JPH01107531A - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
- Publication number
- JPH01107531A JPH01107531A JP62264456A JP26445687A JPH01107531A JP H01107531 A JPH01107531 A JP H01107531A JP 62264456 A JP62264456 A JP 62264456A JP 26445687 A JP26445687 A JP 26445687A JP H01107531 A JPH01107531 A JP H01107531A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diaphragm
- shaped
- shape
- aperture
- shaping
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、試料面上に電子ビームを照射し、微細なパタ
ーンを描画するための電子線描画装置に係り、特に、可
変成形電子線描画装置のビーム成形絞りの形状に関する
ものである。
ーンを描画するための電子線描画装置に係り、特に、可
変成形電子線描画装置のビーム成形絞りの形状に関する
ものである。
従来の技術
半導体ウェハ上にパターンを形成する場合、電子ビーム
に感応する電子線レジスト全ウェハ上に塗布して電子ビ
ームにより描画することが行なわれる。この描画時間を
短縮するために可変成形電子線描画装置が最近よく用い
られている。
に感応する電子線レジスト全ウェハ上に塗布して電子ビ
ームにより描画することが行なわれる。この描画時間を
短縮するために可変成形電子線描画装置が最近よく用い
られている。
走査型電子線描画装置の描画方式を第２図ａに、可変成
形電子線描画装置の描画方式を第２図すに示す。第２図
ａではスポット状の電子ビーム２を走査することにより
図形１を描画する。一方第２図すでは寸法が変化するこ
とのできる矩形ビーム３ｆ：順次つなぎあ、わせること
により図形１を描画する。このとき図形１は、最大寸法
の矩形ビームを多用し描画される。このため、スポット
状電子ビーム走査して描画する場合に比べて、矩形ビー
ムにより描画する場合のほりが、描画時間を短縮するこ
とができる。
形電子線描画装置の描画方式を第２図すに示す。第２図
ａではスポット状の電子ビーム２を走査することにより
図形１を描画する。一方第２図すでは寸法が変化するこ
とのできる矩形ビーム３ｆ：順次つなぎあ、わせること
により図形１を描画する。このとき図形１は、最大寸法
の矩形ビームを多用し描画される。このため、スポット
状電子ビーム走査して描画する場合に比べて、矩形ビー
ムにより描画する場合のほりが、描画時間を短縮するこ
とができる。
このような可変成形ビームを得るだめの電子光学系を第
３図に示す。図中、４は光源、６は電子ビーム、６は第
１絞り、７，９．１１は電子レンズ、８は成形偏光板、
１ｏは第２絞り、１３は試料である半導体ウェハである
。
３図に示す。図中、４は光源、６は電子ビーム、６は第
１絞り、７，９．１１は電子レンズ、８は成形偏光板、
１ｏは第２絞り、１３は試料である半導体ウェハである
。
第４図に示すように第１絞り６を通った電子ビーム６は
、第１絞りの像６ａを第２絞り１０上に結像する。第２
絞りと重なった部分１４のみが通過しウェハ１３上に縮
小・結像され可変成形ビーム１６が得られるこのとき、
成形偏向板に加える電圧を変化させれば、第１絞りの像
６ａの結像する位置をかえることができ、すなわち、ウ
ェハ上のビームの大きさを変えることができる。
、第１絞りの像６ａを第２絞り１０上に結像する。第２
絞りと重なった部分１４のみが通過しウェハ１３上に縮
小・結像され可変成形ビーム１６が得られるこのとき、
成形偏向板に加える電圧を変化させれば、第１絞りの像
６ａの結像する位置をかえることができ、すなわち、ウ
ェハ上のビームの大きさを変えることができる。
発明が解決しようとする問題点
従来、可変成形電子線描画装置においては第４図に示す
ように、第１絞り６と第２絞り１ｏを組合せて得られる
成形ビームは矩形ビーム１６あるいは三角形１５′のみ
であった。１４・１４′は絞り６と１０の重なり部で、
ａＮＣはビーム１６の得られる様子、ｄＮｆはビーム１
５′の得られる様子を示す。
ように、第１絞り６と第２絞り１ｏを組合せて得られる
成形ビームは矩形ビーム１６あるいは三角形１５′のみ
であった。１４・１４′は絞り６と１０の重なり部で、
ａＮＣはビーム１６の得られる様子、ｄＮｆはビーム１
５′の得られる様子を示す。
本発明においては、矩形あるいは三角形以外の可変成形
ビーム、特にＬ字形のビームが得られるようにしたもの
である。
ビーム、特にＬ字形のビームが得られるようにしたもの
である。
問題点を解決するための手段
本発明は従来の問題点を解決するために、第２絞りの形
状全十字形とすることにより、Ｌ字形の成形ビームを形
成できるようにしたものである。
状全十字形とすることにより、Ｌ字形の成形ビームを形
成できるようにしたものである。
作用
本発明は、上記した方法により、Ｌ字形の成形ビームを
形成することができる。その結果、従来り字形の図形は
２つの矩形ビームをつなぎ合せて描画していたが、この
ビームを使用すれば１回の描画ですみ、描画時間を短縮
することができる。
形成することができる。その結果、従来り字形の図形は
２つの矩形ビームをつなぎ合せて描画していたが、この
ビームを使用すれば１回の描画ですみ、描画時間を短縮
することができる。
実施例
以下に本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
第１図に示すように第２絞り１ｏＯの形状を十字形にし
この部分に第１絞りの像６＆を部分的に重ね合せれば、
Ｌ字形の成形ビーム１６が得られる。２４は絞り６と１
ｏｏの重なり部を示す。また、第１絞りの像６ａを重ね
合せる位置をかえれば、Ｌ字形を９０’、１８０°、２
７０’％転した可変成形ビームを得ることができるだけ
でなく矩形ビームも得ることができる。
この部分に第１絞りの像６＆を部分的に重ね合せれば、
Ｌ字形の成形ビーム１６が得られる。２４は絞り６と１
ｏｏの重なり部を示す。また、第１絞りの像６ａを重ね
合せる位置をかえれば、Ｌ字形を９０’、１８０°、２
７０’％転した可変成形ビームを得ることができるだけ
でなく矩形ビームも得ることができる。
このようなＬ字形の可変成形ビーム１６を用いて、図形
特にＬ字形の図形を描画する場合、従来最低２回の矩形
ビームで描画する必要であったものが１回のＬ字形の成
形ビームで描画することができる。このため描画時間を
短縮することができる。
特にＬ字形の図形を描画する場合、従来最低２回の矩形
ビームで描画する必要であったものが１回のＬ字形の成
形ビームで描画することができる。このため描画時間を
短縮することができる。
本実施例では、第２絞り１ｏＯとして十字形のみが存在
する場合について説明したが、第４図に示した矩形ある
いは三角形の成形ビームを形成するだめの第２絞り形状
が同時に存在しても可能である。
する場合について説明したが、第４図に示した矩形ある
いは三角形の成形ビームを形成するだめの第２絞り形状
が同時に存在しても可能である。
発明の効果
以上述べたように本発明によれば、簡単な構成によりＬ
字形の成形ビームを得ることができ、このような成形ビ
ームにより図形を描画すれば、描画時間を短縮すること
ができる。特に集積回路の配線パターンのようにＬ字形
の多いパターンに有効である。
字形の成形ビームを得ることができ、このような成形ビ
ームにより図形を描画すれば、描画時間を短縮すること
ができる。特に集積回路の配線パターンのようにＬ字形
の多いパターンに有効である。
第１図は本発明の一実施例による５字形成形ビームの形
成方法を示すパターン平面図、第２図は走査型電子線描
画装置と可変成形電子線描画装置の描画方式を示すパタ
ーン平面図、第３図は可変成形電子線描画装置の電子光
学系の概略側面図、第４図は従来の可変成形ビームの形
成方法を示すパターン平面図である。 ６・・・・・・第１絞り、１ｏｏ・・・・・・第２絞り
、１６・・・・・・成型ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第４
図
成方法を示すパターン平面図、第２図は走査型電子線描
画装置と可変成形電子線描画装置の描画方式を示すパタ
ーン平面図、第３図は可変成形電子線描画装置の電子光
学系の概略側面図、第４図は従来の可変成形ビームの形
成方法を示すパターン平面図である。 ６・・・・・・第１絞り、１ｏｏ・・・・・・第２絞り
、１６・・・・・・成型ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第４
図
Claims (1)
- 第１と第２のビーム成形用絞りを有し、第２の絞り上
に結像した第１絞り像と第２絞りで形成された成形ビー
ムを光源とし、この光源をターゲット上に縮小結像する
電子線描画装置であって、第１の絞りを矩形、第２の絞
りを十字形としてなる電子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62264456A JPH01107531A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62264456A JPH01107531A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 電子線描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01107531A true JPH01107531A (ja) | 1989-04-25 |
Family
ID=17403457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62264456A Pending JPH01107531A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01107531A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5916822A (en) * | 1995-08-10 | 1999-06-29 | Alcatel Optronics | Method of etching a substrate by means of chemical beams |
-
1987
- 1987-10-20 JP JP62264456A patent/JPH01107531A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5916822A (en) * | 1995-08-10 | 1999-06-29 | Alcatel Optronics | Method of etching a substrate by means of chemical beams |
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