JPH01112134A - スティフネス測定方法 - Google Patents

スティフネス測定方法

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JPH01112134A
JPH01112134A JP62269664A JP26966487A JPH01112134A JP H01112134 A JPH01112134 A JP H01112134A JP 62269664 A JP62269664 A JP 62269664A JP 26966487 A JP26966487 A JP 26966487A JP H01112134 A JPH01112134 A JP H01112134A
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JP
Japan
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stiffness
coating film
tape
film
young
Prior art date
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Pending
Application number
JP62269664A
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English (en)
Inventor
Hisashi Ushigome
牛込 恒
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Investigating Strength Of Materials By Application Of Mechanical Stress (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3へ−7 産業上の利用分野 本発明はスティフネス(剛性)測定方法に関するもので
あり、特に磁気テープなどのベースフィルム上に塗膜が
形成されたテープの塗膜層のみのスティフネスを求める
方法に関するものである。
従来の技術 従来より、テープなどのスティフネスを測定するために
はスティフネス測定器(たとえば(株)東ff[iのル
ーブスティフネステスター)が用いられているが、これ
はテープ全体の値を測定するものであり、ベースフィル
ム上に塗膜が形成されている磁気テープなどの場合、そ
の塗膜のみのスティフネスを測定することは不可能であ
った。
たとえば、磁気テープについて考えると、ヘッドとメデ
ィアのインターフェイスの問題が極めて重要であり、走
行系に於けるメディアの機械的特性は非常に重要である
。中でも、ビデオテープに於ては、所謂、スティフネス
(5tiffness :剛性)は特に大切な物性で、
電磁変換特性(S/N。
他)や耐久性(ヘッド磨耗etc)を大きく支配するも
のであり、ヘッドとメディアの微妙なインターフェイス
の作用を問題にする時、又は磁性層の構成成分の検討(
材料・組成)や分散・塗工・カレンダー・硬化などの各
工程の要因解析の為には、スティフネスという物性に対
して、詳しい測定と解析が必要であった。又、磁性層の
機械的特性を議論する時には、磁性層単独のスティフネ
スはどうかという疑問点がいつも議論のまとになってい
た。無論、磁性層単独のスティフネフなどは直接的には
容易に測定できる物性ではない。なぜなら、現在のよう
なスティフネスの測り方は、試料をループ状にして圧縮
変形させその変形回復力を測る方法であるが、磁性層だ
けの試料は、曲げると簡単に折れてしまいループ状にな
どできないからである。
発明が解決しようとする問題点 このように、従来の技術では、磁性層単独のスティフネ
スは測れなかったし、知られてもいなかった。従って、
ビデオテープの評価内容に於ては、そもそも磁性層のみ
のスティフネスという概念は存在しなかった。
以上のように従来の技術では、ビデオテープ全体として
のスティフネス、及びベースフィルム単独のスティフネ
フは測定できても、磁性層単独や、バックコート層単独
などの(仮想的な)スティフネスは、求めることができ
なかった。
問題点を解決するだめの手段 この問題点を解決するために、本発明のスティフネス測
定方法は、ベースフィルム上に塗膜が形成された試料テ
ープの膜厚(dt)、スティフネス(St)およびヤン
グ率(Et)を測定し、ついで上記試料テープの塗膜を
剥離したベースフィルムについて同様に、膜厚(db)
、スティフネス(Sb )およびヤング率(Eb)を測
定し、これらの測定値から下記の式によって上記塗膜の
みのスティフネス(sm)を求めることを特徴とするも
のである;Sm =St −3b−Bdmdb (2E
mdm+Emdb + Ebdm + 2 Ebdb 
)ここでBは定数、dmは塗膜の厚さでdlll=dj
;−clb、  Kmは塗膜のヤング率で61−/ 作用 この方法により、たとえば磁気テープの磁性層のみのス
ティフネスを測定することが可能となり、その物性解明
に有効となる。さらに、アンカーコート層+磁性層やバ
ックコート層のスティフネスも同様に求めることができ
、磁気テープの電磁変換特性や耐久性の検討において従
来得られなかった値として非常に参考となる。
実際の測定装置としては、市販のスティフネステスター
を改良して、後述のようにスティフネスとヤング率の双
方を測定できるようにし、さらにメモリーと演算回路を
装置に内蔵させ、あらかじめ測定しだ膜厚と上記の値を
入力することにより容易に求めるスティフネス値を得る
ことができる。
実施例 単独層のスティフネスを如何にして求めるかについて、
1ずスティフネスという物性値の力学的・考察から始め
なければならない。
71、− まず磁性層とベースフィルムだけからなる2層系のビデ
オテープを考え、必要な変数を以下のように定める。
E:ヤング率 d:膜厚 l:テープの試料長(円周長)(半径r=l/2π) L:テープの巾 H:圧縮後のギャップ(第2図参照) 工:断面2次モーメント 添字m、b、tは各々磁性層、ベースフィルム。
テープ全体(tota7りの意味を表わす。
市販のルーブスティフネステスターは、試料テープを丸
めて測定しているが、第2図は試料テープの変形を示す
ものである。長さβの試料テープ1は初め第2図1のよ
うに丸められ、次に第2図2のように圧縮変形され、回
復力S(スティフネス)が発生しているとする。微小変
位δBB ’δ。。
を考えて、材料力学の基本式により以下の関係式が得ら
れる。
となる。
すなわち、スティフネスStはEi−dt  に比例と
おいて、5t=B−Et−dt と以下、略記する。
ここで、ベースフィルムだけのスティフネスは9、、−
7 Sb二B−Ebdb  であり、テープ全体のヤング率
磁性層のみのスティフネスSmは、以下の(1)〜(6
)の関係式から求められる。
Si == B−Et−dt5      ・・・・・
・・・・ (1)Sm== B−Em−dm     
 ・=−(2)Sb= B−Ebdb3      ・
・・・・・・・ (3)dt = dIn+ db川−
(5) (4) 、 (四式を(1)式に入れ変形し、(2) 
、 (3)式を含む式にすると、 = B(Emdm+lEbdb)(dm2+2dmdb
+db )=: B (Emdm’ +Ebdb3+ 
dmdb(2Kmam+Emdb+Ebdm+2Ebd
b ) ) 、°、 St= Sm+Sb+Bdmdb(2Emdm
+ Emdb+ Ebdm +2 Eb db )・−
−(6)10、<−、−。
となり、Sm’=St−sbである。即ち、磁性層のみ
のスティフネスは、テープ全体のスティフネスからベー
スフィルムのスティフネスを減じた値というような単純
な値ではない。
(6)式から、磁性層のみのスティフネス(Sm)ハS
m = St−3b−Bdm db (2Emdm +
Emd1)+xbdm+2gbab)・−・−(7)と
して導かれる。ルーブスティフネステスターで実測でき
るのは、st 、 sbの2つだけであるが残りのEm
 、 Eb、 dm、 dl)は他の測定によって簡単
に求めることができる。dm 、 dbは市販品の膜厚
計を用いて、あらかじめ測っておくことができる。
次に、ヤング率の測定は普通は引張り試験機を用いて、
S−Sカーブ(5tress −5train曲線)か
ら求めるが、本発明の要点は、このルーブスティフネス
テスターにロードセルを搭載させ極めて簡単に測定する
ことにある。Emの値は上記の式より簡単に計算できる
。即ち、(4)式を変形してEtat−Ebdb Em=□ ・・・・・・・(4)式である。
m 11、− 第3図は市販のルーブスティフネステスターの測定方法
を示す。テープ1を試料チャック部2゜3セツトしく第
3図■)、チャック部を合わせて試料テープを丸め(第
3図■)、これにロードセル4をおしつけて(第3図■
)、試料テープ1のスティフネスが測定される。又、テ
ープの磁性層をDMF (ジメチルホルムアミド)を浸
み込ませたペンコツトンなどで拭きとりベースフィルム
だけにし、これをセットすれば、そのテープのベースフ
ィルムだけのスティフネスが測定でき、それらの値(s
t、sb)がデジタル数字として表示される。
本発明では、第3図の■の時々に少し余分に試料を引っ
張って、ヤング率(Et、ICb)を求め、計算により
Emを求めることができる。
すなわち、第1図に示すように、一対の試料のチャック
部分の一方2とロードセル6を連結し、他方のチャック
部3はバックラッシュ長として一定の長さ分(Δl)だ
け後退するようにしておく。
一定の変位Δl(伸び)に対するロードセル5により検
出した力と、あらかじめ入力している、膜厚(dt、d
b)から(4)式に従い内蔵した演算回路により、求め
るEmが計算できる。なお、第1図において、6は測定
前試料長設定用のりミントスイッチ、7は測定後、微小
延伸用リミットスイッチ、8はロードセルと試料チャッ
ク治具の連結のだめの止め金、9はチャック部3を動か
す回転ネジギアである。実際の測定は、以下のような手
順により求める磁性層のみのスティフネスSmを求める
ことができる。
(1)試料テープの全厚(dt)をあらかじめ膜厚計で
測定しておき入力する。
(11)試料テープをセッテングし、そのスティフネス
(St)を測定し、値はメモリーに記憶される。
ついで第3図■の状態に戻った時(第1図■)に、ロー
ドセルにより一定バンクラッシュ変位による分だけの張
力が検出され(第1図■)、ヤング率Etが測定され、
メモリーに記憶される。
ω1)試料テープの磁性層を剥離したベースフィル13
・\− ムについて膜厚を測定し入力する。つぎに、(11)と
同様の測定を行いSbとEbが測定され、それらの値は
メモリーに記憶される。
6VI  Et 、 ]lCb 、 dt 、 dbか
ら(4)7式によりEmが計算され、(′r)式により
Smが得られる。
さて、ここでBの値であるが、第3図@の時の条件によ
ってスティフネスの値は変るか、3の状態の幾何学的形
態が決まればB値は決められる。
実際には多くの試料を測定して、(1)の式からその平
均的な、妥当なり値を定めておく。尚、この時のXtは
引張り試験機を用いて、その5−8(5tvess −
3tvain )  カーブより厳密に求めたEt値を
使用するのがよい。我々はN:30の測定数から求めた
(St、Et、dt)の30個のデーターから、B−(
St)/ (Etdt )(−は平均値を示す。)とし
てB=4.82X107闘という値を求めた。数値の単
位は膜厚はμm、ヤング率ハ#/rtrm  、スティ
フネスは■のま\で入出力ととシ扱いを行った。
以下、具体的な実施例を挙げて説明する。試料14へ−
2 となるビデオテープは、通常の良く知られた手法によシ
作製したものであり、その組成や工程については割愛す
る。試料ビデオテープ(V2インチ巾)のテープ厚、ベ
ースフィルム厚は市販品の膜厚計を用いた。
テープの試料長β:80.0Mとし、ヤング率測定の為
のバックラッシュ変位長をΔβ=0.40mm(伸び率
0.5%)とする。又、圧縮、変形後の楕円形になった
試料テープの短軸長(第2図■のH)はH=19mmと
設定した。ロードセルは小型で軽量な(株)NMBの製
品を選んだ。
結果を次表に示す。
(以下余白) 15・・− (at23℃−60%RH) 上表に示すように、磁性層のみのスティフネスが求めら
れだが、テープの全厚、ベース厚が余シ変化してなくて
もテープ全体のヤング率の変化や、テープのスティフネ
スやベースのスティフネスにより磁性層のみのスティフ
ネス値が大きく変ることが判る。
発明の効果 以上詳しく述べたように、本発明の方法により、現実に
は測定できないが重要な物性値である、磁性層のみの仮
想的なスティフネス値を求めることができる。この手法
は、複合型の薄帯試料に於ては、−船釣に広く応用でき
るものである。
なお、上記の説明では磁性層のみの場合について述べた
が、実際の磁気テープはバックコート層やアンカーコー
ト層が設けられていることが多く、さらにトップコート
を施す場合もある。これら複合層やバックコート層につ
いても同様にそのスティフネスを求めることができるの
は明らかである。
さらに、本発明の方法は、一般に市販されているスティ
フネス測定器を改良して、同じ装置でヤ17 ・・−。
フグ率についても測定できるようにしたものであり、容
易に塗膜のみのスティフネスを求めることができ大変有
用である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に用いる改良型のループスティフネステ
スタの測定部を模式的に示した図、第2図は試料テープ
を丸めた状態から変形させてその変位とスティフネスの
関係を示す図、および第3図は従来のルーブスティフネ
ステスタを用いた測定手順を示す図である。 1・・・・・・試料テープ、2,3・・・・・試料チャ
ック部、4.6・・・・・・ロードセル、6 、7−・
・・・・リミットスイッチ、8・・・・・止め具、9・
・・・・・回転ネジギア。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名M1
図 ■ 第2図 第3図

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ベースフィルム上に塗膜が形成された試料テープ
    の膜厚(dt)、スティフネス(St)およびヤング率
    (Et)を測定し、ついで上記試料テープの塗膜を剥離
    したベースフィルムについて同様に、膜厚(db)、ス
    ティフネス(Sb)およびヤング率(Eb)を測定し、
    これらの測定値から下記の式によって上記塗膜のみのス
    ティフネス(Sm)を求めることを特徴とするスティフ
    ネス測定方法; Sm=St−Sb−Bdmdb(2Emdm+Embd
    +Ebdm+2Ebdb) ここでBは定数、dmは塗膜の厚さでdm=dt−db
    、Emは塗膜のヤング率で Em=(Etdt−Ebdb)/dmである。
  2. (2)スティフネステスターの一対の試料チャック部の
    一方のチャック部に張力検出器を連結し、他方のチャッ
    ク部を一定長さだけ後退するようにして、スティフネス
    とヤング率の双方を測定できるようにしたスティフネス
    テスターを用いることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載のスティフネス測定方法。
  3. (3)塗膜が磁性塗膜であることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載のスティフネス測定方法。
  4. (4)塗膜がアンカーコート層および磁性層よりなるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のスティフネ
    ス測定方法。
  5. (5)試料テープがベースフィルムの両面に塗膜を形成
    したものであり、第1の塗膜とベースフィルムをベース
    フィルムとみなして第2の塗膜のみのスティフネスを測
    定し、ついで第1の塗膜のみのスティフネスを測定して
    、両面の塗膜それぞれのスティフネスを得ることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載のスティフネス測定方
    法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010086238A1 (en) * 2009-01-30 2010-08-05 Statoil Asa Method and device for measuring the thickness of any deposit of material on an inner wall of a structure

Cited By (4)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010086238A1 (en) * 2009-01-30 2010-08-05 Statoil Asa Method and device for measuring the thickness of any deposit of material on an inner wall of a structure
GB2478684A (en) * 2009-01-30 2011-09-14 Statoil Asa Method and device for measuring the thickness of any deposit of material on an inner wall of a structure
GB2478684B (en) * 2009-01-30 2013-01-23 Statoil Asa Method and device for measuring the thickness of any deposit of material on an inner wall of a structure
US8966979B2 (en) 2009-01-30 2015-03-03 Statoil Petroleum As Method and device for measuring the thickness of any deposit of material on an inner wall of a structure

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