JPH01110736A - 洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はシリコーンウェハ、フォトマスク、サブストレ
イト、ディスク、ＬＣＤ等をそれらの製造工程中におい
て、リンサードライヤにより洗浄し、あるいはリンスす
る方法に係り、特にリンサードライヤによる洗浄方法に
関する。

［従来の技術］ シリコーンウェハ、フォトマスク、サブストレイト等は
その製造工程において酸アルカリ洗浄、ブラシ洗浄等が
なされ、その都度、表面の汚れの洗浄、リンス及び乾燥
が行なわれる。このような洗浄、乾燥を一挙に行うもの
として純水による洗浄とＮ２ガスによる乾燥を組み合わ
せたリンサードライヤが開発されている。

これは、第３図に示すようにチャンバ１′内にセットさ
れた被処理体２０を回転しながら、チャンバ１′内に面
して設けたノズル３′より純水（ＤＩＷ）を噴射して洗
浄・リンスした後、今度は同じノズル３′よりＮ２ガス
を噴射して被処理体２０を乾燥させるもので、水又はガ
スの切り換えはそれらの供給路に設けたバルブ５′等に
よって行っている。

［発明が解決しようとする問題点］ ところで、このようなリンサードライヤにおいては通常
洗浄用の純水は常温で使用されているため、バルブ等の
水の滞留している部分でバクテリア等が発生し、洗浄す
べき水によってシリコーンウェハ等の被処理体が汚染さ
れてしまうというおそれがあった。

また常温であるため、洗浄後ドライヤで乾燥させる際に
多くの乾燥時間を要した。

本発明はこのような従来の問題点を解決し、水供給路に
おけるバクテリアの発生を防止し、洗浄・リンス効果の
すぐれたリンサードライヤによる洗浄方法を提供するこ
とを目的とする。

Ｅ問題点を解決するための手段］ このような目的を達成するため本発明は、リンサードラ
イヤにより被処理体を洗浄する際、加熱された洗浄液に
より前記被処理体を洗浄することを特徴とする。

［作用］ 洗浄液が加熱されているので液体供給路内においてバク
テリアが発生することはない、又、被処理体には高温の
洗浄液が噴射されるので、洗浄効果、リンス効果に優れ
、しがも被処理体をガス噴射によって乾燥する時にも速
やかに乾燥させることができる。

［実施例コ 以下、本発明の好ましい一実施例を図面を参照して説明
する。

リンサードライヤ１０は第１図に示すように被処理体２
０である例えばシリコーンウェハが複数枚数められたカ
セット２１をカセット毎収納するチャンバ１を備え、チ
ャンバ１内にはカセット２１を回転させるための回転機
構としてロータ２（第２図）が設けられている。ロータ
２はその回転数が選択できるようになっており、通常洗
浄時。

約２００〜５００ＲＰＭ、乾燥時、約２０００〜２５０
０ＲＰ　Ｍで被処理体２０（カセット２１）を回転させ
る。

また、チャンバ１の内側に面して被処理体２０に洗浄・
リンス用の液体又は乾燥用の気体を吹き付けるためのノ
ズル３が１ないし複数個設置される。洗浄・リンス用の
液体としては通常、純水が用いられ乾燥用の気体として
はＮ２ガスが用いられる。純水は図示しない純水製造装
置等の外部設備から配管によりリンサードライヤ内に導
入され、液体供給路４によりバルブ５を介してノズル３
に供給される。

バルブ５と導入部７との間の液体供給路４にはその外周
を囲繞する如く長手方向に電気ヒータ８が設置される。

洗浄液を加熱するための加熱部は、電熱ヒータの他、ヒ
ートパイプ等（設計上の不都合がない限り）、各種加熱
手段が使用できる。また、その設置個所はノズルに供給
される洗浄液及びバルブ内の洗浄液が所定の温度を維持
できるように液体供給路の一部に設置すればよい。

洗浄液の温度は被処理体の種類によっても異なるが通常
５０℃以上、好ましくは６０℃以上あれば本発明の目的
を達成することができる。

電気ヒータ８は１．５にワット程度のものが用いられ、
その電源は独自にとってもよいが、リンサードライヤ１
０自体の電源を共用してもよい、その場合、必要があれ
ば変圧回路等を適宜付与する。

又、電気ヒータは安全機構としてサーモスタットによっ
て過熱が防止されると共に、断熱性のカバー等によって
周辺部材の加熱が防止される。−方、Ｎ２ガスは内蔵さ
れた（あるいは外部に設置された）Ｎ２ガスボンベから
フィルタを通過後気体供給路９によりバルブ５を介して
ノズル３に供給される。

バルブ５は液体供給路４あるいは気体供給路９を択一的
にノズル３と導通し、純水あるいはＮ２ガスのいずれか
一方をノズル３に供給する。バルブ３の切換えは１手動
でも可能であるがタイマ又はコンピュータ制御等によっ
て自動的に行なうことも可能である。

以上のような構成において、リンサードライヤ１０は電
源投入と同時に電気ヒータ８がオンされており、液体供
給路４及びバルブ５内の水は加熱されて、例えば５０℃
以上に設定されている。このような状態で被処理体２０
例えばウェハを収納したカセット２１をチャンバ１にセ
ットし、システムを洗浄用にセットする。これによりバ
ルブ５は液体供給路４とノズル３を導通するように切換
えられ、またロータ２の回転は洗浄用の低速レンジに切
換えられる。ロータ２の回転数（ＲＰＭ）は更に専用つ
まみによって！Ｉ！！整することができる。

しかる後に、スタートボタンを押すと、ｆ！１気ヒータ
８によって加熱された洗浄用の水がノズル３より噴射さ
れ、被処理体２０は回転しながら洗浄される。この際、
洗浄用の水が高温であるので洗浄力が良好である。所定
時間の洗浄の後、手動又は自動でシステムが洗浄から乾
燥に切り換えられると、バルブ５は気体供給路９を導通
するように切換えられロータ２の回転は高速レンジに切
換えられ、被処理体２０は高速回転しながらノズル３か
ら噴射されるＮ２ガスによって乾燥させられる。

被処理体２ｏは高温の水で洗浄されているので水切れが
よく速やかに乾燥する。

被洗浄体を回転する前に静止状態で所定期間加熱された
洗浄液を被洗浄体噴射させ、上記所定期間後被洗浄体を
回転状態で洗浄するようにしてもよい。またこれを繰り
返えしてもよい。さらに洗浄液に超音波を印加してもよ
いし、被洗浄体に超音波を印加してもよい。

［発明の効果］ 以上の説明からも明らかなように本発明によれば、洗浄
用の液体は高温に保たれているので、液体供給路でのバ
クテリア等の発生を防止することができ、しかも洗浄・
リンス効果も高い。更には乾燥工程を短縮することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例のリンサードライヤを示す図
、第２図は同実施例のリンサードライヤの要部を示す図
、第３図は従来のリンサードラインを示す図である。 １・・・・・・・チャンバー ２・・・・・・・ロータ ３・・・・・・・ノズル ４・・・・・・・液体供給路 ５・・・・・・・バルブ ８・・・・・・・加熱部（電気ヒータ）９・・・・・・
・気体供給路 １０・・・・・リンサードライヤ ２０・・・・・被処理体（シリコーンウェハ）２１・・
・・・カセット 代理人　弁理士　　守　谷　−雄 第１図 第２図 ３゛

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）リンサードライヤにより被処理体を洗浄する際、
   加熱された洗浄液により前記被処理体を洗浄することを
   特徴とするリンサードライヤによる洗浄方法。
2. （２）被処理体を回転状態にして加熱された洗浄液を噴
   射することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のリ
   ンサードライヤによる洗浄方法。
3. （３）洗浄液の温度は５０℃以上である特許請求の範囲
   第１項記載のリンサードライヤによる洗浄方法。