JPH01106558U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01106558U JPH01106558U JP76888U JP76888U JPH01106558U JP H01106558 U JPH01106558 U JP H01106558U JP 76888 U JP76888 U JP 76888U JP 76888 U JP76888 U JP 76888U JP H01106558 U JPH01106558 U JP H01106558U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- charged particle
- particle beam
- ground electrode
- lithography system
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 238000002039 particle-beam lithography Methods 0.000 claims 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例を示す断面図、第２
図は本考案の他の実施例を示す要部断面図、第３
図は従来装置を示す要部断面図である。 １０…マスク、１１…ガラス基材、１１ａ…面
取部、１２…金属膜、１３…レジスト膜、２０…
ホルダ、２４，２４ａ…アース電極、２７…金属
糸。
図は本考案の他の実施例を示す要部断面図、第３
図は従来装置を示す要部断面図である。 １０…マスク、１１…ガラス基材、１１ａ…面
取部、１２…金属膜、１３…レジスト膜、２０…
ホルダ、２４，２４ａ…アース電極、２７…金属
糸。
Claims (1)
- ガラス基材の表面に金属膜およびレジスト膜を
設けたマスクの辺部表面側の面取部に露出してい
る金属膜にアース電極を接触させるようにした荷
電粒子ビーム描画装置のマスクチヤージアツプ防
止装置において、前記アース電極の少なくともマ
スク接触部を、カールした金属糸によつて形成し
たことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置のマ
スクチヤージアツプ防止装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP76888U JPH01106558U (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP76888U JPH01106558U (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01106558U true JPH01106558U (ja) | 1989-07-18 |
Family
ID=31200080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP76888U Pending JPH01106558U (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01106558U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009115957A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Hoya Corp | マスクブランク及び転写用マスクの製造方法 |
| JP2018178226A (ja) * | 2017-04-19 | 2018-11-15 | ムラテック工業株式会社 | 表面処理用治具 |
-
1988
- 1988-01-07 JP JP76888U patent/JPH01106558U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009115957A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Hoya Corp | マスクブランク及び転写用マスクの製造方法 |
| TWI479256B (zh) * | 2007-11-05 | 2015-04-01 | Ｈｏｙａ股份有限公司 | 製造空白光罩及轉印光罩之方法 |
| JP2018178226A (ja) * | 2017-04-19 | 2018-11-15 | ムラテック工業株式会社 | 表面処理用治具 |