JP7748845B2 - ハーフトーンマスクの欠陥修正装置 - Google Patents

Description

本発明は、ハーフトーンマスクの半透過部に生じた欠陥を修正するハーフトーンマスクの欠陥修正装置に関する。

フォトリソグラフィ技術として、ハーフトーンマスクが知られている。ハーフトーンマスクは、透過部の透過率と遮光部の透過率との間の透過率を有する半透過部を備えることにより、透過部による白の階調及び遮光部による黒の階調の２階調と、半透過部による白と黒の中間（グレートーン）の階調とを合わせた多階調（３階調以上）を実現することから、多階調フォトマスクとも称される。ハーフトーンマスクを用いることにより、１回の露光で露光量が異なるパターンをフォトレジストに形成することができる。このため、フォトマスクの使用枚数の削減、製造工程の削減、ひいては製造コストの削減を図ることができる。

ここで、ハーフトーンマスクにおいては、製造工程上等の問題により、大きく分けて２つの欠陥が生じ得る。１つは、半透過部の一部に欠損が存在しているという欠陥（欠損が存在していると、透過率が上がるので、「白欠陥」と称される。）である。もう１つは、半透過部の一部に余剰や異物が存在しているという欠陥（異物等が存在していると、透過率が下がるので、「黒欠陥」と称される。）である。

こうした欠陥が生じたときは、欠陥を修正する必要がある。白欠陥の場合は、欠損部分に修正膜を成膜することにより、白欠陥が修正される。黒欠陥の場合は、異物等又は異物等が存在している半透過部の部分を除去し、必要に応じて新たな修正膜を成膜することにより、黒欠陥が修正される。

欠陥修正装置としては、特許文献１に記載された装置が知られている。この装置は、レーザＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法を用いて修正膜を成膜するものである。すなわち、この装置は、レーザ発振器から出射されたレーザビームを、開口を通過させ、対物レンズで集光し、反応ガス雰囲気中に置かれた欠陥修正対象フォトマスクの表面に照射することにより、ＣＶＤ膜の修正膜を成膜するものである。

特開２０１７－１７３６７０号公報

特許文献１に記載された欠陥修正装置は、隣同士が重なるピッチで複数の単位修正膜を２次元配列的に形成することにより、欠陥修正領域を埋める大きさの修正膜を形成するものである。しかし、単位修正膜は、レーザビームの強度分布（ガウス分布）の関係で、周辺部の膜厚が薄く、中央部の膜厚が厚い凸形状を有する。このため、修正膜の膜厚が許容範囲を超えて不均一になりやすく、この結果、修正膜の透過率にムラが生じやすくなる。

そこで、本発明は、かかる事情に鑑みてなされたもので、修正膜の膜厚の均一性を向上することができ、これにより、透過率にムラがない高品質な修正膜を得ることができるハーフトーンマスクの欠陥修正装置を提供することを課題とする。

本発明に係るハーフトーンマスクの欠陥修正装置は、
ハーフトーンマスクを載置するステージと、
レーザビーム出射装置と、
レーザビームのビーム径よりも大きい形状を有する光学作用部であって、光学作用部内を透過するレーザビームの中心軸におけるピーク強度を低減する光学作用部を有する光学部材と、
レーザビームのビーム径を拡大するビームエキスパンダと、
ビームエキスパンダ及び光学部材を通過したレーザビームを空間光変調素子を用いて走査することにより、レーザビームをハーフトーンマスクの欠陥修正対象領域に面状に照射するビームスキャンユニットと、
欠陥修正対象領域を修正膜の原料となる原料ガス雰囲気とするガス供給系とを備える
ハーフトーンマスクの欠陥修正装置である。

ここで、本発明に係るハーフトーンマスクの欠陥修正装置の一態様として、
光学作用部は、レーザビームのうち光学作用部の中心部を通る部分の強度の減少率をレーザビームのうち光学作用部の周辺部を通る部分の強度の減少率よりも高くするフィルタ作用、又は、レーザビームを拡散する拡散作用、の少なくとも一方を有するものである
との構成を採用することができる。
また、本発明に係るハーフトーンマスクの欠陥修正装置の他態様として、
光学作用部は、透明部材の表面の一部を白濁処理した白濁部である
との構成を採用することができる。

また、本発明に係るハーフトーンマスクの欠陥修正装置の別の態様として、
ハーフトーンマスクの欠陥修正対象領域は、２０μｍ以下の欠陥のサイズに対して設定される
との構成を採用することができる。
また、本発明に係るハーフトーンマスクの欠陥修正装置のさらに別の態様として、
レーザビーム出射装置の筐体の出口開放部を覆うガラス板を備え、
光学部材は、このガラス板とは別に設けられるガラス板である
との構成を採用することができる。

また、本発明に係るハーフトーンマスクの欠陥修正装置の別の態様として、
レーザビームの光路と直交する直交面において光路の中心に対して位置調整可能に光学部材を支持する光学部材支持装置をさらに備える
との構成を採用することができる。

本発明によれば、レーザビーム出射装置から出射されるレーザビームは、ビームエキスパンダにより、ビーム径が拡大されるとともに、光学部材の光学作用部により、中心軸におけるピーク強度が低減されることにより、全体的に平滑化された状態で、ハーフトーンマスクの欠陥修正対象領域に面状に照射される。このため、本発明によれば、修正膜の膜厚の均一性を向上することができ、これにより、透過率にムラがない高品質な修正膜を得ることができる。

図１（ａ）は、一実施形態に係るハーフトーンマスクの欠陥修正装置の概要図である。図１（ｂ）及び（ｃ）は、欠陥修正装置のスリットの概要図である。 図２（ａ）は、欠陥修正装置のレーザ光学系の概要図である。図２（ｂ）は、レーザ光学系に用いられる光学部材の平面図である。図２（ｃ）は、光学部材の光学特性の１つの例の説明図である。図２（ｄ）は、光学部材の光学特性のもう１つの例の説明図である。 図３（ａ）は、光学部材支持装置の平面図である。図３（ｂ）は、光学部材支持装置の側面図である。 図４（ａ）は、光学部材支持装置の正面図である。図４（ｂ）は、光学部材の支持ベースを取り外した状態の光学部材支持装置の正面図である。 図５（ａ）～（ｄ）は、ハーフトーンマスクの欠陥修正方法の説明図である。 図６（ａ）は、光学部材を用いない場合の成膜イメージの説明図である。図６（ｂ）は、光学部材を用いる場合の成膜イメージの説明図である。

以下、一実施形態に係るハーフトーンマスクの欠陥修正装置及びこれを用いるハーフトーンマスクの欠陥修正方法について、図１ないし図６を参酌して説明する。

＜欠陥修正装置＞
まず、欠陥修正装置について説明する。図１（ａ）に示すように、欠陥修正装置１０は、レーザＣＶＤ法を用いて修正膜（ＣＶＤ膜）を成膜する装置である。欠陥修正装置１０は、主として、レーザ光学系２０と、レーザ光学系３０と、光学系４０と、ガス供給系５０と、位置制御系６０とを備える。

レーザ光学系２０は、修正膜を形成するためのレーザ光学系である。レーザ光学系２０は、レーザ発振器（ＣＶＤ Ｌａｓｅｒ）２１と、シャッタ２２と、ビームエキスパンダ２３と、アッテネータ２４と、ビームスキャンユニット２５とを備える。レーザビーム出射装置としてのレーザ発振器２１から出射されたレーザビーム（レーザ光）は、ビームエキスパンダ２３によりビーム径が拡大され、アッテネータ２４により適正な出力に調整された後、ビームスキャンユニット２５により走査される。ビームスキャンユニット２５は、ガルバノミラー、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、ＰＬＺＴ素子等の反射型又は透過型の空間光変調素子を用いて主走査及び副走査を行う。

レーザ光学系２０は、より詳細には、図２（ａ）に示すとおりである。レーザ光学系２０は、ガラス板２６と、ミラー２７と、光学部材２８とをさらに備える。ガラス板２６は、レーザ発振器２１の筐体の出口開放部を覆い、筐体内に埃、塵等が侵入するのを防止する。また、レーザ発振器２１の筐体内の温度が変わると、光軸が変わり、レーザビームの波長変換等に影響が出るが、ガラス板２６は、レーザ発振器２１の筐体内の温度を一定に保つ役割もある。ミラー２７は、シャッタ２２とビームエキスパンダ２３との間に一対設けられる。一対のミラー２７，２７により、光路は２箇所で直角に曲げられ、レーザ発振器２１から出射されたレーザビームの中心軸と、ビームスキャンユニット２５から出射される走査光の中心軸とは、平行かつ互いに逆方向となる。ミラー２７は、レーザ光学系２０のレイアウトの観点で設けられるものであり、レーザ光学系２０のレイアウトによっては、必ずしも必要ではない。

光学部材２８は、レーザビームの中心軸におけるピーク強度を低減する光学作用部を有し、一対のミラー２７，２７間の光路上に配置される。より詳しくは、光学部材２８は、一対のミラー２７，２７間において、光学作用部の中心が光路の中心と一致するように、配置される。

図２（ｂ）に示すように、光学作用部は、ガラス板２８ａの表面に形成される白濁部２８ｂである。ガラス板２８ａは円形である。白濁部２８ｂも円形である。白濁部２８ｂは、レーザビームのビーム径よりも大きいか、又は同じ大きさである。たとえば、レーザビームのビーム径（直径）が１ｍｍ～２ｍｍであるのに対し、白濁部２８ｂは、１．５ｍｍ～２ｍｍの大きさであり、レーザビームのビーム径の７０％以上１００％以内の大きさを有する。これにより、レーザビームは、白濁部２８ｂ内を透過する。なお、白濁部２８ｂの大きさとは、白濁部２８ｂの幅の平均値をいう。

白濁部２８ｂは、各種の形態で構成される。一例として、白濁部２８ｂは、図２（ｃ）に示すように、ガラス板２８ａの表面の一部を、周辺部よりも中心部の透過率が低く、中心部よりも周辺部の透過率が高い透過率勾配を有するように、表面加工して形成したものである。これにより、白濁部２８ｂは、レーザビームのうち白濁部２８ｂの中心部を通る部分の強度の減少率をレーザビームのうち白濁部２８ｂの周辺部を通る部分の強度の減少率よりも高くするフィルタ作用を有する。あるいは、別例として、白濁部２８ｂは、図２（ｄ）に示すように、ガラス板２８ａの表面の一部を、凹凸面やギザギザ面といった粗面となるように、表面加工して形成したものである。これにより、白濁部２８ｂは、レーザビームを拡散する拡散作用を有する。

光学部材２８は、図３及び図４に示される光学部材支持装置７に支持される。光学部材支持装置７は、一対のミラー２７，２７間に配置され、一対のミラー２７，２７やレーザ発振器２１といったレーザ光学系２０の構成を直接又は間接的に取り付ける取付ベース１１に取り付けられる。

光学部材支持装置７は、固定ベース７０と、第１リニアガイド７１と、第１スライドベース７２と、第２リニアガイド７３と、第２スライドベース７４と、支持ベース７５とを備える。

固定ベース７０は、縦板状であり、（下部にて）取付ベース１１に取り付けられる。固定ベース７０は、（下半分の領域に）光路の中心Ｃを中心として表裏を貫通する開口７０ａを有する。第１リニアガイド７１は、第１リニアガイド７１の長手方向が、光路と直交する直交面における直交２軸のうち、一方の軸方向（たとえば水平方向）に沿うように、固定ベース７０（の上半分の領域に）に取り付けられる。第１スライドベース７２は、第１リニアガイド７１に取り付けられ、一方の軸方向（たとえば水平方向）にスライド可能である。第２リニアガイド７３は、第２リニアガイド７３の長手方向が、もう一方の軸方向（たとえば垂直方向）に沿うように、第１スライドベース７２に取り付けられる。第２スライドベース７４は、第２リニアガイド７３に取り付けられ、もう一方の軸方向（たとえば垂直方向）にスライド可能である。

支持ベース７５は、縦板状であり、固定ベース７０と対向するように、（上半分の領域にて）第２スライドベース７４に取り付けられる。支持ベース７５は、固定ベース７０の開口７０ａと同軸にして表裏を貫通する開口７５ａを有する。開口７５ａは、光学部材２８のガラス板２８ａと同じ大きさの円孔であり、ここに光学部材２８を嵌めることにより、支持ベース７５は、（下半分の領域にて）光学部材２８を支持する。これらの構成により、光学部材２８は、光路と直交する直交面において移動可能となる。

光学部材支持装置７は、第１マイクロメータ７６を備える。第１マイクロメータ７６は、本体部７６ａが第１取付部材７７を介して固定ベース７０に取り付けられ、第１スライドベース７２のスライド方向に沿うように配置される。第１マイクロメータ７６のスピンドル７６ｂの先端部は、第１スライドベース７２の一部である係合部７２ａに回転自在に係合される。これらの構成により、第１マイクロメータ７６を回転操作することで、光路と直交する直交面における直交２軸のうち、一方の軸方向（たとえば水平方向）における光学部材２８の位置調整を行うことができる。

光学部材支持装置７は、第２マイクロメータ７８を備える。第２マイクロメータ７８は、本体部７８ａが第２取付部材７９を介して第１スライドベース７２に取り付けられ、第２スライドベース７４のスライド方向に沿うように配置される。第２マイクロメータ７８のスピンドル７８ｂの先端部は、第２スライドベース７４の一部である係合部７４ａに回転自在に係合される。これらの構成により、第２マイクロメータ７８を回転操作することで、光路と直交する直交面における直交２軸のうち、もう一方の軸方向（たとえば垂直方向）における光学部材２８の位置調整を行うことができる。

以上の構成により、光学部材２８は、光路と直交する直交面において光路の中心Ｃに対して位置調整可能となる。そして、これにより、光学部材２８の白濁部２８ｂは、白濁部２８ｂの中心が光路の中心Ｃと一致するように、位置決めされる。

図１（ａ）に戻り、レーザ光学系３０は、半透過部を構成する半透過膜を部分的に除去するためのレーザ光学系である。レーザ光学系３０は、レーザ発振器（Ｚａｐ Ｌａｓｅｒ）３１と、シャッタ３２と、ビームエキスパンダ３３と、アッテネータ３４とを備える。レーザ発振器３１からパルス状に出射されたレーザビーム（レーザ光）は、ビームエキスパンダ３３によりビーム径が拡大され、アッテネータ３４により適正な出力に調整される。

光学系４０は、各レーザ光学系２０，３０から出射されたレーザビームをハーフトーンマスク８の表面に導くためのものである。光学系４０は、プリズム４１と、プリズム４２と、スリット４３と、プリズム４４と、プリズム４５と、対物レンズ４６とを備える。プリズム４１は、レーザ光学系２０から出射されたレーザビームを反射させる。プリズム４２は、プリズム４１により反射されたレーザビームを透過させるとともに、レーザ光学系３０から出射されたレーザビームを反射させる。スリット４３は、プリズム４２を透過したレーザビーム及びプリズム４２により反射されたレーザビームのビーム径を所定の大きさに絞るためのものである。スリット４３を通過したレーザビームは、プリズム４４，４５で反射され、対物レンズ４６を通ってステージ６１に載置されたハーフトーンマスク８の表面に照射される。

スリット４３は、ハーフトーンマスク８の表面において、レーザビーム照射領域を区画する。図１（ｂ）、（ｃ）に示すように、スリット４３は、平行かつ間隔を調整自在に可動する第１の１対のフレーム４３０，４３０と、同じく平行かつ間隔を調整自在に可動し、第１の１対のフレーム４３０，４３０と直交する第２の１対のフレーム４３１，４３１とを備える。互いに直交する４つのフレーム４３０，４３０，４３１，４３１に囲まれた矩形状の開口４３２（図中のハッチング部分）がレーザビーム照射領域となる。開口４３２は、一方の１対のフレームの間隔を狭めることにより、スリット状にすることも可能である。

ガス供給系５０は、修正膜の原料となる原料ガスを供給するためのものである。ガス供給系５０は、原料ガス供給管５１を備える。原料ガスは、不活性ガスからなるキャリアガスと、加熱によってガス化した原料とを混ぜることにより生成される。原料ガス供給管５１から供給された原料ガスは、ハーフトーンマスク８の表面に向かって噴出され、ハーフトーンマスク８の表面の欠陥修正対象領域を原料ガス雰囲気とする。この原料ガス雰囲気の下で、レーザ光学系２０からのレーザビームがハーフトーンマスク８の表面に照射されると、照射スポットが形成されるとともに、この照射スポットの寸法及び形状に応じて修正膜が成膜される。原料としては、たとえば、クロムカルボニル、モリブデンカルボニル、タングステンカルボニルといった金属カルボニルが用いられる。

位置制御系６０は、ハーフトーンマスク８のレーザ照射を受けるべき部位をレーザ照射位置（対物レンズ４６の中心軸上）に位置決めするためのものである。位置制御系６０は、ステージ６１と、位置制御部６２とを備える。ステージ６１は、ハーフトーンマスク８を載置し、水平面において互いに直交するＸ方向及びＹ方向に移動可能に構成される。位置制御部６２は、ステージ６１の移動及び位置を制御する。

なお、レーザ照射位置及びハーフトーンマスク８の相対位置を変更させる機構としては、ステージ６１がＸ方向及びＹ方向に移動する機構のほか、（ｉ）ステージは固定で、レーザ照射部（対物レンズ）を備えるヘッド部がＸ方向及びＹ方向に移動する機構や、（ｉｉ）ヘッド部及びステージの一方がＸ方向に移動するとともに、他方がＹ方向に移動する機構であってもよい。

＜欠陥修正方法＞
次に、欠陥修正方法について説明する。欠陥修正方法は、欠陥のサイズが２０μｍ以下、すなわち、欠陥のサイズが２０μｍ×２０μｍ以下の四角内に収まる大きさである場合に用いられ、概略的には、図５に示すように、（ｉ）ハーフトーンマスク８の半透過部２に生じた欠陥３を包含する欠陥修正対象領域４を設定し、欠陥修正対象領域４内に存在する既存の半透過膜２を除去するトリミング工程（第１工程）と、（ｉｉ）欠陥修正対象領域４に、透過率が半透過部２の透過率と等しくなるように、かつ、欠陥修正対象領域４と一致する形状に、修正膜７を成膜する修正膜成膜工程とを備える。また、修正膜成膜工程は、（ｉｉ－ｉ）半透過部２の透過率よりも高い透過率を有するベース層５を成膜するベース層成膜工程（第２工程）と、（ｉｉ－ｉｉ）透過率が半透過部２の透過率と等しくなるように、ベース層５の上に１層又は複数層の透過率調整層６を成膜する透過率調整層成膜工程（第３工程）とを備える。

第１工程（トリミング工程）では、欠陥修正装置１０のスリット４３の開口形状が欠陥修正対象領域４に合わせられた状態で、レーザ光学系３０を用い、欠陥修正対象領域４内に存在する既存の半透過膜２が除去される。これにより、欠陥３は消滅し、外形線が矩形状に整形された非膜形成部、すなわち、透明基板１が矩形状に露出した透過部が形成される。

第２工程（修正膜成膜工程のベース層成膜工程）では、欠陥修正装置１０のスリット４３の開口形状とビームスキャンユニット２５の光学中心（ガルバノミラーの場合、ガルバノミラーの中心）とが合わせられ、かつ、スリット４３の開口形状が欠陥修正対象領域４に合わせられた状態で、レーザ光学系２０を用い、欠陥修正対象領域４内にベース（ｂａｓｅ）層５が形成される。ベース層５は、レーザビームを連続的に照射しながら、ビームスキャンユニット２５によりレーザビームを主走査及び副走査することにより、成膜される。ベース層５は、欠陥修正装置１０のスリット４３の開口形状に対応して、矩形状に形成される。

ベース層５は、上述のとおり、ＣＶＤ膜である。ベース層５の透過率は、半透過部２の透過率よりも高い透過率を有する。これは、修正膜７の透過率の調整方法として、透過率調整層６を積層して透過率を下げていくという方法が採られるためである。ベース層５の透過率は、半透過部２の透過率＋１０％以上＋２０％以下となるように設定するのが好ましい。本実施形態においては、半透過部２の透過率は、３０％であるのに対し、ベース層５の透過率は、４０％である。

第３工程（修正膜成膜工程の透過率調整層成膜工程）では、欠陥修正装置１０のスリット４３の開口形状とビームスキャンユニット２５の光学中心（ガルバノミラーの場合、ガルバノミラーの中心）とが合わせられ、かつ、スリット４３の開口形状が欠陥修正対象領域４に合わせられた状態で、レーザ光学系２０を用い、欠陥修正対象領域４内に透過率調整層６が形成される。透過率調整層６は、ベース層５と同様、レーザビームを連続的に照射しながら、ビームスキャンユニット２５によりレーザビームを主走査及び副走査することにより、成膜される。透過率調整層６は、欠陥修正装置１０のスリット４３の開口形状に対応して、矩形状に形成される。

透過率調整層成膜工程では、透過率調整層６が成膜されるたびに、修正膜７の透過率が測定される。透過率測定方法としては、（たとえば修正膜７の中心部分１箇所に）光を照射して透過光の光量を測定することにより、透過率を直接的に測定する方法のほか、撮像して修正膜７の画像（のたとえば画素値）と半透過部２の画像（のたとえば画素値）とを比較することにより、透過率を間接的に測定する方法等、公知の各種の透過率測定方法を用いることができる。

測定の結果、修正膜７の透過率が半透過部２の透過率と同じになる、又は、修正膜７の透過率と半透過部２の透過率との差が問題にならない状態になると、透過率調整層成膜工程、ひいては、修正膜成膜工程が完了する。

以上の工程を経て、欠陥修正対象領域４の全面において透過率が均一で、かつ、欠陥修正対象領域４の周辺の正常な半透過膜で構成される半透過部２の透過率と等しくなる修正膜７が得られる。なお、より高品質な修正膜７が得られるよう、必要であれば、特許第６７４１８９３号公報に記載されている、修正膜７の成膜によっても欠陥修正対象領域４に残る高透過部に、透過率が半透過部２の透過率と等しくなるように、補填膜を成膜する補填膜成膜工程が実施されるようにしてもよい。

なお、欠陥が半透過部と透過部との境界近傍における半透過部に生じている場合、スリット４３を透過部と繋がったコの字形となるように合わせた状態で、あるいは、スリット４３を所定角度回転されて略三角形となるように合わせた状態で、トリミングを行うという方法を用いることがある。そして、後者の場合、スリット４３の回転角を合わせた状態で、修正膜７を成膜するとともに、半透過部のエッジラインからはみ出た修正膜７をレーザ光学系３０を用いて除去するという方法を用いることがある。

＜本実施形態による効果＞
上述のとおり、光学部材２８の白濁部２８ｂは、レーザビームのうち白濁部２８ｂの中心部を通る部分の強度の減少率をレーザビームのうち白濁部２８ｂの周辺部を通る部分の強度の減少率よりも高くするフィルタ作用、又は、レーザビームを拡散する拡散作用を有する。これにより、図６（ｂ）に示すように、ビームスキャンユニット２５による主走査及び副走査により面状に照射されるレーザビームは、全体的に平滑化される。このため、修正膜７の膜厚の均一性を向上することができ、これにより、透過率にムラがない高品質な修正膜７を得ることができる。

また、光学部材２８は、光路と直交する直交面における直交２軸で移動可能な光学部材支持装置７の支持ベース７５に支持され、光路と直交する直交面において移動可能となる。これにより、光路と直交する直交面において光路の中心Ｃに対して光学部材２８を位置調整することができる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

上記実施形態においては、光学部材２８は、レーザ光学系２０において一対のミラー２７，２７間に配置される。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。光学部材は、レーザ発振器（あるいはシャッタ）からビームエキスパンダまでのいずれかの光路上に配置することができる。あるいは、光学部材は、レーザ発振器の筐体の出口開放部を覆うガラス板を兼ねるようにしてもよい。

また、上記実施形態においては、光学作用部（白濁部２８ｂ）は、光学部材２８のガラス板２８ａの表面の一部に設けられる。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。光学作用部（白濁部）は、ガラス板の表面全面に設けられるようにしてもよい。また、上記実施形態においては、光学部材は、ガラス板を用いて構成される。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。光学部材は、透明樹脂板等、他の形態の透明部材であってもよい。

また、上記実施形態においては、白欠陥の欠陥修正について説明している。しかし、欠陥修正対象は、黒欠陥であってもよい。

また、上記実施形態においては、欠陥修正装置１０のスリット４３の構造の関係上、欠陥修正対象領域４及びトリミング領域は、矩形状である。しかし、適宜のマスク形状を採用することにより、欠陥修正対象領域及びトリミング領域の形状として、適宜の形状を設定することができる。あるいは、適切にレーザビームを制御することにより、スリットを用いないで修正膜を成膜することも可能である。

また、上記実施形態においては、トリミング工程が実施される。しかし、欠陥の形状によっては、欠陥そのままを欠陥修正対象領域に設定することができる場合がある。この場合は、トリミング工程は不要である。

また、上記実施形態においては、修正膜成膜工程は、ベース層成膜工程と、透過率調整層成膜工程とを備える。しかし、ベース層だけで所期の修正膜が得られる場合は、透過率調整層成膜工程は不要である。

１…透明基板（ガラス基板）、２…半透過膜（半透過部）、３…欠陥（白欠陥）、４…トリミング領域（欠陥修正対象領域）、５…ベース層、６…透過率調整層、７…修正膜、８…ハーフトーンマスク、１０…欠陥修正装置、１１…取付ベース、２０…レーザ光学系、２１…レーザ発振器、２２…シャッタ、２３…ビームエキスパンダ、２４…アッテネータ、２５…ビームスキャンユニット、２６…ガラス板、２７…ミラー、２８…光学部材、２８ａ…ガラス板、２８ｂ…白濁部、３０…レーザ光学系、３１…レーザ発振器、３２…シャッタ、３３…ビームエキスパンダ、３４…アッテネータ、４０…光学系、４１…プリズム、４２…プリズム、４３…スリット、４３０…フレーム、４３１…フレーム、４３２…開口、４４…プリズム、４５…プリズム、４６…対物レンズ、５０…ガス供給系、５１…原料ガス供給管、６０…位置制御系、６１…ステージ、６２…位置制御部、７…光学部材支持装置、７０…固定ベース、７０ａ…開口、７１…第１リニアガイド、７２…第１スライドベース、７２ａ…係合部、７３…第２リニアガイド、７４…第２スライドベース、７４ａ…係合部、７５…支持ベース、７５ａ…開口、７６…第１マイクロメータ、７６ａ…本体部、７６ｂ…スピンドル、７７…第１取付部材、７８…第２マイクロメータ、７８ａ…本体部、７８ｂ…スピンドル、７９…第２取付部材、Ｓ…欠陥のサイズ、Ｃ…光路の中心

Claims (6)

1. ハーフトーンマスクを載置するステージと、
   レーザビーム出射装置と、
   レーザビームのビーム径よりも大きい形状を有する光学作用部であって、光学作用部内を透過するレーザビームの中心軸におけるピーク強度を低減する光学作用部を有する光学部材と、
   レーザビームのビーム径を拡大するビームエキスパンダと、
   ビームエキスパンダ及び光学部材を通過したレーザビームを空間光変調素子を用いて走査することにより、レーザビームをハーフトーンマスクの欠陥修正対象領域に面状に照射するビームスキャンユニットと、
   欠陥修正対象領域を修正膜の原料となる原料ガス雰囲気とするガス供給系とを備える
   ハーフトーンマスクの欠陥修正装置。
2. 光学作用部は、レーザビームのうち光学作用部の中心部を通る部分の強度の減少率をレーザビームのうち光学作用部の周辺部を通る部分の強度の減少率よりも高くするフィルタ作用、又は、レーザビームを拡散する拡散作用、の少なくとも一方を有するものである
   請求項１に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正装置。
3. 光学作用部は、透明部材の表面の一部を白濁処理した白濁部である
   請求項１又は請求項２に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正装置。
4. ハーフトーンマスクの欠陥修正対象領域は、２０μｍ以下の欠陥のサイズに対して設定される
   請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正装置。
5. レーザビーム出射装置の筐体の出口開放部を覆うガラス板を備え、
   光学部材は、このガラス板とは別に設けられるガラス板である
   請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正装置。
6. レーザビームの光路と直交する直交面において光路の中心に対して位置調整可能に光学部材を支持する光学部材支持装置をさらに備える
   請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のハーフトーンマスクの欠陥修正装置。