JP7728840B2 - 銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、およびその製造方法 - Google Patents

銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、およびその製造方法

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Description

本発明は銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、およびその製造方法に関する。
二次電池は電気エネルギーを化学エネルギーに変えて保存してから、電気が必要な時に化学エネルギーを再び電気エネルギーに変換させることによって電気を発生させるエネルギー変換機器の一種であって、携帯電話、ノートパソコンなどのような携帯用家電はもちろん、電気自動車のエネルギー源として利用されている。二次電池は再充電が可能であるという点で充電式電池(rechargeable battery)とも指称される。
使い捨ての一次電池に比べて経済的にそして環境的に利点を有している二次電池としては、鉛蓄電池、ニッケルカドミウム二次電池、ニッケル水素二次電池、リチウム二次電池などがある。
特に、リチウム二次電池は他の二次電池に比べて大きさおよび重量対比相対的に多くのエネルギーを貯蔵することができる。したがって、携帯性および移動性が重要な情報通信機器分野の場合はリチウム二次電池が好まれており、ハイブリッド自動車および電気自動車のエネルギー貯蔵装置としてもその応用範囲が拡大している。
リチウム二次電池は充電と放電を一つの周期として反復的に使われる。完全に充電されたリチウム二次電池で何らかの機器を稼動させる時、前記機器の稼動時間を増やすためには前記リチウムイオン二次電池が高い充電/放電容量を有さなければならない。したがって、リチウム二次電池の充電/放電容量に対する需要者の日々高まる期待値(needs)を満足させるための研究が持続的に要求されている。
このような二次電池は銅箔からなる負極集電体を含むが、銅箔のうち、電解銅箔が二次電池の負極集電体として広く使われている。二次電池に対する需要の増加とともに、高容量、高効率および高品質の二次電池に対する需要が増加するにつれ、二次電池の特性を向上させることができる電解銅箔が要求されている。特に、二次電池の高容量化および安定した容量維持および性能を担保できる電解銅箔が要求されている。
したがって、本発明は前記のような関連技術の制限および短所に起因した問題点を防止できる銅箔、それを含む電極、それを含む二次電池、およびその製造方法に関する。
本発明の一実施例は、60~70°の範囲の常温水接触角を有することによって導電性が向上した銅箔を提供するものである。
本発明の他の一実施例は、2.4~2.7mΩ/cm範囲の常温表面抵抗率を有することによって導電性が向上した銅箔を提供するものである。
本発明のさらに他の一実施例は、0~25%範囲の190℃1時間熱処理後の水接触角減少率を有することによって、熱処理後にも高い導電性を維持する銅箔を提供するものである。
本発明のさらに他の一実施例は、0~5%範囲の190℃1時間熱処理後の表面抵抗増加率を有することによって、熱処理後にも高い導電性を維持する銅箔を提供するものである。
本発明のさらに他の一実施例は、ロールツーロール(RTR)工程中に導電性が向上した銅箔で製造されることによって高い生産性を担保できる電極を提供するものである。
本発明のさらに他の一実施例は、ロールツーロール(RTR)工程中に導電性が向上した銅箔で製造されることによって高い生産性を担保できる二次電池を提供するものである。
本発明のさらに他の一実施例は、60~70°の範囲の常温水接触角を有し、2.4~2.7mΩ/cm範囲の常温表面抵抗率を有することによってロールツーロール(RTR)工程中に導電性が向上した銅箔を製造する方法を提供するものである。
前述された本発明の観点の他にも、本発明の他の特徴および利点が以下で説明されるが、そのような説明から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解され得るであろう。
本発明の一実施例は、99.9重量%以上の銅を含む銅膜;および前記銅膜上の保護層;を含み、60~70°の範囲の常温水接触角を有し、2.4~2.7mΩ/cm範囲の常温表面抵抗率を有する、銅箔を提供する。
本発明の他の一実施例は、銅膜を形成する段階;および前記銅膜上に保護層を形成する段階を含むものの、前記銅膜を形成する段階は、電解槽内の電解液内に互いに離隔するように配置された陽極板および回転陰極ドラムを通電させることによって前記回転陰極ドラム上に銅膜を形成する段階を含み、前記電解液20は70~100g/Lの銅イオン、70~150g/Lの硫酸、1~3ppmの塩素(Cl)、1~10ml/Lの過酸化水素、1~20ppmの鉛イオン、0.1~1ppmの銀イオンおよび2~10ppmのセリウムイオン(Ce2+)を含む、銅箔の製造方法を提供する。
本発明によると、導電性が向上した銅箔を生産でき、このような銅箔を利用して軟性印刷回路基板(FPCB)、二次電池などの中間部品および最終品を製造することによって、前記中間部品はもちろん最終品の生産性を向上させることができる。
本発明の一実施例に係る銅箔の断面図である。 本発明の他の一実施例に係る二次電池用電極の断面図である。 本発明のさらに他の一実施例に係る二次電池の概略的な断面図である。 本発明のさらに他の一実施例に係る銅箔の製造装置である。
以下では、添付された図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。ただし、以下で説明される実施例は本発明の明確な理解を助けるための例示的目的で提示されるものに過ぎず、本発明の範囲を制限しない。
本発明の実施例を説明するための図面に開示された形状、大きさ、比率、角度、個数等は例示的なものであるので、本発明は図面に図示された事項に限定されるものではない。明細書全体に亘って同一の構成要素は同一の参照符号で指称され得る。本発明の説明において、関連した公知の技術に対する具体的な説明が本発明の要旨を不要に曖昧にさせ得る恐れがあると判断される場合、その詳細な説明は省略される。
本明細書で言及された「含む」、「有する」、「からなる」等が使われる場合、「~のみ」という表現が使われない以上、他の部分が追加され得る。構成要素が単数で表現された場合、特に明示的な記載事項がない限り複数を含む。また、構成要素の解釈において、別途の明示的な記載がなくても誤差範囲を含むものと解釈する。
位置関係に対する説明の場合、例えば、「~上に」、「~上部に」、「~下部に」、「~横に」等で両部分の位置関係が説明される場合、「すぐに」または「直接」という表現が使われない以上両部分の間に一つ以上の他の部分が位置することができる。
空間的に相対的な用語である「下(below、beneath)」、「下部(lower)」、「上(above)」、「上部(upper)」などは、図面に図示されているように一つの素子または構成要素と他の素子または構成要素との相関関係を容易に記述するために使われ得る。空間的に相対的な用語は、図面に図示されている方向に加えて使用時または動作時に素子の互いに異なる方向を含む用語とで理解されるべきである。例えば、図面に図示されている素子をひっくり返す場合、他の素子の「下(below)」または「下(beneath)」と記述された素子は他の素子の「上(above)」に置かれ得る。したがって、例示的な用語である「下」は下と上の方向をすべて含むことができる。同様に、例示的な用語である「うえ」または「上」は上と下の方向をすべて含むことができる。
時間関係に対する説明の場合、例えば、「~後に」、「~に引き続き」、「~次に」、「~前に」等で時間的前後関係が説明される場合、「すぐに」または「直接」という表現が使われない以上連続的でない場合も含むことができる。
第1、第2等が多様な構成要素を叙述するために使われるが、これらの構成要素はこれらの用語によって制限されない。これらの用語は単に一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使うものである。したがって、以下で言及される第1構成要素は本発明の技術的思想内で第2構成要素であってもよい。
「少なくとも一つ」の用語は一つ以上の関連項目から提示可能なすべての組み合わせを含むものと理解されるべきである。例えば、「第1項目、第2項目および第3項目のうち少なくとも一つ」の意味は第1項目、第2項目または第3項目それぞれそれだけでなく、第1項目、第2項目および第3項目のうち2個以上から提示され得るすべての項目の組み合わせを意味し得る。
本発明の多様な実施例のそれぞれの特徴が部分的にまたは全体的に互いに結合または組み合わせ可能であり、技術的に多様な連動および駆動が可能であり、各実施例が互いに対して独立的に実施可能であってもよく、関連関係で共に実施されてもよい。
図1は、本発明の一実施例に係る銅箔110の断面図である。
図1を参照すると、本発明の銅箔110は99.9重量%以上の銅を含む銅膜(copper film:111)および銅膜111上の保護層112を含む。図1に図示された銅箔110では保護層112が銅膜111の両面上に形成されているが、本発明の実施例はこれに限定されるものではない。銅膜111の一面上にのみ保護層112が形成されていてもよい。
銅膜111は電気メッキを通じて回転陰極ドラム上に形成され得、電気メッキ過程で回転陰極ドラムと直接接触するシャイニー面とその反対側のマット面を有する。
保護層112は防錆物質(anticorrosion material)が銅膜111上に電着されることによって形成される。防錆物質はクロム化合物、シラン化合物および窒素化合物のうち少なくとも一つを含むことができる。保護層112は銅膜111の酸化および腐食を防止し耐熱性を向上させることによって、銅箔110自体の寿命はもちろんこれを含む最終製品の寿命を延長させる。
本発明の一実施例によると、銅箔110は60~70°の範囲の常温水接触角を有する。本明細書で使われる用語「常温水接触角」は常温(room temperature)で測定される水接触角を意味する。具体的には、25℃で銅箔110の表面で測定される水接触角を意味する。
銅箔110の常温水接触角が70°超過である場合、活物質層120のコーティングが正しくなされず密着性が低下する問題がある。活物質層120のコーティングが正しくなされない場合、導電性が低下する問題が発生し得る。
また、銅箔110の常温水接触角が60°未満である場合、表面に極性が多く形成されて水分の吸着が発生し得、大気または水分から銅箔110の表面を保護する性能が低下し、保管または輸送時に表面の酸化または変色が発生し得る。
本発明の一実施例によると、銅箔110は2.4~2.7mΩ/cm範囲の常温表面抵抗率を有する。本明細書で使われる用語「常温表面抵抗率」は常温(room temperature)で測定される表面抵抗率を意味する。具体的には、常温表面抵抗率は25℃で測定される表面抵抗率を意味する。
銅箔110の常温表面抵抗率が2.7mΩ/cm超過である場合、抵抗増加によって銅箔110が使われた二次電池の効率が減少し得る。また、銅箔110の常温表面抵抗率が2.7mΩ/cm超過である場合、防錆厚さ自体が過剰であるため、溶接時の熱エネルギーが防錆皮膜の除去のために過度に消費され、十分な強度の溶接状態を得ることができない恐れがある。
反面、銅箔110の常温表面抵抗率が2.4mΩ/cm未満である場合、常温において、大気または水分から銅箔110表面を保護する性能が低下し、保管または輸送時に表面の酸化または変色が発生しやすい。
本発明の一実施例によると、銅箔110は190℃で1時間熱処理後の水接触角減少率が0~25%である。
銅箔110の190℃で1時間熱処理後の水接触角減少率が25%超過である場合、常温水接触角対比190℃で1時間熱処理後水接触角の変化が大きい。熱処理時に水接触角の変化が大きい場合、銅箔110に対する熱処理時の安定性および導電性が低下し得る。
本発明の一実施例によると、銅箔110は190℃で1時間熱処理後の表面抵抗増加率が0~5%である。
銅箔110の190℃で1時間熱処理後の表面抵抗増加率が5%超過である場合、常温表面抵抗率対比190℃で1時間熱処理後表面抵抗率の変化が大きい。熱処理時に表面抵抗率の変化が大きい場合、銅箔110に対する熱処理時の安定性および導電性が低下し得る。
本発明の一実施例に係る銅箔110は4~35μmの厚さを有する。4μm未満の厚さを有する銅箔110の製造は作業性の低下を引き起こす。反面、35μmを超過する銅箔110で二次電池を製造する場合、厚い銅箔110により高容量の具現が難しくなる。
本発明の一実施例によると、銅箔110は0.1~0.3μmの算術平均粗さ(Ra)を有する。
銅箔110の算術平均粗さ(Ra)が0.1μm未満である場合、銅箔110と活物質間の密着力が低下し得る。
反面、銅箔110の算術平均粗さ(Ra)が0.3μm超過である場合、銅箔110の表面が粗いため活物質のコーティングが円滑になされないことがある。
以下では、本発明の銅箔110を含む電極100およびこの電極100を含む二次電池について具体的に説明する。
図2は、本発明の一実施例に係る二次電池用電極の断面図である。
図2に例示された通り、本発明の一実施例に係る二次電池用電極100は前述した本発明の実施例のうちいずれか一つの銅箔110および活物質層120を含む。
図2は前記銅箔110の両面すべての上に形成された活物質層120を例示しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、前記活物質層120は前記銅箔110の一面上にのみ形成されてもよい。
リチウム二次電池において、正極活物質と結合される正極集電体としてはアルミホイル(foil)が使われ、負極活物質と結合される負極集電体としては銅箔110が使われるのが一般的である。
本発明の一実施例によると、前記二次電池用電極100は負極であり、前記銅箔110は負極集電体として使われ、前記活物質層120は負極活物質を含む。
二次電池の高容量を担保するために、本発明の前記活物質層120は炭素と金属の複合体で形成され得る。前記金属は、例えばSi、Ge、Sn、Li、Zn、Mg、Cd、Ce、Ni、およびFeのうち少なくとも一つ、好ましくはSiおよび/またはSnを含むことができる。
図3は、本発明の一実施例に係る二次電池の概略的な断面図である。
図3を参照すると、二次電池は、正極(cathode)370、負極(anode)340、正極370と負極340の間に配置されてイオンが移動できる環境を提供する電解質(electrolyte)350、および正極370と負極340を電気的に絶縁させる分離膜(separator)360を含む。ここで、正極370と負極340の間で移動するイオンは、例えば、リチウムイオンである。分離膜360は一つの電極で発生した電荷が二次電池105の内部を通じて他の電極に移動することによって無駄に消耗することを防止するために正極370と負極340を分離する。図3を参照すると、分離膜360は電解質350内に配置される。
正極370は正極集電体371および正極活物質層372を含み、正極集電体371としてアルミホイル(foil)が使われ得る。
負極340は負極集電体341および負極活物質層342を含み、負極集電体341として銅箔110が使われ得る。
本発明の一実施例によると、負極集電体341で図1に開示された銅箔110が使われ得る。また、図2に図示された二次電池用電極100が図3に図示された二次電池の負極340として使われ得る。
以下では、図4を参照して本発明の銅箔110の製造方法を具体的に説明する。
本発明の銅箔110製造方法は、銅膜111を形成する段階および前記銅膜111上に保護層112を形成する段階を含む。
本発明の方法は、電解槽10内の電解液20内に互いに離隔するように配置された陽極板30および回転陰極ドラム40を通電させることによって前記回転陰極ドラム40上に銅膜111を形成する段階を含む。
図4に例示された通り、陽極板30は互いに電気的に絶縁された第1および第2陽極板31、32を含むことができる。
銅膜111形成段階は、第1陽極板31と回転陰極ドラム40の間の通電によってシード層を形成し、引き続き第2陽極板32と回転陰極ドラム40の間の通電によってシード層を成長させることによって遂行され得る。
第1および第2陽極板31、32によりそれぞれ提供される電流密度は30~130ASDであり得る。
第1および第2陽極板31、32によりそれぞれ提供される電流密度が30ASD未満である場合、銅箔110の表面粗さが低いため銅箔110と活物質層120の接着力が充分でないこともある。
反面、第1および第2陽極板31、32によりそれぞれ提供される電流密度が130ASD超過である場合、銅箔110の表面が粗いため活物質のコーティングが円滑になされないことがある。
本発明の一実施例によると、電解液20は70~100g/Lの銅イオン、70~150g/Lの硫酸、1~3ppmの塩素(Cl)、1~10ml/Lの過酸化水素、1~20ppmの鉛イオン(Pb2+)、0.1~1ppmの銀イオンおよび2~10ppmのセリウムイオンが添加されることによって製造される。
本発明の一実施例によると、電解液20内の鉛イオン(Pb2+)の含量は1~20ppmである。具体的には、電解液20内の鉛イオン(Pb2+)濃度は1~20ppmの濃度で管理される。鉛イオンの濃度維持のために、電解液20に投入される原材料として鉛が含まれていない物質を使うことができる。鉛イオン(Pb2+)が1~20ppmで維持される場合、本願発明による常温水接触角が60~70°で維持され、常温表面抵抗率が2.4~2.7mΩ/cmで維持され得る。
反面、鉛イオン(Pb2+)の濃度が1ppm未満である場合、本発明の物性を維持する側面で効果が低下する問題が発生し得る。それによって、常温水接触角が60~70°の範囲を外れ、常温表面抵抗率が2.4~2.7mΩ/cmの範囲を外れる問題が発生し得る。
鉛イオン(Pb2+)の濃度が20ppm超過である場合、イオン交換フィルタを使って鉛イオン(Pb2+)を電解液20から除去しなければならず、銅が不均一に析出されて表面粗さが大きく増加し得る。それによって、銅箔110の常温水接触角が60~70°から外れることになり、常温表面抵抗率が2.4~2.7mΩ/cmから外れることになる。また、銅の不均一な析出によって熱処理後に水接触角が過度に減少したり、表面抵抗率が過度に増加する問題が発生し得る.本発明の一実施例によると、電解液20内の銀イオンの含量は0.1~1ppmである。
電解液20に含まれた銀(Ag)の濃度が0.1ppm未満である場合、銅箔110の表面状態が過度に不良となり得、それによって、銅箔110の常温水接触角が60~70°から外れることになり、常温表面抵抗率が2.4~2.7mΩ/cmから外れる問題が発生し得る。
反面、電解液20に含まれた銀(Ag)の濃度が1.0ppm超過である場合、銅箔110の表面状態が過度に不良となり得、それによって、銅箔110の常温水接触角が60~70°から外れることになり、常温表面抵抗率が2.4~2.7mΩ/cmから外れる問題が発生し得る。
電解液20内の銀(Ag)濃度を調節するために電解液20に塩素(Cl)を投入することができる。塩素(Cl)により銀(Ag)が塩化銀化合物(AgClx)の形態で沈殿することによって電解液20内の銀(Ag)濃度が調節され得る。このような塩化銀化合物(AgCl)は濾過によって除去され得る。本発明の一実施例によると、電解液20内の銀(Ag)濃度を調節するために電解液20内塩素(Cl)の含量は1~3ppmで維持される。
塩素(Cl)の濃度が1ppm未満である場合、銀(Ag)イオンの除去が円滑になされない。反面、塩素(Cl)の濃度が3ppmを超過する場合、過量の塩素(Cl)による不要な反応が発生し得、回転陰極ドラム40上に電着される銅膜111が鋭い突起からなる表面を有するようになり、このような表面は銅箔110が熱処理される時に結晶が膨張しやすい環境を提供する。その結果、銅箔110の常温水接触角が60~70°から外れることになり、常温表面抵抗率が2.4~2.7mΩ/cmから外れることになる。また、表面状態不良により、熱処理後に水接触角が過度に減少したり、表面抵抗率が過度に増加する問題が発生し得る。
本発明の一実施例によると、有機添加剤を含む電解液20は過酸化水素(H)をさらに含むことができる。連続メッキされる電解液20には有機添加剤によって有機不純物が存在するが、過酸化水素(H)を処理することによって有機不純物を分解して銅箔内部の炭素(C)の含量を適切に調節することができる。電解液20内のTOC濃度が高いほど銅膜111に流入する炭素(C)元素の量が増加し、それにより熱処理時に銅膜111から離脱する全体元素の量が増加し、熱処理後に銅箔110の強度が低下する原因となる。
添加する過酸化水素(H)の量は電解液L当たり1~10mlの過酸化水素(H)を添加する。具体的には、電解液L当たり2~8mlの過酸化水素(H)を添加することが好ましい。過酸化水素(H)の添加量が1ml/L未満である場合には、有機不純物分解効果が殆どないため無意味である。過酸化水素(H)の添加量が10ml/L超過である場合には、有機不純物が過度に分解され、セリウムイオン(Ce2+)等の無機添加剤の効果も抑制される。
本発明の一実施例によると、電解液20内のセリウムイオンの含量は2~10ppmである。
電解液20内のセリウムイオンの含量が2ppm未満である場合、銅箔110の引張強度が低くなり、ロールツーロール工程を通じて銅箔110で最終製品を製造する場合に折り畳み/カール問題が引き起こされる危険が増加する。また、銅箔110の表面状態が不良になり、その結果、銅箔110の常温水接触角が60~70°から外れることになり、常温表面抵抗率が2.4~2.7mΩ/cmから外れる問題が発生し得る。
反面、電解液20内のセリウムイオンの含量が10ppm超過である場合、セリウムイオンの含量増加に比べて明確な表面特性向上効果が発生しない。したがって、電解液20内のセリウムイオンの含量を2~10ppm範囲に調節することによって製造原価対比銅箔110の性能を最大化することができる。
本発明の一実施例によると、電解液20は48~60℃で維持され、陽極板30により提供される電流密度は30~130ASDであり得る。銅膜111が形成される時、電解槽10内に供給される電解液20の流速は41~45m/hourであり得る。
本発明の一実施例によると、銅膜111が形成される時、電解槽10内に供給される電解液20の流量は31~46m/hourであり得る。
電解槽10内に供給される電解液20の流量が31m/hour未満であれば、流速が低くなって過電圧が増加し銅膜111が不均一に形成される。
反面電解槽10内に供給される電解液20の流量が46m/hour超過であれば、フィルタ損傷が誘発されて電解液内に異物が流入する。
電解液20は31~46m/hourの流量を有することができる。電着およびメッキによる銅膜111形成過程で電解液20に存在するこけい不純物を除去するために、電解液20は31~46m/hourの流量で循環され得る。電解液20の循環過程で電解液20が濾過され得る。このような濾過によって不純物が除去されることによって、電解液20の清潔度が維持され得る。
電解液20がオゾン処理されるか、電気メッキによって銅膜111が形成される間、電解液20に過酸化水素および空気が投入されることによって電解液20の清浄度が維持または向上し得、電解液20内の有機不純物の最小化のために蒸溜水に分散時、総有機炭素(Total Organic Carbon:TOC)が3ppm未満の高純度カーボンに濾過することによって電解液20の清浄度が維持または向上し得る。
また、蒸溜水に分散時の総有機炭素(Total Organic Carbon:TOC)が5ppm未満の高純度硅藻土に濾過することによって電解液20の清浄度が維持または向上し得る。
本発明の一実施例によると、銅膜111が形成される時、電解液20内の総有機炭素(Total Organic Carbon:TOC)の含量は3ppm以下で維持されることが好ましい。総有機炭素(TOC)の含量が3ppmを超過する場合、銅メッキ結晶成長の活性点に有機物が吸着することによって銅膜111の結晶粒の成長が抑制され得なくなり、その結果、2.4~2.7mΩ/cm範囲の常温表面抵抗率を有する銅箔110を製造することができなくなる。
回転陰極ドラム40の表面は銅膜111のシャイニー面の算術平均粗さ(Ra)に影響を及ぼす。本発明の一実施例によると、#800~#1500の粒度(Grit)を有する研磨ブラシで前記回転陰極ドラム40の表面が研磨され得る。
本発明の方法は前記銅膜111を防錆液(anticorrosion solution)60に浸漬させる段階をさらに含むことができる。前記銅膜111は前記防錆液60に浸漬される時、前記防錆液60内に配置されたガイドロール(guide roll)70により案内され得る。
前述した通り、前記防錆液60はクロム化合物、シラン化合物および窒素化合物のうち少なくとも一つを含むことができる。例えば、1~10g/Lの重クロム酸カリウム溶液に前記銅膜111を常温で1~30秒浸漬させることができる。
前記のような方法を通じて製造された本発明の銅箔110の一面または両面上に、炭素;Si、Ge、Sn、Li、Zn、Mg、Cd、Ce、NiまたはFeの金属(Me);前記金属(Me)を含む合金;前記金属(Me)の酸化物(MeOx);および前記金属(Me)と炭素の複合体からなる群から選択される一つ以上の負極活物質をコーティングすることで本発明の二次電池用電極(すなわち、負極)が製造され得る。
例えば、炭素100重量部の負極活物質用炭素に1~3重量部のスチレンブタジエンゴム(SBR)および1~3重量部のカルボキシメチルセルロース(CMC)を混合した後、蒸溜水を溶剤として使ってスラリーを調製する。引き続き、ドクターブレードを利用して前記銅箔110上に20~60μm厚さで前記スラリーを塗布し、110~130℃で0.5~1.5ton/cmの圧力でプレスする。
以上の方法で製造された本発明の二次電池用電極(負極)と共に通常の正極、電解質、および分離膜を利用してリチウム二次電池を製造することができる。
以下では、実施例および比較例を通じて本発明を具体的に説明する。ただし、下記の実施例は本発明の理解を助けるためのものに過ぎず、本発明の権利範囲はこれらの実施例に制限されない。
実施例1
電解槽内の電解液内に互いに離隔するように配置された陽極板および回転陰極ドラムを通電させることによって前記回転陰極ドラム上に銅膜を形成した。前記電解液は88g/Lの銅イオン、105g/Lの硫酸、2.0ppmの塩素イオン(Cl)、5.0ppmの過酸化水素、5.0ppmの鉛イオン(Pb2+)、0.5ppmの銀イオン(Ag)および3.2ppmのセリウムイオン(Ce2+)を含んでいる。前記銅膜形成段階中に、前記電解液は約50℃で維持された。前記電解槽内に供給される前記電解液の流速は43m/hourであった。前記銅膜形成のために提供された電流密度は55A/dmであった。前記銅膜を5g/Lの重クロム酸カリウム溶液に常温で10秒の間浸漬させた後、乾燥工程を遂行して前記銅膜の両面上に保護層を形成することによって5μmの厚さを有する銅箔を完成した。
実施例2-4、比較例1-3
電解液に含まれた添加剤の濃度は下記の表1の通りである。添加剤の濃度を除いては実施例1と同一に製造された。
前記実施例および比較例によって製造された銅箔の水接触角および表面抵抗率を次の通り測定し、その結果を表1および表2に示した。
このように製造された実施例1-4および比較例1-3の銅箔に対して、i)常温水接触角、ii)熱処理後水接触角、iii)水接触角減少率、iv)常温表面抵抗率、v)熱処理後表面抵抗率およびvi)表面抵抗増加率を確認した。
i)常温水接触角、ii)熱処理後水接触角測定
銅箔110の常温水接触角は常温(room temperature)で測定される水接触角を意味する。
銅箔110の熱処理後水接触角は190℃1時間熱処理後に測定される水接触角を意味する。
この時、水接触角はASTM D5946に準ずる試験法により測定した。試験機器はSEO社Phoenix-300を使った。試験環境は23±2℃の温度および45±5%の湿度(R.H.)条件下で実施した。
熱処理後水接触角は常温水接触角と同じ条件で温度のみ190℃1時間熱処理後に測定した。
iii)水接触角減少率計算
水接触角減少率は常温水接触角対比190℃1時間熱処理後減少した水接触角の比を意味する。
iv)常温表面抵抗率、iv)熱処理後表面抵抗率測定
銅箔110の常温表面抵抗率は常温(room temperature)で測定される表面抵抗率を意味する。
銅箔110の熱処理後表面抵抗率は190℃1時間熱処理後に測定される表面抵抗率を意味する。
三菱社のMCP-T610を使ってASTM D991により銅箔110の表面抵抗率を測定した。この時、限界電圧は10V、RCFは4.185にした。
熱処理後表面抵抗率は常温表面抵抗率と同じ条件で温度のみ190℃1時間熱処理後に測定した。
v)表面抵抗増加率計算
表面抵抗増加率は常温表面抵抗率対比190℃1時間熱処理後増加した表面抵抗率の比を意味する。
前記表1および表2を参照すると次のような結果を確認することができる。
塩素および過酸化水素を微量で含み、銀イオンを過量で含む電解液によって製造された比較例1の銅箔は常温水接触角が60~70°に達しておらず、常温表面抵抗率が2.4~2.7mΩ/cmに達することもできなかった。また、190℃1時間熱処理後の水接触角減少率が25%を超過し、190℃1時間熱処理後の表面抵抗増加率が5%を超過した。その結果、熱処理後水接触角および表面抵抗の変化が大きくなって銅箔の導電性が低下した。
鉛イオンおよびセリウムイオンを過量で含む電解液によって製造された比較例2の銅箔は常温水接触角が60~70°に達しておらず、常温表面抵抗率が2.4~2.7mΩ/cmに達することもできなかった。また、190℃1時間熱処理後の水接触角減少率が25%を超過し、190℃1時間熱処理後の表面抵抗増加率が5%を超過した。その結果、熱処理後水接触角および表面抵抗の変化が大きくなって銅箔の導電性が低下した。
過酸化水素、鉛イオン、およびセリウムイオンを微量で含む電解液によって製造された比較例3の銅箔は常温水接触角が60~70°に達しておらず、常温表面抵抗率が2.4~2.7mΩ/cmに達することもできなかった。また、190℃1時間熱処理後の水接触角減少率が25%を超過し、190℃1時間熱処理後の表面抵抗増加率が5%を超過した。その結果、熱処理後水接触角および表面抵抗の変化が大きくなって銅箔の導電性が低下した。
反面、本発明に係る実施例1~4の銅箔ではすべての数値が基準以内を満足し、その結果、銅箔の導電性が低下しなかった。
100:二次電池用電極
110:銅箔
111:銅膜
120:活物質層
10:電解槽
20:電解液

Claims (4)

  1. 99.9重量%以上の銅を含む銅膜および
    前記銅膜上の保護層を含み、
    前記保護層は、前記銅膜を重クロム酸カリウム溶液に浸漬することによって形成されており、
    60~70°の範囲の常温水接触角を有し、
    2.4~2.7mΩ/cm範囲の常温表面抵抗率を有する、銅箔。
  2. 前記銅箔は190℃1時間熱処理後の水接触角減少率が0~25%範囲である、請求項1に記載の銅箔。
  3. 前記銅箔は190℃1時間熱処理後の表面抵抗増加率が0~5%範囲である、請求項1に記載の銅箔。
  4. 前記銅箔はそれぞれ0.1~0.3μmの算術平均粗さ(Ra)を有する、請求項1に記載の銅箔。
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