JP7724273B2 - 気体弁蓋および其れを応用する基板キャリア - Google Patents
気体弁蓋および其れを応用する基板キャリアInfo
- Publication number
- JP7724273B2 JP7724273B2 JP2023203348A JP2023203348A JP7724273B2 JP 7724273 B2 JP7724273 B2 JP 7724273B2 JP 2023203348 A JP2023203348 A JP 2023203348A JP 2023203348 A JP2023203348 A JP 2023203348A JP 7724273 B2 JP7724273 B2 JP 7724273B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas valve
- gas
- base
- valve cover
- elastic buckle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/34—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/10—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP]
- H10P72/19—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers
- H10P72/1922—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers characterised by the construction of the closed carrier
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/10—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP]
- H10P72/19—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers
- H10P72/1924—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers characterised by atmosphere control
- H10P72/1926—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP] closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrier
Landscapes
- Valve Housings (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
Description
他方の気体開口130aは、気体をハウジング110から排出すること(即ち排気であり、具体的には収容空間からガスを排出する)に用いられる。本実施例では、2つの気体開口130aが吸気に用いられ、他の2つの気体開口130aが排気に用いられる。実際の応用においては、吸気及び排気の気体開口130aの数量は、給気の需要に応じて調整することができ、気体弁蓋150の数量も対応して調整することができる。
110 ハウジング
111 底部
115 収容部
130 ベース
130a 気体開口
130b 凹部
131 側部
136 表面高さ
150 気体弁蓋
151 気体弁蓋本体
1511 中空リング
153 弾性バックルアーム
1533 フック部
156 上面
170 気体弁
171 ストッパ部
170a 気流通路
175 弾性グロメット
177 気体弁軟質ゴム
176 表面高さ
210 ハウジング
211 底部
230 ベース
230a 気体開口
236 表面高さ
250 気体弁蓋
251 気体弁本体
255 被覆部
253 弾性バックルアーム
256 上面
270 気体弁
276 表面高さ
310 ハウジング
311 底部
330 ベース
330a 気体開口
336 表面高さ
350 気体弁蓋
351 気体弁本体
353 弾性バックルアーム
356 上面
370 気体弁
376 表面高さ
A スナップ弾性角度
D0 内径
D1 外径
C フック範囲
r 半径方向
Claims (10)
- 基板キャリアに適用される、気体弁蓋であって、
前記基板キャリアは、ハウジングと、前記ハウジングの底部に配置されるベースと、を含み、前記底部は気体弁を収容でき、前記ベースには気体開口が設置され、前記気体弁蓋は、気体弁蓋本体と、複数個の弾性バックルアームを含み、
前記気体弁蓋本体は、前記ベース上に設置され、
前記複数の弾性バックルアームは、前記気体弁蓋本体上に設置され、前記複数の弾性バックルアームは、前記気体開口の場所に位置し、それによって、前記気体弁を前記ハウジングの前記底部と前記ベースとの間に固定することと、
その中で、前記気体弁蓋の上面は、前記ベースの表面高さと前記気体弁の表面高さより低いことと、を特徴とする、気体弁蓋。 - その中で、前記気体弁蓋の前記上面は、前記ベースの表面高さと前記気体弁の表面高さより低く、その差は、1mmより大きいこと、を特徴とする請求項1に記載の気体弁蓋。
- その中で、前記複数の弾性バックルアームと、前記気体弁蓋本体と、の間に、スナップ弾性角度を有し、前記スナップ弾性角度は、0~90度の範囲であること、を特徴とする請求項1に記載の気体弁蓋。
- その中で、前記気体弁蓋本体は、中空リングであり、前記複数の弾性バックルアームの一側は、前記中空リングの外側に接続され、並びに、前記気体弁に当接するために用いられ、前記複数の弾性バックルアームの他側は前記気体開口から該ベースに向かう側部に当接することで、前記複数の弾性バックルアームの一部分が前記ベース上に位置し、前記複数の弾性バックルアームは前記気体開口の場所に取り外し可能なように設置されること、を特徴とする請求項1に記載の気体弁蓋。
- その中で、それぞれの前記弾性バックルアームはフック部を有し、前記気体弁にはストッパ部が設けられ、前記フック部は前記気体開口に向けられて前記ベースの前記側部上に係止され、前記複数の弾性バックルアームと前記中空リングの外側との相互接続位置は前記ストッパ部に当接するために用いられること、を特徴とする請求項4に記載の気体弁蓋。
- その中で、前記ベースは前記気体開口の側縁から外向きに凹部が延伸し、前記フック部は前記凹部を介して前記ベース上に係止され、且つ前記フック部と前記ベースとの重なり合う箇所は、0.8mm~1.5mmのフック範囲を有すること、を特徴とする請求項5に記載の気体弁蓋。
- 前記中空リングの内径幅は、前記気体弁の前記ストッパ部を支持するのに十分であり、前記中空リングの前記内径幅は直径25mm~26.5mmであり、前記中空リングの外径幅は直径25.1mm~28.5mmであること、を特徴とする請求項5に記載の気体弁蓋。
- 前記気体弁蓋本体に被覆部が設けられ、前記被覆部は前記複数の弾性バックルアームの下方に位置し、且つ前記気体開口から離れており、前記被覆部は前記気体弁の一部分を被覆するために用いられること、を特徴とする請求項1に記載の気体弁蓋。
- 前記複数の弾性バックルアームの一側は前記ベースから前記気体開口に向かって延伸して形成され、前記複数の弾性バックルアームの他側は前記気体弁蓋本体に接続され、前記気体弁蓋本体は前記気体弁に当接するために用いられること、を特徴とする請求項1に記載の気体弁蓋。
- 基板キャリアであって、ハウジングと、ベースと、請求項1に記載の気体弁蓋を含み、
前記ハウジングは、底部を有し、前記底部は気体弁を収容するために用いられ、
前記ベースは、前記ハウジングの前記底部に配置され、前記ベースに気体開口が設けられ、前記気体開口は前記気体弁の一部分を収容するために用いられ、且つ前記気体弁の表面高さは前記ベースの表面高さ以下であり、
前記気体弁蓋は、前記ハウジングの前記底部と前記ベースとの間に設けられ、前記気体弁を固定し、並びに前記気体弁が前記気体開口の外へ落下することを防止すること、を特徴とする基板キャリア。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US202363454173P | 2023-03-23 | 2023-03-23 | |
| US63/454,173 | 2023-03-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2024137664A JP2024137664A (ja) | 2024-10-07 |
| JP7724273B2 true JP7724273B2 (ja) | 2025-08-15 |
Family
ID=89754270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023203348A Active JP7724273B2 (ja) | 2023-03-23 | 2023-11-30 | 気体弁蓋および其れを応用する基板キャリア |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20240321614A1 (ja) |
| JP (1) | JP7724273B2 (ja) |
| KR (1) | KR102703854B1 (ja) |
| CN (1) | CN117524953A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USD1067892S1 (en) * | 2021-09-06 | 2025-03-25 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. | Box for transporting boards |
| TWD223990S (zh) * | 2022-03-03 | 2023-03-01 | 家登精密工業股份有限公司 | 前開式晶圓載具 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014196011A1 (ja) | 2013-06-03 | 2014-12-11 | ミライアル株式会社 | 基板収納容器 |
| JP2017224659A (ja) | 2016-06-13 | 2017-12-21 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
| WO2018179964A1 (ja) | 2017-03-27 | 2018-10-04 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
| JP2021120970A (ja) | 2020-01-30 | 2021-08-19 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
| JP2022530510A (ja) | 2019-04-26 | 2022-06-29 | インテグリス・インコーポレーテッド | 基板容器 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7201276B2 (en) * | 2003-11-07 | 2007-04-10 | Entegris, Inc. | Front opening substrate container with bottom plate |
| US7328727B2 (en) * | 2004-04-18 | 2008-02-12 | Entegris, Inc. | Substrate container with fluid-sealing flow passageway |
| DE112015003423T5 (de) * | 2014-07-25 | 2017-05-04 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | Substratvorratsbehälter |
-
2023
- 2023-11-03 CN CN202311462233.9A patent/CN117524953A/zh active Pending
- 2023-11-20 KR KR1020230160943A patent/KR102703854B1/ko active Active
- 2023-11-27 US US18/519,139 patent/US20240321614A1/en active Pending
- 2023-11-30 JP JP2023203348A patent/JP7724273B2/ja active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014196011A1 (ja) | 2013-06-03 | 2014-12-11 | ミライアル株式会社 | 基板収納容器 |
| JP2017224659A (ja) | 2016-06-13 | 2017-12-21 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
| WO2018179964A1 (ja) | 2017-03-27 | 2018-10-04 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
| JP2022530510A (ja) | 2019-04-26 | 2022-06-29 | インテグリス・インコーポレーテッド | 基板容器 |
| JP2021120970A (ja) | 2020-01-30 | 2021-08-19 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR102703854B1 (ko) | 2024-09-06 |
| JP2024137664A (ja) | 2024-10-07 |
| CN117524953A (zh) | 2024-02-06 |
| TW202439510A (zh) | 2024-10-01 |
| US20240321614A1 (en) | 2024-09-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7724273B2 (ja) | 気体弁蓋および其れを応用する基板キャリア | |
| JP5268142B2 (ja) | マスクブランク収納ケース及びマスクブランクの収納方法、並びにマスクブランク収納体 | |
| KR101593386B1 (ko) | 퍼지 모듈 및 이를 포함하는 로드 포트 | |
| US8061738B2 (en) | Gas replacement system | |
| JP7024159B2 (ja) | 基板容器システム | |
| JP6450156B2 (ja) | ガスパージ用フィルタ | |
| JP6455261B2 (ja) | ノズルの先端構造、パージ装置およびロードポート | |
| JP5815959B2 (ja) | N2ガスパージ装置におけるノズルユニット | |
| US20210080020A1 (en) | Quick release purge valve and substrate container using same | |
| JP3960787B2 (ja) | 精密基板収納容器 | |
| JP2013105931A (ja) | 基板収納容器 | |
| CN110870055A (zh) | 基板收纳容器 | |
| KR102724336B1 (ko) | 기판 용기 시스템 | |
| US9889476B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
| JP7514974B2 (ja) | 基板収納容器 | |
| TW201933436A (zh) | 處理液吐出配管以及基板處理裝置 | |
| JP6553498B2 (ja) | 基板収納容器 | |
| CN205845920U (zh) | 可配置的清洁晶片运输装置 | |
| TWI919127B (zh) | 氣閥蓋及應用其之基板載具 | |
| JP6165653B2 (ja) | 基板収納容器 | |
| JP7423429B2 (ja) | 基板収納容器 | |
| JP7453822B2 (ja) | 基板収納容器 | |
| JP4204284B2 (ja) | 基板収納容器 | |
| JP2006024585A (ja) | 基板収納容器 | |
| US20090194197A1 (en) | Gas filling apparatus and gas filling port thereof |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231130 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20250128 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20250417 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20250715 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20250804 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7724273 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |