータ３０の入射面３１全体での合計光量は、上記相対値で７２９．２となっている。
均一に近い照度分布の光が丸い形状でオプティカルインテグレータ３０の入射面３１に照射された結果、図９の照度分布図４０２に示されるように、開口絞り４０の開口全体を光が通過する。また、図９の照度グラフ４０２ａ,４０２ｂに示されるように、開口絞り４０を通過する光は開口の範囲で均一に近い照度分布となる。この結果、第１実施形態の照明光学系１では、開口絞り４０を通過する合計光量が上記相対値で５５８．１となり、図６および図７に示す比較例に対し光の利用効率が高い。
次に、本実施形態の照明光学系１に対する変形例について説明する。
図１０および図１１は、発光素子１１、集光レンズ２１１、およびレンズ要素２２１の配置に関する変形例を示す図であり、マスクＭ（面）での照射形状が円形である場合の例である。
図１０に示す変形例では、光源１０の発光素子１１が点線で示された丸い範囲内に縦横に並んで配列される。図１０に示す変形例でも、集光レンズ２１１およびレンズ要素２２１は、各々が四角い外形を有し、各集光レンズ２１１および各レンズ要素２２１が、各発光素子１１に対応して配備される。
図１０に示す丸い配置であっても、各集光レンズ２１１および各レンズ要素２２１が四角い外形を有することで光の利用効率が向上する。
図１１に示す変形例では、光源１０の発光素子１１が点線で示された丸い範囲内に収まる６角形状に配置され、発光素子１１の配列は、互いに６０°異なる３方向の列が交わった配列となっている。また、図１１に示す変形例では、集光レンズ２１１およびレンズ要素２２１は、各々が丸い外形を有し、各集光レンズ２１１および各レンズ要素２２１が、各発光素子１１に対応して配備される。尚、各集光レンズ２１１及びレンズ要素２２１は各々が六角形の外形を有していてもよい。
各集光レンズ２１１および各レンズ要素２２１が丸い外形を有する変形例では、図３および図１０に示す配置と較べると光の利用効率が低いが、発光素子１１を点線で示した丸い範囲内に多く配置できる。また開口絞り４０面でフラットな照度分布になるため図６、図７の比較例で開口絞り４０の面で周辺までフラットな照度分布になるようにオプティカルインテグレータ３０の入射面で照射範囲を広く設計した場合と比較すると光の利用効率が高くなる。
図１２は、レンズアレイ２２の構造が異なる変形例を示す図である。
図１２に示す変形例の照明光学系２では、レンズアレイ２２の各レンズ要素２２１が第１レンズ２２２と第２レンズ２２３とで構成されている。即ち、レンズアレイ２２が、第１レンズ２２２のレンズアレイと第２レンズ２２３のレンズアレイとの一対で構成されている。レンズアレイ２２が一対のレンズアレイで構成されることでレンズアレイ２２の軽量化が図られる。第１レンズ２２２と第２レンズ２２３との対で構成されたレンズ要素２２１も、本発明にいう第２レンズ要素の一例に相当する。
図１３は、リレー光学系２０とオプティカルインテグレータ３０との距離が異なる変形例を示す図である。
図１３に示す変形例の照明光学系３では、光源１０およびリレー光学系２０の構造と、オプティカルインテグレータ３０からコンデンサレンズ５０に至る構造は、図１に示す照明光学系１と同様であるが、リレー光学系２０からオプティカルインテグレータ３０の入射面３１に至る距離が変形例の照明光学系３と図１に示す照明光学系１とでは異なっている。具体的には、図１に示す照明光学系１での距離に対し、図１３に示す変形例の照明光学系３での距離は短くなっている。この結果、リレー光学系２０のリレーレンズ２３によって像が重ね合わされる重畳面Ｐに対してリレーレンズ２３側に近い面で光がオプティカルインテグレータ３０の入射面３１に入射することになる。これにより、重畳面Ｐとは異なる面で照射光がオプティカルインテグレータ３０に入射するが、結果として光の利用効率は重畳面Ｐで入射した場合と殆ど変わらない。
図１４は、図１３に示す照明光学系３におけるオプティカルインテグレータ３０の入射面３１における照度分布を示す図であり、図１５は、図１３に示す照明光学系３における開口絞り４０の位置における照度分布を示す図である。
図１４の照度分布図３０３に示されるように、図１３に示す変形例の照明光学系３でも、オプティカルインテグレータ３０の入射面３１に丸い形状で光が照射される。また、照度グラフ３０３ａ,３０３ｂに示されるように、光が照射された範囲内において均一に近い照度分布となっている。照度分布の均一さは、図１３に示す照明光学系３の方が、図１に示す照明光学系１よりも良く、図１３に示す照明光学系３において、オプティカルインテグレータ３０の入射面３１全体での合計光量は、上記相対値で７２９．１となっている。
均一性の良い照度分布の光が丸い形状でオプティカルインテグレータ３０の入射面３１に照射された結果、図１５の照度分布図４０３に示されるように、開口絞り４０の開口全体を光が通過する。また、図１５の照度グラフ４０３ａ,４０３ｂに示されるように、開口絞り４０を通過する光は開口の範囲で更に均一に近い照度分布となる。この結果、図１３に示す照明光学系３では、開口絞り４０を通過する合計光量が上記相対値で５６３．５となり、光の利用効率は、図１の照明光学系１に示したオプティカルインテグレータ３０の入射面を重畳面Ｐに配置した場合と殆ど変わらないが、照度を落とさず開口絞り４０の面で周辺まで均一な照度分布にできるため、より微細なパターンの露光に適しており図６、図７で示した比較例や図８、図９の例に対して優位性がある。また、重畳面Ｐにオプティカルインテグレータ３０の入射面を配置した場合と照度が殆ど変わらないということは重畳面Ｐに対してリレーレンズ２３からの距離が遠くなるようオプティカルインテグレータ３０の入射面を配置してもかまわない。
なお、上記では照明光学系がパターン露光の露光装置に適用される例が示されているが、本発明の照明光学系は、露光対象を均一に全面露光する露光装置に適用されてもよいし、露光以外の照明に適用されてもよい。
１,２,３…照明光学系、１０…光源、１１…発光素子、２０…リレー光学系、
２１…集光レンズ群、２１１…集光レンズ、２１２…前レンズ、２１３…後レンズ
２２…レンズアレイ、２２１…レンズ要素、２３…リレーレンズ、
３０…オプティカルインテグレータ、３１…入射面、３２…波面分割要素、３３…出射面
４０…開口絞り、５０…コンデンサレンズ、１００…露光装置、
１１０…マスクステージ、１２０…投影光学系、１３０…ワークステージ

Claims (7)

  1. 各々が発光面から光を発する複数の発光素子が、当該発光面の広がる方向に互いに並んでいる光源と、
    前記発光素子が発した光の配光分布を照度分布に変換すると共に、前記複数の発光素子に対応した複数の当該照度分布を重畳面上で互いに重ね合わせるリレー光学系と、
    前記リレー光学系による照射光を波面分割して複数の光束として伝達する複数の波面分割要素が互いに並列的に配置されたオプティカルインテグレータと、
    前記複数の光束を被照射面で重畳させるコンデンサ光学系と、
    を備え、
    前記リレー光学系が、
    前記複数の発光素子に対応した複数の第１レンズ要素を有し、各第１レンズ要素が各発光素子からの光を集光する集光レンズ群と、
    前記複数の第１レンズ要素に対応した複数の第２レンズ要素を有し、各発光素子からの光の配光分布に相当する照度分布の照射光が各第１レンズ要素により各第２レンズ要素の入射面に照射されるレンズアレイと、
    前記レンズアレイの各第２レンズ要素の出射面と光学的に協働して、各第２レンズ要素の入射面に照射された各照射光を前記重畳面上に導いて互いに重ね合わせるリレーレンズと、
    を備えたことを特徴とする照明光学系。
  2. 前記リレーレンズから前記オプティカルインテグレータの入射面までの距離は、当該リレーレンズから前記重畳面までの距離よりも短いことを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
  3. 前記レンズアレイは、前記複数の第２レンズ要素のそれぞれが、光軸に沿った方向に見て四角形の外形を有し、当該複数の第２レンズ要素が束ねられたことを特徴とする請求項１または２に記載の照明光学系。
  4. 前記集光レンズ群は、前記複数の第１レンズ要素のそれぞれの出射側が、光軸に沿った方向に見て四角形の外形を有し、当該複数の第１レンズ要素が束ねられたことを特徴とする請求項１または２に記載の照明光学系。
  5. 前記集光レンズ群は、前記複数の第１レンズ要素のそれぞれが、前記発光素子側に位置する前要素と前記レンズアレイ側に位置する後要素とを有し、当該前要素は光軸に沿った方向に見て丸い外形を有し、当該後要素は光軸に沿った方向に見て四角形の外形を有することを特徴とする請求項４に記載の照明光学系。
  6. 請求項１に記載の照明光学系で前記被照射面に配置されたパターンを照射して、当該パターンを露光対象物に露光することを特徴とする露光装置。
  7. 前記照明光学系によって照射された前記パターンの像を前記露光対象物に投影する投影光学系を備えたことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
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US18/575,358 US12481220B2 (en) 2021-07-08 2022-03-24 Lighting optical system and exposure apparatus
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EP22837272.8A EP4361701A4 (en) 2021-07-08 2022-03-24 OPTICAL ILLUMINATION SYSTEM AND EXPOSURE DEVICE
TW111114811A TWI905419B (zh) 2021-07-08 2022-04-19 照明光學系統及曝光裝置

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2025138162A (ja) 2024-03-11 2025-09-25 ウシオ電機株式会社 光源装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001147305A (ja) 1999-11-19 2001-05-29 Seiko Epson Corp マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置
JP2003107400A (ja) 2001-07-26 2003-04-09 Ricoh Co Ltd 画像表示装置
JP2007025613A (ja) 2004-09-03 2007-02-01 Sanee Giken Kk 露光用光源
JP2012203417A (ja) 2011-03-25 2012-10-22 Min Aik Technology Co Ltd 光混合装置、光混合方法及び該光混合装置を応用した小型投影システム
JP2016188878A (ja) 2015-03-28 2016-11-04 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2020122921A (ja) 2019-01-31 2020-08-13 キヤノン株式会社 光源装置、照明装置、露光装置及び物品の製造方法
JP2021189397A (ja) 2020-06-04 2021-12-13 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、及び物品の製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5815248A (en) * 1993-04-22 1998-09-29 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and method having a wavefront splitter and an optical integrator
US5822125A (en) * 1996-12-20 1998-10-13 Eastman Kodak Company Lenslet array system
JP3101613B2 (ja) * 1998-01-30 2000-10-23 キヤノン株式会社 照明光学装置及び投影露光装置
JP3599629B2 (ja) * 2000-03-06 2004-12-08 キヤノン株式会社 照明光学系及び前記照明光学系を用いた露光装置
WO2011012148A1 (en) * 2009-07-31 2011-02-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical beam deflecting element and method of adjustment
JP2011216863A (ja) * 2010-03-17 2011-10-27 Hitachi Via Mechanics Ltd ビームサイズ可変照明光学装置及びビームサイズ変更方法
JP2014003086A (ja) * 2012-06-15 2014-01-09 Ushio Inc 光照射装置、露光装置
CN102854632A (zh) * 2012-08-16 2013-01-02 芜湖雅图数字视频技术有限公司 激光光源准直装置、准直装置阵列及照明系统和投影设备
KR101633176B1 (ko) 2014-05-14 2016-07-01 주은유브이텍 주식회사 자외선 엘이디 모듈 및 이를 포함하는 자외선 노광장치
CN107885038A (zh) * 2016-09-30 2018-04-06 上海微电子装备（集团）股份有限公司 照明均匀性校正装置、校正方法以及一种曝光投影系统
KR102036749B1 (ko) 2017-12-14 2019-10-28 에스엘 주식회사 차량용 램프
JP2024172758A (ja) * 2023-06-01 2024-12-12 ウシオ電機株式会社 照明光学系、露光装置、照射方法、及び部品の製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001147305A (ja) 1999-11-19 2001-05-29 Seiko Epson Corp マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置
JP2003107400A (ja) 2001-07-26 2003-04-09 Ricoh Co Ltd 画像表示装置
JP2007025613A (ja) 2004-09-03 2007-02-01 Sanee Giken Kk 露光用光源
JP2012203417A (ja) 2011-03-25 2012-10-22 Min Aik Technology Co Ltd 光混合装置、光混合方法及び該光混合装置を応用した小型投影システム
JP2016188878A (ja) 2015-03-28 2016-11-04 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2020122921A (ja) 2019-01-31 2020-08-13 キヤノン株式会社 光源装置、照明装置、露光装置及び物品の製造方法
JP2021189397A (ja) 2020-06-04 2021-12-13 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、及び物品の製造方法

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