JP7733220B2 - 洗浄方法、装置、ベースステーションおよび記憶媒体 - Google Patents
洗浄方法、装置、ベースステーションおよび記憶媒体Info
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Description
本願は、2021年8月31に出願された中国特許出願第202111014045.0号の優先権を主張し、該中国特許出願のすべての内容が参照により本明細書に組み込まれる。
第1洗浄部材および第2洗浄部材の第1相対位置情報を取得するステップと、洗浄アセンブリのベースステーション本体に対する運動方向を取得するステップと、第1相対位置情報および運動方向に基づいて、洗浄アセンブリの作業状態および液体吐出装置の作業状態を制御するステップと、を含む。
第1感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の第1側辺に運動したと判定することと、
第2感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の第2側辺に運動したと判定することと、
第3感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の所定位置に運動したと判定することと、を含む。
第1洗浄部材および第2洗浄部材の第1相対位置情報を取得するための第1取得モジュールと、
洗浄アセンブリのベースステーション本体に対する運動方向を取得するための第2取得モジュールと、
第1相対位置情報および運動方向に基づいて、洗浄アセンブリの作業状態および液体吐出装置の作業状態を制御するための第1処理モジュールと、を備える。
第2洗浄部材の回転状態を制御するための第1処理ユニットを含む。
洗浄アセンブリの移動方向に、第2洗浄部材が第1洗浄部材の前方に位置するとき、第2洗浄部材を回転させるように制御し、液体吐出装置が作業するように制御するための第2処理ユニットを含む。
第1洗浄部材の移動方向の前方に位置する液体吐出装置が作業するように制御するための第1処理サブユニットを含む。
洗浄アセンブリおよびベースステーション本体の第2相対位置情報を取得するための第3取得モジュールと、
第2相対位置情報に基づいて洗浄アセンブリの初期運動方向を制御するための第2処理モジュールと、をさらに備える。
洗浄アセンブリとベースステーション本体の第1側辺の間の距離が洗浄アセンブリとベースステーション本体の第2側辺の間の距離以上であるか否かを検出するための検出モジュールをさらに備え、
第2処理モジュールは、洗浄アセンブリとベースステーション本体の第1側辺の間の距離が洗浄アセンブリとベースステーション本体の第2側辺の間の距離以上である場合、洗浄アセンブリがベースステーション本体の第1側辺に向かって運動するように制御するための第2処理サブユニットを含む。
第1感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の第1側辺に運動したと判定するための第1決定ユニットと、
第2感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の第2側辺に運動したと判定するための第2決定ユニットと、
第3感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の所定位置に運動したと判定するための第3決定ユニットと、を含む。
清掃槽内の液位情報を取得するための第4取得モジュールと、
液位情報に基づいて液体吐出装置の作業状態を制御するための第4処理モジュールと、をさらに備える。
110 機器本体
111 前方部分
112 後方部分
120 感知システム
121 決定装置
122 バッファ
130 制御モジュール
140 駆動システム
141 駆動輪モジュール
142 従動輪
150 清掃システム
151 乾式清掃システム
152 サイドブラシ
153 湿式清掃システム
1531 清掃ヘッド
1532 駆動ユニット
1533 駆動プラットフォーム
1534 支持プラットフォーム
160 エネルギーシステム
170 ヒューマンマシンインタラクティブシステム
20 ベースステーション
21 ベースステーション本体
211 清掃槽
212 取付溝
22 感知装置
221 第1感知装置
222 第2感知装置
223 第3感知装置
23 充電接触パッチ
24 案内部
30 洗浄アセンブリ
31 第1洗浄部材
32 第2洗浄部材
33 ブラケット
34 駆動装置
35 液体吐出装置
500 洗浄装置
502 第1取得モジュール
504 第2取得モジュール
506 第1処理モジュール
601 処理装置
602 ROM
603 RAM
604 バス
605 I/Oインタフェース
606 入力装置
607 出力装置
608 記憶装置
609 通信装置
ステップS904:洗浄アセンブリのベースステーション本体に対する運動方向を取得する。
第1洗浄部材の移動方向の前方に位置する液体吐出装置が動作するように制御することを含む。
ステップS901-1:洗浄アセンブリおよびベースステーション本体の第2相対位置情報を取得する。
ステップS901-2:第2相対位置情報に基づいて洗浄アセンブリの初期運動方向を制御する。
洗浄アセンブリとベースステーション本体の第1側辺の間の距離が洗浄アセンブリとベースステーション本体の第2側辺の間の距離以上であるか否かを検出するステップと、
洗浄アセンブリとベースステーション本体の第1側辺の間の距離が洗浄アセンブリとベースステーション本体の第2側辺の間の距離以上である場合、洗浄アセンブリがベースステーション本体の第1側辺に運動するように制御するステップとを含む。
洗浄アセンブリ30がベースステーション本体21の第1側辺に運動した後、洗浄アセンブリ30がベースステーション本体21の第2側辺に向かって運動するように制御するステップを含む。
ベースステーション本体および洗浄アセンブリ上にそれぞれ設けられた感知装置および信号送信装置を介して洗浄アセンブリおよびベースステーション本体の第2相対位置関係を取得することを含む。
第1感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の第1側辺に運動したと判定すること、
第2感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の第2側辺に運動したと判定すること、
第3感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の所定位置に運動したと判定すること、を含む。
第1洗浄部材および第2洗浄部材の第1相対位置情報を取得するための第1取得モジュール502と、
洗浄アセンブリのベースステーション本体に対する運動方向を取得するための第2取得モジュール504と、
第1相対位置情報および運動情報に基づいて、洗浄アセンブリの作業状態および液体吐出装置の作業状態を制御する第1処理モジュール506と、を備える。
洗浄アセンブリおよびベースステーション本体の第2相対位置情報を取得するための第3取得モジュールと、
第2相対位置情報に基づいて洗浄アセンブリの初期運動方向を制御するための第2処理モジュールと、をさらに含む。
洗浄アセンブリとベースステーション本体の第1側辺の間の距離が洗浄アセンブリとベースステーション本体の第2側辺の間の距離以上であるか否かを検出するための検出モジュールをさらに含み、
第2処理モジュールは、洗浄アセンブリとベースステーション本体の第1側辺の間の距離が洗浄アセンブリとベースステーション本体の第2側辺の間の距離以上である場合、洗浄アセンブリがベースステーション本体の第1側辺に運動するように制御するための第2処理サブユニットを含む。
第1感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の第1側辺に運動したと判定するための第1決定ユニットと、
第2感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の第2側辺に運動したと判定するための第2決定ユニットと、
第3感知装置が信号送信装置を感知したことに基づいて、洗浄アセンブリがベースステーション本体の所定位置に運動したと判定するための第3決定ユニットと、を含む。
清掃槽内の液位情報を取得するための第4取得モジュールと、
液位情報に基づいて液体吐出装置の作業状態を制御するための第4処理モジュールと、をさらに含む。
Claims (14)
- 清掃ロボットと協働して使用されるベースステーションに使用される洗浄方法であって、
前記ベースステーションはベースステーション本体、洗浄アセンブリおよび液体吐出装置を含み、前記洗浄アセンブリは、前記ベースステーション本体に移動可能に設けられ、前記洗浄アセンブリの前記ベースステーション本体に対する移動方向に沿って並んで配置された第1洗浄部材および第2洗浄部材を含み、前記第1洗浄部材および前記第2洗浄部材は、前記清掃ロボットの清掃システムに干渉することにより前記清掃システム上の異物を除去するためのものであり、前記液体吐出装置から排出される洗浄液体は前記清掃システムを洗浄するために使用され、前記洗浄方法は、
前記第1洗浄部材および前記第2洗浄部材の第1相対位置情報を取得するステップと、
前記洗浄アセンブリが前記ベースステーション本体に対する運動方向を取得するステップと、
前記第1相対位置情報および前記運動方向に基づいて、前記洗浄アセンブリの作業状態および前記液体吐出装置の作業状態を制御するステップと、を含む、ことを特徴とする洗浄方法。 - 前記第1洗浄部材は洗浄スクレーパーを含み、前記第2洗浄部材は回転軸の周りに回転可能であり、前記洗浄アセンブリの作業状態を制御するステップは、
前記第2洗浄部材の回転状態を制御することを含む、ことを特徴とする請求項1に記載の洗浄方法。 - 前記第1相対位置情報および前記運動方向に基づいて前記洗浄アセンブリの作業状態および前記液体吐出装置の作業状態を制御するステップは、
前記洗浄アセンブリの移動方向において、前記第2洗浄部材が前記第1洗浄部材の前方にある場合、前記第2洗浄部材を回転させるように制御することと、
前記液体吐出装置が作業するように制御することとを含む、ことを特徴とする請求項2に記載の洗浄方法。 - 前記液体吐出装置は前記第1洗浄部材および第2洗浄部材と並んで配置され、
前記液体吐出装置が作業を制御するステップは、
前記第1洗浄部材の移動方向の前方に位置する前記液体吐出装置が作業するように制御することを含む、ことを特徴とする請求項3に記載の洗浄方法。 - 前記洗浄アセンブリおよび前記ベースステーション本体の第2相対位置情報を取得するステップと、
前記第2相対位置情報に基づいて前記洗浄アセンブリの初期運動方向を制御するステップとをさらに含む、ことを特徴とする請求項4に記載の方法。 - 前記洗浄アセンブリと前記ベースステーション本体の第1側辺の間の距離が前記洗浄アセンブリと前記ベースステーション本体の第2側辺の間の距離以上であるか否かを検出するステップと、
前記洗浄アセンブリと前記ベースステーション本体の第1側辺の間の距離が前記洗浄アセンブリと前記ベースステーション本体の第2側辺の間の距離以上である場合、前記洗浄アセンブリが前記ベースステーション本体の第1側辺に向かって運動するように制御するステップと、をさらに含む、ことを特徴とする請求項5に記載の方法。 - 前記洗浄アセンブリが前記ベースステーション本体の第1側辺に運動した後、前記洗浄アセンブリが前記ベースステーション本体の第2側辺に向かって運動するように制御するステップをさらに含む、ことを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 洗浄終了指令に応答して、前記洗浄アセンブリが前記ベースステーション本体の所定位置に運動するように制御するステップをさらに含む、ことを特徴とする請求項6に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄アセンブリおよび前記ベースステーション本体の第2相対位置情報を取得するステップは、
前記ベースステーション本体および前記洗浄アセンブリ上にそれぞれ設けられた感知装置および信号送信装置を介して、前記洗浄アセンブリおよび前記ベースステーション本体の第2相対位置関係を取得することを含む、ことを特徴とする請求項8に記載の洗浄方法。 - 前記ベースステーション本体の第1側辺の近傍に第1感知装置が設けられ、前記ベースステーション本体の第2側辺の近傍に第2感知装置が設けられ、前記ベースステーション本体の所定位置の近傍に第3感知装置が設けられ、前記ベースステーション本体および前記洗浄アセンブリ上にそれぞれ設けられた感知装置および信号送信装置を介して前記洗浄アセンブリおよび前記ベースステーション本体の第2相対位置関係を取得することは、
第1感知装置が前記信号送信装置を感知したことに基づいて、前記洗浄アセンブリが前記ベースステーション本体の第1側辺に運動したと判定することと、
第2感知装置が前記信号送信装置を感知したことに基づいて、前記洗浄アセンブリが前記ベースステーション本体の第2側辺に運動したと判定することと、
第3感知装置が前記信号送信装置を感知したことに基づいて、前記洗浄アセンブリが前記ベースステーション本体の前記所定位置に運動したと判定することと、を含む、ことを特徴とする請求項9に記載の洗浄方法。 - 前記ベースステーションは、前記洗浄アセンブリ下方に位置する清掃槽をさらに備え、前記洗浄方法は、
前記清掃槽内の液位情報を取得するステップと、
前記液位情報に基づいて前記液体吐出装置の作業状態を制御するステップと、をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の洗浄方法。 - 清掃ロボットと協働して使用されるベースステーションに使用される洗浄装置であって、
前記ベースステーションはベースステーション本体、洗浄アセンブリおよび液体吐出装置を含み、前記洗浄アセンブリは、前記ベースステーション本体上に移動可能に設けられ、前記洗浄アセンブリの前記ベースステーション本体に対する移動方向に沿って並んで配置された第1洗浄部材および第2洗浄部材を含み、前記第1洗浄部材および前記第2洗浄部材は、前記清掃ロボットの清掃システムに干渉することにより前記清掃システム上の異物を除去するためのものであり、前記液体吐出装置から排出される洗浄液体は前記清掃システムを洗浄するために使用され、前記洗浄装置は、
前記第1洗浄部材および前記第2洗浄部材の第1相対位置情報を取得するための第1取得モジュールと、
前記洗浄アセンブリの前記ベースステーション本体に対する運動方向を取得するための第2取得モジュールと、
前記第1相対位置情報および前記運動方向に基づいて、前記洗浄アセンブリの作業状態および前記液体吐出装置の作業状態を制御するための第1処理モジュールと、を備える、ことを特徴とする洗浄装置。 - プロセッサおよびメモリを備え、
前記メモリは、操作指令を記憶するために使用され、
前記プロセッサは、前記操作指令を呼び出して、上記請求項1~11のいずれか1項に記載の洗浄方法を実行するために使用される、ことを特徴とするベースステーション。 - コンピュータプログラムが記憶されるコンピュータ可読記憶媒体であって、該プログラムがプロセッサによって実行されると、上記請求項1~11のいずれか1項に記載の洗浄方法を実行する、ことを特徴とするコンピュータ可読記憶媒体。
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