JP7764838B2 - 成膜装置 - Google Patents
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Description
図1に示すように、本実施形態の成膜装置1は、固相電析法を用いて基材12の表面に金属皮膜を形成する(言い換えれば、皮膜する)ためのめっき装置である。この成膜装置1は、板状の陽極11と、陽極11と基材12との間に配置された電解質膜13と、基材12及びめっき液S等を収容する収容体14と、陽極11と基材12との間に電圧を印加する電源部15と、を備えている。
以下、図3~図7を基に成膜装置の第2実施形態を説明する。本実施形態の成膜装置1Aは、複数(3つ)の第1ユニット10が積層される点、及び、積層された複数の第1ユニット10の両側に第2ユニット20が更に配置される点において、上述の第1実施形態と相違している。以下では、その相違点のみを説明する。
Claims (3)
- 板状の陽極と、前記陽極と陰極である基材との間に配置される電解質膜と、めっき液を収容する収容体と、前記陽極と前記基材との間に電圧を印加する電源部とを備え、前記電解質膜が前記基材と接触した状態で、前記電圧の印加により前記めっき液中の金属イオンに由来した金属皮膜を前記基材の表面に成膜する成膜装置であって、
前記陽極と前記陽極を挟むように該陽極の両側に配置された一対の前記電解質膜とからなる第1ユニットを少なくとも一つ有することを特徴とする成膜装置。 - 前記第1ユニットの両側には、前記陽極と前記陽極の片側に配置された前記電解質膜とからなる第2ユニットがそれぞれ設けられ、
前記第2ユニットは、その電解質膜が前記第1ユニットの電解質膜と隣接するように前記第1ユニットと対向して配置されている請求項1に記載の成膜装置。 - 前記第1ユニットは、複数であり、一対の前記第2ユニットの間に積層されている請求項2に記載の成膜装置。
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| JP2022177643A JP7764838B2 (ja) | 2022-11-04 | 2022-11-04 | 成膜装置 |
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