JP7715520B2 - 超純水製造システム - Google Patents
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Description
図11に示す装置を組み立てた。図11に示す装置は、限外ろ過膜装置16を備えており、限外ろ過膜装置16の出口水が、弁51を介してそのまま排出される第1の経路と、流量計(FI)52、モノリスカチオン交換体31、モノリスアニオン交換体32、精密ろ過膜装置35及び弁53をこの順で通過して排出される第2の経路と、流量計54、精密ろ過膜装置36及び弁55をこの順で経過して排出される第3の経路との3つの経路に分配されるように構成されている。これらとは別に、パーティクルカウンタ(PC)66が接続する計測用配管60が設けられている。パーティクルカウンタ66としては、Specttris社製のUltraChem40を使用した。限外ろ過膜装置16の出口水[A]、モノリスカチオン交換体31の出口水[B]、モノリスアニオン交換体32の出口水[C]、第2の経路に設けられた精密ろ過膜装置35の出口水[D]及び第3の経路に設けられた精密ろ過膜装置36の出口水[E]をそれぞれ切り替えて計測用配管60に供給するために、出口水[A]~[E]を計測用配管61に供給するそれぞれの配管に弁61~65が設けられている。モノリスカチオン交換体31及びモノリスアニオン交換体32としては、特許文献1の段落[0131]~[0135](特許文献1の参考例1)に記載された方法に基づいて製造したモノリスカチオン交換体及びモノリスアニオン交換体を使用した。モノリスカチオン交換体及びモノリスアニオン交換体は、いずれも、150A PPGフランジ配管に対して長さ50mmでそのモノリス状イオンを充填させたイオン交換体充填カートリッジを製作して配管に取り付けることにより使用した。精密ろ過膜装置35,36として、精密ろ過膜の孔径が20nmのものを使用した。
12 熱交換器(HE)
13 紫外線酸化装置(UV)
14 非再生型イオン交換装置(CP)
15 膜脱気装置(MD)
16 限外ろ過膜装置(UF)
20 循環配管
21 供給配管
31 モノリスカチオン交換体(CEM)
32 モノリスアニオン交換体(AEM)
33 ブースターポンプ(P)
35,36 精密ろ過膜装置(MF)
41 配管部材
42 フランジ
43 配管
66 パーティクルカウンタ(PC)
67 全有機炭素濃度計(TOC)
Claims (10)
- ユースポイントに接続されて前記ユースポイントに超純水を供給する超純水供給ラインにおいて、限外ろ過膜装置の下流側の位置に設けられた第1の有機多孔質イオン交換体と、
前記超純水供給ラインにおいて前記第1の有機多孔質イオン交換体の下流側となる位置に設けられた精密ろ過膜装置と、
を有し、
前記第1の有機多孔質イオン交換体は、配管の内壁を押圧する状態で当該配管の内部に挿入されている、超純水製造システム。 - 前記超純水供給ラインにおいて前記第1の有機多孔質イオン交換体の上流側であって前記限外ろ過膜装置の下流側の位置に設けられた第2の有機多孔質イオン交換体を備え、
前記第1の有機多孔質イオン交換体はアニオン交換体であり、前記第2の有機多孔質イオン交換体はカチオン交換体である、請求項1に記載の超純水製造システム。 - 前記超純水供給ラインにおいて前記精密ろ過膜装置の下流側の位置に設けられた第3の有機多孔質イオン交換体を備える、請求項1または2に記載の超純水製造システム。
- 前記超純水供給ラインにおいて前記限外ろ過膜装置の上流側の位置に設けられたポンプと、
前記超純水供給ラインにおいて前記ポンプの下流側であって前記限外ろ過膜装置の上流側の位置に設けられた第4の有機多孔質イオン交換体と、
を備える、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の超純水製造システム。 - ユースポイントに接続されて前記ユースポイントに超純水を供給する超純水供給ラインにおいて、限外ろ過膜装置と当該限外ろ過膜装置の上流側の位置に設けられたポンプとの間の位置に設けられた第1の有機多孔質イオン交換体と、
前記超純水供給ラインにおいて前記限外ろ過膜装置の下流側となる位置に設けられた精密ろ過膜装置と、
を有し、
前記第1の有機多孔質イオン交換体は、配管の内壁を押圧する状態で当該配管の内部に挿入されている、超純水製造システム。 - 前記超純水供給ラインにおいて前記限外ろ過膜装置の上流側であって前記第1の有機多孔質イオン交換体の下流側の位置に設けられた第2の有機多孔質イオン交換体を備え、
前記第1の有機多孔質イオン交換体はカチオン交換体であり、前記第2の有機多孔質イオン交換体はアニオン交換体である、請求項5に記載の超純水製造システム。 - 前記第2の有機多孔質イオン交換体は、配管の内壁を押圧する状態で当該配管の内部に挿入されている、請求項2または6に記載の超純水製造システム。
- 前記精密ろ過膜装置に備えられた精密ろ過膜の孔径が1nm以上である、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の超純水製造システム。
- 前記精密ろ過膜装置の設置位置において、前記精密ろ過膜装置を流れるべき水の経路が、並列に設けられた複数の配管に分岐し、分岐した配管ごとに前記精密ろ過膜装置が設けられている、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の超純水製造システム。
- 前記超純水製造システムに設けられている有機多孔質イオン交換体のうちの少なくとも1つの有機多孔質イオン交換体の設置位置において、前記少なくとも1つの有機多孔質イオン交換体を流れるべき水の経路が、並列に設けられた複数の配管に分岐し、分岐した配管ごとに前記少なくとも1つの有機多孔質イオン交換体が設けられている、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の超純水製造システム。
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014178289A1 (ja) | 2013-04-30 | 2014-11-06 | オルガノ株式会社 | 銅露出基板の洗浄方法および洗浄システム |
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Patent Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
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| JP2016097389A (ja) | 2014-11-26 | 2016-05-30 | オルガノ株式会社 | 反応体収容体、反応器及び水処理装置 |
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