JP7764384B2 - ギ酸塩の製造方法、及びギ酸の製造方法 - Google Patents

ギ酸塩の製造方法、及びギ酸の製造方法

Info

Publication number
JP7764384B2
JP7764384B2 JP2022546316A JP2022546316A JP7764384B2 JP 7764384 B2 JP7764384 B2 JP 7764384B2 JP 2022546316 A JP2022546316 A JP 2022546316A JP 2022546316 A JP2022546316 A JP 2022546316A JP 7764384 B2 JP7764384 B2 JP 7764384B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formate
group
producing
catalyst
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2022546316A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2022050234A1 (ja
Inventor
広和 松田
大祐 府岡
誠人 平野
エフゲニー アレクサンドロビッチ ピドコ
ゲオルギ アレクサンドロビッチ フィロネンコ
クリストフ レブレイエンド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Publication of JPWO2022050234A1 publication Critical patent/JPWO2022050234A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7764384B2 publication Critical patent/JP7764384B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/16Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
    • B01J31/1616Coordination complexes, e.g. organometallic complexes, immobilised on an inorganic support, e.g. ship-in-a-bottle type catalysts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/16Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
    • B01J31/18Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes containing nitrogen, phosphorus, arsenic or antimony as complexing atoms, e.g. in pyridine ligands, or in resonance therewith, e.g. in isocyanide ligands C=N-R or as complexed central atoms
    • B01J31/1805Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes containing nitrogen, phosphorus, arsenic or antimony as complexing atoms, e.g. in pyridine ligands, or in resonance therewith, e.g. in isocyanide ligands C=N-R or as complexed central atoms the ligands containing nitrogen
    • B01J31/181Cyclic ligands, including e.g. non-condensed polycyclic ligands, comprising at least one complexing nitrogen atom as ring member, e.g. pyridine
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/16Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
    • B01J31/18Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes containing nitrogen, phosphorus, arsenic or antimony as complexing atoms, e.g. in pyridine ligands, or in resonance therewith, e.g. in isocyanide ligands C=N-R or as complexed central atoms
    • B01J31/189Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes containing nitrogen, phosphorus, arsenic or antimony as complexing atoms, e.g. in pyridine ligands, or in resonance therewith, e.g. in isocyanide ligands C=N-R or as complexed central atoms containing both nitrogen and phosphorus as complexing atoms, including e.g. phosphino moieties, in one at least bidentate or bridging ligand
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/16Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
    • B01J31/20Carbonyls
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/16Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
    • B01J31/24Phosphines, i.e. phosphorus bonded to only carbon atoms, or to both carbon and hydrogen atoms, including e.g. sp2-hybridised phosphorus compounds such as phosphabenzene, phosphole or anionic phospholide ligands
    • B01J31/2404Cyclic ligands, including e.g. non-condensed polycyclic ligands, the phosphine-P atom being a ring member or a substituent on the ring
    • B01J31/2409Cyclic ligands, including e.g. non-condensed polycyclic ligands, the phosphine-P atom being a ring member or a substituent on the ring with more than one complexing phosphine-P atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/02Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides from salts of carboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/41Preparation of salts of carboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F15/00Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
    • C07F15/0006Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
    • C07F15/0046Ruthenium compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/18Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
    • C09K3/185Thawing materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2231/00Catalytic reactions performed with catalysts classified in B01J31/00
    • B01J2231/60Reduction reactions, e.g. hydrogenation
    • B01J2231/62Reductions in general of inorganic substrates, e.g. formal hydrogenation, e.g. of N2
    • B01J2231/625Reductions in general of inorganic substrates, e.g. formal hydrogenation, e.g. of N2 of CO2
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2231/00Catalytic reactions performed with catalysts classified in B01J31/00
    • B01J2231/60Reduction reactions, e.g. hydrogenation
    • B01J2231/64Reductions in general of organic substrates, e.g. hydride reductions or hydrogenations
    • B01J2231/641Hydrogenation of organic substrates, i.e. H2 or H-transfer hydrogenations, e.g. Fischer-Tropsch processes
    • B01J2231/648Fischer-Tropsch-type reactions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2531/00Additional information regarding catalytic systems classified in B01J31/00
    • B01J2531/001General concepts, e.g. reviews, relating to catalyst systems and methods of making them, the concept being defined by a common material or method/theory
    • B01J2531/002Materials
    • B01J2531/004Ligands
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2531/00Additional information regarding catalytic systems classified in B01J31/00
    • B01J2531/02Compositional aspects of complexes used, e.g. polynuclearity
    • B01J2531/0238Complexes comprising multidentate ligands, i.e. more than 2 ionic or coordinative bonds from the central metal to the ligand, the latter having at least two donor atoms, e.g. N, O, S, P
    • B01J2531/0241Rigid ligands, e.g. extended sp2-carbon frameworks or geminal di- or trisubstitution
    • B01J2531/0244Pincer-type complexes, i.e. consisting of a tridentate skeleton bound to a metal, e.g. by one to three metal-carbon sigma-bonds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2531/00Additional information regarding catalytic systems classified in B01J31/00
    • B01J2531/80Complexes comprising metals of Group VIII as the central metal
    • B01J2531/82Metals of the platinum group
    • B01J2531/821Ruthenium
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2531/00Additional information regarding catalytic systems classified in B01J31/00
    • B01J2531/90Catalytic systems characterized by the solvent or solvent system used
    • B01J2531/98Phase-transfer catalysis in a mixed solvent system containing at least 2 immiscible solvents or solvent phases
    • B01J2531/985Phase-transfer catalysis in a mixed solvent system containing at least 2 immiscible solvents or solvent phases in a water / organic solvent system
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/15Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction of organic compounds with carbon dioxide, e.g. Kolbe-Schmitt synthesis

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

本発明は、ギ酸塩の製造方法、ギ酸の製造方法、ギ酸塩製造用触媒、及びルテニウム錯体に関する。
地球温暖化、化石燃料枯渇の問題などから、次世代エネルギーとして水素エネルギーに高い期待が寄せられている。
そして、ギ酸は、脱水素化反応に必要なエネルギーが低く、簡便な取扱いが可能であるため、水素貯蔵材料として優れた化合物と考えられており注目されている。
ギ酸を水素貯蔵材料として用いるには、輸送コストの削減のため高濃度のギ酸溶液を得ることが必要である。
そこで、二酸化炭素(CO)と水素(H)とから触媒の存在下でギ酸を製造する方法が検討されている。例えば、非特許文献1には、金属錯体触媒の存在下、水素化反応器中での二酸化炭素と水素との反応により、ギ酸を製造する方法が記載されている。
また、製造したギ酸から効率良く水素を取り出す技術も重要であり、例えば、特許文献1では、ギ酸から水素を取り出すための金属錯体触媒が検討されている。
日本国特表2016-539793号公報
E.Pidko et al.,ChemCatChem 2014,6,1526-1530
また、特許文献1に記載の技術においては、ギ酸から水素を生成する方法が検討されており、ギ酸の生成及び触媒の分離回収のし易さ等については検討されていない。
非特許文献1に記載の技術は、アミン系の溶媒中で金属錯体触媒を用いて水素と二酸化炭素よりギ酸塩を生成するものであり、ギ酸と触媒および溶媒との分離や抽出に改善の余地があり、更に高収率でギ酸を生成し得る触媒の開発が求められている。
そこで、本発明は、ギ酸の前駆体であるギ酸塩を高収率で製造し、触媒を再利用し得るギ酸塩の製造方法、ギ酸の製造方法、ギ酸塩製造用触媒、及び、水素を高効率でギ酸塩に変換する触媒として使用し得るルテニウム錯体を提供する。
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有する金属錯体を触媒として用いることにより水素を高効率でギ酸塩に変換し得ることを見出した。また、該触媒を高効率で回収し、再利用し得るギ酸塩の製造方法、及びギ酸の製造方法を見出し本発明を完成するに至った。
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
〔1〕
溶媒の存在下、触媒を用いて、水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩とを反応させてギ酸塩を製造する方法であって、
前記反応は、前記溶媒が有機溶媒と水系溶媒とが分離された状態で存在する二相系であり、
前記触媒は、下記一般式(1)で表されるルテニウム錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩化合物より選択される少なくとも一種である、ギ酸塩の製造方法。
(一般式(1)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、CH、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アルキル基、又はアリール基を表し(ただし、QがNH又はOを表す場合は、Rの少なくとも1つがアリール基を表す)、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
Xはハロゲン原子を表し、
nは0~3を表し、
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
〔2〕
前記一般式(1)で表されるルテニウム錯体が、下記一般式(3)で表されるルテニウム錯体である、〔1〕に記載のギ酸塩の製造方法。
(一般式(3)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アリール基を表し、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
Xはハロゲン原子を表し、
nは0~3を表し、
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
〔3〕
前記Rがフェニル基を表す、〔1〕に記載のギ酸塩の製造方法。
〔4〕
前記Rがフェニル基を表す、〔2〕に記載のギ酸塩の製造方法。
〔5〕
前記AがCHを表し、前記QがNHを表す、〔4〕に記載のギ酸塩の製造方法。
〔6〕
前記Rが水素原子又はメチル基を表す、〔1〕~〔5〕のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
〔7〕
前記Xが塩素原子を表す、〔1〕~〔6〕のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
〔8〕
前記nが1~3を表し、前記Lが各々独立して、水素原子、一酸化炭素、又はトリフェニルホスフィンを表す、〔1〕~〔7〕のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
〔9〕
前記有機溶媒がトルエン又はジオキサンを含む、〔1〕~〔8〕のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
〔10〕
更に、相間移動触媒としてアンモニウム塩を用いる、〔1〕~〔9〕のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
〔11〕
更に、下記一般式(4)で表される配位子を添加する、〔1〕~〔10〕のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
(一般式(4)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アリール基を表し、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表す。)
〔12〕
〔1〕~〔11〕のいずれか一項に記載の方法によりギ酸塩を製造する工程と、
前記ギ酸塩の少なくとも一部をプロトン化してギ酸を生成させる第二の工程とを含む、ギ酸の製造方法。
〔13〕
水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩との反応によるギ酸塩の製造に用いる触媒であって、下記一般式(2)で表されるルテニウム錯体を含むギ酸塩製造用触媒。
(一般式(2)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、CH、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アルキル基又はアリール基を表し(ただし、Rの少なくとも1つがアリール基を表す)、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
Xはハロゲン原子を表し、
nは0~3を表し、
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
〔14〕
下記一般式(3)で表されるルテニウム錯体。
(一般式(3)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アリール基を表し、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
Xはハロゲン原子を表し、
nは0~3を表し、
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
〔15〕
前記Rがフェニル基を表す、〔14〕に記載のルテニウム錯体。
〔16〕
前記AがCHを表し、前記QがNHを表す、〔14〕又は〔15〕に記載のルテニウム錯体。
〔17〕
前記Rが水素原子又はメチル基を表す、〔14〕~〔16〕のいずれか一項に記載のルテニウム錯体。
〔18〕
前記Xが塩素原子を表す、〔14〕~〔17〕のいずれか一項に記載のルテニウム錯体。
〔19〕
前記nが1~3を表し、前記Lが各々独立して、水素原子、一酸化炭素、又はトリフェニルホスフィンを表す、〔14〕~〔18〕のいずれか一項に記載のルテニウム錯体。
本発明によれば、水素を高効率でギ酸塩に変換する触媒として使用し得るルテニウム錯体、ギ酸塩製造用触媒及び、ギ酸塩を高収率で製造し、触媒を再利用し得るギ酸塩の製造方法及びギ酸の製造方法を提供することができる。
図1は、三室式の電気透析装置の一例を示す概略図である。
以下、本発明の実施形態について、詳細に説明する。
本発明の第一の実施形態に係るギ酸塩の製造方法は、溶媒の存在下、触媒を用いて、水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩とを反応させてギ酸塩を製造する方法であって、
前記反応は、前記溶媒が有機溶媒と水系溶媒とが分離された状態で存在する二相系で行われ、
前記触媒は、下記一般式(1)で表されるルテニウム錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩化合物より選択される少なくとも一種である、ギ酸塩の製造方法である。
一般式(1)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、CH、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アルキル基、又はアリール基を表し(ただし、QがNH又はOを表す場合は、Rの少なくとも1つがアリール基を表す)、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
Xはハロゲン原子を表し、
nは0~3を表し、
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
本発明の第二の実施形態に係るギ酸の製造方法は、前記のギ酸塩の製造方法によりギ酸塩を製造する工程と、電気透析により前記ギ酸塩の少なくとも一部をプロトン化してギ酸と水とを生成させる第二の工程を含む。
本発明の第三の実施形態に係るギ酸塩製造用触媒は、水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩との反応によるギ酸塩の製造に用いる触媒であって、下記一般式(2)で表されるルテニウム錯体を含む。
(一般式(2)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、CH、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アルキル基又はアリール基を表し(ただし、Rの少なくとも1つがアリール基を表す)、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
Xはハロゲン原子を表し、
nは0~3を表し、
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
また、本発明の第四の実施形態に係るルテニウム錯体は、下記一般式(3)で表される。
(一般式(3)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アリール基を表し、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
Xはハロゲン原子を表し、
nは0~3を表し、
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
一般式(1)~(3)で表されるルテニウム錯体は、配位子の配位様式やコンホメーションによって立体異性体を生じることがあるが、これら立体異性体の混合物であっても純粋なひとつの異性体であってもよい。
〔ギ酸塩の製造方法及びギ酸の製造方法〕
本発明の第一の実施形態に係るギ酸塩の製造方法は、溶媒の存在下、触媒を用いて、水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩とを反応させてギ酸塩を製造する方法であって、
前記反応は、前記溶媒が有機溶媒と水系溶媒とが分離された状態で存在する二相系で行われ、
前記触媒は、下記一般式(1)で表されるルテニウム錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩化合物より選択される少なくとも一種(以下、単に「ルテニウム錯体」と称する場合がある)である、ギ酸塩の製造方法である。
本発明の第二の実施形態に係るギ酸の製造方法は、第一の実施形態に係るギ酸塩の製造方法によりギ酸塩を製造する工程(第一の工程)と、電気透析により前記ギ酸塩の少なくとも一部をプロトン化してギ酸と水とを生成させる第二の工程を含む。
<第一の工程>
第一の工程は、溶媒の存在下、触媒を用いて、水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩とを反応させ反応液中にギ酸塩を生成させる工程である。
本発明の第一の実施形態において、水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩との反応は、溶媒が有機溶媒と水系溶媒とが分離された状態で存在する二相系で行われ、触媒が有機溶媒に溶解された触媒を含む溶液中で行うことが好ましい。
本発明の第一の実施形態に係るギ酸塩の製造方法は、例えば、以下のようにして行うことができる。撹拌装置を備えた反応容器を準備し、反応容器に溶媒を導入する。必要に応じ、相間移動触媒を更に加えても良い。反応容器に触媒を添加し、溶媒に溶解させ触媒溶液を調製する。そして反応容器中に水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩を導入し反応を行う。
(溶媒)
本発明の実施形態に係る溶媒としては、有機溶媒と水系溶媒とが分離された状態で存在する二相系とし得るものであれば特に制限は無く、触媒を溶解して均一となる溶媒を含むことが好ましい。
水系溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、グリセリン及びこれらの混合溶媒が挙げられ、低環境負荷の観点から水が好ましい。
有機溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレン、プロピレンカーボネート、ジオキサン、ジメチルスルホキシド及びこれらの混合溶媒等が挙げられ、水系溶媒との分離性の観点からトルエン又はジオキサンを含むことが好ましく、トルエンであることがより好ましい。
(触媒)
上述の通り本発明の第一の実施形態に係るギ酸塩の製造方法に用いる触媒は、一般式(1)で表されるルテニウム錯体である。一般式(1)で表されるルテニウム錯体は、有機溶媒に溶解し、水に不溶である。反応により生成するギ酸塩は水に溶解しやすいため、二相系での反応により触媒とギ酸塩の分離がしやすくなり、反応系から触媒とギ酸塩のそれぞれの分離回収がしやすくなり、高収率でギ酸塩の製造が可能となった。
本実施形態の方法によれば、反応により生成したギ酸塩を触媒と簡便な操作により分離でき、高価な触媒を再利用することができる。
本発明の実施形態に用いる触媒は、下記一般式(1)で表されるルテニウム錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩化合物より選択される少なくとも一種である。
(一般式(1)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、CH、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アルキル基、又はアリール基を表し(ただし、QがNH又はOを表す場合は、Rの少なくとも1つがアリール基を表す)、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
Xはハロゲン原子を表し、
nは0~3を表し、
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
一般式(1)におけるRは水素原子又はアルキル基を表す。Rが表すアルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられる。
が表すアルキル基としては、好ましくは、炭素数1から30のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、t-ブチル基、n-オクチル基、エイコシル基、2-エチルヘキシル基等が挙げられ、原料調達容易性の観点から炭素数が6以下のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることが好ましい。
一般式(1)におけるRは水素原子又はメチル基であることが好ましい。
一般式(1)におけるRは各々独立して、アルキル基、又はアリール基を表す。ただし、QがNH又はOを表す場合は、Rの少なくとも1つがアリール基を表す。
が表すアルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられる。Rが表すアルキル基としては、好ましくは、炭素数1から30のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、t-ブチル基、n-オクチル基、エイコシル基、2-エチルヘキシル基等が挙げられ、触媒活性の観点から炭素数が12以下のアルキル基であることが好ましく、t-ブチル基であることが好ましい。
が表すアリール基としては、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリール基が挙げられ、例えば、フェニル基、p-トリル基、ナフチル基、m-クロロフェニル基、o-ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられ、好ましくは炭素数12以下のアリール基であり、より好ましくはフェニル基である。
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表す。
が表すアルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられる。Rが表すアルキル基としては、好ましくは、炭素数1から30のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、t-ブチル基、n-オクチル基、エイコシル基、2-エチルヘキシル基等が挙げられ、原料調達容易性の観点から炭素数が12以下のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることが好ましい。
が表すアリール基としては、炭素数6から30の置換若しくは無置換のアリール基が挙げられ、例えば、フェニル基、p-トリル基、ナフチル基、m-クロロフェニル基、o-ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられ、好ましくは炭素数12以下のアリール基であり、より好ましくはフェニル基である。
が表すアラルキル基としては、炭素数30以下の置換若しくは無置換のアラルキル基が挙げられ、例えば、トリチル基、ベンジル基、フェネチル基、トリチルメチル基、ジフェニルメチル基、ナフチルメチル基等が挙げられ、好ましくは炭素数12以下のアラルキル基である。
が表すアルコキシ基としては、好ましくは、炭素数1から30の置換若しくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、t-ブトキシ基、n-オクチルオキシ基、2-メトキシエトキシ基等が挙げられる。
Xはハロゲン原子を表し、好ましくは塩素原子である。
nは0~3の整数を表し、ルテニウムに配位する配位子の数を表す。触媒の安定性の観点からnは2又は3が好ましい。
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。
Lが表す中性の配位子としては、例えば、アンモニア、一酸化炭素、ホスフィン類(例えば、トリフェニルホスフィン、トリス(4-メトキシフェニル)ホスフィン)、ホスフィンオキシド類(例えば、トリフェニルホスフィンオキシド)、スルフィド類(例えば、ジメチルスルフィド)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド)、エーテル類(例えば、ジエチルエーテル)、ニトリル類(例えば、p-メチルベンゾニトリル)、複素環化合物(例えば、ピリジン、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロフラン)等が挙げられ、好ましくはトリフェニルホスフィンである。
Lが表すアニオン性の配位子としては、例えば、ヒドリドイオン(水素原子)、硝酸イオン、シアン化物イオン等が挙げられ、好ましくはヒドリドイオン(水素原子)である。
一般式(1)において、AがCHを表し、QがNHを表すことが好ましい。
また、nが1~3を表し、Lが各々独立して、水素原子、一酸化炭素、又はトリフェニルホスフィンを表すことが好ましい。
一般式(1)で表されるルテニウム錯体は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記一般式(1)で表されるルテニウム錯体は、下記一般式(3)で表されるルテニウム錯体であることが好ましい。
(一般式(3)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アリール基を表し、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
Xはハロゲン原子を表し、
nは0~3を表し、
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
一般式(3)中のR、A、R、X、n、及びLは、各々一般式(1)中のR、A、R、X、n、及びLと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式(3)中のRが表すアリール基は、各々一般式(1)中のRが表すアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式(3)において、AがCHを表し、QがNHを表すことが好ましい。
一般式(1)、一般式(2)、及び一般式(3)で表されるルテニウム錯体は、公知の方法などにより製造したものを使用することもできる。公知の方法としては、例えば、非特許文献1等に記載の方法等を用いることができる。
触媒として用いるルテニウム錯体の使用量は、ギ酸塩を製造できる限り、特に限定されない。触媒として用いるルテニウム錯体の使用量は、触媒機能を十分に発現させるために、有機相(有機溶媒)および水相溶媒(水系溶媒)1Lに対し0.1μmol以上であることが好ましく、0.5μmol以上であることがより好ましく、1μmol以上であることがさらに好ましい。また、コストの観点から1mol以下であることが好ましく、10mmol以下であることがより好ましく、1mmol以下であることがさらに好ましい。なお、ルテニウム錯体を2種以上用いる場合、それらの合計の使用量が上記範囲内であればよい。
本発明の実施形態に係るギ酸塩の製造方法においては、一般式(1)で表される錯体を形成する配位子が反応混合物中に過剰に存在することが好ましい。そのため、用いる錯体の配位子を、更に添加することが好ましい。
すなわち、本発明の実施形態に係るギ酸塩の製造方法においては、下記一般式(4)で表される配位子を、更に添加することが好ましい。
(一般式(4)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アリール基を表し、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表す。)
一般式(4)中のR、Q、R、A、及びRは、各々一般式(3)中のR、Q、R、A、及びRと同義であり、好ましい範囲も同様である。
錯体を形成する配位子を反応系に過剰に添加することにより、系中に含まれる酸素や不純物によって配位子が酸化し劣化した場合においても、劣化した配位子と添加した配位子とが交換され、触媒機能が復活するため、触媒の安定性を向上することができる。
反応混合物中への上記一般式(4)で表される配位子の添加は、反応混合物を調製する際に行ってもよく、反応の途中で行ってもよいが、工程管理の観点から、反応混合物を調製する際に行うことが好ましい。
(相間移動触媒)
本発明の第一の実施形態に係るギ酸塩の製造方法は、二相系で反応を行う必要があるため、二相間の物質の移動を円滑とするために相間移動触媒を用いてもよい。相間移動触媒としては、例えば、4級アンモニウム塩(アンモニウム塩)、4級リン酸塩、クラウンエーテルなどの大環状ポリエーテル、クリプタンドなどの含窒素大環状ポリエーテル、含窒素鎖状ポリエーテル、ポリエチレングリコールおよびそのアルキルエーテル等を挙げることがでる。中でも、温和な反応条件でも水系溶媒と有機溶媒の間の物質移動が容易である観点から4級アンモニウム塩が好ましい。
4級アンモニウム塩としては、例えばメチルトリオクチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージド、トリメチルフェニルアンモニウムブロミド、トリブチルアンモニウムトリブロミド、テトラヘキシルアンモニウム硫酸水素塩、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、ジアリルジメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ジメチルジオクタデシルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボラン酸塩、エチルトリメチルアンモニウムアイオダイドトリス(2-ヒドロキシエチル)メチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウム酢酸塩、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムアイオダイド等が挙げられ、メチルトリオクチルアンモニウムクロリドが好ましい。
相間移動触媒の使用量は、ギ酸塩を製造できる限り、特に限定されない。相間移動触媒の使用量は、炭酸塩あるいは炭酸水素塩の移動を効率よく補助する役割のために、有機相および水相溶媒1Lに対し0.1mmol以上であることが好ましく、0.5mmol以上であることがより好ましく、1mmol以上であることがさらに好ましい。また、コストの観点から1mol以下であることが好ましく、500mmol以下であることがより好ましく、100mmol以下であることがさらに好ましい。なお、相間移動触媒を2種以上用いる場合、それらの合計の使用量が上記範囲内であればよい。
(二酸化炭素及び水素)
本発明の実施形態に用いられる水素としては、水素ガスボンベおよび液体水素のいずれをも利用できる。水素供給源としては、例えば、製鉄の製錬過程で発生する水素や、曹達製造過程で発生する水素等を用いることができる。また、水の電気分解から発生する水素を活用することもできる。
本発明の実施形態に用いられる二酸化炭素としては、純粋な二酸化炭素ガスでもであってもよく、二酸化炭素以外の成分を含む混合ガスであってもよい。二酸化炭素ガスと他のガスをそれぞれ導入してもよく、導入の前に混合ガスとしてもよい。
二酸化炭素以外の成分としては、窒素、アルゴン等の不活性ガス、水蒸気、排ガス等に含まれるその他の任意の成分が挙げられる。
二酸化炭素としては、二酸化炭素ガスボンベ、液体二酸化炭素、超臨界二酸化炭素およびドライアイス等を用いることができる。
水素ガスと二酸化炭素ガスは、反応系に、それぞれ単独で導入しても、混合ガスとして導入してもよい。
水素と二酸化炭素との使用割合は、モル基準で同量あるいは水素が過剰の方が好ましい。
本発明の実施形態に係るギ酸塩の製造方法に用いられる水素として、水素ボンベを用いる場合にその圧力は反応性を十分に確保する観点から0.1MPa以上であることが好ましく、0.2MPa以上であることがより好ましく、0.5MPa以上であることがさらに好ましい。また、設備が大きくなりやすいことから50MPa以下であることが好ましく、20MPa以下であることがより好ましく、10MPa以下であることがさらに好ましい。
また、本発明の実施形態に係るギ酸塩の製造方法に用いられる二酸化炭素の圧力は反応性を十分に確保する観点から0.1MPa以上であることが好ましく、0.2MPa以上であることがより好ましく、0.5MPa以上であることがさらに好ましい。また、設備が大きくなりやすいことから50MPa以下であることが好ましく、20MPa以下であることがより好ましく、10MPa以下であることがさらに好ましい。
水素ガス及び二酸化炭素ガスは、触媒溶液中にバブリング(吹込み)してもよい。また、水素ガス及び二酸化炭素を含むガスを導入後、撹拌装置にて撹拌する、反応容器を回転させる等により触媒溶液と水素ガス及び二酸化炭素ガスを撹拌してもよい。
反応に用いる二酸化炭素及び水素や触媒、溶媒などの反応容器内への導入方法については、特に制限されないが、すべての原料などを一括で導入してもよく、一部またはすべての原料などを段階的に導入してもよく、一部またはすべての原料などを連続的に導入してもよい。また、これらの方法を組み合わせた導入方法でもよい。
(炭酸水素塩及び炭酸塩)
本発明の第一の実施形態に用いる炭酸水素塩及び炭酸塩としては、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩又は炭酸水素塩が挙げられる。
炭酸水素塩としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、水に対する溶解度が高い観点から炭酸水素カリウムが好ましい。
炭酸塩としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カリウムナトリウム、セスキ炭酸ナトリウム等が挙げられる。
炭酸水素塩及び炭酸塩は、二酸化炭素と塩基の反応により生成することが可能である。例えば、塩基性溶液中に二酸化炭素を導入することにより炭酸水素塩又は炭酸塩を生成してもよい。
炭酸水素塩又は炭酸塩の生成における塩基性溶液の溶媒としては、特に制限は無いが、水、メタノール、エタノール、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、及びこれらの混合溶媒等が挙げられ、水を含むことが好ましく、水であることがより好ましい。
塩基性溶液に用いる塩基としては、二酸化炭素と反応して炭酸水素塩又は炭酸塩を生成し得るものであれば特に制限はなく、水酸化物であることが好ましい。例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、ジアザビシクロウンデセン、又はトリエチルアミン、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等が挙げられる。上記のなかでも、水酸化物であることが好ましく、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムがより好ましく、水酸化カリウムが更に好ましい。
塩基性溶液における塩基の含有量は、炭酸水素塩及び炭酸塩を製造できる限り、特に限定されない。塩基の含有量は、ギ酸塩の生成量を確保する観点から、水相溶媒1Lに対し0.1mol以上であることが好ましく、0.5mol以上であることがより好ましく、1mol以上であることがさらに好ましい。また、ギ酸塩の反応効率の観点から30mol以下であることが好ましく、20mol以下であることがより好ましく、15mol以下であることがさらに好ましい。但し、水相の溶解度を超える場合は、溶液は懸濁する。
二酸化炭素と塩基の反応に使用する二酸化炭素と塩基の使用量の比は、二酸化炭素から炭酸塩を生成する観点から、モル比で0.1以上であることが好ましく、0.5以上であることがより好ましく、1.0以上であることがさらに好ましい。また、二酸化炭素の利用効率の観点から8.0以下であることが好ましく、5.0以下であることがより好ましく、3.0以下であることがさらに好ましい。
二酸化炭素と塩基の使用量の比は、反応容器に導入する二酸化炭素と塩基のモル量の比であればよく、COのモル量(mol)/塩基のモル量(mol)である。
二酸化炭素と塩基の使用量の比を上記の範囲とすることで、反応容器への二酸化炭素の過剰投入を抑制し、未反応の二酸化炭素を最小限に抑えることができ、最終的なギ酸変換効率が向上しやすい。また、同一容器内で、二酸化炭素と塩基との反応から炭酸水素塩又は炭酸塩を経て二酸化炭素を水素化し、ギ酸塩を生成することができる。
未反応の二酸化炭素は、反応容器から回収し、再利用することができる。
反応容器への二酸化炭素と塩基の導入方法及び導入順序には特に制限はないが、反応容器に塩基を導入した後に、二酸化炭素を導入することが好ましい。また、二酸化炭素と塩基の導入は、一方又は両方の導入を連続的に行ってもよいし、断続的に行ってもよい。
二酸化炭素と塩基との反応により炭酸水素塩又は炭酸塩を生成する反応における反応温度は、特に限定されないが、二酸化炭素を水相中に溶解させるため、0℃以上であることが好ましく、10℃以上であることがより好ましく、20℃以上であることがさらに好ましい。また、100℃以下であることが好ましく、80℃以下であることがより好ましく、40℃以下であることがさらに好ましい。
二酸化炭素と塩基との反応により炭酸水素塩又は炭酸塩を生成する反応における反応時間は、特に限定されないが、例えば、炭酸水素塩又は炭酸塩生成量を十分に確保する観点から0.5時間以上であることが好ましく、1時間以上であることがより好ましく、2時間以上であることがさらに好ましい。また、コストの観点から24時間以下であることが好ましく、12時間以下であることがより好ましく、6時間以下であることがさらに好ましい。
二酸化炭素と塩基との反応により生成した炭酸水素塩及び炭酸塩は、本発明の実施形態に係るギ酸塩の製造方法における、水素と、炭酸水素塩又は炭酸塩との反応に用いることができる。また、反応容器における二酸化炭素と塩基との反応による炭酸水素塩又は炭酸塩の生成を、ギ酸塩の製造方法における、反応容器への炭酸水素塩又は炭酸塩の導入としてもよい。
(反応条件)
本発明の実施形態に係るギ酸塩の製造方法における反応条件は、特に限定されず、反応過程で反応条件を適宜変更することもできる。反応に用いる反応容器の形態は、特に限定されない。
本発明の実施形態に係るギ酸塩の製造方法における、水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩との反応としては、水素と二酸化炭素との反応、水素と炭酸水素塩との反応、水素と炭酸塩との反応が挙げられる。
水素と二酸化炭素との反応においては、二酸化炭素の炭酸塩化の反応と、炭酸塩の水素化によるギ酸塩の生成反応が同時に進行する。
反応容器への水素、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩の導入方法及び導入順序には特に制限はない。
例えば、水素と二酸化炭素との反応においては、水素と二酸化炭素とを同時に導入することが好ましい。水素と二酸化炭素は単独で導入してもよいし、混合ガスとして導入してもよい。また、水素と二酸化炭素の導入は、一方又は両方の導入を連続的に行ってもよいし、断続的に行ってもよい。
水素と炭酸水素塩との反応、及び水素と炭酸塩との反応においては、炭酸水素塩又は炭酸塩を反応容器へ導入した後、水素を導入することが好ましい。水素と炭酸水素塩又は炭酸塩の導入は、一方又は両方の導入を連続的に行ってもよいし、断続的に行ってもよい。
水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩との反応における反応温度は、特に限定されないが、反応を効率よく進行させるため、30℃以上であることが好ましく、40℃以上であることがより好ましく、50℃以上であることがさらに好ましい。また、エネルギー効率の観点から200℃以下であることが好ましく、150℃以下であることがより好ましく、100℃以下であることがさらに好ましい。
反応温度の調整は、加熱又は冷却により行うことができ、加熱による昇温が好ましい。
また、水素と二酸化炭素との反応においては、例えば、反応容器に水素と二酸化炭素を導入した後に加熱により昇温してもよく、反応容器へ二酸化炭素を導入し、昇温した後に水素を導入してもよい。
水素と炭酸水素塩又は炭酸塩との反応においては、例えば、反応容器に炭酸水素塩又は炭酸塩を導入(生成)した後に水素を導入し、昇温することが好ましい。
水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩との反応における反応時間は、特に限定されないが、例えば、ギ酸塩生成量を十分に確保する観点から0.5時間以上であることが好ましく、1時間以上であることがより好ましく、2時間以上であることがさらに好ましい。また、コストの観点から24時間以下であることが好ましく、12時間以下であることがより好ましく、6時間以下であることがさらに好ましい。
<第二の工程>
第二の工程は、電気透析により前記ギ酸塩の少なくとも一部をプロトン化してギ酸と水とを生成させる工程である。
本発明の実施形態においては、第一の工程により生成したギ酸塩が水相に溶出するため、水相を分取することによりギ酸塩水溶液が得られる。
第一の工程における水相を分離し、得られたギ酸塩水溶液を、第二の工程により電気透析装置を用いて処理し、ギ酸を生成することが好ましい。分離する水相は第一の工程終了後の水相である。
第二の工程には、上述したとおり、第一の工程により得られたギ酸塩水溶液を、そのまま用いてもよく、必要に応じ、濃縮や希釈することによりギ酸塩濃度を調整して用いてもよい。
ギ酸塩水溶液を希釈する方法としては、純水を加えて希釈する方法が挙げられる。
ギ酸塩水溶液を濃縮する方法としては、ギ酸塩水溶液より水を留去する方法、逆浸透膜を備えた分離膜ユニットを用いてギ酸塩水溶液を濃縮する方法等が挙げられる。
電気透析装置を用いた処理時、高濃度ギ酸塩水溶液の濃度拡散現象によるギ酸塩ロスを抑制する観点から、第一の工程における水相を分離し、希釈により水相におけるギ酸塩の濃度を調整した後に第二の工程に用いることが好ましい。
第一の工程により高濃度のギ酸塩水溶液を得て、ギ酸塩濃度を電気透析に適した濃度に希釈により調整した後に第二の工程に供することにより、更にTONを高め、ギ酸をより高収率かつより優れた生産性で製造することができる。
第一の工程で得られたギ酸塩水溶液の濃度の調製(好ましくは希釈)の程度は、適宜選択することができる。濃度調整後のギ酸塩水溶液中におけるギ酸塩の濃度は、電気透析に適した濃度であることが好ましく、2.5mol/L以上であることが好ましく、3mol/L以上であることがより好ましく、5mol/L以上であることがさらに好ましい。また、電気透析装置を用いた処理時の高濃度ギ酸塩水溶液の濃度拡散現象によるギ酸塩ロスを抑制する観点から20mol/L以下であることが好ましく、15mol/L以下であることがより好ましく、10mol/L以下であることがさらに好ましい。
希釈には純水を用いることができる。また、第二の工程により生成した水を希釈に用いてもよい。希釈の際に第二の工程により生成した水を再利用することで、廃水処理にかかる費用や環境負荷を削減できる等の利点があるため好ましい。
本発明の実施形態に係るギ酸の製造方法においては、第一の工程により得られたギ酸塩水溶液に酸を加え、脱炭酸処理を行った後に第二の工程に用いてもよい。すなわち、第一の工程における水相を分離し、酸を加え脱炭酸処理を行った後に第二の工程に用いてもよい。
第一の工程により得られたギ酸塩水溶液には、未反応の炭酸塩や副反応で生成した炭酸水素塩が含まれる場合があり、炭酸塩や炭酸水素塩を含む溶液を電気透析すると二酸化炭素が発生して透析効率が低下する虞がある。そのため、第一の工程により得られたギ酸塩水溶液に酸を加え、脱炭酸処理を行った後に電気透析することにより、更にTONを高め、ギ酸をより高収率、かつ、より優れた生産性で製造することができる。
脱炭酸処理に用いる酸としては、例えば、ギ酸、クエン酸、酢酸、リンゴ酸、乳酸、コハク酸、酒石酸、酪酸、フマル酸、プロピオン酸、塩酸、硝酸、硫酸が挙げられ、ギ酸を用いることが好ましい。
酸の使用量としては、電気透析処理時に発生する炭酸量を抑える観点から、溶液中に存在する炭酸の量に対して酸の使用量が50%以上であることが好ましく、80%以上であることがさらに好ましい。また電気透析処理時のギ酸塩溶液のpHを中性にしておくことで電気透析装置の劣化を抑えるための観点から、溶液中に存在する炭酸の量に対して酸の使用量が150%以下であることが好ましく、さらに120%以下であることがさらに好ましい。
本発明の実施形態においては、第二の工程によりギ酸塩がプロトン化される割合は、ギ酸塩水溶液中の初期のギ酸塩のモル量に対し、回収されるギ酸水溶液の純度を高める観点から、10%以上がプロトン化されることが好ましく、20%以上がプロトン化されることがより好ましく、30%以上がプロトン化されることがさらに好ましい。
電気透析装置は、バイポーラ膜と陰イオン交換膜または陽イオン交換膜とを使用する二室式の電気透析装置、バイポーラ膜と陰イオン交換膜と陽イオン交換膜とを使用する三室式の電気透析装置等が挙げられる。
図1は、三室式の電気透析装置の一例を示す概略図である。図1に示す電気透析装置は、それぞれ複数枚のバイポーラ膜と陰イオン交換膜と陽イオン交換膜とを備え、陽極と陰極との間に、これらのバイポーラ膜と陰イオン交換膜と陽イオン交換膜とが配置され、塩基槽、サンプル槽(塩槽)、および酸槽を形成する。通電しながらサンプル槽にギ酸塩水溶液を循環供給することによりギ酸塩がギ酸に変換されていき、酸槽からギ酸を回収し、サンプル槽から水を回収し、塩基槽から水酸化物を回収する。
二室式の電気透析装置は、それぞれ複数枚のバイポーラ膜と陽イオン交換膜とを備え、陽極と陰極との間に、これらのバイポーラ膜と陽イオン交換膜とが交互に配置され、各バイポーラ膜とその陰極側に配置された陽イオン交換膜との間にそれぞれ塩室が形成され、且つ各バイポーラ膜とその陽極側に配置された陽イオン交換膜との間にそれぞれ塩基槽が形成されているものであり、通電しながら該塩室にギ酸塩水溶液を循環供給することにより、塩基槽に水酸化物を生成しながら該塩室に循環供給されているギ酸塩がギ酸に転換されていく。
第二の工程によりギ酸塩を簡便な方法によりプロトン化してギ酸溶液を得ることができる。
次に、本発明の第三の実施形態に係るギ酸塩製造用触媒について説明する。
〔ギ酸塩製造用触媒〕
本発明の第三の実施形態に係るギ酸塩製造用触媒は、水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩との反応によるギ酸塩の製造に用いる触媒であって、下記一般式(2)で表されるルテニウム錯体を含む。
(一般式(2)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、CH、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アルキル基又はアリール基を表し(ただし、Rの少なくとも1つがアリール基を表す)、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
Xはハロゲン原子を表し、
nは0~3を表し、
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
一般式(2)中のR、A、R、X、n、及びLは、各々一般式(1)中のR、A、R、X、n、及びLと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式(2)中のRが表すアルキル基及びアリール基は、各々一般式(1)中のRが表すアルキル基及びアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
上記一般式(2)で表されるルテニウム錯体は、上述の一般式(3)で表されるルテニウム錯体であることが好ましい。
本発明の第三の実施形態に係るギ酸塩製造用触媒を用いてギ酸塩を製造する際の反応は単相で行ってもよく二相系で行われてもよい。
本発明の第三の実施形態に係るギ酸塩製造用触媒に用いる溶媒としては、ギ酸塩を製造し得る限り特に限定はなく、例えば水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、グリセリン、トルエン、ベンゼン、キシレン、プロピレンカーボネート、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン及びこれらの混合溶媒等が挙げられる。
本発明の第三の実施形態に係るギ酸塩製造用触媒を用いてギ酸塩を製造する際の、水素、二酸化炭素、炭酸水素塩、及び炭酸塩の種類及び使用量、反応条件等については、上述した第一の実施形態に係るギ酸塩の製造方法で述べたものも適宜採用可能である。
次に、本発明の第四の実施形態に係る一般式(3)で表されるルテニウム錯体について説明する。
〔一般式(3)で表されるルテニウム錯体〕
一般式(3)で表されるルテニウム錯体は新規化合物である。
本発明の第四の実施形態に係るルテニウム錯体は、下記一般式(3)で表される。
(一般式(3)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アリール基を表し、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
Xはハロゲン原子を表し、
nは0~3を表し、
Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
一般式(3)中のR、A、R、X、n、及びLは、各々一般式(1)中のR、A、R、X、n、及びLと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式(3)中のRが表すアリール基は、各々一般式(1)中のRが表すアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式(3)において、AがCHを表し、QがNHを表すことが好ましい。
一般式(3)で表されるルテニウム錯体は、例えば、下記一般式(4)で表される三座配位子と下記一般式(5)で表されるルテニウム化合物を各々反応系内に添加することにより製造することができる。
(一般式(4)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
は各々独立して、NH、又はOを表し、
は各々独立して、アリール基を表し、
Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表す。)
一般式(4)中のR、Q、R、A、及びRは、各々一般式(3)中のR、Q、R、A、及びRと同義であり、好ましい範囲も同様である。
[RuHX[L]n(CO)] (5)
(一般式(5)中、Xはハロゲン原子を表し、nは0~3を表し、Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
一般式(5)中のX、n、及びLは、各々一般式(3)中のX、n、及びLと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式(3)で表されるルテニウム錯体の製造においては、溶媒を用いることが好ましい。用いられる溶媒の具体例として、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン及びクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルtert-ブチルエーテル及びシクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、2-ブタノール及びtert-ブチルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,2-プロパンジオール及びグリセリン等の多価アルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類及びアセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及び水等が挙げられ、好ましくはテトラヒドロフランである。
これらの溶媒は、各々単独で用いても2種以上適宜組み合わせて用いてもよい。
一般式(3)で表されるルテニウム錯体の製造は、不活性ガス、又は大気雰囲気下で行うことが望ましい。不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、窒素ガス等が挙げられアルゴンガスが好ましい。これらのガス及び大気は各々単独で用いても混合ガスとして用いてもよい。
反応温度は、通常-50℃~300℃、好ましくは-20℃~250℃、より好ましくは30℃~200℃の範囲から適宜選択される。
反応時間は、塩基、溶媒及び反応温度その他の条件によって異なるが、通常1分~72時間、好ましくは1分~24時間、より好ましくは5分~12時間の範囲から適宜選択される。
上記製造方法により製造した一般式(3)で表されるルテニウム錯体は、必要に応じて後処理、単離及び精製を行うことができる。後処理の方法の具体例として、濃縮、溶媒置換、洗浄、抽出、逆抽出、濾過及び貧溶媒の添加による晶析等が挙げられる。これらは、単独で或いは併用して行うことができる。単離及び精製の方法の具体例として、反応溶液の乾固、カラムクロマトグラフィー、再結晶及び貧溶媒による結晶洗浄等が挙げられる。これらは、単独で或いは併用して行うことができる。
一般式(3)で表されるルテニウム錯体は工業的な使用に適したものであり、温和な反応条件且つ高い触媒活性で反応を行うことができる。例えば、水素供与体存在下、二酸化炭素や炭酸水素塩の水素化還元によるギ酸塩の製造が可能である。
以下、実施例及び比較例を示して本発明を詳細に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
〔触媒の合成〕
(合成例1)Ru触媒1の合成
下記の操作によりRu触媒1を合成した。
不活性雰囲気下で、[RuHCl(PPh(CO)]95.3mg(0.1mmol)のTHF(テトラヒドロフラン)(5ml)懸濁液に下記配位子A 40mg(0.1mmol)を加え、混合物を撹拌して65℃で3時間加熱し反応を行った。その後室温(25℃)に冷却した。
得られた黄色の溶液を濾過し、濾液を真空下で蒸発乾固させた。得られた黄色の残留油を極少量のTHF(1mL)に溶解し、ヘキサン(10mL)をゆっくりと加えて黄色の固体を沈殿させ、それを濾過し、真空下で乾燥して、黄色の結晶であるRu触媒1(55mg、97%)を得た。下記に示すRu触媒1及び配位子A中、tBuはターシャリーブチル基を示す。
31P{H}(C):90.8(s),H(C):-14.54(t,1H,J=20.0Hz),1.11(t,18H,J=8.0Hz),1.51(t,18H,J=8.0Hz),2.88(dt,2H,J=16.0Hz,J=4.0Hz),3.76(dt,2H,J=16.0Hz,J=4.0Hz),6.45(d,2H,J=8.0Hz),6.79(t,1H,J=8.0Hz).13C{H}NMR(C):29.8(s),30.7(s),35.2(t,J=9.5Hz),37.7(t,J=6.0Hz),37.9(t,J=6.5Hz),119.5(t,J=4.5Hz),136.4(s),163.4(t,J=5.0Hz),209.8(s).
(合成例2)Ru触媒2の合成
下記の操作によりRu触媒2を合成した。
不活性雰囲気下で、[RuHCl(PPh(CO)]200.0mg(0.21mmol)のベンゼン(5mL)スラリーに下記配位子B 83.9mg(0.21mmol)を加えた。
この混合物を密閉容器内で100℃で8時間加熱すると、透明なピンク色の溶液が得られた。
溶媒を真空下で除去して、ピンク色の固体を得た。
遊離のPPhを除去するために、残留物をペンタン(5mL)で洗浄し、洗浄液をシリカカラムに通した。
残留物をベンゼン(1mL)に溶解し、カラムに通した。カラムをさらにベンゼン(5mL)で洗浄し、最後に生成物をTHFで溶出した。
溶媒THFを真空下で除去し、ピンク色の固体であるRu触媒2を95.3%(113mg)の収率で得た。
下記に示すRu触媒2及び配位子B中、tBuはターシャリーブチル基を示す。
31P{H}NMR(C):226.65(brs).H NMR(C):6.71(t,J=8.2Hz,1H),6.09(d,J=8.2Hz,2H),1.72(vt,J=7.6Hz),1.20(vt,J=7.3Hz),-14.07(t,J=20.7Hz,1H).13C{H}NMR(C):206.84(t,J=10.2Hz),163.20(t,J=3.9Hz),142.0(s),102.30(s),43.18(t,J=3.0Hz),40.70(t,J=7.6Hz),30.50(vt,J=3.8Hz),27.85(vt,J=2.8Hz).
(合成例3)Ru触媒3の合成
下記の操作によりRu触媒3を合成した。
不活性雰囲気下で、THF(15ml)中の[RuHCl(PPh(CO)](953mg、1mmol)の懸濁液に下記配位子C(397mg、1mmol)を加え、混合物を撹拌し、65℃で12時間加熱した。次に室温に冷却した。
析出した淡黄色の固体を濾過し、エーテル(3mL×3回)で洗浄し、真空下で乾燥させRu触媒3を得た(519mg、92%)。
下記に示すRu触媒3及び配位子C中、tBuはターシャリーブチル基を示す。
31P{H}NMR(CDCl):135.6(s).H NMR(CDCl3):δ-26.11(t,J=16.0Hz,1H),1.32(t,J=7.28Hz,18H),1.41(t,J=7.68Hz,18H),6.87(t,J=8.04Hz,1H),7.14(d,J=8.04Hz,2H),9.51(br,2H).13C{H}NMR(125MHz,CDOD):28.62(t,J=2.7Hz),28.87(t,J=3.4Hz),39.34(t,J=10.8Hz),41.10(t,J=9.1Hz),99.75(t,J=3.5Hz),143.05(s),164.32(t,J=7.3Hz),207.41(t,J=10.7Hz).
(合成例4)Ru触媒5の合成
下記の操作によりRu触媒5を合成した。
不活性雰囲気下で、ベンゼン(25mL)中の[RuHCl(PPh(CO)]0.51g(0.54mmol)と下記配位子E0.30g(0.63mmol)の混合物を一晩還流し、透明な黄色の溶液を得た。得られた溶液を室温まで放冷した。
真空下で溶媒を完全に除去し、30mLのジエチルエーテルを加えて黄色の固体を得た。
黄色の固体を、ジクロロメタン/ジエチルエーテルを使用して再結晶して、淡黄色の固体を得た。
固体をフィルター上に収集し、真空下で一晩乾燥させRu触媒5を収量0.29g、収率85%で得た。
下記に示すRu触媒5及び配位子E中、Phはフェニル基を示す。
H NMR(300MHz,CDCl):δ-13.65(t,J=19.9Hz,1H),4.13(dt,J=16.6Hz,J=4.8Hz,2H),4.64(dt,J=16.6Hz,J=4.5Hz,2H),6.82-7.85(m,23H).31P{H}NMR(121.51MHz,CDCl):δ50.4(s)
(合成例5)Ru触媒7の合成
下記の操作によりRu触媒7を合成した。
不活性雰囲気下で、142.6mgの配位子Gと284.6mgの[RuHCl(PPh(CO)]を5mLのベンゼンに混ぜ、懸濁液を一晩還流した。生成した黄色の沈殿物をフィルター上に収集し、5mLのエーテルで4回洗浄した。
沈殿物を真空中で乾燥させ、Ru触媒7を154.0mg得た。
下記に示すRu触媒7及び配位子G中、Phはフェニル基を示す。
31P{H}NMR(CDC):95.58(br,s),29.71(s).
NMR(400MHz,CDCl)δ9.92(s,2H),8.11(q,J=6.6Hz,4H),7.38-7.24(m,4H),7.20(t,J=7.5Hz,3H),7.16-7.04(m,4H),7.04-6.92(m,14H),6.87(td,J=7.6,2.1Hz,6H),6.51(d,J=8.0Hz,1H),6.61(d,J=8.0Hz,2H),-7.22(dt,J=89.2,23.1Hz,1H).
(合成例6)Ru触媒8の合成
下記の操作によりRu触媒8を合成した。
不活性雰囲気下で、161.0mgの下記配位子Hと242.4mgの[RuHCl(PPh(CO)]を6mLのTHFと混合し、64℃で一晩撹拌した。室温に冷却した後、溶媒を真空で除去し、残留物を3mLのジエチルエーテルで2回洗浄した。得られた淡黄色の粉末を、真空でさらに乾燥させて、Ru触媒8を110.2mg得た。
下記に示すRu触媒8及び配位子H中、Phはフェニル基を示す。
31PNMR(162MHz,THF-d8)δ90.19(s).H NMR(400MHz,THF-d8)δ9.26(s,2H),7.94(br,4H),7.74(t,J=4.6Hz,4H),7.43-7.32(br12H),2.26(d,J=2.2Hz,3H),-13.63(t,J=21.6Hz,1H).
〔実施例1〕
アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属撹拌棒を備えたガラスバイアルに2mLのN,N-ジメチルホルムアミド(DMF)を入れた。その後、2.23mmol アザビシクロウンデセン(DBU)(333μL)を添加した。次に、10mgの触媒7の6.6mg/mLストック溶液(1mLのDMFに6.6mgの触媒7を溶解させた溶液)を添加した。最後に、オートクレーブを密閉してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH/CO(1:1混合)供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5bar(1bar=0.1MPa)に加圧し、撹拌しながら目的の温度(90℃)まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをH/CO混合物(1:1)でさらに40barに加圧した。
反応混合物を1.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。内部標準として300μLのジメチルスルホキシド(DMSO)を加え、100μLのサンプルを取って0.5mLのDOに溶解し、H NMR分析によってギ酸カリウム生成量を定量した。
〔実施例2〕
アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(10mmol、1.0g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を添加した。次に、2mLの水と0.12μmol(108μg、DMFの12.6mg/mL溶液として、10μLに相当)の触媒7を加えた。最後に、オートクレーブを密閉してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を2.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却後、圧力を注意深く解放した。
100μLのDMSOを内部標準として添加して100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解し、ギ酸カリウムの定量をH NMR分析で行った。
〔実施例3〕
アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(5mmol、0.5g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を加えた。次に、トルエン1mLと触媒1の6.6mg/mLストック溶液10μLを加えた。最後に、1mLの水を加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を2.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去し、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例4〕
アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(5mmol、0.5g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を添加した。次に、トルエン1mLと触媒5の6.6mg/mLストック溶液10μLを加えた。最後に、1mLの水を加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を2.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例5〕
アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(5mmol、0.5g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を添加した。次に、トルエン1mLと触媒7の12.6mg/mLストック溶液10μLを加えた。最後に、1mLの水を加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を4.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例6〕
アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(5mmol、0.5g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を添加した。次に、トルエン1mLと触媒8の6.3mg/mLストック溶液10μLを加えた。最後に、1mLの水を加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を12時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例7〕
アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(5mmol、0.5g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を添加した。次に、ジオキサン1mLと触媒7の12.6mg/mLストック溶液10μLを加えた。最後に、1mLの水を加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら目的の温度(通常は90℃)まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を4.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例8〕
本実施例においては、使用前に、触媒1を固体状態で20時間空気に曝した。アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(5mmol、0.5g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を添加した。次に、トルエン1mLと、空気に曝された触媒1の6.3mg/mLストック溶液10μLを加えた。最後に、1mLの水を加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を2.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例9〕
本実施例においては、使用前に、触媒5を固体状態で20時間空気に曝した。アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(5mmol、0.5g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を添加した。次に、1mLのトルエンと7.0μLの9.0mg/mL空気に曝された触媒5の原液(1mLのDMFに9.0mgの触媒5を溶解させた溶液)を加えた。最後に、1mLの水を加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を2.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例10〕
本実施例においては、使用前に、触媒7を固体状態で20時間空気に曝した。アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(5mmol、0.5g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を添加した。次に、1mLのトルエンと10.5μLの10.6mg/mLの空気に曝された触媒7の原液を加えた。最後に、1mLの水を加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を4.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例11〕
本実施例においては、使用前に、触媒8を固体状態で20時間空気に曝した。アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(5mmol、0.5g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を添加した。次に、トルエン1mLと、空気に曝された触媒8の5.8mg/mLストック溶液10.5μLを加えた。最後に、1mLの水を加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら目的の温度(通常は90℃)まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を12時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔比較例1〕
本実施例においては、使用前に、触媒2を固体状態で20時間空気に曝した。アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(5mmol、0.5g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を添加した。次に、トルエン1mLと、空気に曝された触媒2の6.7mg/mLストック溶液10μLを加えた。最後に、1mLの水を加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら目的の温度(通常は90℃)まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を2.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔比較例2〕
本実施例においては、使用前に、触媒3を固体状態で20時間空気に曝した。アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、重炭酸カリウム(5mmol、0.5g)を量り取った。その後、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を添加した。次に、トルエン1mLと、空気に曝された触媒3の6.6mg/mLストック溶液10μLを加えた。最後に、1mLの水を加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約5barに加圧し、撹拌しながら目的の温度(通常は90℃)まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブをHでさらに40barに加圧した。
反応混合物を2.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
上記実施例及び比較例について表1に記載する。
表中のTON(Turnover Number)は、使用した触媒量(モル量)に対するギ酸又はギ酸塩の生成量(モル量)示す。
第一の実施形態に係る製造方法を用いてギ酸塩を製造した実施例3~11は、高いTON(Turnover Number)を示し、ギ酸塩の生産効率に優れる。第四の実施形態に係るルテニウム錯体を触媒として用いてギ酸塩を製造した実施例1、2についても、高いTONを示すことを確認できた。
〔実施例12〕
本実施例においては、使用前に、触媒7を固体状態で20時間空気に曝した。アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、水酸化カリウム(50mmol、2.8g)を量り取り、4.2mlの蒸留水を加え、10mol/Lの水酸化カリウム水溶液とした。次に、5mLのトルエンに10.5μLの10.6mg/mLの空気に曝された触媒7の原液、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を加えた。最後に、10mol/Lの水酸化カリウム水溶液5mLに、触媒7とメチルトリオクチルアンモニウムクロリドを加えたトルエン5mlを加え、バイアルを内容積300mLのオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはCO供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約0.4MPaに加圧した。溶液を1時間撹拌した後、COを注意深く解放した。
次に、オートクレーブをH供給ラインに接続し、パージして微量のCOやその他の不純物を除去した。その後、溶液を撹拌しながら90℃まで昇温し、昇温後、Hを約0.5MPaに加圧した。
反応混合物を18時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例13〕
本実施例においては、使用前に、触媒7を固体状態で20時間空気に曝した。アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、水酸化カリウム(50mmol、2.8g)を量り取り、4.2mlの蒸留水を加え、10mol/Lの水酸化カリウム水溶液とした。次に、5mLのトルエンに10.5μLの10.6mg/mLの空気に曝された触媒7の原液、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を加えた。最後に、10mol/Lの水酸化カリウム水溶液5mLに、触媒7とメチルトリオクチルアンモニウムクロリドを加えたトルエン5mlを加え、バイアルを内容積300mLのオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはCO供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約0.1MPaに加圧した。溶液を1時間撹拌した後、COを注意深く解放した。
次に、オートクレーブをH供給ラインに接続し、パージして微量のCOやその他の不純物を除去した。その後、溶液を撹拌しながら90℃まで昇温し、昇温後、Hを約0.4MPaに加圧した。
反応混合物を18時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例14〕
本実施例においては、使用前に、触媒7を固体状態で20時間空気に曝した。アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、水酸化カリウム(50mmol、2.8g)を量り取り、4.2mlの蒸留水を加え、10mol/Lの水酸化カリウム水溶液とした。次に、5mLのトルエンに10.5μLの10.6mg/mLの空気に曝された触媒7の原液、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を加えた。最後に、10mol/Lの水酸化カリウム水溶液5mLに、触媒7とメチルトリオクチルアンモニウムクロリドを加えたトルエン5mlを加え、バイアルを内容積300mLのオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはCO供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約0.1MPaに加圧した。次に、オートクレーブをH供給ラインに接続し、約0.4MPaに加圧した。最後に、溶液を90℃に昇温した。
反応混合物を18時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例15〕
本実施例においては、使用前に、触媒7を固体状態で20時間空気に曝した。アルゴン雰囲気のグローブボックス内で、希土類金属の撹拌棒を備えたガラスバイアルに、水酸化カリウム(50mmol、2.8g)を量り取り、4.2mlの蒸留水を加え、10mol/Lの水酸化カリウム水溶液とした。次に、5mLのトルエンに10.5μLの10.6mg/mLの空気に曝された触媒7の原液、固体のメチルトリオクチルアンモニウムクロリド(54μmol、22mg)を加えた。最後に、10mol/Lの水酸化カリウム水溶液5mLに、触媒7とメチルトリオクチルアンモニウムクロリドを加えたトルエン5mlを加え、バイアルを内容積300mLのオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブはH供給ラインに接続し、最初にパージして微量の酸素やその他の不純物を除去した。その後、オートクレーブを室温で約0.1MPaに加圧した。次に、オートクレーブをCO供給ラインに接続し、約0.4MPaに加圧した。最後に、溶液を90℃に昇温した。
反応混合物を18時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、冷却したら圧力を注意深く解放した。触媒とトリメチルアンモニウムクロリドを含む上層を除去でき、ギ酸カリウムと未反応の重炭酸カリウムを含む下層が残った。内部標準として100μLのDMSOを追加して、100μLの水層を取り、0.5mLのDOに溶解して、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
上記実施例12~15について表2に記載する。
表2中のCO/塩基量(mol/mol)は、内容積300mLのオートクレーブに充填したCO量(モル量)と使用したKOH(モル量)の比を示す。充填したCO量のモル量は、オートクレーブの内容積から投入した塩基性水溶液の容積を差し引いた容積と、COの充填圧力と、CO充填時の環境温度から、気体の状態方程式を用いて算出した。
第一の実施形態に係る製造方法を用いてギ酸を製造した実施例12は、高いTON(Turnover Number (仕込み触媒量(mol)に対するギ酸生成量(mol)))を示し、塩基として水酸化カリウムを用い、水素と二酸化炭素との反応によりギ酸を生成することを確認できた。また、実施例13は、COの充填圧力が1MPaの場合でも、CO/塩基量の比によっては高いTON(Turnover Number (仕込み触媒量(mol)に対するギ酸生成量(mol)))を示し、水素と二酸化炭素からギ酸を生成することを確認できた。
第一の実施形態に係る製造方法を用いてギ酸を製造した実施例14~実施例15は、高いTON(Turnover Number (仕込み触媒量(mol)に対するギ酸生成量(mol)))を示し、塩基として水酸化カリウムを用い、水素と二酸化炭素との反応によりギ酸を生成することを確認できた。溶液を昇温するタイミングは、特に制限はないが、反応容器に水素と二酸化炭素を導入した後に加熱する方が好ましい。
〔実施例16〕
不活性ガス下のグローブボックス内で、撹拌棒を備えたガラスバイアルに、5mLの水を量り取り、炭酸カルシウムを5mmol加え、その後5mLのトルエンに、Ru触媒7を0.6μmol、メチルトリオクチルアンモニウムクロリドを270μmol混合した溶液を加えた後、ガラスバイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブは撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブに水素が50vol%と二酸化炭素が50vol%含まれるガスを投入し4MPaに加圧した。反応混合物を4.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、圧力を注意深く解放した。反応後の溶液の有機相(均一系触媒を含む溶液)を分離し、水相中に沈殿している未反応の炭酸カルシウムを除去することでギ酸カルシウムを含む水溶液を得た。その後、100μLのギ酸カルシウムを含む水溶液を取り、0.5mLのDOに溶解し、100μLのDMSOを内部標準として添加してギ酸カルシウムの定量をH NMR分析で行った。
〔実施例17〕
不活性ガス下のグローブボックス内で、撹拌棒を備えたガラスバイアルに、5mLの水を量り取り、炭酸カルシウムを5mmol加え、その後5mLのトルエンに、Ru触媒7を0.6μmol、メチルトリオクチルアンモニウムクロリドを270μmol混合した溶液を加えた後、ガラスバイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブは撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブに水素が50vol%と二酸化炭素が50vol%含まれるガスを投入し4MPaに加圧した。反応混合物を18時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、圧力を注意深く解放した。反応後の溶液の有機相(均一系触媒を含む溶液)を分離し、水相中に沈殿している未反応の炭酸カルシウムを除去することでギ酸カルシウムを含む水溶液を得た。その後、100μLのギ酸カルシウムを含む水溶液を取り、0.5mLのDOに溶解し、100μLのDMSOを内部標準として添加してギ酸カルシウムの定量をH NMR分析で行った。
上記実施例16~17について表3に記載する。
第一の実施形態に係る製造方法を用いてギ酸を製造した実施例16及び実施例17は、高いTON(Turnover Number (仕込み触媒量(mol)に対するギ酸生成量(mol)))を示し、塩基として炭酸カルシウムを用い、水素とアルカリ土類金属塩と二酸化炭素または炭酸塩との反応によりギ酸を効率良く生成し得ることを確認できた。
〔実施例18~21〕
不活性ガス下のグローブボックス内で、撹拌棒を備えたガラスバイアルに、1mLの水を量り取り、炭酸水素カリウムを2.5~14mmolの範囲で加え、その後1mLのトルエンに、Ru触媒1を0.12μmol、メチルトリオクチルアンモニウムクロリドを54μmol混合した溶液を加えた後、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブを撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブを水素で4MPaに加圧した。反応混合物を2.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、圧力を注意深く解放した。反応後の溶液の上層を除去し、ギ酸カリウムと未反応の炭酸水素カリウムを含む下層の水溶液が残った。100μLの下層の水溶液をとり、500μLの重水に溶解させて、内部標準として300μLのジメチルスルホキシドを追加した後、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
〔実施例22~24〕
不活性ガス下のグローブボックス内で、撹拌棒を備えたガラスバイアルに、1mLの水を量り取り、炭酸水素ナトリウムを5~10mmolの量の範囲で加え、その後1mLのトルエンに、Ru触媒1を0.12μmol、メチルトリオクチルアンモニウムクロリドを54μmol混合した溶液を加えた後、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブを撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブを水素で4MPaに加圧した。反応混合物を2.5時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、圧力を注意深く解放した。反応後の溶液の上層を除去し、ギ酸ナトリウムと未反応の炭酸水素カリウムを含む下層の水溶液が残った。100μLの下層の水溶液をとり、500μLの重水に溶解させて、内部標準として300μLのジメチルスルホキシドを追加した後、ギ酸ナトリウムの定量をH NMRで行った。
実施例18~24について表4に記載する。
第一の実施形態に係る製造方法を用いてギ酸塩を製造した実施例18~24は、高いTON(Turnover Number)を示し、ギ酸塩の生産効率に優れる。塩基として炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムを用い、種々塩基濃度を変更した場合においても、ギ酸を効率良く生成し得ることを確認できた。
〔実施例25~28〕
不活性ガス下のグローブボックス内で、撹拌棒を備えたガラスバイアルに、1mLの水を量り取り、炭酸水素カリウムを5mmol加え、その後1mLのトルエンに、Ru触媒1を0.059~0.006μmolの範囲で、またメチルトリオクチルアンモニウムクロリドを54μmol混合した溶液を加えた後、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブを撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブを水素で4MPaに加圧した。反応混合物を18~48時間の範囲で撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、圧力を注意深く解放した。反応後の溶液の上層を除去し、ギ酸カリウムと未反応の炭酸水素カリウムを含む下層の水溶液が残った。100μLの下層の水溶液をとり、500μLの重水に溶解させて、内部標準として300μLのジメチルスルホキシドを追加した後、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
実施例25~28について表5に記載する。
第一の実施形態に係る製造方法を用いてギ酸塩を製造した実施例25~28は、高いTON(Turnover Number)を示し、ギ酸塩の生産効率に優れる。種々触媒濃度を変更した場合においても、ギ酸塩を効率良く生成し得ることを確認できた。
〔実施例29~43〕
不活性ガス下のグローブボックス内で、撹拌棒を備えたガラスバイアルに、1mLの水を量り取り、炭酸水素カリウムを5mmol加え、その後1mLのトルエンに、Ru触媒1を0.12μmol、メチルトリオクチルアンモニウムクロリドを54μmol混合した溶液を加えた後、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブを撹拌しながら65~120℃の範囲で加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブを水素で0.5~6MPaの範囲で加圧した。反応混合物を16時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、圧力を注意深く解放した。反応後の溶液の上層を除去し、ギ酸カリウムと未反応の炭酸水素カリウムを含む下層の水溶液が残った。100μLの下層の水溶液をとり、500μLの重水に溶解させて、内部標準として300μLのジメチルスルホキシドを追加した後、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
実施例29~43について表6及び表7に記載する。
第一の実施形態に係る製造方法を用いてギ酸塩を製造した実施例29~43は、高いTON(Turnover Number)を示し、ギ酸塩の生産効率に優れる。種々反応温度、及び水素圧力を変更した場合においても、ギ酸塩を効率良く生成し得ることを確認できた。
〔実施例44~48〕
不活性ガス下のグローブボックス内で、撹拌棒を備えたガラスバイアルに、1mLの水を量り取り、炭酸水素カリウムを5mmolの量の範囲で加え、その後1mLのトルエンに、Ru触媒1を0.13μmol、相間移動触媒としてベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、またはテトラブチルアンモニウムヨージドを42~57μmolの範囲で混合した溶液を加えた後、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブを撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブを水素で4.5MPaに加圧した。反応混合物を18時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、圧力を注意深く解放した。反応後の溶液の上層を除去し、ギ酸カリウムと未反応の炭酸水素カリウムを含む下層の水溶液が残った。100μLの下層の水溶液をとり、500μLの重水に溶解させて、内部標準として300μLのジメチルスルホキシドを追加した後、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
実施例44~48について表8に記載する。
第一の実施形態に係る製造方法を用いてギ酸塩を製造した実施例44~48は、高いTON(Turnover Number)を示し、ギ酸塩の生産効率に優れる。相間移動触媒の種類を変更した場合においても、ギ酸塩を効率良く生成し得ることを確認できた。
〔実施例49〕
不活性ガス下のグローブボックス内で、撹拌棒を備えたガラスバイアルに、1mLのトルエンを量り取り、配位子Aを0.12μmolと[RuHCl(PPh(CO)]を0.12μmol加えて、そのトルエン溶液を65℃に加熱し3時間撹拌させた。その後、そのトルエン溶液にメチルトリオクチルアンモニウムクロリドを54μmol加え、水1mLと炭酸水素カリウムを5mmol加え、バイアルをオートクレーブに入れ、オートクレーブを密封してグローブボックスの外に出した。
オートクレーブを撹拌しながら90℃まで加熱した。目的の温度に達したら、オートクレーブを水素で4MPaに加圧した。反応混合物を18時間撹拌した後、反応混合物を氷浴で冷却し、圧力を注意深く解放した。反応後の溶液の上層を除去し、ギ酸カリウムと未反応の炭酸水素カリウムを含む下層の水溶液が残った。100μLの下層の水溶液をとり、500μLの重水に溶解させて、内部標準として300μLのジメチルスルホキシドを追加した後、ギ酸カリウムの定量をH NMRで行った。
実施例49について表9に記載する。
Ru触媒の合成からギ酸塩の合成までの一連の反応を、同一のガラスバイアルにて行った場合においても、高いTON(Turnover Number)を示し、ギ酸塩の生産効率に優れることを確認できた。
本発明によれば、ギ酸の前駆体であるギ酸塩を高収率で製造し、触媒を再利用し得るギ酸塩の製造方法、ギ酸の製造方法、ギ酸塩製造用触媒、及び、水素を高効率でギ酸塩に変換する触媒として使用し得るルテニウム錯体を提供することができる。
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、2020年9月3日出願の日本特許出願(特願2020-148562)、2021年2月12日出願の日本特許出願(特願2021-021223)、2021年2月12日出願の日本特許出願(特願2021-021224)、2021年2月12日出願の日本特許出願(特願2021-021225)、2021年5月10日出願の日本特許出願(特願2021-079887)及び2021年5月17日出願の日本特許出願(特願2021-083416)に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

Claims (12)

  1. 溶媒の存在下、触媒を用いて、水素と、二酸化炭素、炭酸水素塩又は炭酸塩とを反応させてギ酸塩を製造する方法であって、
    前記反応は、前記溶媒が有機溶媒と水系溶媒とが分離された状態で存在する二相系であり、
    前記触媒は、下記一般式(1)で表されるルテニウム錯体、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩化合物より選択される少なくとも一種であり、
    更に、相間移動触媒を用いる、ギ酸塩の製造方法。
    (一般式(1)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
    は各々独立して、CH、NH、又はOを表し、
    は各々独立して、アルキル基、又はアリール基を表し(ただし、QがNH又はOを表す場合は、Rの少なくとも1つがアリール基を表す)、
    Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
    Xはハロゲン原子を表し、
    nは0~3を表し、
    Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
  2. 前記一般式(1)で表されるルテニウム錯体が、下記一般式(3)で表されるルテニウム錯体である、請求項1に記載のギ酸塩の製造方法。
    (一般式(3)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
    は各々独立して、NH、又はOを表し、
    は各々独立して、アリール基を表し、
    Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表し、
    Xはハロゲン原子を表し、
    nは0~3を表し、
    Lは、複数存在する場合は各々独立して、中性またはアニオン性の配位子を表す。)
  3. 前記Rがフェニル基を表す、請求項1に記載のギ酸塩の製造方法。
  4. 前記Rがフェニル基を表す、請求項2に記載のギ酸塩の製造方法。
  5. 前記AがCHを表し、前記QがNHを表す、請求項4に記載のギ酸塩の製造方法。
  6. 前記Rが水素原子又はメチル基を表す、請求項1~5のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
  7. 前記Xが塩素原子を表す、請求項1~6のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
  8. 前記nが1~3を表し、前記Lが各々独立して、水素原子、一酸化炭素、又はトリフェニルホスフィンを表す、請求項1~7のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
  9. 前記有機溶媒がトルエン又はジオキサンを含む、請求項1~8のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
  10. 前記相間移動触媒としてアンモニウム塩を用いる、請求項1~9のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
  11. 更に、下記一般式(4)で表される配位子を添加する、請求項1~10のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法。
    (一般式(4)中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、
    は各々独立して、NH、又はOを表し、
    は各々独立して、アリール基を表し、
    Aは各々独立して、CH、CR、又はNを表し、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を表す。)
  12. 請求項1~11のいずれか一項に記載のギ酸塩の製造方法によりギ酸塩を製造する工程と、
    前記ギ酸塩の少なくとも一部をプロトン化してギ酸を生成させる第二の工程とを含む、ギ酸の製造方法。
JP2022546316A 2020-09-03 2021-08-30 ギ酸塩の製造方法、及びギ酸の製造方法 Active JP7764384B2 (ja)

Applications Claiming Priority (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020148562 2020-09-03
JP2020148562 2020-09-03
JP2021021225 2021-02-12
JP2021021224 2021-02-12
JP2021021223 2021-02-12
JP2021021223 2021-02-12
JP2021021224 2021-02-12
JP2021021225 2021-02-12
JP2021079887 2021-05-10
JP2021079887 2021-05-10
JP2021083416 2021-05-17
JP2021083416 2021-05-17
PCT/JP2021/031790 WO2022050234A1 (ja) 2020-09-03 2021-08-30 ギ酸塩の製造方法、ギ酸の製造方法、ギ酸塩製造用触媒、及びルテニウム錯体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2022050234A1 JPWO2022050234A1 (ja) 2022-03-10
JP7764384B2 true JP7764384B2 (ja) 2025-11-05

Family

ID=80492236

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022546316A Active JP7764384B2 (ja) 2020-09-03 2021-08-30 ギ酸塩の製造方法、及びギ酸の製造方法
JP2022546317A Active JP7736697B2 (ja) 2020-09-03 2021-08-30 ギ酸塩の製造方法、ギ酸の製造方法、及び凍結防止剤の製造方法
JP2022546318A Active JP7684318B2 (ja) 2020-09-03 2021-08-30 アルカリ土類金属ギ酸塩の製造方法

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022546317A Active JP7736697B2 (ja) 2020-09-03 2021-08-30 ギ酸塩の製造方法、ギ酸の製造方法、及び凍結防止剤の製造方法
JP2022546318A Active JP7684318B2 (ja) 2020-09-03 2021-08-30 アルカリ土類金属ギ酸塩の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (3) US12606513B2 (ja)
EP (3) EP4209478A4 (ja)
JP (3) JP7764384B2 (ja)
CN (3) CN116096699A (ja)
TW (3) TW202216277A (ja)
WO (3) WO2022050234A1 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20250162969A1 (en) * 2022-02-25 2025-05-22 Nitto Denko Corporation Catalyst reaction method, method for producing formate, and method for producing formic acid
CN114874073A (zh) * 2022-06-01 2022-08-09 台州鸿波智能装备科技有限公司 一种季戊四醇缩合液中副产资源化膜法新工艺
US20260001067A1 (en) * 2022-09-06 2026-01-01 Nitto Denko Corporation Catalytic reaction method, method for producing organic compound, and catalyst composition
WO2024190326A1 (ja) * 2023-03-10 2024-09-19 日東電工株式会社 有機化合物の製造方法
US20250167271A1 (en) * 2023-11-22 2025-05-22 Nuscale Power, Llc Sodium Formate Hydrogen Extraction System Operation And Production Of Hydrogen And Methanol
JPWO2025177845A1 (ja) * 2024-02-22 2025-08-28
WO2025187654A1 (ja) * 2024-03-08 2025-09-12 日東電工株式会社 反応生成物の製造方法、及び反応生成物製造システム
WO2026048716A1 (ja) * 2024-08-29 2026-03-05 日東電工株式会社 触媒の再利用方法、有機化合物の製造方法、及び触媒の保管方法
CN119490400B (zh) * 2025-01-16 2025-04-18 山东科润达石油科技有限公司 一种油田化学助剂用甲酸钾的制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016539793A (ja) 2013-12-02 2016-12-22 キング アブドゥーラ ユニバーシティ オブ サイエンス アンド テクノロジー ギ酸からの効率的な水素生成のためのn−hアーム脱プロトン化/ピリジン脱芳香族化を介した金属−配位子協奏触媒作用

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE68920933T2 (de) * 1988-08-20 1995-05-24 Bp Chem Int Ltd Produktion von Formiat-Salzen von Stickstoffbasen.
JPH07299333A (ja) 1994-05-10 1995-11-14 Asahi Glass Co Ltd 有機酸の再生方法
JPH1036310A (ja) * 1996-07-23 1998-02-10 Tokuyama Corp 有機酸の製造方法
JP2003135620A (ja) * 2001-10-30 2003-05-13 Shoowa Kk 消火設備用不凍剤組成物
JP4822253B2 (ja) * 2005-08-23 2011-11-24 独立行政法人産業技術総合研究所 二酸化炭素と水素からギ酸塩の製造方法
UA104324C2 (ru) * 2009-06-26 2014-01-27 Басф Се Способ получения муравьиной кислоты
KR20140105577A (ko) 2011-12-20 2014-09-01 바스프 에스이 포름산의 제조 방법
US9315381B2 (en) 2012-01-27 2016-04-19 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Dehydrogenation catalyst for formic acid, method for producing hydrogen, and method for producing heavy-hydrogen gas or heavy-hydrogenated hydrogen
JP5367190B1 (ja) 2013-03-08 2013-12-11 株式会社アストム 水酸化リチウムの製造方法
CN104418530A (zh) * 2013-08-26 2015-03-18 朱云利 一种甲酸乙酯复合防冻剂的制备方法
CN104193611A (zh) 2014-08-08 2014-12-10 烟台金海化工有限公司 一种甲酸钠和甲醇的联产制备方法
CN106083559B (zh) 2016-06-06 2019-02-22 上海交通大学 一种制备甲酸的方法
CN105949631A (zh) 2016-06-20 2016-09-21 李文军 一种抗冻绝缘材料及其制备方法
JP2020148562A (ja) 2019-03-12 2020-09-17 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 計測装置および測距装置
JP7310406B2 (ja) 2019-07-26 2023-07-19 株式会社大林組 山留め壁の支持構造及び山留め壁の支持方法
JP6614739B1 (ja) 2019-07-26 2019-12-04 株式会社Ndc トンネル状の建築物の製造方法
JP7241633B2 (ja) 2019-07-26 2023-03-17 株式会社安藤・間 吹付けコンクリートの配合設計方法、及びコンクリート吹付け方法
JP2021079887A (ja) 2019-11-21 2021-05-27 トヨタ自動車株式会社 二次電池の冷却システム
JP2021083416A (ja) 2019-11-29 2021-06-03 株式会社ダイセル リソソームと多胞体との融合抑制剤

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016539793A (ja) 2013-12-02 2016-12-22 キング アブドゥーラ ユニバーシティ オブ サイエンス アンド テクノロジー ギ酸からの効率的な水素生成のためのn−hアーム脱プロトン化/ピリジン脱芳香族化を介した金属−配位子協奏触媒作用

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
David BENITO-GARAGORRI et al.,"Achiral and Chiral Transition Metal Complexes with Modularly Designed Tridentate PNP Pincer-Type Ligands Based on N-Heterocyclic Diamines",Organometallics,2006年03月15日,Vol. 25, No. 8,p.1900-1913,DOI: 10.1021/om0600644
FILONENKO,G.A. et al.,Highly efficient reversible hydrogenation of carbon dioxide to formates using a ruthenium PNP-Pincer,ChemCatChem,2014年
HAMEED,Y. et al.,Visible-Light Photocatalytic Reduction of CO2 to Formic Acid with a Ru Catalyst Supported by N,N'-Bi,ChemSusChem,2019年
KASSIE,A.A. et al.,Synthesis and Reactivity of Zr MOFs Assembled from PNNNP-Ru Pincer Complexes,Organometallics,2019年,Vol.38, No.18,p.3419-3428
Kentaro MATAYOSHI et al.,"Synthesis and Crystal Structure of [RuCl3{N,N'-bis(diphenylphosphino)-2,6-diaminopyridine}]?3CH3OH",X-ray Structure Analysis Online,2012年,Vol. 28,p.57-58,DOI: 10.2116/xraystruct.28.57

Also Published As

Publication number Publication date
EP4209480A1 (en) 2023-07-12
TW202219024A (zh) 2022-05-16
EP4209479A1 (en) 2023-07-12
EP4209480A4 (en) 2024-10-16
JPWO2022050234A1 (ja) 2022-03-10
CN116096698A (zh) 2023-05-09
US20230312448A1 (en) 2023-10-05
US12606513B2 (en) 2026-04-21
JP7684318B2 (ja) 2025-05-27
WO2022050235A1 (ja) 2022-03-10
WO2022050236A1 (ja) 2022-03-10
CN116075494A (zh) 2023-05-05
CN116096699A (zh) 2023-05-09
JPWO2022050236A1 (ja) 2022-03-10
EP4209479A4 (en) 2024-10-30
TW202219023A (zh) 2022-05-16
WO2022050234A1 (ja) 2022-03-10
EP4209478A4 (en) 2024-10-30
JP7736697B2 (ja) 2025-09-09
EP4209478A1 (en) 2023-07-12
US20230357120A1 (en) 2023-11-09
US20240043367A1 (en) 2024-02-08
TW202216277A (zh) 2022-05-01
JPWO2022050235A1 (ja) 2022-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2022050234A1 (ja) ギ酸塩の製造方法、ギ酸の製造方法、ギ酸塩製造用触媒、及びルテニウム錯体
JP6696986B2 (ja) ジアリールチオヒダントイン化合物の調製方法
WO2023163014A1 (ja) ギ酸塩の製造方法、及びギ酸の製造方法
EP3597648A1 (en) METHOD FOR PRODUCING 3, 6-DISUBSTITUTED IMIDAZO[1, 2-b]PYRIDAZINE DERIVATIVE
WO2023163050A1 (ja) 触媒反応方法、ギ酸塩の製造方法、及びギ酸の製造方法
CN110330515B (zh) 一种氮氧混合配体锌配合物及其制备方法
WO2024190326A1 (ja) 有機化合物の製造方法
CN104177291A (zh) 一种3,5,6-三氯吡啶-2-醇钠的合成方法
AU2018260727B2 (en) Process for the preparation of deuterated ethanol from D2O
CN105732419B (zh) 一种在无配体三氯化钌催化下制备亚胺的无溶剂合成方法
CN121045135B (zh) 一种4-甲基硫酸亚乙酯的合成方法
JP2022158861A (ja) アルケンのヒドロキシカルボニル化用触媒、金属錯体、及び、カルボン酸化合物の製造方法
CN110092802B (zh) 一种制备曲贝替定中间体的方法
WO2023026860A1 (ja) 水素の製造方法
WO2022249992A1 (ja) ビピリジン誘導体の製造方法、大環状化合物の製造方法、大環状化合物を配位子として含む金属錯体の製造方法、金属錯体、空気電池用電極、及び空気電池
CN119039158A (zh) 一类芳香胺化合物的制备方法
CN116731028A (zh) 一种四环内酰胺类化合物及其制备方法
JP2026053018A (ja) ハロゲン化アルカンスルホニル化合物の製造方法、及び、多重結合含有化合物の製造方法
CN113999239A (zh) 一种二氮杂桥化合物的合成方法
JP2008303149A (ja) アミノナフトキノン類の製造方法
JP2002265411A (ja) ヒドロキシアルデヒドの製造方法
CN101137633A (zh) 制备1-氨基哌啶衍生物的方法
JP2009051787A (ja) 大環状テトラホスホニウム塩及びその製造方法、並びに大環状ホスフィンテトラオキシドの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240711

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250325

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250513

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20251007

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20251023

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7764384

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150