JP7698533B2 - 分離構造体及び分離方法 - Google Patents

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Description

本発明は、分離構造体及び分離方法に関する。
地球温暖化の一要因と考えられている二酸化炭素(CO)を含むガス(例えば、空気)から二酸化炭素を直接取り除く技術(DAC:Direct Air Capture)が開発されている。
例えば、特許文献1には、二酸化炭素の吸収液としてアミン水溶液を用いたDACについて言及されている。アミン水溶液に二酸化炭素を溶解させると、中性アミン及び二酸化炭素が反応してカルバメートイオン及びプロトン化アミンが生成されることで二酸化炭素が吸収される。一方、カルバメートイオン及びプロトン化アミンを加熱すると、中性アミン及び二酸化炭素が生成されることで二酸化炭素が回収される。
特表2020-521625号公報
しかしながら、二酸化炭素の吸収液としてアミン水溶液を用いたDACでは、アミン水溶液における水の含有率が約70wt%と高いため、二酸化炭素を吸収した吸収液の加熱に大きなエネルギーが必要である。
そこで、アミン水溶液における水の含有率を下げることができれば、吸収液の加熱に必要なエネルギーを低減させることができる。例えば、エーテル、アミン及び水を含む吸収液に二酸化炭素を溶解させると、二酸化炭素、アミン及び水を含む親水性溶媒とエーテルを含む疎水性溶媒とが液液相分離した複合液が得られるので、この複合液から親水性溶媒を分離することが有効である。
本発明は、親水性溶媒及び疎水性溶媒が液液相分離した複合液から親水性溶媒を効率的に分離可能な分離構造体及び分離方法を提供することを目的とする。
本発明に係る分離構造体は、互いに分離した親水性溶媒及び疎水性溶媒を含む複合液から親水性溶媒を分離するために用いられる。分離構造体は、貫通孔を有する多孔質の基材と、前記貫通孔の内表面に配置された多孔質の表面層とを備える。
本発明によれば、低エネルギーで二酸化炭素を回収可能な二酸化炭素回収装置及び二酸化炭素回収方法装置を提供することができる。
分離構造体の斜視図 図1のA-A断面図 図2のB-B断面図 分離方法のフロー図
(分離構造体10の構成)
図1は、分離構造体10の斜視図である。図2は、図1のA-A断面図である。図3は、図2のB-B断面図である。
分離構造体10は、互いに分離した親水性溶媒及び疎水性溶媒を含む複合液から親水性溶媒を分離するために用いられる。分離構造体10を用いた分離方法については後述する。
分離構造体10は、基材20、表面層21、トラップ物質22、第1シール部23及び第2シール部24を備える。
1.基材20
基材20は、モノリス形状の多孔体である。本実施形態において、「モノリス形状」とは、長手方向に形成された複数の貫通孔を有する形状を意味し、ハニカム形状を含む概念である。ただし、基材20の外形は、モノリス形状に限られるものではなく、平板形状、管形状、円筒形状、円柱形状、或いは角柱形状などであってもよい。
基材20の長さは特に制限されないが、例えば150mm~2000mmとすることができる。基材20の直径は特に制限されないが、例えば30mm~220mmとすることができる。
基材20は、第1端面S1、第2端面S2及び側面S3を有する。第1端面S1は、第2端面S2の反対に設けられる。側面S3は、第1端面S1と第2端面S2の外縁に連なる。基材20は、第1端面S1と第2端面S2とに連なる複数の貫通孔THを有する。複数の貫通孔THは、基材20の長手方向に沿って延びる。
基材20は、多孔質体である。基材20を構成する多孔質材料としては、セラミックス材料、金属材料及び樹脂材料などを用いることができ、特にセラミックス材料が好適である。
セラミックス材料は、骨材を含む。骨材としては、アルミナ(Al)、チタニア(TiO)、ムライト(Al・SiO)、セルベン及びコージェライト(MgAlSi18)などを用いることができ、入手容易性を考慮すると特にアルミナが好適である。
セラミックス材料は、無機結合材を含んでいてもよい。無機結合材は、骨材粒子を結合させるための結合材であり、骨材粒子が焼結しない温度で、焼結固化する無機成分のことである。無機結合材としては、チタニア、マグネシア、カルシア、ムライト、易焼結性アルミナ、シリカ、ガラスフリット、粘土鉱物、易焼結性コージェライトなどを用いることができる。易焼結性アルミナは、骨材粒子がアルミナである場合に用いることができ、骨材粒子の平均粒径の1/10以下の平均粒径を有するものである。易焼結性コージェライトとは、骨材粒子がコージェライトである場合に用いることができ、骨材粒子の平均粒径の1/10以下の平均粒径を有するコージェライトである。
基材20の気孔率は特に制限されないが、25%以上50%以下とすることができる。基材20の気孔率は、FE-SEM観察にて取得した画像を2値化処理することで算出により測定することができる。
基材20の平均細孔径は特に制限されないが、5μm以上25μm以下とすることができる。基材20の平均細孔径は特に制限されないが、10μm以上20μm以下とすることができる。基材20の平均細孔径は、水銀ポロシメータにより測定することができる。2つのセルCL間における基材20の厚み(いわゆる、隔壁厚み)は特に制限されないが、0.5mm以上2.0mm以下とすることができる。
基材20は、押出成形、プレス成形、或いは鋳込み成形した多孔質材料の成形体を焼成(例えば、900℃~1600℃、1時間~100時間)することによって形成できる。
2.表面層21
表面層21は、基材20に形成された各貫通孔THそれぞれの内表面に形成される。よって、表面層21は、筒状に形成される。
表面層21の内側の空間は、複合液が流されるセルCLである。セルCLの個数及び位置は適宜変更可能である。また、セルCLの断面形状は円形に限られず、三角形以上の多角形などであってもよい。
表面層21は、多孔質体である。表面層21は、親水性のセラミックス材料によって構成される。表面層21を構成するセラミックス材料の骨材としては、上述した基材20に用いることのできるものが挙げられる。表面層21を構成するセラミックス材料は、無機結合材を含んでいてもよい。無機結合材としては、上述した基材20に用いることのできるものが挙げられる。
表面層21は、Siを含んでいることが好ましい。これにより、表面層21の親水性を高めることができるため、複合液に含まれる親水性溶媒の透過性能を向上させることができる。
表面層21の気孔率は特に制限されないが、20%以上50%以下とすることができ、25%以上40%以下が好ましい。表面層21の気孔率は、FE-SEM観察にて取得した画像を2値化処理することで算出により測定することができる。
表面層21の厚みは特に制限されないが、3μm以上50μm以下とすることができ、5μm以上20μm以下が好ましい。表面層21の平均細孔径は、基材20の平均細孔径より小さい。表面層21の平均細孔径の値は特に制限されないが、0.01μm以上5μm以下とすることができ、0.05μm以上1μm以下が好ましい。表面層21の平均細孔径は、ASTM F316に記載のエアフロー法により測定することができる。
表面層21は、セラミックス材料、焼結助剤(例えば、シリカやマグネシア)、有機バインダ、pH調整剤及び界面活性剤を混合したスラリーを、流下法、濾過法又はディップ法で基材20の貫通孔THの内表面に塗布した後に焼成(例えば、900℃~1600℃、1時間~100時間)することによって形成できる。
3.トラップ物質22
トラップ物質22は、表面層21の内表面に配置される。トラップ物質22は、表面層21の内表面に付着している。トラップ物質22は、粉末であってもよいし、粉末が集合した塊であってもよい。
トラップ物質22は、複合液に含まれる疎水性溶媒を吸着する特性を有する。具体的には、トラップ物質22は、疎水性溶媒に含まれるエーテルと親和性のある親油基を有する。トラップ物質22としては、例えばシランカップリング材が好適である。例えば、フッ素系シランカップリング材を用いた場合、親水側が表面層21と結合し、疎水側がセルCLに露出するため、セルCLの内表面を部分的に疎水化することができる。
トラップ物質22は、シランカップリング材を含むスラリーを、流下法、濾過法又はディップ法で表面層21の内表面に塗布した後に乾燥させることによって形成できる。
4.第1及び第2シール部22,23
第1シール部23は、第1端面S1の略全面と側面S3の一部とを覆う。第1シール部23は、複合液が基材20の第1端面S1に浸潤することを抑制する。第1シール部23を構成する材料としては、ガラスや金属などを用いることができ、基材20の熱膨張係数との整合性を考慮するとガラスが好適である。
第2シール部24は、第2端面S2の略全面と側面S3の一部とを覆う。第2シール部24は、複合液が基材20の第2端面S2に浸潤することを抑制する。第2シール部24を構成する材料としては、ガラスや金属などを用いることができ、基材20の熱膨張係数との整合性を考慮するとガラスが好適である。
(分離方法)
本実施形態に係る分離方法は、互いに分離した親水性溶媒及び疎水性溶媒を含む複合液から親水性溶媒を分離する方法である。本実施形態に係る分離方法では、分離構造体10が用いられる。
図4は、本実施形態に係る分離方法を説明するためのフロー図である。
本実施形態に係る分離方法は、吸収液調製工程、二酸化炭素吸着工程、荒分離工程、分離工程、相変態工程及び加熱工程を備える。
1.吸収液調製工程
エーテル、アミン及び水を混合することによって吸収液を調製する。吸収液において、エーテル、アミン及び水は、均一に混ざり合った均一相を形成する。
エーテルは、疎水性を有する。エーテルとしては、DEGDEE(ジエチレングリコールジエチルエーテル)、DEGEME(ジエチレングリコールエチルメチルエーテル)、DEGDME(ジエチレングリコールジメチルエーテル)などを用いることができる。
エーテルの溶解パラメーター値(Solubility Parameter値、以下「SP値」と略称する。)は、8.0以上9.0以下とすることができるが、これに限定されるものではない。
エーテルのSP値は、「Polymer Engineering and Science,Feburuary,1974,Vol.14、No.2 P.147~154」に記載されたFedors法を用いて算出される。SP値の単位は、(cal/cm1/2である。
アミンとしては、EAE(2-(エチルアミノ)エタノール)、DAP(1,3-ジアミノプロパン)、MAE(2(メチルアミノ)エタノール)、AEE(2-(2-アミノエトキシ)エタノール)、PAE(2-(プロピルアミノ)エタノール)、2-(3-アミノプロポキシ)エタノール、2-(2-メチルアミノエトキシ)エタノール、5-アミノ―1-ペンタノール、6-アミノ‐1-ヘキサノールなどを用いることができる。
アミンのSP値は、11.5以上13.2以下である。アミンのSP値が13.2超であると、後述する二酸化炭素吸着工程において、親水性溶媒と疎水性溶媒とを液液相分離しなくなってしまう。よって、SP値が14.3であるMEA(2-アミノエタノール)をアミンとして用いることはできない。アミンのSP値が11.5未満であると、本工程において、エーテル、アミン及び水が混ざりあわなくなってしまう。
アミンのSP値は、11.5以上12.0未満が好ましい。これにより、後の二酸化炭素吸着工程において、親水性溶媒と疎水性溶媒とをより精度良く液液相分離することができる。
アミンのSP値は、エーテルのSP値と同様、Fedors法を用いて算出される。
エーテルのSP値に対するアミンのSP値の比が1.28以上1.65以下であり、かつ、アミンのSP値が11.5以上13.2以下であることが好ましい。これにより、後の二酸化炭素吸着工程において、親水性溶媒と疎水性溶媒とをより精度良く液液相分離することができる。
エーテルのSP値に対するアミンのSP値の比が1.28以上1.65以下であり、かつ、アミンのSP値が11.5以上13.2以下である組み合わせとしては、DEGDEE-EAE、DEGEME-EAE、DEGEME-DAP、DEGEME-MAE、DEGDME-EAE、DEGDME-DAP、DEGDME-MAE、DEGDME-AEE、DEGEME-PAE、DEGDME-PAEが挙げられるが、これらには限定されない。
吸収液におけるエーテルの含有率は、10wt%以上70wt%以下とすることができる。吸収液におけるアミンの含有率は、5wt%以上30wt%以下とすることができる。吸収液における水を含有率は、5wt%以上20wt%以下とすることができる。
2.二酸化炭素吸着工程
次に、吸収液に二酸化炭素を溶解させる。これによって、互いに分離した親水性溶媒及び疎水性溶媒を含む複合液を生成する。
親水性溶媒は、吸収液に含まれるアミンに二酸化炭素が結合することで生成される。親水性溶媒は、カルバメートイオン(RR’NCOO)及びプロトン化アミン(RR’NH )を含む。親水性溶媒は、水との相互作用が強い水相である。親水性溶媒が生成されることによって二酸化炭素が吸収液に吸収される。
疎水性溶媒は、吸収液中に水相である親水性溶媒が生成されることに伴って、エーテルが水相から液液相分離することによって生成される。疎水性溶媒は、主にエーテルを含む。疎水性溶媒は、有機相である。疎水性溶媒は、典型的には親水性溶媒より軽いため、親水性溶媒の上に浮かぶ。
3.荒分離工程
次に、複合液から疎水性溶媒の一部を除去する。
疎水性溶媒を除去する手法は特に限られないが、例えば抽出法を用いて上澄み液である疎水性溶媒を除去することができる。
本工程は、次の分離工程における分離効率を向上させるために行われる。本工程では、疎水性溶媒の一部を除去することができればよく、疎水性溶媒の全部を除去する必要はない。
4.分離工程
次に、上述した分離構造体10を用いて複合液から親水性溶媒を分離する。具体的には、複合液を分離構造体10の各セルCLの一端に供給すると、複合液に含まれる親水性溶媒は表面層21及び基材20を順次透過する一方、疎水性溶媒は表面層21を透過しない。
表面層21及び基材20を順次透過した親水性溶媒は、基材20の側面S3から流出する。表面層21を透過しない疎水性溶媒は、各セルCLの他端から排出される。
疎水性溶媒の大部分は各セルCLから排出されるが、表面層21に近づいた疎水性溶媒はトラップ物質22に吸着される。これによって、表面層21の表面が疎水性溶媒によって広く覆われてしまうことを抑制できるため、親水性溶媒の分離係数が低下してしまうことを抑制できる。
なお、本工程では、親水性の表面層21に親水性溶媒が自然と浸潤するため、各セルCLに供給される複合液を加圧する必要はない。
5.相変態工程
上述した分離工程を長時間継続するうちに、表面層21の表面が疎水性溶媒によって覆われると、親水性溶媒の分離係数が低下してしまう。
そこで、本実施形態では、複合液の供給を一旦停止して、各セルCLに二酸化炭素を流通させる。これによって、疎水性溶媒に混入しているアミンに二酸化炭素が結合して水相が生成される。生成された水相は、疎水性溶媒から離脱して表面層21及び基材20を順次透過する。その結果、表面層21を被覆していた疎水性溶媒が除去されるため、親水性溶媒の分離係数を回復させることができる。
本工程を経て親水性溶媒の分離係数が十分回復した場合には、上述した分離工程を再開する。本工程を経ても親水性溶媒の分離係数が十分回復しない場合には、次の加熱工程に進む。
6.加熱工程
上述した相変態工程を経ても親水性溶媒の分離係数が回復しない場合には、分離構造体10を加熱する。これによって、表面層21の表面を覆う疎水性溶媒(主に、エーテル)を揮発除去することができるため、親水性溶媒の分離係数を回復させることができる。
(実施形態の変形例)
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
[変形例1]
上記実施形態において、表面層21の内表面の全面が露出していることとしたが、表面層21の内表面の少なくとも一部は、親水性のポリマー層によって被覆されていてもよい。これによって、疎水性溶媒がポリマー層に付着することを抑制できるため、親水性溶媒の分離係数が低下することを抑制できる。
[変形例2]
上記実施形態において、分離構造体10は、表面層21の内表面に配置されたトラップ物質22を有することとしたが、トラップ物質22を有していなくてもよい。
[変形例3]
上記実施形態では、分離工程の前に荒分離工程を実施することとしたが、荒分離工程は実施しなくてもよい。
[変形例4]
上記実施形態では、分離工程の後に相変態工程を実施することとしたが、相変態工程は実施しなくてもよい。すなわち、分離工程から加熱工程へ直接移行してもよい。
10 分離構造体
20 基材
21 表面層
22 トラップ物質
23 第1シール部
24 第2シール部
CL セル
TH 貫通孔

Claims (8)

  1. エーテル、アミン及び水を含む吸収液に二酸化炭素を溶解させることによって生成され、互いに分離した親水性溶媒及び疎水性溶媒を含む複合液から前記親水性溶媒を分離するための分離構造体であって、
    貫通孔を有する多孔質の基材と、
    前記貫通孔の内表面に配置された多孔質の表面層と、
    を備え
    前記親水性溶媒は、カルバメートイオン及びプロトン化アミンを含み、
    前記疎水性溶媒は、前記エーテルを含む、
    分離構造体。
  2. 前記表面層の内表面に配置され、前記疎水性溶媒を吸着するトラップ物質をさらに備える、
    請求項1に記載の分離構造体。
  3. 前記エーテルのSP値に対する前記アミンのSP値の比は、1.28以上1.65以下であり、
    前記アミンのSP値は、11.5以上13.2以下である、
    請求項1又は2に記載の分離構造体。
  4. エーテル、アミン及び水を含む吸収液に二酸化炭素を溶解させることによって、互いに分離した親水性溶媒及び疎水性溶媒を含む複合液を生成する工程と、
    分離構造体を用いて、互いに分離した親水性溶媒及び疎水性溶媒を含む複合液から前記親水性溶媒を分離する工程を備え、
    前記親水性溶媒は、カルバメートイオン及びプロトン化アミンを含み、
    前記疎水性溶媒は、前記エーテルを含み、
    前記分離構造体は、複数の貫通孔を有する多孔質の基材と、前記複数の貫通孔の内表面に配置された多孔質の表面層とを有する、
    分離方法。
  5. 分離構造体は、前記表面層の内表面に配置され、前記疎水性溶媒を吸着するトラップ物質をさらに有する、
    請求項に記載の分離方法。
  6. 前記エーテルのSP値に対する前記アミンのSP値の比は、1.28以上1.65以下であり、
    前記アミンのSP値は、11.5以上13.2以下である、
    請求項4又は5に記載の分離方法
  7. 前記複合液から前記親水性溶媒を分離する工程の後に、前記表面層に二酸化炭素を供給する工程をさらに備える、
    請求項乃至のいずれかに記載の分離方法。
  8. 前記複合液から前記親水性溶媒を分離する工程の前に、前記複合液から前記疎水性溶媒の一部を除去する工程をさらに備える、
    請求項乃至のいずれかに記載の分離方法。
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