JPH01102088A - ホスホロチオエートおよびホスフェイトの製造法 - Google Patents

ホスホロチオエートおよびホスフェイトの製造法

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JPH01102088A
JPH01102088A JP62257060A JP25706087A JPH01102088A JP H01102088 A JPH01102088 A JP H01102088A JP 62257060 A JP62257060 A JP 62257060A JP 25706087 A JP25706087 A JP 25706087A JP H01102088 A JPH01102088 A JP H01102088A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、高収率でかつ高純度のホスホノチオエートお
よびホスフェイトの製造に関する。不発明によりつくら
れる化合物は、りぎの−数式に相当する。
R−0−P−+QR’ )2      1あるiは、 各R′は、独立に1〜6個の炭素原子、フェニルあるい
はピリジル; 各Xは、独立にプロそ、クロロ、フルオロ、ヨード、−
NR禦R1(式中82およびR1は、独立に水素ある−
は1〜6個の炭素原子のアルキルを表わす)、シアノ、
ニトロ、1〜6個の炭素原子のアルキル、1〜6個の炭
素原子のアルコキシ、1〜6個の炭素原子のアルキルチ
オ、あるいは1〜6個の炭素原子のアルキルスルフィニ
ル;霊は、鴨がlより大きい場合にすべての置換基がお
互いに立体的に共存しうると云う条件で0.1.2ある
いは3; 2は、rs素あるいは硫黄;を表わす。)本発明の優位
性は、スルホテップとして公知な副生のテトラエチルジ
チオピロホスフェイトが少なく、高収率で、かつ高純度
の前述の生成物を製造しうるところにある。
@l〜4個の炭素原子のアルキル”と云う語は、1〜6
個の炭素原子の直鎖アルキル、3〜6個の炭素原子の分
枝鎖アルキルおよび3〜6個の炭素原子の環状アルキル
、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロ
ピル、インブチル、第ニブチル、第三ブチル、シクロプ
ロピル、シクロブチル、アミルおよびシクロ等を意味す
るために使用する。
11〜4個の炭素原子のアルコキシ”、11〜4個の炭
素原子のアルキルチオ”、”1〜4個の炭素原子のアル
キルスルフィニル”および11〜4個の炭素原子のアル
キルスルホニル”と云511は、−数式: %式% (式中、Yは酸素、硫黄、スルフィニルあるいはスルホ
ニルであり、アルキルは、′″1〜6個の炭素原子のア
ルキル”として前述したものである。)のアルコキシお
よびアルキルチオ基を意味するために使用する。
1立体的に共存しうる”と云う語は、TheEditi
on、Ra1skold Psbltahisg Co
、wN、Y、。
page 893 (1966)に定義されているよう
な立体障害により影響を受けないX置換基を意味するた
めに使用する。この立体障害はつぎのように定義されて
いる。
1立体障害。分子が、他の分子との所定の反応が比率的
に妨害されたりあるいは遅延されたりするようなそれら
の原子の空間配置を有して勝る分子構造の特性を立体障
害は、更にOrga信a Chmmiatry ofD
、J、Crtm  asd  G、Havmm鴨、2 
sd  EdiNos*MeGraw−H4ll  B
ook  Co、、N、Y、mpage  2 1 5
(1964)において論議されているどことく、その物
理的な大きさがそれらの通常の挙動の実施のために不充
分な容積内に閉じこめられることを必要としない置換基
を有する化合物として定義できる。
不発明の方法における式(11、(I)および[相]の
化合物は、実質上等モルの一般式: %式% のうちの一種に相当する化合物と、−数式;C1−P%
OR’)寞       ■あるいは。
のうちの一種のホスホロクロリデートあるいはホスホロ
クロリドチオエートとを、水1部および炭化水素あるい
は塩素化炭化水素溶媒0.1〜1部から成る水系溶剤シ
ステムの存在下、pHが7〜13のアルカリ条件下で反
応することによりつくられる。上式中、R,R’、X、
MおよびZは前述のものであり1Mはアルカリ金属ある
iはアルカリ土類金属である。完全な反応とするために
は([V)あるいは(V)の反応剤を過剰に使用するこ
とが望まし−0また、この反応は、触媒量の第三アミン
触媒と親水性−油溶性バランスl[(HLB)が1〜2
0以上の非イオン性界面活性剤との存在下で実施される
。HLBが5〜15の界面活性剤が好適である。
不反応を実施するには、先ず7エネート、ビリジネート
およびピリミジネート塩反応剤、およびホスホロクロリ
デートあるいはホスホロクロリドチオエート反応剤を何
らかの好都合な方法により混合、接触させ、ついででき
た混合物を0〜100℃で一定時間保ち、反応を完了す
る。この反応は、通常還流条件下でおこなわれる。ここ
で使用する1アルカリ金炙”とは、ナトリウム、カリウ
ム、ルビジウム、リチウムおよびセシウムを意味する。
また1アルカリ土類金喝”とは、カルシウム、ストロン
チウム、バリウム、ラジウムおよびマグネシウムを意味
する。
本発明で使用する第三アミンの量は、少量であるが触媒
量である。例えば、アルカリ金属あるいはアルカリ土類
金属フェネート、ピリジネートあるいはピリジネート反
応剤に基ぎo,o5〜5molチの量が適当であり、0
.1〜1.0moj%の量が通常好適である。適当な第
三アミンの例は、脂肪族トリヒドロカルピi°アミン(
例えば、トリメチルアミン、エチルジメチルアミン、ブ
チルジメチルアミン、およびN、N、N’、N’−テト
ラメチルエチレンジアミン);脂肪族複素環式アミン(
例えば、l−アザビシクロ(2,2,2)オクタン、1
−メチル−2−イミダシリンおよび1−メチルピロリド
ン):混合脂肪族/芳香族アミン(例えば、4−(N、
N−ジメチル−アミノ)ピリジン、4−(N−ピロリジ
ノ)ピリジンRよびフエニルジメチルアミン);8よび
その他の同様な、有磯性、非立体障害性、求核性、第三
アミン;である。
二相溶剤システムの一部として使用される適当な不活性
有機液体は1例えば、炭化水素溶剤(例エバ、ベンゼン
、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等)、塩素化炭
化水素溶剤(例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四
塩化炭素、テトラクロロエチレン等)等である。
HLBが1.0〜20以上の代表的な界面活性剤、工、
PG−26−2、PG−59−13、Ertj■97、
 At1os■3434 E、 At1os■300お
よびドデシルベンゼンスルホン酸のカルシウムtxt後
述する)である。この規準に合致し、かつ本発明を実施
する上で有用なその他の公知の界面活性剤は、MaCu
tahao霊’a Datargm*ts asd E
mslaitiara。
Haveル Amariaas Editeas、19
831外n5al  に記載されている。記載の界面活
性剤は、有機酸のアルキレンオキサイド縮合物、ンルビ
タンエステルのポリオキシエチレン誘導体、コンプレッ
クスエーテルアルコール等である。界面活性剤の使用量
は、反応剤に基ぎ0,01〜5.0重量%であり、α0
5〜2.0重量%が一般に好ましい。
本反応が実施されるアルカリ条件は1本法な苛性(Na
OH)あるいは他の慣用的な塩基の存在下で実施するこ
とにより、あるいは適応する緩衝システムを使用するこ
とにより容易に達成しうる。使用される個々の塩基は臨
界的でなく、用いる塩基を限定すると所望の反応を抑制
し反応剤との反応がうまく進行しない。
反応混合物をまぜ合わせること(例えば撹拌。
回転等)は、この方法が2−相敵体反応媒体(例えば、
溶剤と水)中でおこなわれるために特に重要である。
以下の実施例により本発明を説明するが、実施される方
法は、本発明の全範囲を制限するものではない。
実施例■ o,o−ジエチル0−(3,5,6−トリクロロ−2−
ピリジニル)ホスホロチオエートの製造メカニカル撹拌
器、コンデンサー、滴下F斗、温度計およびpHプロー
ブを備えた700111jのバッフル付反応器へ、ナト
リウム3,5.6−トリクロロ−2−ビリジネートヒド
レー)99.7f(0,419moI)、塩化メチレン
105ILt、水332−14−ジメチルアミノピリジ
ンo,o51? (0,00419惧oJ(0,1惰o
1%))、塩化ナトリウム24.1t、水酸化ナトリウ
ム3.0?gよびポリグリコール26−2界面活性剤(
ジ−セカンダリイブチルフェノール1moj、エチレン
オキシド5ssjおよびプロピレンオキシド4soJの
反応生成物)1.05r(1,0重f%)を仕込んだ。
反応混合物を1,000 Rptyc で撹拌しながら
39℃の還流温度まで加熱した後、01O−ジエチルホ
スホロクロリドチオエート73.2 t (0,389
悔・l)を5〜lO口Oで単独添加した。ついで反応混
合物を45〜48℃の還fi温度で2 hr、加熱した
が、この間pHは、最初の12.5から最後には11.
9まで低下した。
反応混合物を戸遇して過剰のナトリウム3,5゜6−ド
リクロロピリジネートを除云した。有機相を水相から分
別し水60就により洗浄した。ついで減圧下加熱して塩
化メチレンを除云し97%純度の所望の前述生成物13
4.2r(理論値の95.5%)を回収した。
更に、実施例1で示した操作に従い、界面活性剤i6よ
びその使用量だけを変更して実施したところ、つぎに示
す収率Sよび純度の02O−ジエチルQ−(3,5,6
−)ジクロロ−2−ピリジニル)ホスホロチオエート生
成物が得られた:実施例■ o,o−ジエチル0−(3,5,6−ドリクロロー2−
ピリジニル)ホスホロチオエートの製造1tの標準ボン
ベ(par botnh )に112.3゜5.6−チ
トラクロロピリジン9o,of(0,415mol)、
水酸化カリウム53.32F(0,9521sol)お
よび水3069(16,98soJ)を仕込んだ。ボン
ベに封をした後反応混合物を撹拌し160″C,80p
aiで3 Q sfs加熱した。カリウムピリジネート
反応生成物を冷却後、実施例■に記載の700−のエス
テル化反応器に移してから、塩化メチレンIQ5u、ポ
リグリコール26−20、5 F (0,56重量%)
Sよび4−ジメチルアミノピリジンo,o45P(0,
0004soJ)を添加した。ついで反応混合物を74
0 vpmで撹拌しながら40℃の還流温度まで加熱し
た後、o,o−ジエチルホスホロクロリドチオエート7
8t(α414 mol )を5”’1Oasaかけて
単独添加した。更に反応混合物を48℃の還流温度で2
静。
加熱したがその間にpHは12.8から11.9まで低
下した。反応混合物を濾過して過剰のビリジネートを除
去した。ついで有機相を水相から分別し6014の水で
洗浄した。その後減圧下塩化メチレンを留去して96.
9%純度Sよび0.12 %スルホテップ濃度の前述の
一生成物141.5f(理論値の94.6%) (外4名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、実質上等モル量の一般式; R−O^■M^■IV あるいは、 ▲数式、化学式、表等があります▼V のうちの一種に相当する化合物(a)と、一般式;▲数
    式、化学式、表等があります▼VI あるいは、 ▲数式、化学式、表等があります▼VII (式中、R、R′、X、MおよびZは、後述のものであ
    り、Mはアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属である
    )のうちの一種に相当する化合物(b)とを水系溶剤シ
    ステムの存在下で、かつHLB値が1〜20の非イオン
    性界面活性剤および触媒量の第三アミンの存在下、アル
    カリ条件下で反応させることから成ることを特徴とする
    、一般式:▲数式、化学式、表等があります▼ I ▲数式、化学式、表等があります▼II あるいは、 ▲数式、化学式、表等があります▼III 〔式中、Rは、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    あるいは、▲数式、化学式、表等があります▼;各R′
    は、独立に1〜6個の炭素原子のアルキル、フェニルあ
    るいはピリジル; 各Xは、独立に、ブロモ、クロロ、フルオロ、ヨード、
    シアノ、ニトロ、1〜6個の炭素原子のアルキル、1〜
    6個の炭素原子のアルコキシ、1〜6個の炭素原子のア
    ルキルチオ、あるいは1〜6個の炭素原子のアルキルス
    ルフイニルあるいは−NR^2R^3(式中、R^2お
    よびR^3は、独立に水素あるいは1〜6個の炭素原子
    のアルキルである);nは、nが1より大きい場合にす
    べての置換基がお互いに立体的に共存しうると云う条件
    で、0、1、2あるいは3; Zは、酸素あるいは硫黄;を表わす〕 のうちの一種に相当する化合物の製造法。 2、つくられる化合物が、一般式; ▲数式、化学式、表等があります▼ I に相当する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、つくられる化合物が、一般式; ▲数式、化学式、表等があります▼II に相当する特許請求の範囲第1項記載の方法。 4、つくられる化合物が、一般式; ▲数式、化学式、表等があります▼III に相当する特許請求の範囲第1項記載の方法。 5、Rが、▲数式、化学式、表等があります▼であり、
    かつ、R′が 1〜6個の炭素原子のアルキルである特許請求の範囲第
    2項記載の方法。 6、Rが、3,5,6−トリクロロ−2−ピリジニルで
    ある特許請求の範囲第5項記載の方法。 7、R′がメチルである特許請求の範囲第6項記載の方
    法。 8、R′がエチルである特許請求の範囲第6項記載の方
    法。 9、化合物(b)がナトリウムあるいはカリウムo−3
    ,5,6−トリクロロ−2−ピリジネート、かつ、化合
    物(b)が、o,o−ジエチルホスホロクロリドチオエ
    ート;該水系溶剤システムが塩化メチレンと水との混合
    物;およびその方法が0〜100℃の反応温度で実施さ
    れる特許請求の範囲第2項記載の方法。 10、非イオン性界面活性剤が0.05〜2.0重量%
    の量で存在する特許請求の範囲第9項記載の方法。
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