JP7780281B2 - 分離構造体及び分離方法 - Google Patents

分離構造体及び分離方法

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本発明は、分離方法に関する。
地球温暖化の一要因と考えられている二酸化炭素(CO)を含むガス(例えば、空気)から二酸化炭素を直接取り除く技術(DAC:Direct Air Capture)が開発されている。
例えば、特許文献1には、二酸化炭素の吸収液としてアミン水溶液を用いたDACについて言及されている。アミン水溶液に二酸化炭素を溶解させると、中性アミン及び二酸化炭素が反応してカルバメートイオン及びプロトン化アミンが生成されることで二酸化炭素が吸収される。一方、カルバメートイオン及びプロトン化アミンを加熱すると、中性アミン及び二酸化炭素が生成されることで二酸化炭素が回収される。
特表2020-521625号公報
しかしながら、二酸化炭素の吸収液としてアミン水溶液を用いたDACでは、二酸化炭素を吸収した吸収液の全部を加熱する必要があるため煩雑である。
本発明は、簡便に二酸化炭素を回収可能な分離方法を提供することを目的とする。
本発明に係る分離方法は、析出工程と分離工程とを備える。析出工程では、溶媒と溶媒に溶解したアミンとを含む吸収液に二酸化炭素を供給することによって、二酸化炭素がアミンと結合した生成物が溶媒中に析出した混合物を生成する。分離工程では、析出工程において生成された混合物に含まれる溶媒と生成物とを分離する。
本発明によれば、効率的に二酸化炭素を回収可能な分離方法を提供することができる。
本実施形態に係る分離方法を説明するためのフロー図 調製工程を説明するための模式図 析出工程を説明するための模式図 第1分離工程を説明するための模式図 第1加熱工程を説明するための模式図 第2分離工程を説明するための模式図 第2加熱工程を説明するための模式図
本実施形態に係る分離方法は、二酸化炭素を回収するために用いられる。図1は、本実施形態に係る分離方法を説明するためのフロー図である。図2乃至図7は、本実施形態に係る分離方法を説明するための模式図である。
図1に示すように、本実施形態に係る分離方法は、調製工程、析出工程、第1分離工程、第1加熱工程、第2分離工程及び第2加熱工程を備える。析出工程から第2加熱工程までの工程は、繰り返し実施されうる。
1.調製工程
図2に示すように、溶媒10とアミンAとを混合することによって、溶媒10と溶媒10に溶解したアミンAとを含む吸収液10Aを調製する。
溶媒10としては、例えば、ジメチルスルホキシド(DMSO)、エーテル、アセトン、アルコールなどを用いることができる。蒸気圧が低いこと、環境負荷が低いことを考慮すると、DMSOが特に好適である。
アミンAは、二酸化炭素と結合したときに、溶媒10における溶解度が当該アミンAより小さい生成物Bを生成する。アミンAとしては、オルトフェニレンジアミン(o-フェニレンジアミン)、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、スチレンオキシドなどを用いることができる。特に、o-フェニレンジアミンは、アルコールやエーテルなど幅広い溶媒に溶解しやすい点で好適である。シクロヘキシルアミンは、COを吸収すると分子鎖の立体構造が長い1,3-ジシクロヘキシル尿素を形成するので、第1及び第2分離工程で固体分離しやすい。同様に、エチレンジアミンは、COを吸収すると分子鎖の立体構造が長いカルバミン酸アンモニウム塩を形成するので、第1及び第2分離工程で固体分離しやすい。
吸収液10Aにおける溶媒10の含有率は、70wt%以上95wt%以下とすることができる。吸収液10AにおけるアミンAの含有率は、5wt%以上30wt%以下とすることができる。
2.析出工程
図3に示すように、調製した吸収液10Aに二酸化炭素を供給することによって、二酸化炭素がアミンAと結合して生成される生成物Bを溶媒中に析出させる。溶媒10における生成物Bの溶解度は溶媒10におけるアミンAの溶解度より小さいため、生成物Bは固体となって溶媒10中に析出する。これによって、溶媒10と生成物Bとの混合物10Bが生成される。
例えば、溶媒10がDSMOであり、かつ、アミンAがo-フェニレンジアミンである場合、二酸化炭素がo-フェニレンジアミンと結合して1,3-Dihydro-2H-benzimidazol-2-one(2-ベンズイミダゾールオン)が生成される。DSMOにおける2-ベンズイミダゾールオンの溶解度はDSMOにおけるo-フェニレンジアミンの溶解度より小さいため、2-ベンズイミダゾールオンが固体となってDSMO中に析出する。この際、二酸化炭素は95%を超える高回収率で回収されうる。
このように、二酸化炭素とアミンAから生成物Bが生成されることによって、見かけ上、二酸化炭素が吸収液10Aに吸収される。本工程は、室温(例えば、20℃以上25℃以下)、常圧下において実施することができる。
3.第1分離工程
析出工程において生成された混合物10Bに含まれる液体の溶媒10と固体の生成物Bとを固液分離することによって生成物Bを捕集する。
溶媒10と生成物Bとの固液分離には、第1空間と第2空間とが隔壁によって仕切られたPF(パティキュレートフィルタ)を用いることができる。PFは、いわゆるハニカム構造体を有することが好ましい。ハニカム構造体を有するPFとしては、GPF(ガソリンパティキュレートフィルタ)やDPF(ディーゼルパティキュレートフィルタ)を用いることができ、これらの詳細は、例えば特開2014-193782号公報、特許第4136319号公報、国際公開第2011/043434号などに開示されている。
本実施形態では、図4に示されたPF20が固液分離に用いられる。PF20は、第1空間21、第2空間22及び隔壁23を有する。第1空間21と第2空間22は、隔壁23によって仕切られている。隔壁23は、液体の溶媒10を通過させ、かつ、固体の生成物Bを通過させない程度の細孔を有する。隔壁23は、例えばセラミック材料によって構成することができる。隔壁23は、第1空間21側の第1表面S1と、第2空間22側の第2表面S2とを有する。
図4に示すように、第1空間21に混合物10Bを供給すると、溶媒10は隔壁23を通過する一方で、生成物Bは隔壁23の第1表面S1に付着する。
このように、本実施形態によれば、析出工程において生成物Bを溶媒10中に析出させているため、本工程では周知の固液分離法によって生成物Bを溶媒10から簡便に分離できる。
ここで、隔壁23の第1表面S1に生成物Bが付着すると、流体の圧力損失が徐々に大きくなる。生成物Bの付着量が所定の閾値を超えた場合には、第1空間21への混合物10Bの供給を停止させて、次の第1加熱工程に進む。なお、生成物Bの付着量は、流体の圧力損失値に基づいて推定することができる。
4.第1加熱工程
第1分離工程において分離され、隔壁23の第1表面S1に付着した生成物Bを加熱することによって、アミンと二酸化炭素を生成する。これによって、図5に示すように、生成物Bから二酸化炭素が遊離するとともに、固体のアミンAが生成(再生)される。アミンAは、隔壁23の第1表面S1に付着したまま残される。
例えば、生成物Bが2-ベンズイミダゾールオンである場合、常圧下において50℃以上60℃以下の温度に加熱することによって、2-ベンズイミダゾールオンはo-フェニレンジアミンと二酸化炭素とに解離する。
このように、本実施形態では、液体の溶媒10から分離された固体の生成物Bだけを加熱すればよいため、簡便に二酸化炭素を回収することができる。
本工程では、PF20を外部から加熱することによって生成物Bを加熱してもよいし、生成物Bに温風を供給することによって生成物Bを加熱してもよい。図5では、第1空間21側から温風を供給した場合が図示されている。
5.第2分離工程
本工程では、第1分離工程と同様、混合物10Bに含まれる溶媒10と生成物Bとを固液分離しながら、分離された溶媒10に対して第1加熱工程において生成されたアミンAを溶解させる。このように、本工程では、生成物Bの捕集とアミンAの除去(回収)とが同時進行する。
本実施形態では、図6に示すように、析出工程において生成した混合物10Bを第2空間22に供給する。すると、溶媒10は隔壁23を通過する一方で、生成物Bは隔壁23の第2表面S2に付着する。また、第1加熱工程において隔壁23の第1表面S1に残されたアミンAは、隔壁23を通過して第1空間21に流入する溶媒10に溶解する。アミンAが溶媒10に溶解することによって、吸収液10A’が新たに調製される。新たに調製された吸収液10A’は、第1空間21から外部に回収されて析出工程に供される。
このように、混合物10Bに含まれる溶媒10を利用することによって、第1加熱工程で生成されたアミンAを簡便に除去できる。特に、本実施形態では、混合物10Bが第2空間22に供給されるため、隔壁23を通過する溶媒10によってアミンAをスムーズに逆洗することができる。
ここで、第1分離工程と同様、隔壁23の第2表面S2に生成物Bが付着すると、流体の圧力損失が徐々に大きくなる。生成物Bの付着量が所定の閾値を超えた場合には、第2空間22への混合物10Bの供給を停止させて、次の第2加熱工程に進む。
6.第2加熱工程
第2分離工程において分離され、隔壁23の第2表面S2に付着した生成物Bを加熱することによって、アミンと二酸化炭素を生成する。これによって、図7に示すように、生成物Bから二酸化炭素が遊離するとともに、固体のアミンAが生成(再生)される。アミンAは、隔壁23の第2表面S2に付着したまま残される。
本工程では、PF20を外部から加熱することによって生成物Bを加熱してもよいし、生成物Bに温風を供給することによって生成物Bを加熱してもよい。図7では、第2空間22側から温風を供給した場合が図示されている。
7.第2加熱工程以降
第2加熱工程が完了すると、処理は第1分離工程に戻る。すなわち、第1空間21に混合物10Bが供給されることによって、混合物10Bが溶媒10と生成物Bとに固液分離される。
ただし、2回目以降の第1分離工程では、混合物10Bに含まれる溶媒10と生成物Bとを固液分離しながら、分離された溶媒10に対して第2加熱工程において生成されたアミンAが溶解する。このように、2回目以降の第1分離工程では、第2分離工程で説明したように、生成物Bの捕集とアミンAの除去(回収)とが同時進行する。
(実施形態の変形例)
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
[変形例1]
上記実施形態において、分離方法は、調製工程、析出工程、第1分離工程、第1加熱工程、第2分離工程及び第2加熱工程を備えることとしたが、調製工程、第1加熱工程、第2分離工程及び第2加熱工程は任意の工程である。分離方法は、析出工程と第1分離工程とを少なくとも備えていればよい。
[変形例2]
上記実施形態において、第2分離工程では、混合物10Bを第2空間22に供給することとしたが、混合物10Bを第1空間21に供給してもよい。
この場合、生成物Bは隔壁23の第1表面S1に付着する一方で、第1表面S1に付着しているアミンAは溶媒10に溶解して隔壁23を通過する。このように、第2分離工程において混合物10Bを第1空間21に供給したとしても、生成物Bの捕集とアミンAの除去とを同時進行させることができる。
ただし、アミンAが溶媒10に溶解すると粘度が高くなって隔壁23を通過しにくくなるおそれがある。よって、本変形例のようにアミンAを順洗するよりも、上記実施形態のようにアミンAを逆洗する方が好ましい。
なお、第2分離工程において混合物10Bを第1空間21に供給した場合、第2加熱工程では、隔壁23の第1表面S1にアミンAが残され、2回目以降の第1分離工程では、生成物Bは隔壁23の第1表面S1に付着する一方で、第1表面S1に付着しているアミンAは溶媒10に溶解して隔壁23を通過する。
A アミン
B 生成物
10 溶媒
10A 吸収液
10B 混合物
20 PF(パティキュレートフィルタ)
21 第1空間
22 第2空間
23 隔壁
S1 第1表面
S2 第2表面

Claims (4)

  1. 溶媒と前記溶媒に溶解したアミンとを含む吸収液に二酸化炭素を供給することによって、二酸化炭素が前記アミンと結合した生成物が前記溶媒中に析出した混合物を生成する析出工程と、
    前記析出工程において生成された前記混合物に含まれる前記溶媒と前記生成物とを分離する第1分離工程と、
    前記第1分離工程の後に、前記第1分離工程において分離された前記生成物を加熱することによって、アミンと二酸化炭素を生成する第1加熱工程と、
    前記第1加熱工程の後に、前記析出工程において生成された前記混合物に含まれる前記溶媒と前記生成物とを分離しながら、分離された前記溶媒に対して前記第1加熱工程において生成された前記アミンを溶解させる第2分離工程と、
    を備える分離方法。
  2. 前記第1及び第2分離工程では、第1空間と第2空間とが隔壁によって仕切られたパティキュレートフィルタが用いられ、
    前記第1分離工程では、前記第1空間に前記混合物が供給され、
    前記第2分離工程では、前記第2空間に前記混合物が供給される、
    請求項1に記載の分離方法。
  3. 前記第2分離工程の後に、前記第2分離工程において分離された前記生成物を加熱することによって、アミンと二酸化炭素を生成する第2加熱工程をさらに備える、
    請求項1又は2に記載の分離方法。
  4. 溶媒と前記溶媒に溶解したアミンとを含む吸収液に二酸化炭素を供給することによって、二酸化炭素が前記アミンと結合した生成物が前記溶媒中に析出した混合物を生成する析出工程と、
    前記析出工程において生成された前記混合物に含まれる前記溶媒と前記生成物とを分離する第1分離工程と、
    を備え、
    前記溶媒は、ジメチルスルホキシドであり、
    前記アミンは、オルトフェニレンジアミンであり、
    前記生成物は、2-ベンズイミダゾールオンである、
    分離方法。
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