JP7856500B2 - 加工装置 - Google Patents
加工装置Info
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Description
この加工装置は、該第1テーブル、該第2テーブル、該第3テーブル、該第1搬送パッド、及び該第2搬送パッドは、複数のワークを保持するとよい。
また、この加工装置は、該第1加工手段または該第2加工手段によって加工されたワークを洗浄する洗浄手段を備えるとよい。
また、本発明は、上記の線所手段を有する加工装置を用いたワークの製造方法であって、第1テーブルにワークを保持させる第1保持工程と、該第1テーブルに保持されたワークを第1加工手段で加工する第1加工工程と、該第1加工手段によって加工されたワークを該第1搬送パッドで保持し、該第1テーブルから該第3テーブルに受け渡す第1受け渡し工程と、該第1受け渡し工程において、該第1テーブルの上面または該第3テーブルの上面からエアを噴射して該第1搬送パッドに保持された該ワークの下面を乾燥させる第1乾燥工程と、該第3テーブルに保持された該ワークを該第2搬送パッドで保持し、該第2テーブルに受け渡す第2受け渡し工程と、該第2テーブルに保持された該ワークを該第2加工手段で加工する第2加工工程と、該第2加工手段によって加工された該ワークを該第2搬送パッドで保持し、該第2テーブルから洗浄手段に受け渡す第3受け渡し工程と、該第3受け渡し工程において該第2テーブルの上面からエアを噴射して該第2搬送パッドに保持されたワークの下面を乾燥させる第2乾燥工程と、を含む。
図1に示す研削装置1は、矩形プレート状の2枚のワークWをフルオートで研削加工する装置であって、ワークWを粗研削する第1加工ユニットU1と、該第1加工ユニットU1によって粗研削されたワークWを仕上げ研削する第2加工ユニットU2と、第1研削ユニットU1と第2研削ユニットU2との間でワークWを受け渡すために該ワークWを一時的に仮置きしておく仮置き部40と、第2研削ユニットU2によって仕上げ研削されたワークWを洗浄する洗浄手段60と、研削加工前の複数のワークWを収容するカセット6を載置するカセットステージ50と、複数のカセット6をストックしておくストッカ70と、ワークWの下面に向けてエアを噴射して該ワークWの下面を乾燥させる乾燥制御部200を主要な構成要素として備えている。
ワークWを粗研削する第1加工ユニットU1とワークWを仕上げ研削する第2加工ユニットU2は、図1に示すように、装置ベース2上にX軸方向(左右方向)に沿って並設されており、これらの第1加工ユニットU1と第2加工ユニットU2の基本構成は同じであるため、以下、第1加工ユニットU1の構成を主として説明する。
第1チャックテーブル3は、円板状の部材であって、不図示の回転機構によってZ軸方向に垂直な中心軸回りに所定の速度で回転駆動される。そして、この第1チャックテーブル3の上面には、ワークWを吸引保持する矩形の2つの保持面3aが設けられている。なお、各保持面3aは、不図示の吸引源に接続されている。また、装置ベース2上の粗研削手段10の近傍には、第1チャックテーブル3に保持されて粗研削されるワークWの厚みを測定するための第1厚み測定器4が設置されている。
粗研削手段10は、ホルダ11に固定されたスピンドルモータ12と、該スピンドルモータ12によって回転駆動される垂直なスピンドル13と、該スピンドル13の下端に取り付けられた円板状のマウント14と、該マウント14の下面に着脱可能に装着された研削ホイール15とを備えている。ここで、研削ホイール15には、円環状に配列された複数の砥石16が取り付けられている。
不図示の第1移動機構は、第1チャックテーブル3とこれに保持されたワークWをY軸方向に沿って往復動させるものであって、装置ベース3内に配置された周知のボールネジ機構などによって構成されている。したがって、この第1移動機構についてのさらなる説明と図示は省略する。
第1搬送手段20は、2枚のワークWを保持してこれらを所定の位置へと搬送するものであって、図1に破線にて示す第1搬送空間S1に配置されており、図2に示すように、ワークWを吸引保持する矩形プレート状の一対の第1搬送パッド21を備えている。ここで、一対の第1搬送パッド21は、これらを間欠的に180°回転させる反転機構22に互いに平行に取り付けられており、反転機構22は、ブロック状の昇降ブロック23から水平に延びる回転軸24の先端に取り付けられている。なお、各第1搬送パッド21の吸着面には、複数の吸盤27が取り付けられている。
仮置き部40は、第1加工ユニットU1の粗研削手段10によって粗研削されたワークWを第2加工ユニットU2に受け渡すとともに、第2加工ユニットU2の仕上げ研削手段10’によって仕上げ研削されたワークWを受け取って該ワークWを一時的に仮置きするためのものであって、図1に示すように、Y軸方向において装置ベース2上のカセットステージ50とストッカ70の近傍に配置されている。この仮置き部40は、水平な仮置き台41にX軸方向に沿って敷設されたガイドプレート42に沿ってY方向に移動可能な仮置きテーブル(以下、「第3テーブル」と称する)43を備えており、この第3テーブル43の上面には、2枚のワークWを吸引保持するための矩形の2つの保持面43aが設けられている。なお、図示しないが、仮置き部40には、第3テーブル43をガイドプレート42に沿ってY軸方向に移動させる第3移動機構が設けられている。
洗浄手段60は、第2加工ユニットU2の仕上げ研削手段10’によって仕上げ研削された2枚のワークWを洗浄水によって洗浄するものであって、図1に示すように、Y軸方向においてストッカ70の近傍に配置されている。この洗浄手段60は、仕上げ研削されたワークWを上面に吸引保持して垂直な中心軸回りに所定の速度で回転するスピンナテーブル61と、該スピンナテーブル61に保持されたワークWに向けて洗浄水を噴射する洗浄水ノズル62を備えている。なお、洗浄水には、純水が好適に用いられる。
カセットステージ50は、図1に示すように、装置ベース2の-Y軸方向端部の-X軸方向隅部に配置されており、その上面には、矩形のアダプタプレート51を介してカセット6が載置されている。ここで、カセット6は、研削加工前の複数のワークWを収納するためのものであって、その内部には複数の棚が上下方向に所定の間隔を設けて配置されている。
ストッカ70は、図1に示すように、カセットステージ50の横に配置されており、テーブル71上には、研削加工前の複数のワークWが収納された複数のカセット6(図1には、不図示)がアダプタプレート51上に載置された状態でストックされており、その上方の図1に破線にて示すカセット移送空間S6には、図6に示すカセット移送機構110が配置されている。
図9に示す乾燥制御部200は、ワークWの研削をフルオート(全自動)で行う研削装置1において、研削加工中に何らかのエラーが発生するなどしたためにフルオート動作が停止した場合に、作業者による手作業を要することなく、ワークWの研削水が付着した下面に向けてエアを噴射して該ワークWの下面を乾燥させるものであって、その詳細については後述する。
次に、以上のように構成された研削装置1によるワークWの研削加工について説明する。
3:第1チャックテーブル(第1テーブル)、3a:保持面、
3’:第2チャックテーブル、3’a:保持面、4:第1厚み測定器、
4’:第2厚み測定器、5:コラム、6:カセット、7,8:連通路、8a:開口部、
9:配管、9a:分岐管、10:粗研削手段(第1加工手段)、
10’:仕上げ研削手段(第2加工手段)、11,11‘:ホルダ、
12,12’:スピンドルモータ、13,13’:スピンドル、
14,14’:マウント、15,15’:研削ホイール、16,16’:砥石、
20:第1搬送手段(第2搬送手段)、20A:第1Y軸移動機構、
20B:第1Z軸移動機構、21:第1搬送パッド(第2搬送パッド)、
21a,21b:ベースプレート、22a,22b:ガイドレール、
23a:スライダ、23b:昇降ブロック、24a,24b:ボールネジ軸、
25a,25b:電動モータ、26a,26b:軸受、27:吸盤、30:昇降機構、
31:昇降板、32:ガイドレール、33:ボールネジ軸、34:電動モータ、
40:仮置き部、41:仮置き台、42:ガイドプレート、
43:第3テーブル(仮置きテーブル)、43a:保持面、50:カセットステージ、
51:アダプタプレート、52:カセット昇降機構、53:ベースプレート、
54:ガイドレール、55:昇降板、56:ボールネジ軸、57:電動モータ、
60:洗浄手段、61:スピンナテーブル、62:洗浄水ノズル、70:ストッカ、
71:テーブル、80:仮置きテーブル、8:ベース台、83:ガイドレール、
84:ボールネジ軸、85:電動モータ、86:軸受、87:レール、
90:ワーク取出機構、91:ベースプレート、92:ガイドレール、
93:スライダ、94:ボールネジ軸、95:電動モータ、96:軸受、
97:アーム、98:クランプ、100:ワーク搬送機構、101:ベースプレート、
102:ガイドレール、103:スライダ、104:ボールネジ軸、
105:電動モータ、106:軸受、107:昇降シリンダ、108:ロッド、
109:吸着パッド、110:カセット移動機構、111:ベースプレート、
112:ガイドレール、113:スライダ、114:ガイドレール、115:昇降板、
116:ボールネジ軸、117:電動モータ、118:軸受、119:アーム、
119a:軸、120:支持パッド、121:ハンガー、122:ボールねじ軸、
123:電動モータ、124:軸受、130:エア供給源、140:軸受、
S1:第1搬送空間、S2:第2搬送空間、S3:ワーク仮置き空間、
S4:ワーク取出空間、S5:搬送空間、S6:カセット移送空間、
U1:第1加工ユニット、U2:第2加工ユニット、V1,V2:バルブ、
W:ワーク、δ:隙間
Claims (4)
- ワークを吸引保持する第1テーブルと、加工液を供給しながら該第1テーブルに吸引保持されたワークを加工する第1加工手段と、該第1テーブルをY軸方向に移動させる第1移動機構と、ワークの上面を保持する第1搬送パッドと、該第1搬送パッドをY軸方向に移動させる第1Y軸移動機構と、該第1搬送パッドをX軸方向とY軸方向とに直交するZ軸方向に移動させる第1Z軸移動機構と、を備える第1加工ユニットと、
ワークを吸引保持する第2テーブルと、加工液を供給しながら該第2テーブルに吸引保持されたワークを加工する第2加工手段と、該第2テーブルをY軸方向に移動させる第2移動機構と、ワークの上面を保持する第2搬送パッドと、該第2搬送パッドをY軸方向に移動させる第2Y軸移動機構と、該第2搬送パッドをX軸方向とY軸方向とに直交するZ軸方向に移動させる第2Z軸移動機構と、を備え、水平方向でY軸方向に直交するX軸方向での該第1加工ユニットの横に配置される第2加工ユニットと、
ワークを吸引保持する第3テーブルと、該第3テーブルと該第1搬送パッドがワークの受け渡しを可能、及び、該第3テーブルと該第2搬送パッドがワークの受け渡しを可能に、該第3テーブルをX軸方向に移動させる第3移動機構と、を備え、
該第1テーブルの上面または該第3テーブルの上面からエアを噴射して該第1搬送パッドに保持されたワークの下面を乾燥させる第1乾燥制御部と、
該第2テーブルの上面または該第3テーブルの上面からエアを噴射して該第2搬送パッドに保持されたワークの下面を乾燥させる第2乾燥制御部と、
を備える、加工装置。 - 該第1テーブル、該第2テーブル、該第3テーブル、該第1搬送パッド、及び該第2搬送パッドは、複数のワークを保持する、請求項1記載の加工装置。
- 該第1加工手段または該第2加工手段によって加工されたワークを洗浄する洗浄手段を備える、請求項1記載の加工装置。
- 請求項3記載の加工装置を用いたワークの製造方法であって、
第1テーブルにワークを保持させる第1保持工程と、
該第1テーブルに保持されたワークを第1加工手段で加工する第1加工工程と、
該第1加工手段によって加工されたワークを該第1搬送パッドで保持し、該第1テーブルから該第3テーブルに受け渡す第1受け渡し工程と、
該第1受け渡し工程において、該第1テーブルの上面または該第3テーブルの上面からエアを噴射して該第1搬送パッドに保持された該ワークの下面を乾燥させる第1乾燥工程と、
該第3テーブルに保持された該ワークを該第2搬送パッドで保持し、該第2テーブルに受け渡す第2受け渡し工程と、
該第2テーブルに保持された該ワークを該第2加工手段で加工する第2加工工程と、
該第2加工手段によって加工された該ワークを該第2搬送パッドで保持し、該第2テーブルから洗浄手段に受け渡す第3受け渡し工程と、
該第3受け渡し工程において該第2テーブルの上面からエアを噴射して該第2搬送パッドに保持されたワークの下面を乾燥させる第2乾燥工程と、を含む、ワークの製造方法。
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| JP2018111146A (ja) | 2017-01-10 | 2018-07-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システムおよび基板処理方法 |
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