JP7758366B2 - ラジカル発生触媒、ラジカルの製造方法、酸化反応生成物の製造方法、薬剤および農畜産用薬剤 - Google Patents
ラジカル発生触媒、ラジカルの製造方法、酸化反応生成物の製造方法、薬剤および農畜産用薬剤Info
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Description
酸性でない液中で、ラジカル発生源からのラジカル発生を触媒し、
前記ラジカル発生源が、亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸イオンおよび亜ハロゲン酸塩からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とする。
R11、R21、R31、およびR41、は、それぞれ水素原子もしくは芳香環であるか、またはアルキル基であり、前記アルキル基は、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、若しくはアミド結合、または芳香環が含まれていてもよく、R11、R21、R31、およびR41は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、
または、R11、R21、R31、およびR41のうち2つ以上が一体化し、それらが結合するN+とともに環状構造を形成していてもよく、前記環状構造は、飽和でも不飽和でもよく、芳香環でも非芳香環でもよく、1以上の置換基を有していても有していなくてもよく、
X-は、アニオン(ペルオキソ二硫酸イオンを除く)である。
酸化剤の存在下において、ラジカル発生源からのラジカル発生を触媒し、
前記酸化剤が、O2であり、
前記ラジカル発生源が、下記式(A-1)~(A-8)のいずれかで表される含窒素芳香族カチオン誘導体、下記式(A-9)で表される9-置換アクリジニウムイオン、下記式(I)で表されるキノリニウムイオン誘導体、それらの立体異性体および互変異性体、並びにそれらの塩からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とする。
R11、R21、R31、およびR41、は、それぞれ水素原子もしくは芳香環であるか、またはアルキル基であり、前記アルキル基は、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、若しくはアミド結合、または芳香環が含まれていてもよく、R11、R21、R31、およびR41は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、
または、R11、R21、R31、およびR41のうち2つ以上が一体化し、それらが結合するN+とともに環状構造を形成していてもよく、前記環状構造は、飽和でも不飽和でもよく、芳香環でも非芳香環でもよく、1以上の置換基を有していても有していなくてもよく、
X-は、アニオンである。
Rは、水素原子または任意の置換基であり、
Arは、前記電子供与基であり、1個でも複数でも良く、複数の場合は同一でも異なっていても良く、
含窒素芳香族カチオンを形成する含窒素芳香環は、RおよびAr以外の任意の置換基を1以上有していても良いし、有していなくても良く、
前記式(I)中、
R1は、水素原子または任意の置換基であり、
Ar1~Ar3は、それぞれ水素原子または前記電子供与基であり、同一でも異なっていても良く、Ar1~Ar3の少なくとも一つは前記電子供与基である。
前記ルイス酸と前記ラジカル発生源とを、酸性でない液中で反応させる反応工程を含み、
前記ラジカル発生源が、亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸イオン、および亜ハロゲン酸塩からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とする。
前記ルイス酸と前記O2と前記ラジカル発生源とを、液中で反応させる反応工程を含み、
前記ルイス酸が、本発明における第3のラジカル発生触媒であり、
前記ラジカル発生源が、前記式(A-1)~(A-8)のいずれかで表される含窒素芳香族カチオン誘導体、前記式(A-9)で表される9-置換アクリジニウムイオン、前記式(I)で表されるキノリニウムイオン誘導体、それらの立体異性体および互変異性体、並びにそれらの塩からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とする。
前記ルイス酸と前記ラジカル発生源とを、液中で反応させる反応工程を含み、
前記ルイス酸性度が0.4eV以上であるルイス酸が、無機物質を含み、
前記ラジカル発生源が、亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸イオン、および亜ハロゲン酸塩からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とする。
被酸化物を酸化して酸化反応生成物を製造する方法であって、
前記本発明のラジカルの製造方法により前記ラジカルを製造するラジカル製造工程と、
前記ラジカルの作用により、前記被酸化物と酸化剤とを反応させて前記酸化反応生成物を生成させる酸化反応工程と、
を含むことを特徴とする。
ラジカル発生触媒と、ラジカル発生源とを含み、
前記ラジカル発生触媒が、前記本発明のラジカル発生触媒であることを特徴とする。
ラジカル発生触媒と、ラジカル発生源とを含み、
前記ラジカル発生触媒が、前記本発明のラジカル発生触媒であることを特徴とする。
本発明における第1~第3のラジカル発生触媒の用途は特に限定されないが、例えば、前述のとおり、本発明における第1のラジカルの製造方法に用いることができる。また、本発明における第1~第3のラジカル発生触媒は、例えば、本発明における第2~第4のラジカルの製造方法にも用いることができる。また、本発明における第2~第4のラジカルの製造方法には、前述のとおり、ルイス酸性度が0.4eV以上であるルイス酸を用いることができる。前記ルイス酸性度が0.4eV以上であるルイス酸は、ラジカル発生触媒として働くと考えられる。以下において、「本発明のラジカル発生触媒」という場合は、特に断らない限り、本発明における第1~第3のラジカル発生触媒に限定されず、前記ルイス酸性度が0.4eV以上であるルイス酸も含むものとする。
下記化学反応式(1a)中のコバルトテトラフェニルポルフィリン、飽和O2およびルイス酸性度の測定対象物(例えば金属等のカチオンであり、下記化学反応式(1a)ではMn+で表される)を含むアセトニトリル(MeCN)を、室温において紫外可視吸収スペクトル変化の測定をする。得られた反応速度定数(kcat)からルイス酸性度の指標であるΔE値(eV)を算出することができる。kcatの値は大きいほど強いルイス酸性度を示す。また、有機化合物のルイス酸性度は、量子化学計算によって算出される最低空軌道(LUMO)のエネルギー準位からも、見積もることができる。正側に大きい値であるほど強いルイス酸性度を示す。
Mn+は、前記ラジカル発生触媒を表し、
CoTPPは、コバルト(II)テトラフェニルポルフィリンを表し、
Q1は、ユビキノン1を表し、
[(TPP)Co]+は、コバルト(III)テトラフェニルポルフィリンカチオンを表し、
(Q1)・-は、ユビキノン1のアニオンラジカルを表す。
R11、R21、R31、およびR41、は、それぞれ水素原子もしくは芳香環であるか、またはアルキル基であり、前記アルキル基は、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、若しくはアミド結合、または芳香環が含まれていてもよく、R11、R21、R31、およびR41は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、
または、R11、R21、R31、およびR41のうち2つ以上が一体化し、それらが結合するN+とともに環状構造を形成していてもよく、前記環状構造は、飽和でも不飽和でもよく、芳香環でも非芳香環でもよく、1以上の置換基を有していても有していなくてもよく、
X-は、アニオンである。X-は、例えば、ペルオキソ二硫酸イオンを除くアニオンである。
R11、R21、R31、およびR41において、前記芳香環は、特に限定されず、例えば、ヘテロ原子を含んでいても含んでいなくても良く、置換基を有していても有していなくても良い。ヘテロ原子を含む前記芳香環(ヘテロ芳香環)としては、例えば、含窒素芳香環、含硫黄芳香環、含酸素芳香環等があげられる。ヘテロ原子を含まない前記芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等があげられる。ヘテロ芳香環としては、例えば、ピリジン環、チオフェン環、およびピレン環等があげられる。含窒素芳香環は、例えば、正電荷を有していなくてもよいし、有していてもよい。正電荷を有しない含窒素芳香環としては、例えば、ピロリン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、キノリン環、イソキノリン環、アクリジン環、3,4-ベンゾキノリン環、5,6-ベンゾキノリン環、6,7-ベンゾキノリン環、7,8-ベンゾキノリン環、3,4-ベンゾイソキノリン環、5,6-ベンゾイソキノリン環、6,7-ベンゾイソキノリン環、7,8-ベンゾイソキノリン環等があげられる。正電荷を有する含窒素芳香環としては、例えば、ピロリニウム環、ピリジニウム環、ピリダジニウム環、ピリミジニウム環、ピラジニウム環、キノリニウム環、イソキノリニウム環、アクリジニウム環、3,4-ベンゾキノリニウム環、5,6-ベンゾキノリニウム環、6,7-ベンゾキノリニウム環、7,8-ベンゾキノリニウム環、3,4-ベンゾイソキノリニウム環、5,6-ベンゾイソキノリニウム環、6,7-ベンゾイソキノリニウム環、7,8-ベンゾイソキノリニウム環等があげられる。含酸素芳香環または含硫黄芳香環としては、例えば、前記ヘテロ原子を含まない芳香環または含窒素芳香環の炭素原子または窒素原子の少なくとも一つを、酸素原子および硫黄原子の少なくとも一方で置き換えた芳香環があげられる。
R11、R21、R31、およびR41において、前記アルキル基または前記芳香環が置換基を有する場合、前記置換基は、特に限定されず、任意であるが、例えば、スルホ基、ニトロ基、ジアゾ基等があげられる。
R111は、炭素数が5~40のアルキル基であり、エーテル結合、ケトン(カルボニル基)、エステル結合、若しくはアミド結合、置換基、または芳香環が含まれていてもよく、
R21およびX-は、前記化学式(XI)と同じである。
R111において、前記芳香環は、特に限定されず、例えば、ヘテロ原子を含んでいても含んでいなくても良く、置換基を有していても有していなくても良い。R111において、前記芳香環の具体例は、特に限定されないが、例えば、前記化学式(XI)のR11、R21、R31、およびR41と同様である。
R111において、前記アルキル基または前記芳香環が置換基を有する場合、前記置換基は、特に限定されず、任意であるが、例えば、前記化学式(XI)のR11、R21、R31、およびR41と同様である。
R21は、例えば、メチル基またはベンジル基でも良く、前記ベンジル基は、ベンゼン環の水素原子の1以上が任意の置換基で置換されていても置換されていなくても良く、前記任意の置換基は、例えば、アルキル基、不飽和脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ヒドロキシ基(-OH)、メルカプト基(-SH)、またはアルキルチオ基(-SR、Rはアルキル基)であっても良い。
R111およびX-は、前記化学式(XII)と同じである。
R100は、環状構造を形成していてもよく、前記環状構造は、飽和でも不飽和でもよく、芳香環でも非芳香環でもよく、1以上の置換基を有していても有していなくてもよく、
R11およびX-は、前記化学式(XI)と同じである。
各Zは、それぞれ、CHまたはNであり、同一でも異なっていてもよく、CHの場合は、Hは置換基で置換されていてもよく、
R11およびX-は、前記化学式(XI)と同じである。
R101、R102、R103、およびR104は、それぞれ水素原子または置換基であり、R101、R102、R103、およびR104は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、
または、R101、R102、R103、およびR104のうち2つ以上が一体化し、それらが結合するN+とともに環状構造を形成していてもよく、前記環状構造は、飽和でも不飽和でもよく、芳香環でも非芳香環でもよく、1以上の置換基を有していても有していなくてもよく、
Zは、CHまたはNであり、CHの場合は、Hは置換基で置換されていてもよく、
R11およびX-は、前記化学式(XI)と同じである。
R111~R118は、それぞれ水素原子または置換基であり、R111~R118は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、
または、R111~R118のうち2つ以上が一体化して環状構造を形成していてもよく、前記環状構造は、
芳香環でも非芳香環でもよく、1以上の置換基を有していても有していなくてもよく、
Zは、CHまたはNであり、CHの場合は、Hは置換基で置換されていてもよく、
R11およびX-は、前記化学式(XI)と同じである。
つぎに、本発明のラジカルの製造方法について説明する。
Rは、水素原子または任意の置換基であり、
Arは、前記電子供与基であり、1個でも複数でも良く、複数の場合は同一でも異なっていても良く、
含窒素芳香族カチオンを形成する含窒素芳香環は、RおよびAr以外の任意の置換基を1以上有していても良いし、有していなくても良く、
前記式(I)中、
R1は、水素原子または任意の置換基であり、
Ar1~Ar3は、それぞれ水素原子または前記電子供与基であり、同一でも異なっていても良く、Ar1~Ar3の少なくとも一つは前記電子供与基である。
本発明の酸化反応生成物の製造方法は、前述のとおり、
被酸化物を酸化して酸化反応生成物を製造する方法であって、
前記本発明のラジカルの製造方法により前記ラジカルを製造するラジカル製造工程と、
前記ラジカルの作用により、前記被酸化物と酸化剤とを反応させて前記酸化反応生成物を生成させる酸化反応工程と、
を含むことを特徴とする。
前述のとおり、本発明の薬剤は、ラジカル発生触媒と、ラジカル発生源とを含み、前記ラジカル発生触媒が、前記本発明のラジカル発生触媒であることを特徴とする。本発明における薬剤において、その他の構成および条件は、特に制限されない。なお、前記アンモニウムが、前記ルイス酸性およびブレーンステッド酸性の少なくとも一方を有する物質を兼ねていても良い。
本発明のラジカル発生触媒と、亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸イオンおよび亜ハロゲン酸塩からなる群から選択される少なくとも一つとを含み、
前記本発明のラジカル発生触媒が、亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸イオンおよび亜ハロゲン酸塩からなる群から選択される少なくとも一つのラジカル発生源からのラジカル発生を触媒するラジカル発生触媒であり、かつ、前記ラジカル発生触媒のルイス酸性度が、0.4eV以上であり、
酸性でないことを特徴とする液状の薬剤であってもよい。
本発明の薬剤は、例えば、殺菌剤として用いることができる。従来、殺菌剤として用いられているものは種々あるが、殺菌効果が十分でない。濃度を高くすることにより殺菌効果を高めることができるものもあるが、安全性に問題がある。本発明の薬剤を含む殺菌剤は、濃度が低くても十分な殺菌効果を有し、安全性が高い。
本発明の薬剤は、例えば、手や指などを消毒するための手指消毒用殺菌剤として用いることができる。本発明の薬剤を含む手指消毒用殺菌剤は、濃度が低くても十分な殺菌効果を有し、安全性が高い。
本発明の薬剤は、例えば、消臭剤として用いることができる。一般的に殺菌剤として用いられているエタノールなどの殺菌剤は、消臭効果を有していない。二酸化塩素には、消臭効果があるが、安全性が極めて低い。また、他に販売されている商品の中には、殺菌及び消臭効果を有すると記載されているものもある。例えば、衣類に直接、又は室内、トイレ内、若しくは車内などで薬剤をスプレーして、殺菌及び消臭効果を謳う商品が存在する。このような商品の殺菌成分は、通常、第四級アンモニウム塩が用いられている。しかし、一般に用いられている第四級アンモニウム塩は、ラジカル発生源(例えばオキソ酸等)を併用していないために、高濃度としないと十分な殺菌効果が得られないことが多く、使用後にべとつく等の問題がある。また、第四級アンモニウム塩には、消臭効果がないので、別途、消臭成分が混合されている。消臭成分としては、シクロデキストリンが通常用いられているが、シクロデキストリンは、悪臭の原因となる成分を分解する能力はなく、悪臭の原因となる成分を単にマスキングしているだけであり、悪臭そのものを除去することができない。これに対し、本発明の薬剤を含む消臭剤は、前記の作用機序を有することにより、例えば、高い殺菌効果を有し、且つ、例えば、悪臭の元となる物質を分解することができ、高い消臭効果を有する。
本発明の薬剤は、例えば、金属用抗菌剤として用いることができる。本発明の薬剤を含む抗菌剤は、安全性が高いので、例えば、キッチンにある金属製品にスプレーや塗布することができる。また、本発明の薬剤を含む抗菌剤は、腐食を起こしにくいので、金属に用いても腐食しにくい。
本発明の薬剤は、例えば、口腔ケア剤として用いることができる。本発明の薬剤を含む口腔ケア剤は、安全性が高いので、口腔内での使用に適している。
本発明の薬剤は、例えば、ニキビ治療薬として用いることができる。本発明の薬剤を含むニキビ治療薬は、安全性が高いので、顔に塗布することができる。
本発明の薬剤は、例えば、褥瘡用消毒剤として用いることができる。本発明の薬剤を含む褥瘡用消毒剤は、安全性が高いので、体に塗布することができる。
本発明の薬剤は、例えば、白癬菌など真菌類による患部を消毒する殺菌剤として用いることができる。
本発明の薬剤は、例えば、プールの水や風呂水中に発生するレジオネラなどの菌を殺すことができる。しかも金属も腐食せず、ガスも発生しない。したがって、本発明の薬剤を含む水浄化用殺菌剤は、安全に用いることができる。
(1)膀胱炎の予防、治療、症状の軽減等
(2)カンジダ症の予防、治療、症状の軽減等(口腔・膣洗浄含む)
(2)目薬・洗眼用(ものもらい等の疾患に対する用途を含む)
(3)耳・鼻洗浄用(中耳炎、外耳炎、副鼻腔炎など)
(4)口腔洗浄・PMTC(プロフェッショナル・メカニカル・トゥース・クリーニング)。誤嚥性肺炎予防のための口腔洗浄およびPMTC、高齢者または障害者のQOL(クォリティ・オブ・ライフ)の向上のための口腔洗浄およびPMTCを含む。
(5)腹腔洗浄(腹膜炎・腹膜播種等の処置を含む。)
(6)腸洗浄
(7)皮膚系の組織の消毒・洗浄等
(8)手指消毒・洗浄
(9)患部消毒・洗浄・清拭(創傷部含む)
(10)アトピーなどの皮膚炎の処置(患部消毒・洗浄・清拭等)(11)ひょうそう(爪囲炎)毛包炎、よう、せつなど細菌感染による患部の消毒・洗浄
(1)上気道感染症予防(インフルエンザ、SARS、MERS含む)
(2)食中毒予防(ノロ、サルモネラ等)
(3)吐瀉物処理
(4)B型肝炎・C型肝炎ウイルス不活化(5)潰瘍性大腸炎の予防、治療、症状の軽減等
(6)カビ・真菌対策(すなわち、菌・ウイルス以外の対策にも使用可能。)(7)口内炎の予防、治療、症状の軽減等(分子標的薬副作用など)
(8)手術の、術前術後のケア(がんの手術等を含む)
(9)がんの患部のケア(口腔、マンモ、自壊創等を含む)
(1)入れ歯洗浄
(2)哺乳瓶殺菌
(3)机、ドアノブなど不特定多数の人が触る身の回りのものの殺菌(感染予防)、消臭等
(4)電車、飛行機、バスなど公共の交通機関の殺菌、消臭等
(5)学校や幼稚園、保育園の環境全般の殺菌(感染予防等のための、机、ドア、棚、スイッチ類、積み木などの玩具類等の殺菌を含む)
(6)医療用機器の殺菌等(人工透析器の内部・パイプ洗浄及び殺菌を含む)
(7)レントゲン・CT・心電図・など診断機器の清拭または清掃、洗浄
(8)診察・オペ用資材殺菌(メスなど金属や樹脂などを含む)
(1)コンタクトレンズ保存液
(2)メガネ洗浄液
(3)超音波洗浄機
(4)清拭剤
(5)ガラス清拭清掃(フロントガラス含む)
(1)口臭
(2)体臭
(3)便臭
(4)化学物質、ガスなどによる臭い(化学工場、食品工場等の工場全般の臭いを含む)
(5)ゴミ関連
(6)生ゴミ、ゴミ集積所、パッカー車、リサイクルセンター、焼却場
(7)下水管関連
(8)パイプ、オイルトラップなどトラップ設備
(9)タバコ
(10)医療関係(患者のQOL向上目的の用途を含む。また、自壊創による悪臭等の消臭を含む。)
(11)オペ室
(12)病室
(13)鶏舎・豚舎・牛舎などの環境臭(糞臭、排水)
(14)食肉センター(屠殺場)
本発明の農畜産用殺菌剤は、前記本発明の農畜産用薬剤を含むことを特徴とする。前記本発明の農畜産用薬剤は、例えば、殺菌剤として用いることができる。従来、殺菌剤として用いられているものは種々あるが、殺菌効果が十分でない。濃度を高くすることにより殺菌効果を高めることができるものもあるが、安全性に問題がある。本発明に係る農畜産用薬剤を含む農畜産用殺菌剤は、例えば、濃度が低くても十分な殺菌効果を有し、安全性が高い。
本発明の農畜産用手指消毒用殺菌剤は、前記本発明の農畜産用薬剤を含むことを特徴とする。前記本発明にかかる農畜産用薬剤は、例えば、手や指などを消毒するための農畜産用手指消毒用殺菌剤として用いることができる。本発明に係る農畜産用薬剤を含む農畜産用手指消毒用殺菌剤は、例えば、濃度が低くても十分な殺菌効果を有し、安全性が高い。
本発明の農畜産用消臭剤は、前記本発明の農畜産物用薬剤を含むことを特徴とする。前記本発明に係る農畜産用薬剤は、例えば、農畜産用消臭剤として用いることができる。一般的な殺菌成分としては、通常、第四級アンモニウム塩が用いられている。第四級アンモニウム塩は高濃度としないと十分な殺菌効果が得られないことが多く、安全性に問題がある。また、第四級アンモニウム塩には、消臭効果がないので、別途、消臭成分が混合されている。消臭成分としては、シクロデキストリンが通常用いられているが、シクロデキストリンは、悪臭の原因となる成分を分解する能力はなく、悪臭の原因となる成分を単にマスキングしているだけであり、悪臭そのものを除去することができない。本発明に係る農畜産用薬剤を含む農畜産用消臭剤は、例えば、高い殺菌効果を有し、且つ悪臭の元となる物質を取り除くことができ、高い消臭効果を有する。
本発明の真菌類に対する農畜産用殺菌剤は、前記本発明の農畜産用薬剤を含むことを特徴とする。本発明に係る真菌類に対する農畜産用殺菌剤は、例えば、白癬菌などの真菌類による患部を消毒する殺菌剤として用いることができる。
本発明の農畜産用水浄化剤は、前記本発明の農畜産用薬剤を含むことを特徴とする。前記本発明に係る農畜産用水浄化剤は、例えば、前記農畜産に使用する水に発生するレジオネラなどの菌を殺菌できる。また、本発明の農畜産用薬剤は、金属も腐食せず、ガスも発生しない。したがって、本発明の農畜産用薬剤を含む農畜産用水浄化剤は、安全に用いることができる。本発明の農畜産用水浄化剤は、例えば、水に含まれる菌の殺菌または水質の改善に使用できる。このため、本発明の農畜産用水浄化剤は、例えば、農畜産用水の殺菌剤または農畜産用水の水質改善剤ということもできる。
本発明の農畜産用薬剤の使用方法は、対象物と、前記本発明の農畜産用薬剤とを接触させる工程を含むことを特徴とする。本発明に係る農畜産用薬剤の使用方法によれば、例えば、前記対象物を殺菌、消臭などできる。
本参考例では、スカンジウムトリフラートと亜塩素酸ナトリウムにより、スチレンの効率的なジヒドロキシル化ができることを確認した。具体的には、常温常圧下で、スカンジウムトリフラートと亜塩素酸イオン(ClO2 -)によるスチレンのジヒドロキシル化により、1-フェニルエタン-1,2-ジオールを効率的に製造することができた。スカンジウムトリフレートは、強ルイス酸として作用し、亜塩素酸イオン(ClO2 -)から二酸化塩素ラジカル(ClO2 ・)を生成させるとともに、二酸化塩素ラジカル(ClO2 ・)の反応性を向上させることが確認された。
1 M. Schroeder, Chem. Rev., 1980, 80, 187-213.
2 (a) E. N. Jacobsen, I. Marko, W. S. Mungall, G. Schroeder and K. B.Sharpless, J. Am. Chem. Soc., 1988, 110, 1968-1970; (b) S. G.Hentges and K. B. Sharpless, J. Am. Chem. Soc., 1980, 102, 4263-4265.
3 W. Yu, Y. Mei, Y. Kang, Z. Hua and Z. Jin, Org. Lett., 2004, 6,3217-3219.
4 (a) A. J. DelMonte, J. Haller, K. N. Houk, K. B. Sharpless, D. A.Singleton, T. Strassner, and A. A. Thomas, J. Am. Chem. Soc., 1997,119, 9907-9908. (b) J. S. M. Wai, I. Marko, J. S. Svendsen, M. G.Finn, E. N. Jacobsen and K. B. Sharpless, J. Am. Chem. Soc., 1989,111, 1123-1125.
5 (a) S. Kobayashi, M. Endo and S. Nagayama, J. Am. Chem. Soc.,1999, 121, 11229-11230; (b) S. Kobayashi, T. Ishida and R. Akiyama,Org. Lett., 2001, 3, 2649-2652.
6 H. C. Kolb, P. G. Andersson and K. B. Sharpless, J. Am. Chem. Soc.,1994, 116, 1278-1291.
7 E. J. Corey and M. C. Noe, J. Am. Chem. Soc., 1996, 118, 11038-11053.
8 S. Y. Jonsson, K. Faernegrdh and J.-E. Baeckvall, J. Am. Chem. Soc.,2001,123, 1365-1371.
9 H. Dodgen and H. Taube, J. Am. Chem. Soc., 1949, 71, 2501-2504.
10 J. K. Leigh, J. Rajput, and D. E. Richardson, Inorg. Chem., 2014, 53,6715-6727.
11 C. L. Latshaw, Tappi, 1994, 163-166.
12 (a) J. J. Leddy, in Riegel’s Handbook of Industrial Chemistry, 8th edn. Ed., J. A. Kent, Van Nostrand Reinhold Co. Inc, New York, 1983, pp. 212-235; (b) I. Fabian, Coord. Chem. Rev., 2001, 216-217, 449-472.
13 M. J. Masschelen, J. Am. Works Assoc., 1984, 76, 70-76.
14 X.-L. Geng, Z. Wang, X.-Q. Li, and C. Zhang J. Org. Chem., 2005, 70, 9610-9613
15 A. Jangam and D. E. Richardson, Tetrahedron Lett., 2010, 51, 6481-6484.
16 J. J. Kolar and B. O. Lindgren, Acta Chem. Scand. B, 1982, 36, 599-605.
17 B. O. Lindgren, T. Nilsson, Acta Chem. Scand. B, 1974, 28, 847-852.
18 (a) S. Fukuzumi and K. Ohkubo, J. Am. Chem. Soc., 2002, 124, 10270-10271; (b) S. Fukuzumi and K. Ohkubo, Chem.-Eur. J., 2000, 6, 4532-4535.
19 スチレン(66mM)のNaClO2(200mM)によるエポキシ化をMeCN/H2O(4:1 v/v)混合溶液中333Kで調べた(参考文献等14)。スチレンオキシドの収率は44%であり、スチレンの転化率は61%であった。
20 E. V. Bakhmutova-Albert, D. W. Margerum, J. G. Auer and B. M. Applegate, Inorg. Chem., 2008, 47, 2205-2211.
21 1H NMRで確認したところ、CF3COOHまたはSc(OTf)3による反応中、中間体としてのスチレンエポキシドは観測されなかった。
22 C. Rav-Acha, E. Choushen (Goldstein) and S. Sarel, Helv. Chim. Acta, 1986, 69, 1728-1733.
23 ClO2 ・水溶液中、無水酢酸とNaClO2から生成された(参考文献等22)。ClO2 ・は、プロトン化形態(H+ClO2 ・)である可能性がある。
24 W. Masschelein, Ind. Eng. Chem. Prod. Res. Devel., 1967, 6, 137-142.
25 この数値は、ClO2 ・によるスチレンのエポキシドへの変換(1.17×10-2M-1s-1)(参考文献等10)よりも若干大きい。
26 (a) T. Ozawa and T. Kwan, Chem. Pharm. Bull., 1983, 31, 2864-2867; (b) T. Ozawa, T. Trends Org. Chem., 1991, 2, 51-58.
27 Sc3+ClO2 ・とH+ClO2 ・のスピン分布の計算値を図5に示した。それによれば、ScおよびH核はスピン密度を示さない。このことは、EPRスペクトルが、Sc(I=7/2)またはH(I=1/2)に由来する超微細分裂を示さないことを意味する。
28 Sc3+と金属オキソ錯体のオキソ基との結合については、下記を参照のこと:
(a) J. Chen, X. Wu, K. M. Davis, Y.-M. Lee, M. S. Seo, K.-B. Cho, H. Yoon, Y. J. Park, S. Fukuzumi, Y. N. Pushkar and W. Nam, J. Am. Chem. Soc., 2013, 135, 6388-6391; (b) H. Yoon, Y.-M. Lee, X. Wu, K.-B. Cho, Y. N. Pushkar, W. Nam and S. Fukuzumi, J. Am. Chem. Soc., 2013, 135, 9186-9194; (c) S. Fukuzumi, K. Ohkubo, Y.-M. Lee and W. Nam, Chem.-Eur. J., 2015, 21, 17548-17559.
29 Sc3+による中性ラジカルの不均化については、I. Nakanishi, T. Kawashima, K. Ohkubo, T. Waki, Y. Uto, T. Kamada, T. Ozawa, K. Matsumoto and S. Fukuzumi, S. Chem. Commun., 2014, 50, 814-816.を参照のこと。
本実施例では、塩化ベンゼトニウムによる酸素還元反応の活性化を行った。ルイス酸は様々な有機合成反応で広く研究開発が行われている。その多くは、金属イオンまたは金属錯体をルイス酸点として用いて、その周辺の配位子設計を伴う研究に注力されてきた。本実施例では、強力なルイス酸性を有するアンモニウム誘導体として塩化ベンゼトニウムを用い、それが、亜塩素酸ナトリウムを用いた芳香族系有機化合物の酸素化反応に広く有用であることを確認した。
本実施例では、ルイス酸によるNaClO2の不均化反応の加速効果について確認した。
本実施例では、塩化ベンゼトニウムを用いたClO2ラジカル発生および酸化反応の促進について確認した。
本参考例では、ルイス酸を用いたNaClO2による基質の酸素化反応を、トリフェニルフォスフィンからトリフェニルフォスフィンオキシドへの酸素化反応に用い、有用であることを確認した。より具体的には、NaClO2によるトリフェニルフォスフィンからトリフェニルフォスフィンオキシドへの酸素化反応を、ルイス酸であるスカンジウムトリフレートSc(OTf)3の存在下および非存在下で行い、ルイス酸が反応を促進することを確認した。
[Ph3P]=0.4mM
[NaClO2]=0.4mM
Sc(OTf)3=0または10mM
0.12M 酢酸緩衝液 pH5.3
MeCN/H2O(4:6)
2Ph3P+NaClO2 --> 2Ph3P=O+NaCl (6)
本参考例では、アセトニトリル中、9-メシチル-10-メチルアクリジニウム(Acr+-Mes)の過塩素酸塩(Acr+-Mes ClO4 -)および酸素の存在下で原料芳香族化合物(ベンズアルデヒド)の酸化反応を行って酸化反応生成物(安息香酸)を得た(図20)。反応は、Bzn+Cl-の存在下および非存在下で行った。
本参考例では、前記「ルイス酸性度の測定方法」で説明した測定方法により、各種アンモニウムをラジカル発生触媒、酸素分子をラジカル発生源(酸化剤を兼ねる)として用い、コバルトテトラフェニルポルフィリンの酸化反応生成物を製造した。すなわち、下記化学反応式(1a)中のコバルトテトラフェニルポルフィリン、飽和O2およびルイス酸性度の測定対象物(例えば金属等のカチオンであり、下記化学反応式(1a)ではMn+で表される)を含むアセトニトリル(MeCN)を、室温において紫外可視吸収スペクトル変化の測定をし、酸化反応生成物であるCoTPP+が得られたことを確認した。
つぎに、本発明における薬剤の具体的な実施例について説明する。ただし、本発明における薬剤は、以下の実施例に限定されない。
亜塩素酸ナトリウム5gを精製水に溶かし100mLとし、4万ppmの亜塩素酸ナトリウム水溶液を得た(A液)。ベンゼトニウムクロリド0.1gを精製水100mLに溶かし、1000ppm水溶液100mLを作った(B液)。0.1Mリン酸・NaOHバッファー(pH=9.5)を準備した。pH7の精製水600mLに10倍に希釈したA液20mL、及びバッファー80mLを入れた後、B液80mLを入れ、精製水を加え800mLとし、実施例3に係る薬剤を得た。この薬剤は、NaClO2および塩化ベンゼトニウムを含む水溶液であった。このようにして製造した、実施例3に係る薬剤のpHを測定したところ、7.5であった。
亜塩素酸ナトリウム5gを精製水に溶かし100mLとし、4万ppm亜塩素酸ナトリウム水溶液を得た。ベンゼトニウムクロリド0.1gを精製水100mLに溶かし、1000ppm水溶液を作った。4万ppm亜塩素酸ナトリウム水溶液を40倍に希釈し、1000ppm水溶液を得た。亜塩素酸ナトリウム水溶液とベンゼトニウムクロリド水溶液をそれぞれ10mLずつ取り、精製水80mLと混合し100ppm水溶液とし、実施例4に係る薬剤(NaClO2および塩化ベンゼトニウムを含む水溶液)を得た。このようにして得た実施例4の薬剤について、pHを測定したところ、7.5であった。また、実施例4の薬剤について、実施例3の薬剤と同様にしてESRスペクトルを測定したところ、同様に、ベンゼトニウムクロリド(塩化ベンゼトニウム)が亜塩素酸ナトリウム(NaClO2)に対しラジカル発生触媒として働き、二酸化塩素ラジカルが生成したことが確認された。
比較例2:次亜塩素酸ナトリウムを含む殺菌消臭剤(市販品)。
比較例3:次亜塩素酸及び水を含む殺菌消臭剤(市販品)。
比較例4:次亜塩素酸ナトリウム及び水を含む殺菌消臭剤(市販品)。
比較例5:次亜塩素酸ナトリウム及び水を含む殺菌消臭剤(市販品)。
比較例6:亜塩素酸ナトリウム標準液1000ppm(試験品)。
比較例8:ベンゼトニウムクロリド水溶液(試験品)。
実験例1においては、以下をまず準備した。
使用菌種:
黄色ブドウ球菌(Staphylococcus aureus)
大腸菌(Escherichia coli MV1184)
菌液:
BHI寒天培地で作成した菌を白金耳で釣菌し、BHI液体培地に入れ振盪した。BHI液体培地で一昼夜増殖させた菌液50μLをBHI液体培地で190倍希釈し混合、攪拌したものを菌液とした。
実施例3に係る薬剤の代わりに、実施例4又は比較例7若しくは8に係る薬剤を用いて、同様に大腸菌のMICを求めた。結果を表2に示す。
実験例3においては、以下をまず準備した。
使用菌種:
化膿レンサ球菌(Streptococcus pyogenes)
菌液:
実験例1と同様にして菌液を得た。
実験例4においては、以下をまず準備した。
使用菌種:
う蝕菌(Streptcoccus mutans)
菌液:
BHI寒天培地で作成した菌を白金耳で釣菌し、BHI液体培地に入れ振盪した。BHI液体培地で一昼夜増殖させた菌液50μLをBHI液体培地で190倍希釈し混合、攪拌したものを菌液とした。
実験例5においては、以下の菌種を用い、それ以外は実験例1と同様に実施例3に係る薬剤を用い、MIC及びMBCを求めた。結果を表4に示す。
使用菌種:
細菌1(Porphyromonas gingivalis)
細菌2(Treponema denticola)
細菌3(Tannerella fosythensis)
細菌4(Aggregatibacter actinomycetemcomitans)
鉄、アルミニウム、ブリキ、及びステンレスについて、各試験ピース(25.4mm×25.4mm)を洗浄した後、実施例3に係る薬剤、次亜塩素酸ナトリウム1.2%水溶液、及び水道水がそれぞれ入った樹脂容器に各試験ピースを浸漬した後、樹脂容器に蓋をした。表5及び6に記載の時間経過ごとに不織布上に取り出し、試験ピースの状況を目視で確認した。確認は、必要に応じて写真撮影を行い、また、変化が分かりにくい場合は、顕微鏡で観察した。評価は、以下の基準を用いた。
±:錆発生
+:相当量の錆
++:多量の錆
+++:金属面の腐食
日本電機工業会規格JEM1467「家庭用空気清浄機」に準拠して、脱臭性能試験を行った。測定は、内容積1m3のアクリル容器(縦1m×横1m×奥行1m)内で、攪拌機を作動させ、タバコを燃焼させ、煙を充満させた。全てのタバコの燃焼が終了した後、攪拌機を停止、噴霧器を稼働させて実施例3に係る薬剤を噴霧し、容器内のアンモニア、アセトアルデヒド、及び酢酸の3成分の濃度について一定時間毎に2時間測定し、濃度変化を追跡した。同様に、アクリル容器にホルムアルデヒド蒸気を注入し、容器内のホルムアルデヒド濃度について一定時間毎に2時間測定し、濃度変化を追跡した。なお、噴霧器は‘Manual’で運転した。また、対照として噴霧器を稼働しない空試験も実施した。結果を、表7乃至10に示す。悪臭成分の測定は、検知管(ガステック社製)により実施し、使用した検知管を下記に示す。
アンモニア No.3L
アセトアルデヒド No.92L
酢酸 No.81L
ホルムアルデヒド No.91
噴霧器で実施例3に係る薬剤を噴霧して、タバコ臭の脱臭性能を測定した。まず、広さ6畳相当の室内でタバコを燃焼させ、煙を充満させて一定濃度とした。次に、噴霧器を配置し、稼働前、稼働1時間後、稼働2時間後の3回、部屋の臭気強度を測定した。噴霧器の配置は部屋の壁際であり、臭気の採取は部屋中央の高さ1mの位置とした。部屋には撹拌用ファンを2台設置し、常時撹拌状態とした。なお、噴霧器は‘Manual’で運転した。また、対照として噴霧器を稼働しない空試験も実施した。臭気強度は、6段階臭気強度表示法によって以下のように判定した。結果を表11に示す。
0:無臭
1:非常に弱い臭い(検知閾値濃度)
2:弱い臭い(認知閾値濃度)
3:容易に感じる臭い
4:強い臭い
5:非常に強い臭い
噴霧器で実施例3に係る薬剤を噴霧して、浮遊菌(一般細菌、真菌)の除去性能を測定した。まず、広さ6畳相当の室内に噴霧器を配置し、稼働前、稼働1時間後、稼働2時間後の3回、空気中の浮遊菌の濃度を測定した。噴霧器の配置は部屋の壁際であり、浮遊菌の採取は部屋中央の高さ1mの位置とした。部屋には撹拌用ファンを2台設置し、常時撹拌状態とした。浮遊菌の測定は、メンブランフィルタによる濾過捕集法により実施した。なお、噴霧器は‘Manual’で運転した。また、対照として噴霧器を稼働しない空試験も実施した。結果を表12及び13に示す。
使用フィルタ:東洋濾紙社製,37mmモニター
吸引空気量:300L(毎分20Lで15分間吸引)
使用培地:一般細菌用 m-TGE Broth 液体培地(東洋製作所製)
真菌用 m-GreenY&M Broth 液体培地(東洋製作所製)
培養条件:一般細菌 30℃ 72時間
真菌 30℃ 5日間
実験例10においては、以下の菌種を用い、それ以外は実験例1と同様に実施例3に係る薬剤を用い、MIC又はMBCを求めた。結果を表14に示す。
使用菌種:
う触菌
溶連菌
枯草菌
カンジタ(Candida albicans)
機器分析実施マニュアル;検知管法,ガスクロマトグラフィー法((社)繊維評価技術協議会 消臭加工繊維製品認証基準 準用)の記載に従って、実施例3に係る薬剤を用いて消臭試験を行った。結果を表15に示す。
濃度2:2時間経過後のガス濃度
ガスの減少率:((濃度1-濃度2)/濃度1)×100
実施例3の薬剤を1回に約2mL、1日に数回、ニキビに塗布することを14日間継続した。その結果、薬剤の塗付によるニキビの治癒が明らかであり、本発明の薬剤がニキビ治療薬として有用であることが確認された。
アンモニウムとして、塩化ベンゼトニウムに代えて、半分の物質量(モル数)の塩化アンモニウム(NH4Cl)を用いる以外は実施例3と同様にして、実施例5に係る薬剤を製造した。この実施例5の薬剤のpHを測定したところ、7.5であった。さらに、NaClO2濃度を100mM、塩化アンモニウム(NH4Cl)濃度を0.5mMとしたこと以外は実施例5の薬剤と同様にして薬剤を製造し、その薬剤について、実施例3と同様にしてESRスペクトルを測定した。測定したESRスペクトル図を、図24に示す。図示のとおり、ラジカルの存在を示すピークが現れたことから、塩化アンモニウム(NH4Cl)が亜塩素酸ナトリウム(NaClO2)に対しラジカル発生触媒として働き、二酸化塩素ラジカルが生成したことが確認された。
アンモニウムとして、塩化ベンゼトニウムに代えて、同じ物質量(モル数)の塩化ベンザルコニウム(下記化学式)を用いる以外は実施例3と同様にして、実施例6の薬剤を得た。この実施例6の薬剤のpHを測定したところ、7.5であった。さらに、NaClO2濃度を100mM、塩化ベンザルコニウム濃度を1.0mMとしたこと以外は実施例6の薬剤と同様にして薬剤を製造し、その薬剤について、実施例3と同様にしてESRスペクトルを測定した。測定したESRスペクトル図を、図25に示す。図示のとおり、ラジカルの存在を示すピークが現れたことから、アンモニウムである塩化ベンザルコニウムが亜塩素酸ナトリウム(NaClO2)に対しラジカル発生触媒として働き、二酸化塩素ラジカルが生成したことが確認された。
アンモニウムとして、塩化ベンゼトニウムに代えて、同じ物質量(モル数)の塩化ベンジルトリエチルアンモニウム(下記化学式)を用いる以外は実施例3と同様にして、実施例7の薬剤を得た。この実施例7の薬剤のpHを測定したところ、7.5であった。さらに、NaClO2濃度を100mM、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム濃度を1.0mMとしたこと以外は実施例3の薬剤と同様にして薬剤を製造し、その薬剤について、実施例3と同様にしてESRスペクトルを測定した。測定したESRスペクトル図を、図26に示す。図示のとおり、ラジカルの存在を示すピークが現れたことから、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムが亜塩素酸ナトリウム(NaClO2)に対しラジカル発生触媒として働き、二酸化塩素ラジカルが生成したことが確認された。
アンモニウムとして、塩化ベンゼトニウムに代えて、同じ物質量(モル数)の塩化メチルアンモニウムを用いる以外は実施例3と同様にして、実施例7の薬剤を得た。この実施例8の薬剤のpHを測定したところ、7.5であった。さらに、NaClO2濃度を100mM、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム濃度を1.0mMとしたこと以外は実施例3の薬剤と同様にして薬剤を製造し、その薬剤について、実施例3と同様にしてESRスペクトルを測定した。その結果、ラジカルの存在を示すピークが現れたことから、塩化メチルアンモニウムが亜塩素酸ナトリウム(NaClO2)に対しラジカル発生触媒として働き、二酸化塩素ラジカルが生成したことが確認された。
(1)測定条件
前述のとおり、J. Org. Chem. 2003, 68, 4720-4726に記載の方法によりアンモニウム塩のルイス酸性度を測定および算出した。具体的には、J. Org. Chem. 2003, 68, 4720-4726の4724頁左21行~4724頁左6行に記載のように、O2をラジカル発生源としたCoTPPの酸化の反応速度を決定し、4725頁図6に記載のグラフに与えられている直線関係(y=14(ΔE)-8.0)に従って(yは速度定数の常用対数値)ルイス酸性度ΔE(eV)を算出した。
前記(1)の方法により測定および算出したルイス酸性度の数値を以下に示す。下記表16には、実施例3~7における4種のアンモニウムのルイス酸性度の数値を示す。また、下記表17には、それ以外の種々のアンモニウムのルイス酸性度の数値を示す。また、下記表16および17に加え、プラリドキシムヨウ化メチル(PAM)のルイス酸性度を、同様の方法で測定したところ、0.60eVであった。
塩化アンモニウムを含む実施例5の薬剤と、、塩化ベンザルコニウムを含む実施例6の薬剤と、塩化ベンジルトリエチルアンモニウムを含む実施例7の薬剤と、塩化メチルアンモニウムを含む実施例8の薬剤とをそれぞれ用いて、殺菌効果を確認した。
前記(1)により測定したMIC(最小発育阻止濃度)の結果は、下記表18に示すとおりであった。
実施例3の薬剤にpH緩衝液を加えてpH5.35に調整した。この薬剤を、以下において「MA-T」という。
実験例14(図27)において、Vehicle投与群およびMA-T(pH5.35)投与群の糞便(3~5個)をDSS投与直前(投与開始当日)および投与開始16日後に回収した。糞便の重さを測定後、RNAlater(RNAlater(ml)=糞便の重さ(g)×9)(Invitrogen)を加え、vortex mixerを用いて10倍希釈(v/w)の糞便破砕物を作成した。200μlの糞便破砕物を2mlスクリューキャップマイクロチューブに移し、1ml PBS(-)を加えvortex mixerを用いて撹拌後、5分間遠心(4℃,13,000×g)した。上清を取り除き、再度1ml PBS(-)を加えvortex mixerを用いて撹拌後、5分間遠心(4℃,13,000×g)し、上清を取り除いた。0.3g glass beads(経0.1mm)、300μl Tris-SDS溶液(100mM Tris-HCl,40mM EDTA(pH9.0),1% SDS)、500μl TE-saturated phenol(nacalai)を加え、FastPrep(5.0power level,30秒)(MP Biomedicals)で撹拌した。5分間遠心(4℃, 20000×g)したのち、上清400μlを2mlスクリューキャップマイクロチューブに移し、同量のphenol/chloroform/isoamyl alcohol(25:24:1)(nacalai)を加え、再度FastPrep (4.0power level,45秒)で撹拌した。5分間遠心(4℃, 20000×g)したのち、上清250μlを1.5mlスクリューキャップマイクロチューブに移し、25μl 3M sodium acetate(pH5.2)、300μl isopropanol(nacalai)を加えvortex mixerを用いて撹拌後、5分間遠心(4℃,20000×g)した。上清を取り除き、800μl 80% ethanolを加え、5分間遠心(4℃, 20000×g)した。上清を取り除き、60度のブロックインキュベータに30分間チューブを置き乾燥させた。200μl TE(pH8.0)(nacalai)を加え、回収した核酸(DNA)を溶解した。作成したDNA溶液および腸内細菌Standard plasmid DNAを用いて、糞便1g中の腸内細菌(Blautia cluster, Clostridium coccoides, Bacteroides fragilis)の数を定量PCR法((1)94℃ 5min, (2)94℃ 20sec, (3)55℃ 20sec, (4)72℃ 50sec, (1)1cycle/(2)~(4)45cycles)(Step One Plus, Applied Biosystems)により解析した。PCR法に使用したプライマーセット(Primer sets)は、下記のとおりである。
Primer sets;
Blautia cluster, 5’-gtgaaggaagaagtatctcgg-3’ and 5’-ttggtaaggttcttcgcgtt-3’;
Clostridium coccoides, 5’-aaatgacgggtacctgactaa-3’ and 5’-ctttgagtttcattcttgcgaa-3’;
Bacteroides fragilis, 5’-atagcctttcgaaagaagat-3’ and 5’-ccagtatcaactgcaatttta-3’.
つぎに、農畜産用薬剤の具体的な実施例について説明する。ただし、本発明の農畜産用薬剤は、下記実施例により制限されない。また、以下、本発明の実施例においては、実施例の農畜産用薬剤を、単に「薬剤」という場合がある。
農畜産用薬剤の実験例1においては、以下をまず準備した。
使用菌種:
黄色ブドウ球菌(Staphylococcus aureus)
大腸菌(Escherichia coli MV1184)
菌液:
BHI寒天培地で作製した菌を白金耳で釣菌し、BHI液体培地に入れ振盪した。BHI液体培地で一昼夜増殖させた菌液50μLをBHI液体培地で190倍希釈し混合、攪拌したものを菌液とした。
実施例3に係る農畜産用薬剤の代わりに、実施例4又は比較例7若しくは8に係る農畜産用薬剤を用いて、同様に大腸菌のMICを求めた。結果を表20に示す。
農畜産用薬剤の実験例3においては、以下をまず準備した。
使用菌種:
化膿レンサ球菌(Streptococcus pyogenes)
菌液:
農畜産用薬剤の実験例1と同様にして菌液を得た。
農畜産用薬剤の実験例4においては、以下をまず準備した。
使用菌種:
う蝕菌(Streptococcus mutans)
菌液:
BHI寒天培地で作製した菌を白金耳で釣菌し、BHI液体培地に入れ振盪した。BHI液体培地で一昼夜増殖させた菌液50μLをBHI液体培地で190倍希釈し混合、攪拌したものを菌液とした。
農畜産用薬剤の実験例5においては、以下の菌種を用い、それ以外は農畜産用薬剤の実験例1と同様に実施例3に係る農畜産用薬剤を用い、MIC及びMBCを求めた。結果を表22に示す。
使用菌種:
細菌1(Porphyromonas gingivalis)
細菌2(Treponema denticola)
細菌3(Tannerella forsythensis)
細菌4(Aggregatibacter actinomycetemcomitans)
鉄、アルミニウム、ブリキ、及びステンレスについて、各試験ピース(25.4mm×25.4mm)を洗浄した後、実施例3に係る農畜産用薬剤、次亜塩素酸ナトリウム1.2%水溶液、及び水道水がそれぞれ入った樹脂容器に各試験ピースを浸漬した後、樹脂容器に蓋をした。表23及び24に記載の時間経過ごとに不織布上に取り出し、試験ピースの状況を目視で確認した。確認は、必要に応じて写真撮影を行い、また、変化が分かりにくい場合は、顕微鏡で観察した。評価は、以下の基準を用いた。
±:錆発生
+:相当量の錆
++:多量の錆
+++:金属面の腐食
日本電機工業会規格JEM1467「家庭用空気清浄機」に準拠して、脱臭性能試験を行った。測定は、内容積1m3のアクリル容器(縦1m×横1m×奥行1m)内で、攪拌機を作動させ、タバコを燃焼させ、煙を充満させた。全てのタバコの燃焼が終了した後、攪拌機を停止、噴霧器を稼働させて実施例3に係る農畜産用薬剤を噴霧し、容器内のアンモニア、アセトアルデヒド、及び酢酸の3成分の濃度について一定時間毎に2時間測定し、濃度変化を追跡した。同様に、アクリル容器にホルムアルデヒド蒸気を注入し、容器内のホルムアルデヒド濃度について一定時間毎に2時間測定し、濃度変化を追跡した。なお、噴霧器は‘Manual’で運転した。また、対照として噴霧器を稼働しない空試験も実施した。結果を、表25乃至28に示す。悪臭成分の測定は、検知管(ガステック社製)により実施し、使用した検知管を下記に示す。
アンモニア No.3L
アセトアルデヒド No.92L
酢酸 No.81L
ホルムアルデヒド No.91
噴霧器で実施例3に係る農畜産用薬剤を噴霧して、タバコ臭の脱臭性能を測定した。まず、広さ6畳相当の室内でタバコを燃焼させ、煙を充満させて一定濃度とした。次に、噴霧器を配置し、稼働前、稼働1時間後、稼働2時間後の3回、部屋の臭気強度を測定した。噴霧器の配置は部屋の壁際であり、臭気の採取は部屋中央の高さ1mの位置とした。部屋には撹拌用ファンを2台設置し、常時撹拌状態とした。なお、噴霧器は‘Manual’で運転した。また、対照として噴霧器を稼働しない空試験も実施した。臭気強度は、6段階臭気強度表示法によって以下のように判定した。結果を表29に示す。
0:無臭
1:非常に弱い臭い(検知閾値濃度)
2:弱い臭い(認知閾値濃度)
3:容易に感じる臭い
4:強い臭い
5:非常に強い臭い
噴霧器で実施例3に係る農畜産用薬剤を噴霧して、浮遊菌(一般細菌、真菌)の除去性能を測定した。まず、広さ6畳相当の室内に噴霧器を配置し、稼働前、稼働1時間後、稼働2時間後の3回、空気中の浮遊菌の濃度を測定した。噴霧器の配置は部屋の壁際であり、浮遊菌の採取は部屋中央の高さ1mの位置とした。部屋には撹拌用ファンを2台設置し、常時撹拌状態とした。浮遊菌の測定は、メンブランフィルタによる濾過捕集法により実施した。なお、噴霧器は‘Manual’で運転した。また、対照として噴霧器を稼働しない空試験も実施した。結果を表30及び31に示す。
使用フィルタ:東洋濾紙社製,37mmモニター
吸引空気量:300L(毎分20Lで15分間吸引)
使用培地:一般細菌用 m-TGE Broth 液体培地(東洋製作所製)
真菌用 m-GreenY&M Broth 液体培地(東洋製作所製)
培養条件:一般細菌 30℃ 72時間
真菌 30℃ 5日間
農畜産用薬剤の実験例10においては、以下の菌種を用い、それ以外は農畜産用薬剤の実験例1と同様に実施例3に係る農畜産用薬剤を用い、MIC又はMBCを求めた。結果を表32に示す。
使用菌種:
う触菌
溶連菌
枯草菌
メチシリン耐性黄色ブドウ球菌(MRSA)
機器分析実施マニュアル;検知管法,ガスクロマトグラフィー法((社)繊維評価技術協議会 消臭加工繊維製品認証基準 準用)の記載に従って、実施例3に係る農畜産用薬剤を用いて消臭試験を行った。結果を表33に示す。
濃度2:2時間経過後のガス濃度
ガスの減少率:((濃度1-濃度2)/濃度1)×100
本発明の農畜産用薬剤をマウスに投与することにより、本発明の農畜産用薬剤の安全性が高いことを確認した。
本発明の農畜産用薬剤をウサギに投与することにより、本発明の農畜産用薬剤の安全性が高いことを確認した。
本発明の農畜産用薬剤をウサギに投与することにより、本発明の農畜産用薬剤の安全性が高いことを確認した。
本発明の農畜産用薬剤をモルモットに投与することにより、本発明の農畜産用薬剤の安全性が高いことを確認した。
本発明の農畜産用薬剤をモルモットに投与することにより、本発明の農畜産用薬剤の安全性が高いことを確認した。
本発明の農畜産用薬剤をヒトに投与することにより、本発明の農畜産用薬剤の安全性が高いことを確認した。
本発明の農畜産用薬剤により、いもち病の発生を抑制できることを確認した。
本発明の農畜産用薬剤により、いもち病の拡散を抑制できることを確認した。
本発明の農畜産用薬剤により、カメムシや害虫を忌避できることを確認した。
以下、アミノ酸、ペプチドおよびリン脂質の実施例について説明する。
前記「ルイス酸性度の測定方法(2)」により、下記のとおり、種々のアミノ酸、ペプチドおよびリン脂質の反応速度定数を測定した。なお、下記表において、「L-aspartate」はL-アスパラギン酸を表し、「L-glutamate」はL-グルタミン酸を表し、「L-glycine」はL-グリシンを表し、「L-lysine」はL-リシンを表し、「L-arginine」はL-アルギニンを表し、「GSSG」は酸化型グルタチオンを表し、「Cys-Cys」はシスチンを表し、「DPPS」はジパルミトイルホスファチジルセリンを表し、「DPPC」はジパルミトイルホスファチジルコリンを表し、「adenine」はアデニンを表す。また、「Kobs」は、反応速度定数(kcat)の測定値を表す。下記表に示すとおり、いずれのアミノ酸、ペプチドおよびリン脂質も、ルイス酸性を示すことが確認された。
ホスファチジルセリン、ホスファチジルコリン、ホスファチジン酸、ホスファチジルエタノールアミン、ホスファチジルグリセロール、カルジオリピン、L-アスパラギン酸およびL-セリンについて、それぞれ、「ルイス酸性度の測定方法(1)」または「ルイス酸性度の測定方法(2)」によりルイス酸性度を測定した。その結果、ホスファチジルセリン、ホスファチジルコリンおよびL-アスパラギン酸については、「ルイス酸性度の測定方法(1)」および「ルイス酸性度の測定方法(2)」の両方でルイス酸性度が確認された。ホスファチジン酸については、「ルイス酸性度の測定方法(2)」でルイス酸性度が確認された。カルジオリピンについては、「ルイス酸性度の測定方法(1)」でルイス酸性度が確認された。さらに、スフィンゴ脂質(リン脂質)であるガングリオシドGM1およびスフィンゴミエリンについて、「ルイス酸性度の測定方法(2)」でルイス酸性度を確認した。
参考例6および7でルイス酸性度を測定した各種アミノ酸、ペプチドおよびリン脂質を用いて、亜塩素酸またはその塩(亜塩素酸ナトリウム)から二酸化塩素ラジカルを製造した。これにより、前記各種アミノ酸、ペプチドおよびリン脂質が、亜塩素酸またはその塩(亜塩素酸ナトリウム)に対し、二酸化塩素ラジカル発生触媒として働くことを確認した。
前記各種アンモニウムを用いて、実施例3~8と同様にして薬剤を製造した。また、前記各種アンモニウムに代えて、参考例6および7でルイス酸性度を測定した各種アミノ酸、ペプチドおよびリン脂質を用いること以外は実施例3~8と同様にして薬剤を製造した。さらに、それらの薬剤を、前記薬剤の実験例および前記農畜産用薬剤の実験例と同様にして用い、殺菌作用等があることを確認した。
大腸菌(Escherichia coli MV1184)
菌液:
BHI寒天培地で作成した菌を白金耳で釣菌し、BHI液体培地に入れ振盪した。BHI液体培地で一昼夜増殖させた菌液50μLをBHI液体培地で190倍希釈し混合、攪拌したものを菌液とした。
Claims (38)
- ラジカル発生源からのラジカル発生を触媒するラジカル発生触媒であって、
前記ラジカル発生触媒は、下記化学式(XI)で表されるアンモニウム塩(ペルオキソ二硫酸塩を除く)を含み、かつ、前記アンモニウム塩のルイス酸性度が0.4eV以上かつ20eV以下であり、
前記ラジカル発生触媒は、pHが5.5以上かつ7.0未満である酸性の液中で、前記ラジカル発生源からのラジカル発生を触媒するために使用され、
前記ラジカル発生源が、亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸イオンおよび亜ハロゲン酸塩からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とするラジカル発生触媒。
前記化学式(XI)中、
R11、R21、R31、およびR41、は、それぞれ水素原子もしくは芳香環であるか、またはアルキル基であり、前記アルキル基は、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、若しくはアミド結合、または芳香環が含まれていてもよく、R11、R21、R31、およびR41は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、
または、R11、R21、R31、およびR41のうち2つ以上が一体化し、それらが結合するN+とともに環状構造を形成していてもよく、前記環状構造は、飽和でも不飽和でもよく、芳香環でも非芳香環でもよく、1以上の置換基を有していても有していなくてもよく、
X-は、アニオン(ペルオキソ二硫酸イオンを除く)である。 - 前記化学式(XI)で表されるアンモニウム塩において、
R11、R21、R31、およびR41、は、それぞれ水素原子またはアルキル基であり、R11、R21、R31、およびR41は、それぞれ同じでも異なっていてもよい、
請求項1記載のラジカル発生触媒。 - 前記アルキル基が、炭素数1~40のアルキル基である請求項2記載のラジカル発生触媒。
- 前記アルキル基が、炭素数1~6のアルキル基である請求項2記載のラジカル発生触媒。
- 前記化学式(XI)で表されるアンモニウム塩が、下記化学式(XII)で表されるアンモニウム塩である請求項1から4のいずれか一項に記載のラジカル発生触媒。
前記化学式(XII)中、
R111は、炭素数が5~40のアルキル基であり、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、若しくはアミド結合、または芳香環が含まれていてもよく、
R21およびX-は、前記化学式(XI)と同じである。 - 前記化学式(XI)で表されるアンモニウム塩が、下記化学式(XIII)で表されるアンモニウム塩である請求項1記載のラジカル発生触媒。
前記化学式(XIII)中、
R111は、炭素数が5~40のアルキル基であり、X-は、前記化学式(XI)と同じである。 - 前記化学式(XI)で表されるアンモニウム塩が、下記化学式(XIV)で表されるアンモニウム塩である請求項1から4のいずれか一項に記載のラジカル発生触媒。
前記化学式(XIV)中、
R100は、環状構造を形成しており、前記環状構造は、飽和でも不飽和でもよく、芳香環でも非芳香環でもよく、1以上の置換基を有していても有していなくてもよく、
R11およびX-は、前記化学式(XI)と同じである。 - 前記化学式(XI)で表されるアンモニウム塩が、下記化学式(XV)で表されるアンモニウム塩である請求項1から4のいずれか一項に記載のラジカル発生触媒。
前記化学式(XV)中、
各Zは、それぞれ、CHまたはNであり、同一でも異なっていてもよく、CHの場合は、Hは置換基で置換されていてもよく、
R11およびX-は、前記化学式(XI)と同じである。 - 前記化学式(XI)で表されるアンモニウム塩が、下記化学式(XVI)で表されるアンモニウム塩である請求項1から4のいずれか一項に記載のラジカル発生触媒。
前記化学式(XVI)中、
R101、R102、R103、およびR104は、それぞれ水素原子または置換基であり、R101、R102、R103、およびR104は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、
または、R101、R102、R103、およびR104のうち2つ以上が一体化し、
それらが結合するN+とともに環状構造を形成していてもよく、前記環状構造は、飽和でも不飽和でもよく、芳香環でも非芳香環でもよく、1以上の置換基を有していても有していなくてもよく、
Zは、CHまたはNであり、CHの場合は、Hは置換基で置換されていてもよく、
R11およびX-は、前記化学式(XI)と同じである。 - 前記化学式(XI)で表されるアンモニウム塩が、下記化学式(XVII)で表されるアンモニウム塩である請求項1から4のいずれか一項に記載のラジカル発生触媒。
前記化学式(XVII)中、
R111~R118は、それぞれ水素原子または置換基であり、R111~R118は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、
または、R111~R118のうち2つ以上が一体化して環状構造を形成していてもよく、前記環状構造は、芳香環でも非芳香環でもよく、1以上の置換基を有していても有していなくてもよく、
Zは、CHまたはNであり、CHの場合は、Hは置換基で置換されていてもよく、
R11およびX-は、前記化学式(XI)と同じである。 - ラジカル発生源からのラジカル発生を触媒するラジカル発生触媒であって、
塩化ベンゼトニウム、塩化ベンザルコニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、塩化アンモニウム、塩化メチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化セチルピリジニウム、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化デカリニウム、エドロホニウム、塩化ジデシルジメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、オキシトロピウム、カルバコール、グリコピロニウム、サフラニン、シナピン、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、スキサメトニウム、スフィンゴミエリン、ガングリオシドGM1、デナトニウム、トリゴネリン、ネオスチグミン、パラコート、ピリドスチグミン、フェロデンドリン、プラリドキシムヨウ化メチル、ベタイン、ベタニン、ベタネコール、レシチン、およびコリン類からなる群から選択される少なくとも一つのアンモニウム塩(ペルオキソ二硫酸塩を除く)を含み、かつ、前記アンモニウム塩のルイス酸性度が0.4eV以上かつ20eV以下であり、
前記ラジカル発生触媒は、pHが5.5以上かつ7.0未満である酸性の液中で、ラジカル発生源からのラジカル発生を触媒するために使用され、
前記ラジカル発生源が、亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸イオンおよび亜ハロゲン酸塩からなる群から選択される少なくとも一つであることを特徴とするラジカル発生触媒。 - 前記アンモニウム塩が、前記アンモニウムのヘキサフルオロリン酸塩である請求項1から11のいずれか一項に記載のラジカル発生触媒。
- 前記アンモニウム塩が、塩化ベンゼトニウムである請求項1から12のいずれか一項に記載のラジカル発生触媒。
- 前記アンモニウム塩が、NH4 +の塩である請求項1または12記載のラジカル発生触媒。
- 前記アンモニウム塩が、NH4Clである請求項1記載のラジカル発生触媒。
- 前記亜ハロゲン酸が、亜塩素酸、亜臭素酸、および亜ヨウ素酸からなる群から選択される少なくとも一つである請求項1から15のいずれか一項に記載のラジカル発生触媒。
- 前記ラジカル発生源が、亜塩素酸イオンである請求項1から16のいずれか一項に記載のラジカル発生触媒。
- 請求項1から17のいずれか一項に記載のラジカル発生触媒と、前記ラジカル発生源と、を混合する混合工程を含むことを特徴とする、ラジカルの製造方法。
- 前記混合工程において、さらに溶媒を混合する請求項18記載の製造方法。
- さらに、前記混合工程により得られた混合物に光照射する光照射工程を含む、請求項18または19記載の製造方法。
- さらに、前記ラジカル発生触媒と前記ラジカル発生源とを、pHが5.5以上かつ7.0未満である酸性の液中で反応させる反応工程を含む、請求項18から20のいずれか一項に記載のラジカルの製造方法。
- 被酸化物を酸化して酸化反応生成物を製造する方法であって、
請求項18から21のいずれか一項に記載の製造方法により前記ラジカルを製造するラジカル製造工程と、
前記ラジカルの作用により、前記被酸化物と酸化剤とを反応させて前記酸化反応生成物を生成させる酸化反応工程と、
を含むことを特徴とする製造方法。 - 前記ラジカルが前記酸化剤を兼ねる請求項22記載の製造方法。
- 液状の薬剤であり、かつ、ラジカル発生触媒と、亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸イオンおよび亜ハロゲン酸塩からなる群から選択される少なくとも一つのラジカル発生源とを含み、
前記ラジカル発生触媒は、請求項1から17のいずれか一項に記載のラジカル発生触媒であり、
前記ラジカル発生触媒は、pHが5.5以上かつ7.0未満である酸性の液中で、前記ラジカル発生源からのラジカル発生を触媒することを特徴とする薬剤。 - pHが5.5以上かつ7.0未満である酸性の液状の薬剤である請求項24記載の薬剤。
- 前記亜ハロゲン酸が、亜塩素酸、亜臭素酸、および亜ヨウ素酸からなる群から選択される少なくとも一つである請求項24又は25記載の薬剤。
- 前記亜ハロゲン酸が、亜塩素酸である請求項24から26のいずれか一項に記載の薬剤。
- さらに、水および有機溶媒の少なくとも一方を含む請求項24から27のいずれか一項に記載の薬剤。
- さらに、pH緩衝剤を含む請求項24から28のいずれか一項に記載の薬剤。
- 殺菌剤である請求項24から29のいずれか一項に記載の薬剤。
- 生体内において使用する請求項24から30のいずれか一項に記載の薬剤。
- 消化器官内において使用する請求項24から31のいずれか一項に記載の薬剤。
- 前記消化器官が、口腔部、咽頭部、食道、胃、十二指腸、小腸および大腸からなる群から選択される少なくとも一つである請求項32記載の薬剤。
- 前記消化器官が、大腸である請求項32記載の薬剤。
- 潰瘍性大腸炎の治療または症状の抑制に使用する請求項32から34のいずれか一項に記載の薬剤。
- 農畜産用薬剤である請求項24から35のいずれか一項に記載の薬剤。
- 前記農畜産用薬剤が、農業用殺菌剤、農業用抗ウイルス剤、農業用消臭剤、農業用殺虫剤、農業用忌避剤、農業用土壌改良剤、畜産業用殺菌剤、畜産業用抗ウイルス剤、畜産業用消臭剤、畜産業用殺虫剤、畜産業用忌避剤、および畜産業用土壌改良剤からなる群から選択される少なくとも1つである、請求項36記載の農畜産用薬剤。
- いもち病の抑制若しくは防止、紋枯れ病の抑制若しくは防止、稲麹病の抑制若しくは防止、バカ稲病の抑制若しくは防止、カメムシの忌避若しくは防虫、害虫の忌避若しくは防虫、そうか病の抑制若しくは防止、うどんこ病の抑制若しくは防止、呼吸器病の抑制若しくは防止、口蹄疫の抑制若しくは防止、および乳房炎の抑制若しくは防止からなる群から選択される少なくとも一つの用途に使用する薬剤である請求項24から30のいずれか一項に記載の薬剤。
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