JP7797810B2 - 水処理システム - Google Patents

Description

本発明は、水処理システムに関する。

対象水を逆浸透膜により透過水と濃縮水とに分離する逆浸透膜装置を備える水処理システムが利用されている。このような水処理システムを用いて医薬品、食品等の製造用水を製造する場合、水処理システムにおいて微生物が繁殖することを防止するために、水処理システムに熱水を通水して装置内の殺菌を行うことが知られている（例えば特許文献１参照）。

特許第５４５９７０４号公報

逆浸透膜装置を備える水処理装置が広く利用されている。このような水処理システムを用いて医薬品、食品等の製造用水を製造する場合、水処理システムにおいて微生物が繁殖することを防止するために、水処理システムに熱水を通水して装置内の殺菌を行うことが知られている。一般的に逆浸透膜は急激な温度変化に弱いため、温度変化率を例えば２℃／ｍｉｎ程度に制限する必要がある。このため、熱水殺菌では逆浸透膜装置の内部の温度が所定の変化をするよう、供給する温水の温度を調節する。

逆浸透膜装置は、通常は高圧で使用されるが、熱水殺菌時には熱により逆浸透膜の強度が低下するため、通常運転よりも低い圧力で熱水を供給する必要がある。このため、熱水殺菌には、通常運転に用いる供給ポンプとは異なる吐出圧力が低い専用の殺菌ポンプを用いて熱水を供給することが望ましい。

また、逆浸透膜装置を備える水処理システムの中には、逆浸透膜装置から流出する濃縮水を逆浸透膜装置に対象水を供給する供給ポンプの上流側に還流させることで、逆浸透膜への供給水量を増大し、流体のせん断力により膜面への詰まりの防止や、膜面濃度分極による高濃縮でのスケール発生を防止するよう構成されるものも多い。このような構成を有する水処理システムの熱水殺菌では、濃縮水を供給側に還流させる還流ラインにも熱水を供給して殺菌を行う必要がある。通常運転時に還流した濃縮水を含む対象水が殺菌ポンプを通過するように構成することは、圧力損失等の問題が生じるため、殺菌ポンプは、還流ラインの接続点よりも上流側に設けることが望ましい。しかしながら、このような構成では、還流ラインが逆浸透膜装置をバイパスして熱水を濃縮水ラインに逃がす流路となってしまう。

従って、本発明は、逆浸透膜装置の還流ラインも熱水殺菌できる水処理システムを提供することを目的とする。

本発明の一態様に係る水処理システムは、逆浸透膜によって対象水を透過水と膜濃縮水とに分離する逆浸透膜装置と、供給ポンプを有し、前記逆浸透膜装置に前記対象水を供給する供給ラインと、前記逆浸透膜装置から前記透過水を導出する透過水ラインと、前記逆浸透膜装置から前記膜濃縮水を導出する膜濃縮水ラインと、前記供給ラインからの流入を防止する整流弁を有し、前記膜濃縮水ラインから前記膜濃縮水の一部を前記供給ラインの前記供給ポンプの上流側に還流させる還流ラインと、前記逆浸透膜装置の殺菌に用いる殺菌処理水を前記供給ラインに供給する殺菌ポンプと、を備え、前記供給ライン及び前記膜濃縮水ラインの少なくともいずれかは、前記還流ラインの接続点において、直前の部分又は直後の部分が前記還流ラインと略同軸になるよう屈曲する。

上述の水処理システムにおいて、前記供給ライン及び前記膜濃縮水ラインは両方とも、前記接続点において、直前の部分又は直後の部分が前記還流ラインと略同軸になるよう屈曲してもよい

上述の水処理システムにおいて、前記整流弁の弁体から前記供給ライン及び前記膜濃縮水ラインの前記接続点までのそれぞれの距離は、接続先の前記供給ライン又は前記膜濃縮水ラインが前記接続点において屈曲する場合には前記還流ラインの内径の１５倍以下であり、接続先の前記供給ライン又は前記膜濃縮水ラインが前記接続点において屈曲しない場合には前記還流ラインの内径の６倍以下であってもよい。

本発明の別の態様に係る水処理システムは、逆浸透膜によって対象水を透過水と膜濃縮水とに分離する逆浸透膜装置と、供給ポンプを有し、前記逆浸透膜装置に前記対象水を供給する供給ラインと、前記逆浸透膜装置から前記透過水を導出する透過水ラインと、前記逆浸透膜装置から前記膜濃縮水を導出する膜濃縮水ラインと、前記供給ラインからの流入を防止する整流弁を有し、前記膜濃縮水ラインから前記膜濃縮水の一部を前記供給ラインの前記供給ポンプの上流側に還流させる還流ラインと、前記逆浸透膜装置の殺菌に用いる殺菌処理水を前記供給ラインに供給する殺菌ポンプと、備え、前記還流ラインは、前記供給ラインの直線部及び前記膜濃縮水ラインの直線部にそれぞれ側方から接続され、前記整流弁の弁体から前記還流ラインの前記供給ライン及び前記膜濃縮水ラインとの接続点までの距離がそれぞれ前記還流ラインの内径の６倍以下である。

上述の水処理システムは、前記殺菌ポンプと、前記殺菌処理水の温度を調節する温度調節装置と、が設けられ、前記供給ライン、前記逆浸透膜装置、並びに前記透過水ライン及び前記膜濃縮水ラインを通して前記殺菌処理水を循環させる循環ラインをさらに備えてもよい。

上述の水処理システムは、前記供給ポンプを停止した状態で前記殺菌ポンプにより前記殺菌処理水を循環させると共に、前記殺菌処理水の温度が所定の温度変化をするよう前記温度調節装置を制御する制御装置をさらに備えてもよい。

本発明によれば、逆浸透膜装置の還流ラインも熱水殺菌できる水処理システムを提供できる。

本発明の一実施形態に係る水処理システムの構成を示す模式図である。 図１の供給ラインと還流ラインとの接続点近傍における配管方向の一例を示す模式斜視図である。 図１の供給ラインと還流ラインとの接続点近傍における配管方向の図２とは異なる例を示す模式斜視図である。 図１の供給ラインと還流ラインとの接続点近傍における配管方向の図２及び３とは異なる例を示す模式斜視図である。 図１の膜濃縮水ラインと還流ラインとの接続点近傍における配管方向の一例を示す模式斜視図である。 図１の膜濃縮水ラインと還流ラインとの接続点近傍における配管方向の図５とは異なる例を示す模式斜視図である。 図１の膜濃縮水ラインと還流ラインとの接続点近傍における配管方向の図５及び６とは異なる例を示す模式斜視図である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る水処理システム１００の構成を示す模式図である。

水処理システム１００は、対象水タンク１と、逆浸透膜装置２と、ＥＤＩ装置３と、精製水タンク４と、温度調節装置５と、を備える。水処理システム１００は、さらに、供給ライン１０と、透過水ライン２０と、膜濃縮水ライン３０と、還流ライン４０と、精製水ライン５０と、電気濃縮水ライン６０と、循環ライン７０と、制御装置８０と、を備える。

水処理システム１００は、後で詳しく説明するように、逆浸透膜装置２及びＥＤＩ装置３により対象水を処理して精製水を製造する製造運転と、温度調節装置５により温度調節された殺菌処理水により各構成要素を熱水殺菌する殺菌運転と、を繰り返し行うよう、他の構成要素を制御する。また、制御装置８０は、製造運転及び殺菌運転に加えて、ＥＤＩ装置３を再生する再生運転を行ってもよい。

対象水タンク１は、対象水（原水）を貯留する。対象水としては、比較的清浄な水が想定され、例えば水道水等、予め浄水処理された水を用いることができる。

逆浸透膜装置２は、逆浸透膜によって対象水を膜分離、つまり逆浸透膜を透過した透過水と逆浸透膜を透過しなかった膜濃縮水とに分離する。

ＥＤＩ装置３は、電気再生式脱塩により透過水からイオンを除去した精製水（純水）と、透過水のイオンの含有量を増大した電気濃縮水とを得る。ＥＤＩ装置３は、逆浸透膜装置２から導出される透過水をさらに処理する二次処理装置の一例である。

精製水タンク４は、ＥＤＩ装置３が生成した精製水を貯留する。

温度調節装置５は、通過又は一時的に保留する水の温度を調節する。具体例として、温度調節装置５としては、外部から供給される水蒸気等の温熱源流体と熱交換することにより系内の水の温度を調節する熱交換器、例えば電気ヒータ、バーナ等の熱源を有するボイラなど用いることができる。温度調節装置５は、水を加熱する機能のみを有してもよいが、水を冷却する機能をさらに有してもよい。例えば温度調節装置５は、系内の水と冷却水等の冷熱源流体との間で熱交換可能な熱交換器とすることができる。

供給ライン１０は、対象水タンク１から逆浸透膜装置２に対象水を供給する。供給ライン１０は、対象水を遮断する対象水遮断弁１１と、対象水を加圧する供給ポンプ１２と、をこの順番に有する構成とされ得る。供給ライン１０には、対象水遮断弁１１と供給ポンプ１２との間において、循環ライン７０と還流ライン４０とがこの順番に接続される。

供給ライン１０は、図２に示すように、その直線部に側方から還流ライン４０が接続されてもよいが、図３又は図４に示すように、還流ライン４０の接続点において直前の部分又は直後の部分が還流ライン４０と略同軸となるよう屈曲することが好ましい。このように、還流ライン４０と供給ライン１０の接続点直前の部分又は接続点直後の部分が略同軸となることによって、水処理システム１００の熱水殺菌の際に、供給ライン１０を流れる殺菌処理水が還流ライン４０の接続点における流れ方向の変更に伴って乱流を生じ還流ライン４０に流れ込み易くなるため、還流ライン４０の殺菌が容易となる。なお、「略同軸」とは、実質的に屈曲しないことを意味し、配管の口径を合わせるために偏心レデューサを用いたようなものも除外されない。

透過水ライン２０は、逆浸透膜装置２から透過水を導出し、透過水をＥＤＩ装置３に案内する。透過水ライン２０は、透過水の流量を検出する透過水流量計２１と、透過水を系外に排出する透過水排出弁２２と、透過水を加圧する透過水ポンプ２３と、をこの順番に有する構成とされ得る。

膜濃縮水ライン３０は、逆浸透膜装置２から膜濃縮水を導出し、系外に排出する。膜濃縮水ライン３０は、系外に排出する膜濃縮水の流量を検出する膜濃縮水流量計３１と、系外に排出される膜濃縮水の流量を調節する膜濃縮水調節弁３２と、殺菌運転時に膜濃縮水ライン３０に流出する殺菌処理水を循環ライン７０に還流させるよう流路を切り替える膜濃縮水切換弁３３と、をこの順番に有する構成とされ得る。膜濃縮水ライン３０は、逆浸透膜装置２から延出し、供給ライン１０の近傍に回り込むよう配管される。これにより、還流ライン４０を直線的に配管するとともにその長さを短くすることを可能にする。膜濃縮水ライン３０の膜濃縮水流量計３１の上流側には、還流ライン４０が接続される。つまり、逆浸透膜装置２から膜濃縮水ライン３０に流出した膜濃縮水の一部は、膜濃縮水流量計３１の上流側において、還流ライン４０に分岐する。

膜濃縮水ライン３０は、図５に示すように、その直線部に側方から還流ライン４０が接続されてもよいが、図６又は図７に示すように、還流ライン４０の接続点において直前の部分又は直後の部分が還流ライン４０と略同軸となるよう屈曲することが好ましい。このように、還流ライン４０と膜濃縮水ライン３０の接続点直前の部分又は接続点直後の部分が略同軸となることによって、水処理システム１００の熱水殺菌の際に、膜濃縮水ライン３０を流れる殺菌処理水が還流ライン４０に流れ込み易くなるため、還流ライン４０の殺菌が容易となる。なお、膜濃縮水ライン３０の還流ライン４０の接続点における屈曲の有無並びに上流側及び下流側のいずれが還流ライン４０と同軸となるかについては、供給ライン１０の還流ライン４０の接続点における屈曲の有無並びに上流側及び下流側のいずれが還流ライン４０と同軸となるかとは無関係に選択され得るが、供給ライン１０及び還流ライン４０が、両方とも、還流ライン４０の接続点において上述のように屈曲することが好ましい。

還流ライン４０は、膜濃縮水ライン３０の膜濃縮水流量計３１の上流側と、供給ライン１０の供給ポンプ１２の上流側とを接続する。還流ライン４０は、供給ライン１０から膜濃縮水ライン３０への流入を防止する整流弁４１を有する。整流弁４１としては、逆止弁、リリーフ弁、熱水殺菌の際に閉鎖される自動開閉弁等が用いられる。還流ライン４０は、直線的に配管される。整流弁４１は、還流ライン４０の流路長を短くするために、還流ライン４０の中央に配設されることが好ましい。

また、は、殺菌処理水の流入を阻害しないよう、一定の口径の配管により構成されることが好ましく、供給ライン１０及び膜濃縮水ライン３０の少なくともいずれかの接続点における口径と同じ口径の配管により構成されることがより好ましい。特に、整流弁４１として一般的なフラップ状の弁体を有する逆止弁を利用する場合、整流弁４１のハウジング内には、弁体の下流側（供給ライン１０側）に弁体の可動域を確保するためのスペースが設けられるため、還流ライン４０の口径を供給ライン１０の口径と等しくすることにより、供給ライン１０からの殺菌処理水の流入を促進することができる。このため、還流ライン４０の口径と膜濃縮水ライン３０の少なくとも還流ライン４０の接続点における口径とは、供給ライン１０の口径に合わせて、膜濃縮水の流量に対して最適な口径よりも大きい口径とされることが好ましい。

整流弁４１の弁体から供給ライン１０及び膜濃縮水ライン３０の還流ライン４０との接続点までの距離の上限としては、接続先の供給ライン１０又は膜濃縮水ライン３０が接続点において屈曲する場合には還流ライン４０の内径の１５倍が好ましく、６倍がより好ましく、接続先の供給ライン１０又は膜濃縮水ライン３０が接続点において屈曲しない場合には６倍が好ましく、３倍がより好ましい。整流弁４１の弁体から還流ライン４０と接続先との接続点までの距離を前記上限以下とすることによって、逆浸透膜装置２を熱水殺菌する場合に、還流ライン４０に熱水を流さなくても供給ライン１０を通過する熱水及び膜濃縮水ライン３０を通過する熱水が還流ライン４０の内部に進入して、整流弁４１を含む還流ライン４０の全体を十分に加熱殺菌することができる。特に、接続される供給ライン１０又は膜濃縮水ライン３０の接続点の直前の部分又は直後の部分が還流ライン４０と同軸である場合に、整流弁４１の弁体から還流ライン４０と接続先との接続点までの距離が還流ライン４０の内径の１５倍までであれば、供給ライン１０又は膜濃縮水ライン３０を流れる殺菌処理水が還流ライン４０に流れ込み、整流弁４１まで殺菌することができる。なお、還流ライン４０と供給ライン１０及び膜濃縮水ライン３０との接続点は、還流ライン４０の中心線と供給ライン１０及び膜濃縮水ライン３０の中心線とのそれぞれの交点とする。

精製水ライン５０は、ＥＤＩ装置３精製水を導出し、精製水を精製水タンク４に案内する。精製水ライン５０は、精製水を系外に排出する精製水排出弁５１と、殺菌運転時に精製水ライン５０に流出する殺菌処理水を循環ライン７０に還流させるよう流路を切り替える精製水切換弁５２と、をこの順番に有する構成とされてもよい。

電気濃縮水ライン６０は、ＥＤＩ装置３から電気濃縮水を導出し、電気濃縮水を系外に排出する。電気濃縮水ライン６０は、殺菌運転時に電気濃縮水ライン６０に流出する殺菌処理水を循環ライン７０に還流させるよう流路を切り替える電気濃縮水切換弁６１を有する構成とされ得る。

循環ライン７０は、逆浸透膜装置の殺菌に用いる殺菌処理水、つまり温度調節装置５により温度調節され、殺菌時には熱水となり得る水を供給ライン１０に供給し、膜濃縮水ライン３０、精製水ライン５０及び電気濃縮水ライン６０に流出する殺菌処理水を回収する。つまり、循環ライン７０は、供給ライン１０、逆浸透膜装置２及びＥＤＩ装置３、透過水ライン２０及び膜濃縮水ライン３０、ＥＤＩ装置３、並びに精製水ライン５０及び電気濃縮水ライン６０を通して殺菌処理水を循環させる。このため、循環ライン７０には、温度調節装置５と、温度調節装置５を通して殺菌処理水を送出する殺菌ポンプ７１と、が設けられる。また、循環ライン７０は、供給ライン１０との接続を遮断する殺菌処理水遮断弁７２と、殺菌処理水を系外に排出する殺菌処理水排出弁７３とを有する構成とされ得る。

制御装置８０は、水処理システム１００の他の構成要素の動作を制御することにより、水処理システム１００の運転を制御する。つまり、制御装置８０は、水処理システム１００により精製水を製造する製造運転と、水処理システム１００の殺菌を行う殺菌運転と、を繰り返し行うよう、他の構成要素を制御する。また、制御装置８０は、さらにＥＤＩ装置３を再生する再生運転を行い得る。

製造運転は、初期ブロー工程と、通水工程と、フラッシング工程と、を有し得る。初期ブロー工程では、運転状態が安定して十分に清浄な精製水が得られるまでの間、ＥＤＩ装置３から精製水ライン５０に流出する水を精製水タンク４に導入することなく、精製水排出弁５１から系外に排出する。初期ブロー工程は、精製水排出弁５１を省略し、精製水切換弁５２により精製水ライン５０から循環ライン７０に水を流入させ、循環ライン７０に流入した水を殺菌処理水排出弁７３から系外に排出することによって行ってもよい。通水工程では、逆浸透膜装置２及びＥＤＩ装置３を通して精製水ライン５０に流出する精製水を精製水タンク４に導入する。フラッシング工程では、膜濃縮水調節弁３２の開度を大きくして、逆浸透膜装置２の内部の膜濃縮水側の空間及び膜濃縮水ライン３０の内部の水の不純物濃度を低下させるともに、透過水排出弁２２から透過水を系外に排出する。

殺菌運転は、透過水ライン２０、膜濃縮水ライン３０、精製水ライン５０及び電気濃縮水ライン６０に滞留する水を系外に排出し、系内の不純物量を低減する準備工程と、逆浸透膜装置２、ＥＤＩ装置３及び温度調節装置５の間で殺菌処理水を循環させ、逆浸透膜装置２及びＥＤＩ装置３の温度を目標温度に近付けるよう、温度調節装置５の出力を調整する殺菌工程と、を備える。

殺菌工程は、供給ポンプ１２及び透過水ポンプ２３を停止した状態で殺菌ポンプ７１により殺菌処理水を循環させると共に、殺菌処理水の温度が所定の温度変化をするよう温度調節装置５を制御する。このように、殺菌処理水を循環させることによって、比較的少量の殺菌処理水を循環させて熱水殺菌を行うことができるので、殺菌のための水及びエネルギーの消費を抑制できる。また、供給ポンプ１２を停止することで、逆浸透膜装置２から膜濃縮水ライン３０に流出した殺菌処理水が還流ライン４０を通して逆浸透膜装置２に再供給されることがない。これにより、逆浸透膜装置２の温度を正確に制御することができるので、迅速かつ適切に熱水殺菌を行うことができる。さらに、殺菌工程で供給ポンプ１２及び透過水ポンプ２３を使用しないことにより、供給ポンプ１２及び透過水ポンプ２３の仕様を製造運転に最適化することができる。

殺菌工程は、逆浸透膜装置２及びＥＤＩ装置３の温度を予め設定される殺菌温度まで上昇させる昇温工程と、逆浸透膜装置２及びＥＤＩ装置３の温度を所定の殺菌温度に所定の保持時間の間保持する温度保持工程と、逆浸透膜装置２及びＥＤＩ装置３の温度を下降させる降温工程と、を有し得る。殺菌温度は、例えば８０℃以上８５℃以下の温度とされ得る。保持時間は、殺菌温度にもよるが、例えば３０分以上１時間以下の時間とされ得る。昇温工程及び降温工程における逆浸透膜装置２及びＥＤＩ装置３の温度勾配は、逆浸透膜を保護するために、例えば２℃／ｍｉｎ程度に設定され得る。

制御装置８０は、少なくとも昇温工程及び降温工程において、好ましくは殺菌工程全体を通して、透過水流量計２１の検出値と膜濃縮水流量計３１の検出値との比を設定値に保持するよう膜濃縮水調節弁３２の開度を制御することが好ましい。これにより、逆浸透膜装置２の下流側にも十分な殺菌処理水を供給して、ＥＤＩ装置３等の下流側の構成要素も逆浸透膜装置２に対して遅れが小さい温度変化をさせられるので、システム全体を比較的短時間で熱水殺菌することができる。

再生運転は、ＥＤＩ装置３に通電し、ＥＤＩ装置３から精製水ライン５０に流出する水を精製水排出弁５１又は循環ライン７０を介して殺菌処理水排出弁７３から系外に排出する。これにより、ＥＤＩ装置３が透過水から不純物イオンを除去できる状態に再生され得る。

以上のように、水処理システム１００は、供給ライン１０、膜濃縮水ライン３０、還流ライン４０及び循環ライン７０の流路構成により、供給ライン１０及び膜濃縮水ライン３０を流れる殺菌処理水によって還流ライン４０の整流弁４１まで確実に熱水殺菌することができる。

以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されることなく、種々の変更及び変形が可能である。例として、上述の実施形態における温度調節装置、ポンプ、流量計、調節弁等は、機能を損なわない範囲で異なる位置関係で配設されてもよい。また、流路を切り替えるための構成は、単一の三方弁を用いてもよく、２つの遮断弁を用いてもよい。また、本発明に係る水処理システムにおいて、ＥＤＩ装置は省略されてもよく、ＥＤＩ装置に換えて又はＥＤＩ装置に加えて、例えばＵＦ膜ろ過装置、イオン交換装置等の他の二次処理装置が設けられてもよい。また、本発明に係る水処理システムは、殺菌処理水を循環させずに系外に排出するよう構成されてもよい。

１ 対象水タンク
２ 逆浸透膜装置
３ ＥＤＩ装置
４ 精製水タンク
５ 温度調節装置
１０ 供給ライン
１１ 対象水遮断弁
１２ 供給ポンプ
２０ 透過水ライン
２１ 透過水流量計
２２ 透過水排出弁
２３ 透過水ポンプ
３０ 膜濃縮水ライン
３１ 膜濃縮水流量計
３２ 膜濃縮水調節弁
３３ 膜濃縮水切換弁
４０ 還流ライン
４１ 整流弁
５０ 精製水ライン
５１ 精製水排出弁
５２ 精製水切換弁
６０ 電気濃縮水ライン
６１ 電気濃縮水切換弁
７０ 循環ライン
７１ 殺菌ポンプ
７２ 殺菌処理水遮断弁
７３ 殺菌処理水排出弁
８０ 制御装置
１００ 水処理システム

Claims (5)

1. 逆浸透膜によって対象水を透過水と膜濃縮水とに分離する逆浸透膜装置と、
   供給ポンプを有し、前記逆浸透膜装置に前記対象水を供給する供給ラインと、
   前記逆浸透膜装置から前記透過水を導出する透過水ラインと、
   前記逆浸透膜装置から前記膜濃縮水を導出する膜濃縮水ラインと、
   前記供給ラインからの流入を防止する整流弁を有し、前記膜濃縮水ラインから前記膜濃縮水の一部を前記供給ラインの前記供給ポンプの上流側に還流させる還流ラインと、
   前記逆浸透膜装置の殺菌に用いる殺菌処理水を前記供給ラインにおける前記還流ラインの上流側に供給する殺菌ポンプと、
   を備え、
   前記供給ライン及び前記膜濃縮水ラインの少なくともいずれかは、前記還流ラインの接続点において、直前の部分又は直後の部分が前記還流ラインと略同軸になるよう屈曲する、水処理システム。
2. 前記供給ライン及び前記膜濃縮水ラインは両方とも、前記接続点において、直前の部分又は直後の部分が前記還流ラインと略同軸になるよう屈曲する、請求項１に記載の水処理システム。
3. 前記整流弁の弁体から前記供給ライン及び前記膜濃縮水ラインの前記接続点までのそれぞれの距離は、接続先の前記供給ライン又は前記膜濃縮水ラインが前記接続点において屈曲する場合には前記還流ラインの内径の１５倍以下であり、接続先の前記供給ライン又は前記膜濃縮水ラインが前記接続点において屈曲しない場合には前記還流ラインの内径の６倍以下である、請求項１又は２に記載の水処理システム。
4. 前記殺菌ポンプと、前記殺菌処理水の温度を調節する温度調節装置と、が設けられ、前記供給ライン、前記逆浸透膜装置、並びに前記透過水ライン及び前記膜濃縮水ラインを通して前記殺菌処理水を循環させる循環ラインをさらに備える、請求項１から３のいずれかに記載の水処理システム。
5. 前記供給ポンプを停止した状態で前記殺菌ポンプにより前記殺菌処理水を循環させると共に、前記殺菌処理水の温度が所定の温度変化をするよう前記温度調節装置を制御する制御装置をさらに備える、請求項４に記載の水処理システム。