JP7721068B2 - 立方晶窒化硼素焼結体 - Google Patents
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Description
[1]
立方晶窒化硼素と結合相とを含む立方晶窒化硼素焼結体であって、
前記立方晶窒化硼素の含有割合は、前記焼結体の総量に対して80体積%以上94体積%以下であり、
前記結合相の含有割合は、前記焼結体の総量に対して6体積%以上20体積%以下であり、
前記結合相は、金属相と、V化合物と、Al化合物と、を含み、
前記金属相は、Ni金属、Ni含有合金及びNi含有固溶体からなる群より選択される1種以上を含み、
前記Ni含有合金及び前記Ni含有固溶体は、Niと、Al、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W及びCoからなる群より選択される1種以上の元素とを含み、
前記V化合物は、VN、VCN、及びVCからなる群より選択される1種以上を含み、
前記Al化合物は、Al2O3、AlN、及びAlB2からなる群より選択される1種以上を含み、
X線回折における前記金属相の(200)面の最大のピーク位置2θ(°)が、51.60°未満であり、
前記V化合物の(220)面のX線回折ピーク強度をI1、前記金属相の(200)面のX線回折ピーク強度をI2としたとき、
I1/(I1+I2)が0.40以上0.80以下である、立方晶窒化硼素焼結体。
[2]
X線回折における前記金属相の(200)面のピークの半値全幅(°)が、0.40°以上0.70°以下である、[1]に記載の立方晶窒化硼素焼結体。
[3]
前記立方晶窒化硼素の(220)面のX線回折ピーク強度をI3としたとき、
I1/I3が0.70以上1.50以下である、[1]又は[2]に記載の立方晶窒化硼素焼結体。
[4]
X線回折における前記V化合物の(220)面の最大のピーク位置2θ(°)が、63.40°未満である、[1]~[3]のいずれか1つに記載の立方晶窒化硼素焼結体。
[5]
X線回折における前記金属相の(200)面の最大のピーク位置2θ(°)が、51.40°未満である、[1]~[4]のいずれか1つに記載の立方晶窒化硼素焼結体。
本実施形態の立方晶窒化硼素焼結体は、立方晶窒化硼素と結合相とを含む立方晶窒化硼素焼結体であって、立方晶窒化硼素の含有割合は、焼結体の総量に対して80体積%以上94体積%以下であり、結合相の含有割合は、焼結体の総量に対して6体積%以上20体積%以下であり、結合相は、金属相と、V化合物と、Al化合物と、を含み、金属相は、Ni金属、Ni含有合金及びNi含有固溶体からなる群より選択される1種以上を含み、Ni含有合金及びNi含有固溶体は、Niと、Al、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W及びCoからなる群より選択される1種以上の元素とを含み、V化合物は、VN、VCN、及びVCからなる群より選択される1種以上を含み、Al化合物は、Al2O3、AlN、及びAlB2からなる群より選択される1種以上を含み、X線回折における金属相の(200)面の最大のピーク位置2θ(°)が、51.60°未満であり、V化合物の(220)面のX線回折ピーク強度をI1、金属相の(200)面のX線回折ピーク強度をI2としたとき、I1/(I1+I2)が0.40以上0.80以下である。
本実施形態の立方晶窒化硼素焼結体は、立方晶窒化硼素の含有割合が、焼結体の総量に対して80体積%以上であることで、cBN焼結体の硬さが向上するため、耐摩耗性に優れる。上記立方晶窒化硼素の含有割合が焼結体の総量に対して94体積%以下であることで、相対的に結合相の含有割合が高くなるため、cBN粒子の脱落が抑制され、耐摩耗性に優れる。
結合相の含有割合が、焼結体の総量に対して6体積%以上であることで、cBN粒子の脱落が抑制され、耐摩耗性に優れる。上記結合相の含有割合が、焼結体の総量に対して20体積%以下であることで、相対的にcBNの含有割合が高くなり、cBN焼結体の硬さが向上するため、耐摩耗性に優れる。
X線回折における金属相の(200)面の最大のピーク位置2θ(°)が、51.60°未満であることで、耐熱性が向上し、耐摩耗性に優れる。
V化合物の(220)面のX線回折ピーク強度をI1、金属相の(200)面のX線回折ピーク強度をI2としたとき、I1/(I1+I2)が0.40以上であることで、cBN同士の結合強度が向上するため、耐欠損性に優れる。また、結合相によるcBN粒子の脱落抑制の効果が高くなるため、耐摩耗性も向上する。
I1/(I1+I2)が0.80以下であることで、焼結性が向上するため、焼結体の靭性が向上し、耐欠損性に優れる。
本実施形態の立方晶窒化硼素焼結体は、上述の効果が相俟った結果、耐欠損性に優れる。
結合相は、金属相と、V化合物と、Al化合物と、を含む。
本実施形態の立方晶窒化硼素焼結体において、立方晶窒化硼素の含有割合が80体積%以上であることにより、結合相の割合が相対的に少なくなるため、硬さが向上し、耐摩耗性に優れる。一方、本実施形態の立方晶窒化硼素焼結体は、立方晶窒化硼素の含有割合が94体積%以下であることにより、立方晶窒化硼素粒子の脱落を抑制することができ、耐摩耗性に優れる。さらに、切削加工において、被加工物の加工面の表面粗さが小さくなり、加工後の外観も良好となる傾向にある。同様の観点から、立方晶窒化硼素の含有割合は、80.5体積%以上93.7体積%以下であることが好ましく、83.2体積%以上92.3体積%以下であることがより好ましい。
本実施形態の立方晶窒化硼素焼結体は、結合相の含有割合が6体積%以上であることにより、cBN粒子の脱落を抑制することができ、耐摩耗性に優れる。一方、立方晶窒化硼素焼結体は、結合相の含有割合が20体積%以下であることにより、相対的にcBNの含有割合を多くし、硬さが向上した結果、耐摩耗性に優れる。同様の観点から、結合相の含有割合は、6.3体積%以上19.5体積%以下であることが好ましく、7.7体積%以上16.8体積%以下であることがより好ましい。
金属相は、Ni金属、Ni含有合金及びNi含有固溶体からなる群より選択される1種以上を含み、好ましくはNi含有合金及びNi含有固溶体からなる群より選択される1種以上を含み、より好ましくはNi含有合金を含む。
Ni含有合金及びNi含有固溶体は、Niと、Al、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W及びCoからなる群より選択される1種以上の元素とを含み、好ましくはNiと、Al及びVからなる群より選択される1種以上の元素とを含み、より好ましくはNi元素とV元素とを含み、さらに好ましくはNi3Vを含む。
V化合物は、VN、VCN、及びVCからなる群より選択される1種以上を含み、Al化合物は、Al2O3、AlN、及びAlB2からなる群より選択される1種以上を含み、好ましくはAl2O3及びAlNからなる群より選択される1種以上を含み、より好ましくはAl2O3を含む。
なお、X線回折における金属相の(200)面の最大のピーク位置2θが例えば以下の範囲であるとき、金属相はそれぞれNi3V、Niであるとみなす。Ni3V及びNiの結晶構造は、立方晶である。
Ni3V:50.80°以上51.60°未満
Ni:51.60°以上52.2°未満
したがって、X線回折における金属相の(200)面の最大のピーク位置2θ(°)を前記範囲とする方法としては、特に限定されないが、例えば、金属相にNi3Vを含ませる方法が挙げられる。さらに、例えば、金属相中のNi3Vの含有割合を高くすることにより、X線回折における金属相の(200)面の最大のピーク位置2θ(°)が小さくなる傾向にある。
X線回折における金属相の(200)面のピークの半値全幅(°)が、0.40°以上であることで、金属相の硬さが向上するため、耐摩耗性に優れる。X線回折における金属相の(200)面のピークの半値全幅(°)が、0.70°以下であることで、金属相の靭性が向上するため、耐欠損性に優れる。同様の観点から、X線回折における金属相の(200)面のピークの半値全幅(°)は、0.42以上0.67以下であることがより好ましく、0.47以上0.61以下であることがさらに好ましい。
X線回折におけるV化合物の(220)面の最大のピーク位置2θ(°)が63.40°未満であることで、耐摩耗性に一層優れる傾向にある。同様の観点から、X線回折におけるV化合物の(220)面の最大のピーク位置2θ(°)は、63.10°未満であることがより好ましい。
なお、X線回折におけるV化合物の(220)面の最大のピーク位置2θが以下の範囲であるとき、V化合物がそれぞれVC、VCN及びVNであるとみなす。
VC:62.60°以上63.10°未満
VCN:63.10°以上63.40°未満
VN:63.40°以上63.90°以下
したがって、X線回折におけるV化合物の(220)面の最大のピーク位置2θを前記範囲とする方法としては、特に限定されないが、例えば、V化合物において、VNに比して硬さに優れるVCN及び/又はVCを多く含ませる方法が挙げられる。
I1/(I1+I2)が0.80以下であることで、焼結性が向上するため、焼結体の靭性が向上し、耐欠損性に優れる。同様の観点から、I1/(I1+I2)が、0.43以上0.77以下であることが好ましく、0.53以上0.64以下であることがより好ましい。
I1/I3が0.70以上であることで、cBN同士の結合強度が向上するため、耐欠損性に優れる。I1/I3が1.50以下であることで、焼結性が向上するため、焼結体の靭性が向上し、耐欠損性に優れる。同様の観点から、I1/I3が、0.72以上1.45以下であることが好ましく、0.76以上1.32以下であることがより好ましい。
なお、I1、I2及びI3は、それぞれ以下の2θの範囲における最大強度である。
I1:62.60°以上63.90°以下
I2:50.80°以上52.20°以下
I3:73.40°以上74.60°以下
これらの元素は、例えば、ボールミル用のシリンダーやボール、充填に用いる高融点金属カプセルなどに由来し、不可避的に含まれていてもよく、意図的に添加してもよい。また、上記その他の元素の含有割合は、特に限定されないが、例えば、焼結体に含まれる全ての元素の合計100質量%に対して0質量%以上10質量%以下であってもよい。
例えば、結合相において、灰色領域はAl化合物、白色領域は金属相又はV化合物であり得る。これを画像解析して、灰色領域の占める割合を「Al化合物の含有割合(体積%)」として算出する。また、白色領域の占める割合を「金属相及びV化合物の合計の含有割合(体積%)」として算出する。
なお、本実施形態において、立方晶窒化硼素及び結合相の含有割合、並びに結合相の組成は、後述の実施例に記載の方法により測定することもできる。具体的には、結合相の組成は、X線解析装置による測定の結果と、EDSを用いた元素マッピング結果とを解析することにより特定することができる。
本実施形態の立方晶窒化硼素焼結体は、例えば、以下の方法により製造することができる。
原料粉末として、cBN粉末、VC粉末、VN粉末、Ni粉末、及びAl粉末を準備する。ここで、原料のcBN粉末の平均粒径を適宜調整することにより、得られる立方晶窒化硼素焼結体におけるcBNの平均粒径を上記特定の範囲に制御することができる。また、各原料粉末の割合を適宜調整することにより、得られる立方晶窒化硼素焼結体におけるcBN及び結合相の含有割合を上記特定の範囲に制御することができる。次に、準備した原料粉末を、超硬合金製ボールと溶媒とパラフィンとともにボールミル用シリンダーに入れて混合する。ボールミルで混合した原料粉末を、Ta製の高融点金属カプセル内に充填し、粉末の表面に吸着している水分及びその他の付着成分を除去するため、カプセルを開放したまま真空熱処理を行う。カプセル内に充填を行う際には、超硬合金からなる基材を入れてもよい。
次に、カプセルを密封し、カプセルに充填されている原料粉末を高圧で焼結させる。高圧焼結の条件は、例えば、圧力:6.0~9.0GPa、温度:1600~1900℃、焼結時間:15~60分である。
さらに、高圧焼結の後、温度及び/又は圧力を低下させて保持する。保持の条件は、例えば、圧力:2.0~5.0GPa、温度:600~1000℃、保持時間:60~150分である。
[原料粉末の準備]
cBN焼結体の原料として、表1に記載の平均粒径を有する原料粉末を準備した。
原料粉末の平均粒径は、米国材料試験協会(ASTM)規格B330に記載のフィッシャー法(Fisher Sub-Sizer、FSSS)により測定した。
各原料粉末を、表2に記載の配合組成(体積%)となるように秤量した。秤量した原料粉末を、アルミナボールとヘキサン溶媒とパラフィンとともにボールミル用のシリンダーに入れ、2時間混合した。
混合した原料粉末を、Ta製の高融点金属の円盤状カプセル内に充填した。充填された原料粉末の表面に吸着している水分及び有機成分を除去するため、カプセルを開放したまま真空熱処理を行い、粉末の表面に吸着している水分及びその他の付着成分を除去した後、カプセルを密封した。
その後、カプセルに充填されている原料粉末を高圧で焼結させた。高圧焼結の条件を、表3に示す。
次に、表3に記載の保持条件まで温度及び圧力を低下させ、表3に記載の時間保持して焼結体を得た。
高圧焼結によって得られた立方晶窒化硼素焼結体について、立方晶窒化硼素及び結合相の含有割合(体積%)を、走査型電子顕微鏡(SEM)で撮影した立方晶窒化硼素焼結体の組織写真から、市販の画像解析ソフトで解析して求めた。より具体的には、立方晶窒化硼素焼結体を、その表面に対して直行する方向に鏡面研磨した。次に、SEMを用いて、鏡面研磨して現れた立方晶窒化硼素焼結体の鏡面研磨面の反射電子像を観察した。この際、SEMを用いて、立方晶窒化硼素の粒子が100個以上400個以下含まれるように選択した倍率で拡大した立方晶窒化硼素焼結体の鏡面研磨面を反射電子像にて観察した。SEMに付属しているエネルギー分散型X線分析装置(EDS)を用いることにより、黒色領域を立方晶窒化硼素と、灰色領域及び白色領域を結合相と特定した。その後、SEMを用いて立方晶窒化硼素の上記鏡面研磨面の組織写真を撮影した。市販の画像解析ソフトを用い、得られた組織写真から立方晶窒化硼素及び結合相の占有面積をそれぞれ求め、その占有面積から含有割合(体積%)を求めた。
ここで、立方晶窒化硼素焼結体の鏡面研磨面は、立方晶窒化硼素焼結体の表面又は任意の断面を鏡面研磨して得られた立方晶窒化硼素焼結体の断面であった。立方晶窒化硼素焼結体の鏡面研磨面(以下、「断面」ともいう。)を得る方法は、ダイヤモンドペーストを用いて研磨する方法とした。結合相において、灰色領域はAl化合物、白色領域は金属相又はV化合物であった。これを画像解析して、灰色領域の占める割合を「Al化合物の含有割合(体積%)」として算出した。また、白色領域の占める割合を「金属相及びV化合物の合計の含有割合(体積%)」として算出した。
<測定条件>
・出力:45kV、200mA
・入射側ソーラースリット:5°
・発散縦スリット:2/3°
・発散縦制限スリット:5mm
・散乱スリット:2/3°
・受光側ソーラースリット:5°
・受光スリット:0.3mm
・サンプリング幅:0.02°
・スキャンスピード:1°/min
・2θ測定範囲:30~90°
また、Al元素を有する化合物については、X線回折測定において明瞭なピークが得られなかったため、EDSを用いた元素マッピングにより同定した。その結果として、得られた立方晶窒化硼素焼結体が全てAl化合物を含むことが分かった。
また、X線回折測定では特定されず、元素マッピングの結果のみから特定された材料もあった。具体的には、発明品16において、X線回折測定では明瞭なピークは検出されなかったが、元素マッピングの結果からAlB2であると推察される相が確認できた。その他の発明品及び比較品においても、本実施例の倍率で特定できない程度の微細な相としてAlB2が存在し得る。
上記で得られた測定結果を合わせて表4に示す。
また、V化合物の(220)面のX線回折ピーク強度I1、金属相の(200)面のX線回折ピーク強度I2、立方晶窒化硼素の(220)面のX線回折ピーク強度I3及びX線回折における金属相の(200)面の最大のピーク位置2θ(°)から、I1/(I1+I2)、I1/I3及びX線回折における金属相の(200)面のピークの半値全幅(°)を各々算出した。
各結晶面のX線回折ピークは、それぞれ以下の範囲を元に特定した。上記で得られた値を、まとめて表5に示す。
なお、X線回折における最大のピーク位置2θが以下の範囲であるとき、V化合物がそれぞれVC、VCN及びVNであるとみなした。
VC:62.60°以上63.10°未満
VCN:63.10°以上63.40°未満
VN:63.40°以上63.90°以下
また、X線回折における最大のピーク位置2θが以下の範囲であるとき、金属相はそれぞれNi3V及びNiであるとみなした。
Ni3V:50.80°以上51.60°未満
Ni:51.60°以上52.2°未満
得られた立方晶窒化硼素焼結体を、ワイヤ放電加工機を用いてISO規格CNGA120408で定められたインサート形状の工具形状に合わせて切り出した。切り出した立方晶窒化硼素焼結体を、超硬合金からなる台金にろう付けにより接合した。
得られた切削工具を用いて、下記の条件で切削試験を行った。
・被削材:浸炭焼入れした焼結金属
(材質:JIS規格・FD-08N4C-390、硬さ:HRA70)
・被削材形状:ギア形状、φ45mm(歯たけ8mm)×30mm
・切削速度:200m/min
・送り:0.10mm/rev
・切り込み深さ:0.30mm
・クーラント:なし(乾式切削加工)
・評価項目:工具の逃げ面摩耗幅が0.15mmに至ったとき、又は欠損に至ったときを工具寿命とし、工具寿命に至るまでの加工時間を測定した。また、工具寿命に至った際の損傷形態についても確認した。測定結果を表6に示す。
Claims (5)
- 立方晶窒化硼素と結合相とを含む立方晶窒化硼素焼結体であって、
前記立方晶窒化硼素の含有割合は、前記焼結体の総量に対して80体積%以上94体積%以下であり、
前記結合相の含有割合は、前記焼結体の総量に対して6体積%以上20体積%以下であり、
前記結合相は、金属相と、V化合物と、Al化合物と、を含み、
前記金属相は、Ni金属、Ni含有合金及びNi含有固溶体からなる群より選択される1種以上を含み、
前記Ni含有合金及び前記Ni含有固溶体は、Niと、Al、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W及びCoからなる群より選択される1種以上の元素とを含み、
前記V化合物は、VN、VCN、及びVCからなる群より選択される1種以上を含み、
前記Al化合物は、Al2O3、AlN、及びAlB2からなる群より選択される1種以上を含み、
X線回折における前記金属相の(200)面の最大のピーク位置2θ(°)が、51.60°未満であり、
前記V化合物の(220)面のX線回折ピーク強度をI1、前記金属相の(200)面のX線回折ピーク強度をI2としたとき、
I1/(I1+I2)が0.40以上0.80以下であり、
前記Al化合物の含有割合は、焼結体の総量に対して、5.0体積%以下であり、
金属相及びV化合物の合計の含有割合は、焼結体の総量に対して、5.0体積%以上である、立方晶窒化硼素焼結体。 - X線回折における前記金属相の(200)面のピークの半値全幅(°)が、0.40°以上0.70°以下である、請求項1に記載の立方晶窒化硼素焼結体。
- 前記立方晶窒化硼素の(220)面のX線回折ピーク強度をI3としたとき、
I1/I3が0.70以上1.50以下である、請求項1又は2に記載の立方晶窒化硼素焼結体。 - X線回折における前記V化合物の(220)面の最大のピーク位置2θ(°)が、63.40°未満である、請求項1又は2に記載の立方晶窒化硼素焼結体。
- X線回折における前記金属相の(200)面の最大のピーク位置2θ(°)が、51.40°未満である、請求項1又は2に記載の立方晶窒化硼素焼結体。
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