JP7724571B2 - スピロ環化合物、製剤、有機電界発光ダイオード及び表示装置 - Google Patents
スピロ環化合物、製剤、有機電界発光ダイオード及び表示装置Info
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Description
(I)
ここで、A1とA2はそれぞれ独立して以下からなる群から選ばれ、
ここで、B1、B2、B3、B4、C1、C2及びD1は、それぞれ独立してC6~C60のアリール基又はC1~C60のヘテロアリール基から選ばれ、
B1、B2、B3、B4、C1、C2及びD1は、原子価結合理論に従って単置換又は複数置換されてもよく、
XはC、O、N、S又はSeから選ばれ、
破線は、式(I)中のN及びB原子と接続して形成した化学結合を示す。
R1、R及びR2は、それぞれ独立して水素、重水素、ハロゲン、C1~C18のアルキル基、C1~C18のアルコキシ基、C1~C18を含むアルキルシリル基、C1~C18を含むアルコキシシリル基、C6~C40の置換もしくは未置換のアリール基、C1~C40のへテロアリール基、C1~C60の置換もしくは未置換のへテロスピロ環、C1~C60の置換もしくは未置換のスピロ環、置換もしくは未置換のアリールエーテル基、置換もしくは未置換のへテロアリールエーテル基、置換もしくは未置換のアリールアミン基、置換もしくは未置換のへテロアリールアミン基、置換もしくは未置換のアリールシリル基、置換もしくは未置換のへテロアリールシリル基、置換もしくは未置換のアリールオキシシリル基、置換もしくは未置換のアリールアシル基、置換もしくは未置換のへテロアリールアシル基、又は置換もしくは未置換のホスフィニル基から選ばれ、ただし、nは0~10の整数であり、
上記構造における重水素化されていない基は、一部又は全部重水素化されてもよい。
ここで、Rは、独立して水素、重水素、ハロゲン、C1~C18のアルキル基、C1~C18のアルコキシ基、C1~C18を含むアルキルシリル基、C1~C18を含むアルコキシシリル基、C6~C40の置換もしくは未置換のアリール基、C1~C40のへテロアリール基、C1~C60の置換もしくは未置換のへテロスピロ環、C1~C60の置換もしくは未置換のスピロ環、置換もしくは未置換のアリールエーテル基、置換もしくは未置換のへテロアリールエーテル基、置換もしくは未置換のアリールアミン基、置換もしくは未置換のへテロアリールアミン基、置換もしくは未置換のアリールシリル基、置換もしくは未置換のへテロアリールシリル基、置換もしくは未置換のアリールオキシシリル基、置換もしくは未置換のアリールアシル基、置換もしくは未置換のへテロアリールアシル基、又は置換もしくは未置換のホスフィニル基から選ばれ、ただし、nは0~10の整数であり、
XはC、O、N、S又はSeから選ばれ、
上記構造における重水素化されていない基は、一部又は全部重水素化されてもよい。
ここで、Rは、水素、重水素、ハロゲン、C1~C18のアルキル基、C1~C18のアルコキシ基、C1~C18を含むアルキルシリル基、C1~C18を含むアルコキシシリル基、C6~C40の置換もしくは未置換のアリール基、C1~C40のへテロアリール基、C1~C60の置換もしくは未置換のへテロスピロ環、C1~C60の置換もしくは未置換のスピロ環、置換もしくは未置換のアリールエーテル基、置換もしくは未置換のへテロアリールエーテル基、置換もしくは未置換のアリールアミン基、置換もしくは未置換のへテロアリールアミン基、置換もしくは未置換のアリールシリル基、置換もしくは未置換のへテロアリールシリル基、置換もしくは未置換のアリールオキシシリル基、置換もしくは未置換のアリールアシル基、置換もしくは未置換のへテロアリールアシル基、又は置換もしくは未置換のホスフィニル基から選ばれ、ただし、nは0~10の整数であり、
XはC、O、N、S又はSeから選ばれ、
上記構造における重水素化されていない基は、一部又は全部重水素化されてもよく、
破線は、上記構造における六員環と接続して形成した化学結合を示す。
ここで、Rは、水素、重水素、ハロゲン、C1~C18のアルキル基、C1~C18のアルコキシ基、C1~C18を含むアルキルシリル基、C1~C18を含むアルコキシシリル基、C6~C40の置換もしくは未置換のアリール基、C1~C40のへテロアリール基、C1~C60の置換もしくは未置換のへテロスピロ環、C1~C60の置換もしくは未置換のスピロ環、置換もしくは未置換のアリールエーテル基、置換もしくは未置換のへテロアリールエーテル基、置換もしくは未置換のアリールアミン基、置換もしくは未置換のへテロアリールアミン基、置換もしくは未置換のアリールシリル基、置換もしくは未置換のへテロアリールシリル基、置換もしくは未置換のアリールオキシシリル基、置換もしくは未置換のアリールアシル基、置換もしくは未置換のへテロアリールアシル基、又は置換もしくは未置換のホスフィニル基から選ばれ、ただし、nは0~10の整数であり、
XはC、O、N、S又はSeから選ばれ、
上記構造における重水素化されていない基は、一部又は全部重水素化されてもよい。
ここで、Rは原子価結合理論に従って単置換又は複数置換されてもよく、Rは、水素、重水素、ハロゲン、C1~C18のアルキル基、C1~C18のアルコキシ基、C1~C18を含むアルキルシリル基、C1~C18を含むアルコキシシリル基、C6~C40の置換もしくは未置換のアリール基、C1~C40のへテロアリール基、C1~C60の置換もしくは未置換のへテロスピロ環、C1~C60の置換もしくは未置換のスピロ環、置換もしくは未置換のアリールエーテル基、置換もしくは未置換のへテロアリールエーテル基、置換もしくは未置換のアリールアミン基、置換もしくは未置換のへテロアリールアミン基、置換もしくは未置換のアリールシリル基、置換もしくは未置換のへテロアリールシリル基、置換もしくは未置換のアリールオキシシリル基、置換もしくは未置換のアリールアシル基、置換もしくは未置換のへテロアリールアシル基、又は置換もしくは未置換のホスフィニル基から選ばれ、ただし、nは0~10の整数であり、
XはC、O、N、S又はSeから選ばれ、
破線は、式(I)中のN及びB原子と接続して形成した化学結合を示し、
上記構造における重水素されていない基は、一部重水素又は全部重水素されてもよい。
第1の電極と、
前記第1の電極と対向する第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極の間に介在する有機機能層とを含み、
有機機能層は該スピロ環化合物を含む。
該スピロ環化合物と該ホスト化合物の体積比は1:1~1:99であり、
該ホスト化合物は本分野で公知の化合物である。
本発明のスピロ環化合物は、良好な熱安定性を有し、スピロ環構造を導入することにより、発光分子間の相互作用を効果的に抑制することでデバイス效率を向上させることができる。本発明のスピロ環化合物は、良好な電子及び正孔の受け取り能力を有し、ホストとゲスト間のエネルギー輸送を向上させることができ、具体的には、本発明のスピロ環化合物を用いた有機機能層、特に発光層として作製した有機電界発光デバイス(有機電界発光ダイオード)は、電流効率が向上し、ターンオン電圧が低下するとともに、デバイスの寿命が大幅に向上することが示されており、ほとんどの電子と正孔を再結合した後、エネルギーは、発熱するのではなく、該スピロ環化合物に効率的に伝達されて発光に用いられることを示している。
化合物A
ここで、XはCl、Br又はIである。
化合物B
共通合成ステップでは、
アルゴンガスの保護下で、化合物A(0.10モル)、t-ブチルリチウム(0.2モル)及びt-ブチルベンゼン(100ミリリットル)の混合溶液を-40度で4時間反応させ、完了した後に80度昇温してから4時間反応させ、BBr3(0.2モル)を滴下し、滴下が完了した後に80度昇温し、4時間反応させてから、EtN(i-Pr)2(0.30モル)を滴下し、滴下が完了した後に一晩還流した。加熱を停止し、室温まで降温し、適量の蒸留水を加えた。減圧条件下で溶媒を除去し、固体をジクロロメタンに溶解し、シリカゲルショートカラムを通過した。最終目標製品を得た。収率は21~58%である。
化合物1696
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは35%である。質量スペクトルm/z、理論値1104.56、実測値M+H:1105.6。
化合物1697
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは31%である。質量スペクトルm/z、理論値980.53、実測値M+H:981.6。
化合物1698
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは33%である。質量スペクトルm/z、理論値1090.54、実測値M+H:1091.6。
化合物1699
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは34%である。質量スペクトルm/z、理論値902.48、実測値M+H:903.5。
化合物1700
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは41%である。質量スペクトルm/z、理論値888.46、実測値M+H:889.5。
化合物1701
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは32%である。質量スペクトルm/z、理論値939.48、実測値M+H:940.5。
化合物1702
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは30%である。質量スペクトルm/z、理論値940.47、実測値M+H:941.5。
化合物1703
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは27%である。質量スペクトルm/z、理論値1103.33、実測値M+H:1104.4。
化合物1704
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは29%である。質量スペクトルm/z、理論値1050.61、実測値M+H:1051.7。
化合物1705
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは25%である。質量スペクトルm/z、理論値994.45、実測値M+H:994.5。
化合物1706
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは35%である。質量スペクトルm/z、理論値978.48、実測値M+H:978.5。
化合物1707
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは31%である。質量スペクトルm/z、理論値984.52、実測値M+H:985.6。
化合物1708
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは29%である。質量スペクトルm/z、理論値984.52、実測値M+H:984.6。
化合物1709
上記共通合成ステップを参照し、最終生成物の歩留まりは30%である。質量スペクトルm/z、理論値1004.49、実測値M+H:1005.5。
図1に示すように、本発明の有機電界発光ダイオード(ボトムエミッションOLEDデバイス)は基板110、陽極120、正孔注入層130、正孔輸送層140、発光層150、正孔ブロッキング層160、電子輸送層170、電子注入層180及び陰極190を含む。本発明の有機電界発光ダイオードの各層は、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの方法又は湿式成膜方法、例えば、スピンコート、プリント、印刷などの方法で形成可能であり、使用される溶媒は特に制限されない。
発光面積が2mm×2mmの大きさのITOガラスの表面又は陽極上にHT-1をP-3と共蒸着するか、又はHT-1を蒸着して10nmの正孔注入層(HIL)(ただし、HT-1とP-3の体積比は95:5)、90nmの正孔輸送層(HTL)を形成し、次に正孔輸送層上にHT-8を蒸着し、厚みが10nmの電子ブロッキング層(EBL)を形成してから、電子ブロッキング層上に本分野で公知のホスト材料(例えば、BH-1)を本発明のスピロ環化合物(化合物1~11)(ゲスト材料)と共蒸着して35nmの発光層(EML)(ここで、該スピロ環化合物とホスト化合物の体積比は3:97)を形成し、最後にET-13をLiQと共蒸着して35nmの電子輸送層(ETL)(ここで、ET-13とLiQの体積比は1:1)を形成し、その後に70nmの陰極Alを蒸着することにより、有機電界発光ダイオードを製造した。
比較例1~2におけるOLEDデバイスの製造は実施例1~9と類似し、区別は、比較例1~2で、本発明のスピロ環化合物(化合物1~11)の代わりにBN-1~BN-2(発光層のゲスト材料として)を採用したことのみにあった。
Claims (5)
- 以下の化合物からなる群から選ばれる、スピロ環化合物。
- 請求項1に記載のスピロ環化合物と少なくとも1種の溶媒とを含む製剤であって、前記溶媒は飽和炭化水素溶媒、不飽和炭化水素溶媒、エーテル系溶媒又はエステル系溶媒である、製剤。
- 陰極層、陽極層及び有機機能層を含み、前記有機機能層は正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔ブロッキング層、電子注入層及び電子輸送層である有機電界発光ダイオードであって、前記有機機能層は請求項1に記載のスピロ環化合物を含む、有機電界発光ダイオード。
- 前記有機機能層は発光層であり、前記発光層にホスト化合物をさらに含み、前記スピロ環化合物と前記ホスト化合物の体積比は1:1~1:99である、請求項3に記載の有機電界発光ダイオード。
- 請求項3に記載の有機電界発光ダイオードを含む、表示装置。
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