JP7838245B2 - 炭化水素吸着剤及び炭化水素の吸着方法 - Google Patents
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Description
[1] 10員環細孔、12員環細孔、14員環細孔、及び18員環細孔の群より選ばれる2以上の細孔からなる三次元細孔を有するゼオライトを含む炭化水素吸着剤。
[2] 前記三次元細孔が、10員環細孔、12員環細孔、及び14員環細孔の群より選ばれる2以上の細孔からなる三次元細孔である、上記[1]に記載の炭化水素吸着剤。
[3] 前記三次元細孔が、10員環細孔、及び12員環細孔からなる三次元細孔である、上記[1]に記載の炭化水素吸着剤。
[4] 金属を含む上記[1]乃至[3]のいずれかに記載の炭化水素吸着剤。
[5] 前記金属が、ルビジウム及びセシウムの少なくともいずれかである、上記[4]に記載の炭化水素吸着剤。
[6] 前記金属についてのMAS NMRスペクトルにおけるメインピークが-250ppm以上-130ppm以下に位置する、上記[4]又は[5]に記載の炭化水素吸着剤。
[7] 前記金属についてのMAS NMRスペクトルにおけるメインピークが-250ppm以上-150ppm以下に位置する、上記[4]乃至[6]に記載の炭化水素吸着剤。
[8] 133Cs MAS NMRスペクトルにおけるメインピークが-300ppm以上-130ppm以下に位置する、上記[4]乃至[7]に記載の炭化水素吸着剤。
[9] 133Cs MAS NMRスペクトルにおけるメインピークが-300ppm以上-130ppm以下に位置する、上記[4]乃至[8]に記載の炭化水素吸着剤。
[10] 前記ゼオライトが、アルミナに対するシリカのモル比(SiO2/Al2O3比)が2以上200以下のゼオライトである、上記[1]乃至[9]のいずれかに記載の炭化水素吸着剤。
[11] 前記ゼオライトが、MSE構造及びCON構造から選ばれる少なくともいずれかの構造を有するゼオライトである、上記[1]乃至[10]のいずれかに記載の炭化水素吸着剤。
[12] 上記[1]乃至[11]のいずれかに記載の炭化水素吸着剤に、炭化水素含有流体を接触させること特徴とする炭化水素の吸着方法。
線源 : CuKα線(λ=1.5405Å)
測定モード : 連続スキャン
スキャン条件 : 40°/分
測定範囲 : 2θ=3°から43°
検出器 : 半導体検出器
本実施形態において、特定の構造コードで示されるゼオライト構造を有するゼオライトを「~型ゼオライト」とも表記する。例えば、CON構造(又はCON型)は構造コード「CON」として特定されるゼオライト構造を意味し、CON型ゼオライトは構造コード「CON」として特定されるゼオライト構造を有するゼオライトである。
・前処理及び測定試料のサンプリング:
測定試料は、加熱脱水することで前処理とした後、窒素グローブボックス中でサンプリングすることで得られる。加熱脱水は、真空下、0.25℃/minで400℃まで昇温後、5h保持し、室温まで冷却して行う。
・測定装置
装置名 :Varian NMR System 400(Varian社製)
プローブ:4mmφ固体プローブ
解析ソフトウェア(NMR測定): VnmrJ version4.2
・NMR測定条件
共鳴周波数:52.4MHz (133Cs)
パルス幅:3.8μs(π/2)
回転周波数:15kHz
繰り返し時間:2s
取り込み時間:10ms
積算回数:2048回
観測中心:-150ppm
観測範囲:120kHz
基準(0ppm):1.0M CsCl水溶液
・フーリエ変換条件
ポイント数:4096points
ウィンドウ関数:指数関数(LB:25kHz) また、目的金属を含有する本実施形態の炭化水素吸着剤は、炭化水素の脱離開始温度が高い点で、目的金属についてのMAS NMRスペクトルにおける波形分離後の最も高磁場側に位置する(すなわち、最も小さい化学シフトを有する)ピークが、-171ppm以下に位置することが好ましい。また、該ピークが-300ppm以上、又は-250ppm以上に位置することが例示できる。例えば、目的金属としてセシウムを含有する場合、133Cs MAS NMRスペクトルにおける波形分離後の最も高磁場側に位置するピークが、-171ppm以下に位置することが好ましい。また、該ピークが-300ppm以上、又は-250ppm以上に位置することが例示できる。133Cs MAS NMRスペクトルは、以下の条件で波形分離することができる。
・波形分離条件
波形分離ソフト:GRAMS/AI version8.0(Thermo Fisher Scientific社製)
分離方法:ガウス関数でフィッティング
本実施形態の炭化水素吸着剤に含まれるゼオライトは、アルミナに対するシリカのモル比(以下、「SiO2/Al2O3比」ともいう。)が、2以上200以下、更には2以上100以下であることがあげられ、また、炭化水素の脱離開始温度の高い点で、5以上100以下、5以上75以下、5以上50以下、5以上25以下であることが特に好ましい。また、SiO2/Al2O3比は5以上、10以上又は15以上であり、なおかつ、65以下、55以下又は30以下であることが挙げられる。
形状 :凝集径20~30メッシュ、不定形成形体の炭化水素吸着剤
製法 :加圧成形及び粉砕
<前処理>
雰囲気:窒素流通雰囲気
温度 :500℃
時間 :1時間
<炭化水素の吸着及び脱離条件>
測定試料を常圧固定床流通式反応管充填し、以下の条件で炭化水素含有ガスを流通する。
水 3体積%
窒素 残部
ガス流量 :200mL/分
測定温度 :50~600℃
昇温速度 :10℃/分
<脱離開始温度の測定>
常圧固定床流通式反応管の入口側の炭化水素含有ガスの炭化水素濃度(メタン換算濃度;以下、「入口濃度」ともいう。)、及び、常圧固定床流通式反応管の出口側の炭化水素含有ガスの炭化水素濃度(メタン換算濃度;以下、「出口濃度」ともいう。)を、水素イオン化検出器(FID)を使用して測定する。
SDAX/SiO2比 =0.00以上0.80以下
Na/SiO2比 =0.00以上0.80以下
K/SiO2比 =0.00以上0.80以下
X/SiO2比 =0.00以上2.0以下
HF/SiO2比 =0.00以上1.0以下
H2O/SiO2比 =2以上100以下
上記の条件を、当業者常識の範囲で、種々調整することによって、目的とする10員環細孔、12員環細孔、14員環細孔、及び18員環細孔の群より選ばれる2以上の細孔からなる三次元細孔を有するゼオライトを作り分けることができる。より具体的な例については、特に限定するものではないが、以下、その一例を示す。
500以下、100以下、又は50以下
SDA/SiO2比 =0.00以上、0.05以上又は0.10以上、かつ、
0.40以下、0.30以下又は0.20以下
Na/SiO2比 =0.00以上又は0.10以上、かつ、
0.80以下、0.40以下、又は0.20以下
K/SiO2比 =0.00以上又は0.10以上、かつ、
0.80以下、0.40以下、又は0.20以下
H2O/SiO2比 =2以上又は3以上、かつ、
100以下、50以下又は15以下
例えば、CON型ゼオライトの製造方法としては、以下のモル組成を有する原料組成物を結晶化することが挙げられる。なお、以下の組成におけるSDAXはトリメチル-(-)-シスミルタニルアンモニウムヒドロキシド(以下、「TMMAOH」ともいう。)、トリメチル-(-)-シスミルタニルアンモニウムヨージド及びトリメチル-(-)-シスミルタニルアンモニウムヒドロキシドブロミドの群から選ばれる1以上であり、TMMAOHであることが好ましい。
500以下、100以下、又は60以下
SDAX/SiO2比 =0.00以上、0.05以上又は0.10以上、かつ、
1.00以下、0.80以下又は0.60以下
HF/SiO2比 =0.00以上又は0.10以上、かつ、
1.0以下又は0.6以下
H2O/SiO2比 =2以上又は3以上、かつ、
100以下、50以下又は15以下
なお、原料組成物は種晶を含んでいてもよく、当該種晶は酸素8員環以上の環構造を有するゼオライトであることが好ましい。原料組成物に対する種晶の含有量(以下、「種晶含有量」ともいう。)は、原料組成物(種晶を除いた原料組成物)に含まれるケイ素(Si)をSiO2として換算した質量に対する、種晶に含まれるケイ素をSiO2として換算した質量の割合として、0質量%以上30質量%以下であることが好ましく、1質量%以上10質量%以下であることがより好ましい。
結晶化時間 : 1時間~20日
結晶化圧力 : 自生圧
以上の結晶化工程によって、10員環細孔、12員環細孔、14員環細孔、及び18員環細孔の群より選ばれる2以上の細孔からなる三次元細孔を有するゼオライトが得られる。当該結晶化工程後、得られたゼオライトは、任意の方法で回収、洗浄、乾燥、及び焼成の各工程に供してもよく、更には、脱アルミニウム処理してSiO2/Al2O3比を任意の値としてもよい。
即ち、本実施形態の炭化水素吸着剤は高SARの条件で高い炭化水素脱離開始温度を示すという効果を奏する。なお、SARが高いほどゼオライトの疎水性が高くなるため、耐久性が向上する点で、炭化水素吸着剤としてはSARが高いほど好ましい。
一般的なX線回折装置(装置名:UltimaIV Protectus、リガク社製)を使用し、試料のXRD測定をした。測定条件は以下のとおりである。
線源 : CuKα線(λ=1.5405Å)
測定モード : 連続スキャン
スキャン条件 : 40°/分
測定範囲 : 2θ=3°から43°
発散縦制限スリット: 10mm
発散/入射スリット: 1°
受光スリット : open
検出器 : D/teX Ultra
Niフィルター使用
得られたXRDパターンと参照パターンとを比較し、試料の結晶構造を同定した。
フッ酸と硝酸の混合水溶液に試料を溶解して試料溶液を調製した。一般的なICP装置(装置名:OPTIMA5300DV、PerkinElmer社製)を使用して、当該試料溶液を誘導結合プラズマ発光分光分析(ICP-AES)で測定した。得られたSi、Al及びアルカリ金属(Cs及びNa等)の測定値から、試料のSiO2/Al2O3モル比、及びアルカリ金属の質量%を求めた。
目的金属としてセシウムを含有する炭化水素吸着剤を加熱脱水して前処理とした後、窒素グローブボックス中でサンプリングして測定試料とした。加熱脱水は、真空下、0.25℃/minで400℃ まで昇温後、5hr保持し、室温まで冷却して行った。得られた測定試料について、133Cs MAS NMRスペクトルを以下の条件で測定した。測定されたピークのうち、最も高い強度を示すピークをメインピークとした。さらに、測定されたピークについて波形分離を行った。実施例1及び比較例3の133Cs MAS NMRスペクトル測定結果と波形分離結果を、それぞれ図1及び図2に示す。図1において、実線が生データを、破線がフィッティング曲線を、点線、一点鎖線、二点鎖線、及び長破線が波形分離後の分離ピークを表す。図4においては、実線が生データを、破線がフィッティング曲線を、点線及び一点鎖線が波形分離後の分離ピークを表す。<条件>
装置名 :Varian NMR System 400(Varian社製)
プローブ:4mmφ固体プローブ
解析ソフトウェア(NMR測定): VnmrJ version4.2
・NMR測定条件
共鳴周波数:52.4MHz (133Cs)
パルス幅:3.8μs(π/2)
回転周波数:15kHz
繰り返し時間:2s
取り込み時間:10ms
積算回数:2048回
観測中心:-150ppm
観測範囲:120kHz
基準(0ppm):1.0M CsCl水溶液
・フーリエ変換条件
ポイント数:4096points
ウィンドウ関数:指数関数(LB:25kHz)
・波形分離条件
波形分離ソフト:GRAMS/AI version8.0(Thermo Fisher Scientific社製)
分離方法:ガウス関数でフィッティング
実施例1、比較例1及び比較例2は、スピニングサイドバンド(以下、「SSB」ともいう。)を1つの波形、メインピークを4つの波形でフィッティングした。実施例2及び比較例5は、SSBを1つの波形、メインピークを3つの波形でフィッティングした。比較例3はメインピークを2つの波形でフィッティングした。
後述する実施例及び比較例等で得られた炭化水素吸着剤の炭化水素の脱離開始温度を測定した。得られた炭化水素吸着剤を、各々加圧成形及び粉砕し、凝集径20~30メッシュの不定形の成形体とし、得られた成形体をそれぞれ測定試料とした。各測定試料0.1gをそれぞれ常圧固定床流通式反応管に充填し、窒素流通下、500℃で1時間処理した後、50℃まで降温することで前処理とした。
上記の前処理を施した各炭化水素吸着剤に炭化水素含有ガスを流通させ、50℃から200℃の間で吸着した炭化水素を測定し炭化水素の吸着量とした。炭化水素含有ガスの組成及び測定条件を以下に示す。
水 3体積%
窒素 残部
ガス流量 :200mL/分
測定温度 :50~600℃
昇温速度 :10℃/分
(炭化水素吸着剤の炭化水素の脱離開始温度の測定)
水素イオン化検出器(FID)を使用し、炭化水素吸着剤を通過した後のガス中の炭化水素を連続的に定量分析した。常圧固定床流通式反応管の入口側の炭化水素含有ガスの炭化水素濃度(メタン換算濃度;以下、「入口濃度」とする。)と、常圧固定床流通式反応管の出口側の炭化水素含有ガスの炭化水素濃度(メタン換算濃度;以下、「出口濃度」とする。)を測定した。
Nipsil LP(東ソー・シリカ社製)、Y型ゼオライト(製品名:HSZ-350HUA、東ソー社製)、ケイ酸ナトリウム水溶液(SiO2:28.9wt%、Na2O:9.3wt%)、Me2Pr2NOH、KOH及びH2Oを混合し、以下のモル組成を有する原料組成物を得た。
SiO2/Al2O3モル比 =36
Me2Pr2N+/SiO2モル比 =0.17
Na/SiO2モル比 =0.15
K/SiO2モル比 =0.15
H2O/SiO2モル比 =5.0
原料組成物のSiO2に対し5質量%の種晶を加えた。得られた原料組成物をオートクレーブに充填し、160℃、自生圧下、3日間、回転条件で結晶化した。結晶化後、大気中550℃で焼成した。次に10%塩化アンモニウム水溶液を用いた80℃、20時間の処理を3回繰り返し、大気中110℃で一晩乾燥した。これにより、SiO2/Al2O3が18であり、カチオンタイプがNH4型であるMSE型ゼオライトを得た。
塩化セシウム(富士フィルム和光純薬製(特級))を用い、2質量%の塩化セシウム水溶液を調製した。塩化セシウム水溶液は、上記で得られたゼオライトのAl量(モル)に対し、2等量のCs量(モル)となる液量を用いた。担持は、MSEゼオライトを水と混合後、ろ過して得られたケーク上のゼオライトのゼオライトに対して行った。すなわち、該ケークに対し、上記の塩化セシウム水溶液を流し込んだ。次いで、前記のMSE型ゼオライトの10倍容量の60°の水を流し込んで洗浄した。洗浄後、110℃、大気中で乾燥することでCsの担持を行い、Cs含有量が15.8質量%である本実施例の炭化水素吸着剤を得た。
15.9%トリメチル-cis-ミルタニルアンモニウムヒドロキシド水溶液(TMMAOH)、アルミニウムイソプロポキシド(キシダ化学)、テトラエトキシシラン(TEOS、キシダ化学)を混合し、90℃で20時間加熱して水を蒸発させた。なお、TMAAOHは(-)-cis-ミルタニルアミン(Aldrich)をヨードメタン(キシダ化学)でメチル化後、イオン交換樹脂SA10AOH(三菱化学)でイオン交換して得た。得られた固体を乳鉢で粉砕後、48%フッ化水素酸(弘田化学工業)、種晶として5質量%のCIT-1を加えて混合し、原料組成物を得た。得られた原料組成物のモル組成を示す。
SiO2/Al2O3比 = 50.0
TMMAOH/SiO2比 = 0.5
HF/SiO2比 = 0.5
H2O/SiO2比 = 5.0
得られた組成物をテフロン(登録商標)内筒付きオートクレーブに密閉し、当該オートクレーブを静置下で、170℃、自生圧下で7日間加熱して生成物を得た。生成物は濾過、洗浄し、大気中110℃で一晩乾燥させた。その後窒素下で450℃、1時間、続けて空気下で600℃、2時間加熱することで骨格中に取り込まれた有機物を除去した。これにより、SiO2/Al2O3が53であり、カチオンタイプがH型であるCON型ゼオライトを得た。得られたCON型ゼオライトを使用したこと以外は実施例1と同様な方法でCs含有量が4.6質量%である本実施例の炭化水素吸着剤を得た。
(*BEA型ゼオライトの合成)
35重量%TEAOH水溶液、48重量%水酸化カリウム水溶液、純水及び非晶質アルミノシリケート(SiO2/Al2O3=18.2)を混合した後、そこに種晶としてゼオライトβ(製品名:HSZ930NHA、東ソー社製)1.5質量%を添加し、以下のモル組成を有する原料組成物を得た。
TEAOH/SiO2比 =0.12
K/SiO2比 =0.12
H2O/SiO2比 =12.0
種晶 =1.5質量%
原料組成物を密閉容器内に充填し、当該容器を55rpmで回転しながら150℃で48時間、原料組成物を反応させて結晶化物を得た。得られた結晶化物を固液分離し、純水で洗浄した後、大気中、110℃で乾燥して回収した。得られた結晶化物を、大気中、600℃、2時間で焼成及び20%塩化アンモニウム水溶液での処理の後、大気中110℃で一晩乾燥した。これにより、SiO2/Al2O3が18であり、カチオンタイプがNH4型である12員環細孔のみの三次元細孔構造を有するBEA型ゼオライト(ゼオライトβ)を得た。
コロイダルシリカAS-40(GRACE製)、ゼオライトY(製品名:HSZ-350HUA、東ソー社製)、Me2Pr2NOH、NaOH、KOH及びH2Oを混合し、以下のモル組成を有する原料組成物を得た。
SiO2/Al2O3比 =40
Me2Pr2NOH/SiO2比 =0.17
Na+K/SiO2比 =0.32
H2O/SiO2比 =7.0
得られた原料組成物をオートクレーブに充填し、160℃、6日間静置下で結晶化した。結晶化後、大気中550℃で焼成及び20%塩化アンモニウム水溶液で処理し、大気中110℃で一晩乾燥した。これにより、SiO2/Al2O3が18であり、カチオンタイプがNH4型である12員環細孔のみの三次元細孔構造を有するYFI型ゼオライトを得た。
MSE型ゼオライトの代わりに、一次元細孔構造を有するMOR型ゼオライト(製品名:HSZ-640HOA、東ソー社製、SiO2/Al2O3=19)を用いたこと以外は、実施例1と同様な方法で本比較例の炭化水素吸着剤を得た。
MSEゼオライトの代わりに、MFI型ゼオライト(製品名:HSZ-870NHA、東ソー社製;SiO2/Al2O3=70)を570℃2h空気雰囲気下で焼成して、カチオンタイプをH型とした10員環細孔のみの三次元細孔構造を有するMFI型ゼオライトを用いた以外は、実施例1と同様な方法で本比較例の炭化水素吸着剤を得た。
MSE型ゼオライトの代わりに、MFI型ゼオライト(製品名:HSZ-850NHA、東ソー社製;SiO2/Al2O3=51)を570℃2h空気雰囲気下で焼成してカチオンタイプをH型とした10員環細孔のみの三次元細孔構造を有するMFI型ゼオライトを用いたこと以外は、実施例1と同様な方法で本比較例の炭化水素吸着剤を得た。
MSE型ゼオライトの代わりに、10員環細孔のみの三次元細孔構造を有するMFI型ゼオライト(製品名:HSZ-840NHA、東ソー社製;SiO2/Al2O3=39)を用いたこと以外は、実施例1と同様な方法で本比較例の炭化水素吸着剤を得た。
Claims (9)
- MSE構造を有するゼオライトを含み、ルビジウム及びセシウムの少なくともいずれかの金属を、1質量%以上20質量%以下を含む、炭化水素吸着剤。
- 前記金属を、3質量%以上15質量%以下である、請求項1に記載の炭化水素吸着剤。
- ルビジウム及びセシウムの少なくともいずれかの金属[mol]/Al[mol]の比率が0.01以上10以下である、請求項1又は2に記載の炭化水素吸着剤。
- 前記金属が、セシウムである、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の炭化水素吸着剤。
- 133Cs MAS NMRスペクトルにおけるメインピークが-300ppm以上-130ppm以下に位置する、請求項4に記載の炭化水素吸着剤。
- 133Cs MAS NMRスペクトルにおけるメインピークが-250ppm以上-150ppm以下に位置する、請求項5に記載の炭化水素吸着剤。
- 前記ゼオライトが、アルミナに対するシリカのモル比(SiO2/Al2O3比)が2以上200以下のゼオライトである、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の炭化水素吸着剤。
- 前記ゼオライトが、アルミナに対するシリカのモル比(SiO2/Al2O3比)が2以上100以下のゼオライトである、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の炭化水素吸着剤。
- 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の炭化水素吸着剤に、炭化水素含有流体を接触させることを特徴とする炭化水素の吸着方法。
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