JPH01102088A - ホスホロチオエートおよびホスフェイトの製造法 - Google Patents
ホスホロチオエートおよびホスフェイトの製造法Info
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- C07F9/02—Phosphorus compounds
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-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高収率でかつ高純度のホスホノチオエートお
よびホスフェイトの製造に関する。不発明によりつくら
れる化合物は、りぎの−数式に相当する。
よびホスフェイトの製造に関する。不発明によりつくら
れる化合物は、りぎの−数式に相当する。
R−0−P−+QR’ )2 1あるiは、
各R′は、独立に1〜6個の炭素原子、フェニルあるい
はピリジル; 各Xは、独立にプロそ、クロロ、フルオロ、ヨード、−
NR禦R1(式中82およびR1は、独立に水素ある−
は1〜6個の炭素原子のアルキルを表わす)、シアノ、
ニトロ、1〜6個の炭素原子のアルキル、1〜6個の炭
素原子のアルコキシ、1〜6個の炭素原子のアルキルチ
オ、あるいは1〜6個の炭素原子のアルキルスルフィニ
ル;霊は、鴨がlより大きい場合にすべての置換基がお
互いに立体的に共存しうると云う条件で0.1.2ある
いは3; 2は、rs素あるいは硫黄;を表わす。)本発明の優位
性は、スルホテップとして公知な副生のテトラエチルジ
チオピロホスフェイトが少なく、高収率で、かつ高純度
の前述の生成物を製造しうるところにある。
はピリジル; 各Xは、独立にプロそ、クロロ、フルオロ、ヨード、−
NR禦R1(式中82およびR1は、独立に水素ある−
は1〜6個の炭素原子のアルキルを表わす)、シアノ、
ニトロ、1〜6個の炭素原子のアルキル、1〜6個の炭
素原子のアルコキシ、1〜6個の炭素原子のアルキルチ
オ、あるいは1〜6個の炭素原子のアルキルスルフィニ
ル;霊は、鴨がlより大きい場合にすべての置換基がお
互いに立体的に共存しうると云う条件で0.1.2ある
いは3; 2は、rs素あるいは硫黄;を表わす。)本発明の優位
性は、スルホテップとして公知な副生のテトラエチルジ
チオピロホスフェイトが少なく、高収率で、かつ高純度
の前述の生成物を製造しうるところにある。
@l〜4個の炭素原子のアルキル”と云う語は、1〜6
個の炭素原子の直鎖アルキル、3〜6個の炭素原子の分
枝鎖アルキルおよび3〜6個の炭素原子の環状アルキル
、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロ
ピル、インブチル、第ニブチル、第三ブチル、シクロプ
ロピル、シクロブチル、アミルおよびシクロ等を意味す
るために使用する。
個の炭素原子の直鎖アルキル、3〜6個の炭素原子の分
枝鎖アルキルおよび3〜6個の炭素原子の環状アルキル
、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロ
ピル、インブチル、第ニブチル、第三ブチル、シクロプ
ロピル、シクロブチル、アミルおよびシクロ等を意味す
るために使用する。
11〜4個の炭素原子のアルコキシ”、11〜4個の炭
素原子のアルキルチオ”、”1〜4個の炭素原子のアル
キルスルフィニル”および11〜4個の炭素原子のアル
キルスルホニル”と云511は、−数式: %式% (式中、Yは酸素、硫黄、スルフィニルあるいはスルホ
ニルであり、アルキルは、′″1〜6個の炭素原子のア
ルキル”として前述したものである。)のアルコキシお
よびアルキルチオ基を意味するために使用する。
素原子のアルキルチオ”、”1〜4個の炭素原子のアル
キルスルフィニル”および11〜4個の炭素原子のアル
キルスルホニル”と云511は、−数式: %式% (式中、Yは酸素、硫黄、スルフィニルあるいはスルホ
ニルであり、アルキルは、′″1〜6個の炭素原子のア
ルキル”として前述したものである。)のアルコキシお
よびアルキルチオ基を意味するために使用する。
1立体的に共存しうる”と云う語は、TheEditi
on、Ra1skold Psbltahisg Co
、wN、Y、。
on、Ra1skold Psbltahisg Co
、wN、Y、。
page 893 (1966)に定義されているよう
な立体障害により影響を受けないX置換基を意味するた
めに使用する。この立体障害はつぎのように定義されて
いる。
な立体障害により影響を受けないX置換基を意味するた
めに使用する。この立体障害はつぎのように定義されて
いる。
1立体障害。分子が、他の分子との所定の反応が比率的
に妨害されたりあるいは遅延されたりするようなそれら
の原子の空間配置を有して勝る分子構造の特性を立体障
害は、更にOrga信a Chmmiatry ofD
、J、Crtm asd G、Havmm鴨、2
sd EdiNos*MeGraw−H4ll B
ook Co、、N、Y、mpage 2 1 5
(1964)において論議されているどことく、その物
理的な大きさがそれらの通常の挙動の実施のために不充
分な容積内に閉じこめられることを必要としない置換基
を有する化合物として定義できる。
に妨害されたりあるいは遅延されたりするようなそれら
の原子の空間配置を有して勝る分子構造の特性を立体障
害は、更にOrga信a Chmmiatry ofD
、J、Crtm asd G、Havmm鴨、2
sd EdiNos*MeGraw−H4ll B
ook Co、、N、Y、mpage 2 1 5
(1964)において論議されているどことく、その物
理的な大きさがそれらの通常の挙動の実施のために不充
分な容積内に閉じこめられることを必要としない置換基
を有する化合物として定義できる。
不発明の方法における式(11、(I)および[相]の
化合物は、実質上等モルの一般式: %式% のうちの一種に相当する化合物と、−数式;C1−P%
OR’)寞 ■あるいは。
化合物は、実質上等モルの一般式: %式% のうちの一種に相当する化合物と、−数式;C1−P%
OR’)寞 ■あるいは。
のうちの一種のホスホロクロリデートあるいはホスホロ
クロリドチオエートとを、水1部および炭化水素あるい
は塩素化炭化水素溶媒0.1〜1部から成る水系溶剤シ
ステムの存在下、pHが7〜13のアルカリ条件下で反
応することによりつくられる。上式中、R,R’、X、
MおよびZは前述のものであり1Mはアルカリ金属ある
iはアルカリ土類金属である。完全な反応とするために
は([V)あるいは(V)の反応剤を過剰に使用するこ
とが望まし−0また、この反応は、触媒量の第三アミン
触媒と親水性−油溶性バランスl[(HLB)が1〜2
0以上の非イオン性界面活性剤との存在下で実施される
。HLBが5〜15の界面活性剤が好適である。
クロリドチオエートとを、水1部および炭化水素あるい
は塩素化炭化水素溶媒0.1〜1部から成る水系溶剤シ
ステムの存在下、pHが7〜13のアルカリ条件下で反
応することによりつくられる。上式中、R,R’、X、
MおよびZは前述のものであり1Mはアルカリ金属ある
iはアルカリ土類金属である。完全な反応とするために
は([V)あるいは(V)の反応剤を過剰に使用するこ
とが望まし−0また、この反応は、触媒量の第三アミン
触媒と親水性−油溶性バランスl[(HLB)が1〜2
0以上の非イオン性界面活性剤との存在下で実施される
。HLBが5〜15の界面活性剤が好適である。
不反応を実施するには、先ず7エネート、ビリジネート
およびピリミジネート塩反応剤、およびホスホロクロリ
デートあるいはホスホロクロリドチオエート反応剤を何
らかの好都合な方法により混合、接触させ、ついででき
た混合物を0〜100℃で一定時間保ち、反応を完了す
る。この反応は、通常還流条件下でおこなわれる。ここ
で使用する1アルカリ金炙”とは、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウム、リチウムおよびセシウムを意味する。
およびピリミジネート塩反応剤、およびホスホロクロリ
デートあるいはホスホロクロリドチオエート反応剤を何
らかの好都合な方法により混合、接触させ、ついででき
た混合物を0〜100℃で一定時間保ち、反応を完了す
る。この反応は、通常還流条件下でおこなわれる。ここ
で使用する1アルカリ金炙”とは、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウム、リチウムおよびセシウムを意味する。
また1アルカリ土類金喝”とは、カルシウム、ストロン
チウム、バリウム、ラジウムおよびマグネシウムを意味
する。
チウム、バリウム、ラジウムおよびマグネシウムを意味
する。
本発明で使用する第三アミンの量は、少量であるが触媒
量である。例えば、アルカリ金属あるいはアルカリ土類
金属フェネート、ピリジネートあるいはピリジネート反
応剤に基ぎo,o5〜5molチの量が適当であり、0
.1〜1.0moj%の量が通常好適である。適当な第
三アミンの例は、脂肪族トリヒドロカルピi°アミン(
例えば、トリメチルアミン、エチルジメチルアミン、ブ
チルジメチルアミン、およびN、N、N’、N’−テト
ラメチルエチレンジアミン);脂肪族複素環式アミン(
例えば、l−アザビシクロ(2,2,2)オクタン、1
−メチル−2−イミダシリンおよび1−メチルピロリド
ン):混合脂肪族/芳香族アミン(例えば、4−(N、
N−ジメチル−アミノ)ピリジン、4−(N−ピロリジ
ノ)ピリジンRよびフエニルジメチルアミン);8よび
その他の同様な、有磯性、非立体障害性、求核性、第三
アミン;である。
量である。例えば、アルカリ金属あるいはアルカリ土類
金属フェネート、ピリジネートあるいはピリジネート反
応剤に基ぎo,o5〜5molチの量が適当であり、0
.1〜1.0moj%の量が通常好適である。適当な第
三アミンの例は、脂肪族トリヒドロカルピi°アミン(
例えば、トリメチルアミン、エチルジメチルアミン、ブ
チルジメチルアミン、およびN、N、N’、N’−テト
ラメチルエチレンジアミン);脂肪族複素環式アミン(
例えば、l−アザビシクロ(2,2,2)オクタン、1
−メチル−2−イミダシリンおよび1−メチルピロリド
ン):混合脂肪族/芳香族アミン(例えば、4−(N、
N−ジメチル−アミノ)ピリジン、4−(N−ピロリジ
ノ)ピリジンRよびフエニルジメチルアミン);8よび
その他の同様な、有磯性、非立体障害性、求核性、第三
アミン;である。
二相溶剤システムの一部として使用される適当な不活性
有機液体は1例えば、炭化水素溶剤(例エバ、ベンゼン
、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等)、塩素化炭
化水素溶剤(例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四
塩化炭素、テトラクロロエチレン等)等である。
有機液体は1例えば、炭化水素溶剤(例エバ、ベンゼン
、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等)、塩素化炭
化水素溶剤(例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四
塩化炭素、テトラクロロエチレン等)等である。
HLBが1.0〜20以上の代表的な界面活性剤、工、
PG−26−2、PG−59−13、Ertj■97、
At1os■3434 E、 At1os■300お
よびドデシルベンゼンスルホン酸のカルシウムtxt後
述する)である。この規準に合致し、かつ本発明を実施
する上で有用なその他の公知の界面活性剤は、MaCu
tahao霊’a Datargm*ts asd E
mslaitiara。
PG−26−2、PG−59−13、Ertj■97、
At1os■3434 E、 At1os■300お
よびドデシルベンゼンスルホン酸のカルシウムtxt後
述する)である。この規準に合致し、かつ本発明を実施
する上で有用なその他の公知の界面活性剤は、MaCu
tahao霊’a Datargm*ts asd E
mslaitiara。
Haveル Amariaas Editeas、19
831外n5al に記載されている。記載の界面活
性剤は、有機酸のアルキレンオキサイド縮合物、ンルビ
タンエステルのポリオキシエチレン誘導体、コンプレッ
クスエーテルアルコール等である。界面活性剤の使用量
は、反応剤に基ぎ0,01〜5.0重量%であり、α0
5〜2.0重量%が一般に好ましい。
831外n5al に記載されている。記載の界面活
性剤は、有機酸のアルキレンオキサイド縮合物、ンルビ
タンエステルのポリオキシエチレン誘導体、コンプレッ
クスエーテルアルコール等である。界面活性剤の使用量
は、反応剤に基ぎ0,01〜5.0重量%であり、α0
5〜2.0重量%が一般に好ましい。
本反応が実施されるアルカリ条件は1本法な苛性(Na
OH)あるいは他の慣用的な塩基の存在下で実施するこ
とにより、あるいは適応する緩衝システムを使用するこ
とにより容易に達成しうる。使用される個々の塩基は臨
界的でなく、用いる塩基を限定すると所望の反応を抑制
し反応剤との反応がうまく進行しない。
OH)あるいは他の慣用的な塩基の存在下で実施するこ
とにより、あるいは適応する緩衝システムを使用するこ
とにより容易に達成しうる。使用される個々の塩基は臨
界的でなく、用いる塩基を限定すると所望の反応を抑制
し反応剤との反応がうまく進行しない。
反応混合物をまぜ合わせること(例えば撹拌。
回転等)は、この方法が2−相敵体反応媒体(例えば、
溶剤と水)中でおこなわれるために特に重要である。
溶剤と水)中でおこなわれるために特に重要である。
以下の実施例により本発明を説明するが、実施される方
法は、本発明の全範囲を制限するものではない。
法は、本発明の全範囲を制限するものではない。
実施例■
o,o−ジエチル0−(3,5,6−トリクロロ−2−
ピリジニル)ホスホロチオエートの製造メカニカル撹拌
器、コンデンサー、滴下F斗、温度計およびpHプロー
ブを備えた700111jのバッフル付反応器へ、ナト
リウム3,5.6−トリクロロ−2−ビリジネートヒド
レー)99.7f(0,419moI)、塩化メチレン
105ILt、水332−14−ジメチルアミノピリジ
ンo,o51? (0,00419惧oJ(0,1惰o
1%))、塩化ナトリウム24.1t、水酸化ナトリウ
ム3.0?gよびポリグリコール26−2界面活性剤(
ジ−セカンダリイブチルフェノール1moj、エチレン
オキシド5ssjおよびプロピレンオキシド4soJの
反応生成物)1.05r(1,0重f%)を仕込んだ。
ピリジニル)ホスホロチオエートの製造メカニカル撹拌
器、コンデンサー、滴下F斗、温度計およびpHプロー
ブを備えた700111jのバッフル付反応器へ、ナト
リウム3,5.6−トリクロロ−2−ビリジネートヒド
レー)99.7f(0,419moI)、塩化メチレン
105ILt、水332−14−ジメチルアミノピリジ
ンo,o51? (0,00419惧oJ(0,1惰o
1%))、塩化ナトリウム24.1t、水酸化ナトリウ
ム3.0?gよびポリグリコール26−2界面活性剤(
ジ−セカンダリイブチルフェノール1moj、エチレン
オキシド5ssjおよびプロピレンオキシド4soJの
反応生成物)1.05r(1,0重f%)を仕込んだ。
反応混合物を1,000 Rptyc で撹拌しながら
39℃の還流温度まで加熱した後、01O−ジエチルホ
スホロクロリドチオエート73.2 t (0,389
悔・l)を5〜lO口Oで単独添加した。ついで反応混
合物を45〜48℃の還fi温度で2 hr、加熱した
が、この間pHは、最初の12.5から最後には11.
9まで低下した。
39℃の還流温度まで加熱した後、01O−ジエチルホ
スホロクロリドチオエート73.2 t (0,389
悔・l)を5〜lO口Oで単独添加した。ついで反応混
合物を45〜48℃の還fi温度で2 hr、加熱した
が、この間pHは、最初の12.5から最後には11.
9まで低下した。
反応混合物を戸遇して過剰のナトリウム3,5゜6−ド
リクロロピリジネートを除云した。有機相を水相から分
別し水60就により洗浄した。ついで減圧下加熱して塩
化メチレンを除云し97%純度の所望の前述生成物13
4.2r(理論値の95.5%)を回収した。
リクロロピリジネートを除云した。有機相を水相から分
別し水60就により洗浄した。ついで減圧下加熱して塩
化メチレンを除云し97%純度の所望の前述生成物13
4.2r(理論値の95.5%)を回収した。
更に、実施例1で示した操作に従い、界面活性剤i6よ
びその使用量だけを変更して実施したところ、つぎに示
す収率Sよび純度の02O−ジエチルQ−(3,5,6
−)ジクロロ−2−ピリジニル)ホスホロチオエート生
成物が得られた:実施例■ o,o−ジエチル0−(3,5,6−ドリクロロー2−
ピリジニル)ホスホロチオエートの製造1tの標準ボン
ベ(par botnh )に112.3゜5.6−チ
トラクロロピリジン9o,of(0,415mol)、
水酸化カリウム53.32F(0,9521sol)お
よび水3069(16,98soJ)を仕込んだ。ボン
ベに封をした後反応混合物を撹拌し160″C,80p
aiで3 Q sfs加熱した。カリウムピリジネート
反応生成物を冷却後、実施例■に記載の700−のエス
テル化反応器に移してから、塩化メチレンIQ5u、ポ
リグリコール26−20、5 F (0,56重量%)
Sよび4−ジメチルアミノピリジンo,o45P(0,
0004soJ)を添加した。ついで反応混合物を74
0 vpmで撹拌しながら40℃の還流温度まで加熱し
た後、o,o−ジエチルホスホロクロリドチオエート7
8t(α414 mol )を5”’1Oasaかけて
単独添加した。更に反応混合物を48℃の還流温度で2
静。
びその使用量だけを変更して実施したところ、つぎに示
す収率Sよび純度の02O−ジエチルQ−(3,5,6
−)ジクロロ−2−ピリジニル)ホスホロチオエート生
成物が得られた:実施例■ o,o−ジエチル0−(3,5,6−ドリクロロー2−
ピリジニル)ホスホロチオエートの製造1tの標準ボン
ベ(par botnh )に112.3゜5.6−チ
トラクロロピリジン9o,of(0,415mol)、
水酸化カリウム53.32F(0,9521sol)お
よび水3069(16,98soJ)を仕込んだ。ボン
ベに封をした後反応混合物を撹拌し160″C,80p
aiで3 Q sfs加熱した。カリウムピリジネート
反応生成物を冷却後、実施例■に記載の700−のエス
テル化反応器に移してから、塩化メチレンIQ5u、ポ
リグリコール26−20、5 F (0,56重量%)
Sよび4−ジメチルアミノピリジンo,o45P(0,
0004soJ)を添加した。ついで反応混合物を74
0 vpmで撹拌しながら40℃の還流温度まで加熱し
た後、o,o−ジエチルホスホロクロリドチオエート7
8t(α414 mol )を5”’1Oasaかけて
単独添加した。更に反応混合物を48℃の還流温度で2
静。
加熱したがその間にpHは12.8から11.9まで低
下した。反応混合物を濾過して過剰のビリジネートを除
去した。ついで有機相を水相から分別し6014の水で
洗浄した。その後減圧下塩化メチレンを留去して96.
9%純度Sよび0.12 %スルホテップ濃度の前述の
一生成物141.5f(理論値の94.6%) (外4名)
下した。反応混合物を濾過して過剰のビリジネートを除
去した。ついで有機相を水相から分別し6014の水で
洗浄した。その後減圧下塩化メチレンを留去して96.
9%純度Sよび0.12 %スルホテップ濃度の前述の
一生成物141.5f(理論値の94.6%) (外4名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、実質上等モル量の一般式; R−O^■M^■IV あるいは、 ▲数式、化学式、表等があります▼V のうちの一種に相当する化合物(a)と、一般式;▲数
式、化学式、表等があります▼VI あるいは、 ▲数式、化学式、表等があります▼VII (式中、R、R′、X、MおよびZは、後述のものであ
り、Mはアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属である
)のうちの一種に相当する化合物(b)とを水系溶剤シ
ステムの存在下で、かつHLB値が1〜20の非イオン
性界面活性剤および触媒量の第三アミンの存在下、アル
カリ条件下で反応させることから成ることを特徴とする
、一般式:▲数式、化学式、表等があります▼ I ▲数式、化学式、表等があります▼II あるいは、 ▲数式、化学式、表等があります▼III 〔式中、Rは、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
あるいは、▲数式、化学式、表等があります▼;各R′
は、独立に1〜6個の炭素原子のアルキル、フェニルあ
るいはピリジル; 各Xは、独立に、ブロモ、クロロ、フルオロ、ヨード、
シアノ、ニトロ、1〜6個の炭素原子のアルキル、1〜
6個の炭素原子のアルコキシ、1〜6個の炭素原子のア
ルキルチオ、あるいは1〜6個の炭素原子のアルキルス
ルフイニルあるいは−NR^2R^3(式中、R^2お
よびR^3は、独立に水素あるいは1〜6個の炭素原子
のアルキルである);nは、nが1より大きい場合にす
べての置換基がお互いに立体的に共存しうると云う条件
で、0、1、2あるいは3; Zは、酸素あるいは硫黄;を表わす〕 のうちの一種に相当する化合物の製造法。 2、つくられる化合物が、一般式; ▲数式、化学式、表等があります▼ I に相当する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、つくられる化合物が、一般式; ▲数式、化学式、表等があります▼II に相当する特許請求の範囲第1項記載の方法。 4、つくられる化合物が、一般式; ▲数式、化学式、表等があります▼III に相当する特許請求の範囲第1項記載の方法。 5、Rが、▲数式、化学式、表等があります▼であり、
かつ、R′が 1〜6個の炭素原子のアルキルである特許請求の範囲第
2項記載の方法。 6、Rが、3,5,6−トリクロロ−2−ピリジニルで
ある特許請求の範囲第5項記載の方法。 7、R′がメチルである特許請求の範囲第6項記載の方
法。 8、R′がエチルである特許請求の範囲第6項記載の方
法。 9、化合物(b)がナトリウムあるいはカリウムo−3
,5,6−トリクロロ−2−ピリジネート、かつ、化合
物(b)が、o,o−ジエチルホスホロクロリドチオエ
ート;該水系溶剤システムが塩化メチレンと水との混合
物;およびその方法が0〜100℃の反応温度で実施さ
れる特許請求の範囲第2項記載の方法。 10、非イオン性界面活性剤が0.05〜2.0重量%
の量で存在する特許請求の範囲第9項記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US71555285A | 1985-03-25 | 1985-03-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01102088A true JPH01102088A (ja) | 1989-04-19 |
| JP2527444B2 JP2527444B2 (ja) | 1996-08-21 |
Family
ID=24874519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62257060A Expired - Fee Related JP2527444B2 (ja) | 1985-03-25 | 1987-10-12 | ホスホロチオエ―トおよびホスフェイトの製造法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0307502B1 (ja) |
| JP (1) | JP2527444B2 (ja) |
| AT (1) | ATE76646T1 (ja) |
| AU (1) | AU602917B2 (ja) |
| DE (1) | DE3779427D1 (ja) |
| ES (1) | ES2032793T3 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1094127C (zh) * | 1997-10-06 | 2002-11-13 | 华中师范大学 | 具有杀虫活性的取代吡啶甲基磷酸酯及其制备方法 |
| UA113964C2 (xx) * | 2011-06-22 | 2017-04-10 | Гербіцидні емульговані концентрати з допоміжною речовиною | |
| TWI568351B (zh) | 2011-06-22 | 2017-02-01 | 陶氏農業科學公司 | 具有自附(built-in)佐劑之除草劑顆粒 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3907815A (en) * | 1971-10-06 | 1975-09-23 | Dow Chemical Co | Process for preparing phosphorothioates and phenylphosphonothioates |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL6809749A (en) * | 1968-07-10 | 1970-01-13 | Di:alkyl aryl phosphoro:thioate prodn. - from phenol and phosphoro:thio:chloridate in presence of water and tert. amine | |
| US4007197A (en) * | 1975-06-10 | 1977-02-08 | The Dow Chemical Company | Process for preparing phosphorothioates and phenylphosphonothioates |
| US4094873A (en) * | 1975-07-31 | 1978-06-13 | The Dow Chemical Company | Process for preparing phosphorothioates and phenylphosphonothioates |
| US4147866A (en) * | 1976-11-15 | 1979-04-03 | The Dow Chemical Company | Process for preparing phosphorothioates and phenylphosphonothioates |
-
1987
- 1987-09-17 EP EP87113648A patent/EP0307502B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-17 AU AU78612/87A patent/AU602917B2/en not_active Ceased
- 1987-09-17 DE DE8787113648T patent/DE3779427D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-17 ES ES198787113648T patent/ES2032793T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-17 AT AT87113648T patent/ATE76646T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-10-12 JP JP62257060A patent/JP2527444B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3907815A (en) * | 1971-10-06 | 1975-09-23 | Dow Chemical Co | Process for preparing phosphorothioates and phenylphosphonothioates |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2527444B2 (ja) | 1996-08-21 |
| DE3779427D1 (de) | 1992-07-02 |
| ATE76646T1 (de) | 1992-06-15 |
| AU602917B2 (en) | 1990-11-01 |
| EP0307502A1 (en) | 1989-03-22 |
| AU7861287A (en) | 1989-03-23 |
| EP0307502B1 (en) | 1992-05-27 |
| ES2032793T3 (es) | 1993-03-01 |
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