JPH01112470A - パターン検査方法 - Google Patents
パターン検査方法Info
- Publication number
- JPH01112470A JPH01112470A JP62271069A JP27106987A JPH01112470A JP H01112470 A JPH01112470 A JP H01112470A JP 62271069 A JP62271069 A JP 62271069A JP 27106987 A JP27106987 A JP 27106987A JP H01112470 A JPH01112470 A JP H01112470A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- value
- pattern
- synthesizing
- point
- difference
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 9
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 8
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 abstract 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 240000004922 Vigna radiata Species 0.000 description 2
- 235000010721 Vigna radiata var radiata Nutrition 0.000 description 2
- 235000011469 Vigna radiata var sublobata Nutrition 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野Ｊ
本発明は配縁パターン、Ｉ Ｃ’Ｊ−ドパターン、文字
パターン等のパターン検査方法に関するものである。
パターン等のパターン検査方法に関するものである。
［背ｆｉ技術１
従来パターンの２値化画像に対してマツチング等の手法
を用いてパターンの良否を判定する検査方法があるが、
２値化ノイズにより精度良く欠陥が検出できなかった。
を用いてパターンの良否を判定する検査方法があるが、
２値化ノイズにより精度良く欠陥が検出できなかった。
［発明の目的１
本発明は上述の間運点に鑑みて為されたもので、その目
的とするところはパターンの輪郭である線画像を用いて
精度良くパターンの欠陥を検出することができるパター
ン検査方法を提供するにある。゛［発明の開示］ 本発明は被検査パターンの線画像上のプロットされた３
点の２次元座標のアドレス値より求めた２次差分の合成
値を、線画像のトッラッキングの開始点から終了点まで
の間で逐次演算し、この演算値が予め標準パターンで求
めた設定値に属するか否かを比較判定して欠陥検出を行
うことを特徴とする。
的とするところはパターンの輪郭である線画像を用いて
精度良くパターンの欠陥を検出することができるパター
ン検査方法を提供するにある。゛［発明の開示］ 本発明は被検査パターンの線画像上のプロットされた３
点の２次元座標のアドレス値より求めた２次差分の合成
値を、線画像のトッラッキングの開始点から終了点まで
の間で逐次演算し、この演算値が予め標準パターンで求
めた設定値に属するか否かを比較判定して欠陥検出を行
うことを特徴とする。
第１図は線画像を得るための公知の画像処理装置のブロ
ック図を示しており、本発明では標準パターンや、被検
査パターンをＴＶカメラ１により撮像して、画像信号を
得、この画像信号を微分回路２により微分して緑豆の微
分値を得ると共にその緑点の方向値を得、これら値に基
づいてＪＩＭ化回路３により、緑豆の追跡を行って線画
像を得る。
ック図を示しており、本発明では標準パターンや、被検
査パターンをＴＶカメラ１により撮像して、画像信号を
得、この画像信号を微分回路２により微分して緑豆の微
分値を得ると共にその緑点の方向値を得、これら値に基
づいてＪＩＭ化回路３により、緑豆の追跡を行って線画
像を得る。
第２図は本発明パターン検査方法を用いたパターン検査
装置の回路構成を示しており、この回路構成と第４図（
ａ）（ｂ）に示す７０−チャートに基づいて本発明パタ
ーン検査方法について説明する。
装置の回路構成を示しており、この回路構成と第４図（
ａ）（ｂ）に示す７０−チャートに基づいて本発明パタ
ーン検査方法について説明する。
而して本発明パターン検査方法ではまず画像処理装置で
第３図に示す標準パターンの線画像Ａを得て、標準線画
像メモリ４に記憶させる０次に追跡回路５により線画像
Ａ上の任意の点を開始点ＳＬとし、この息Ｓｔから終了
点Ｅｎまでトラッキングを行う、そしてこのトラッキン
グを行う区間において該線画像Ａ上の任意の２次元座標
点Ｐ（χ。
第３図に示す標準パターンの線画像Ａを得て、標準線画
像メモリ４に記憶させる０次に追跡回路５により線画像
Ａ上の任意の点を開始点ＳＬとし、この息Ｓｔから終了
点Ｅｎまでトラッキングを行う、そしてこのトラッキン
グを行う区間において該線画像Ａ上の任意の２次元座標
点Ｐ（χ。
ｙ）を着目、梶とし、この着目点から一定画素数ｍだけ
進んだ点Ｑ（χｔｙ）と、更にこの点Ｑ（χｔｙ）から
画素数置だけ進んだ点Ｒ（χ、ｙ）をプロットし、この
３点Ｐ（χ、ｙ）、Ｑ（χｔｙ）、Ｒ（χｔｙ）のアド
レス値の２次差分を１次微分回路６．２次微分回路７に
より求める。
進んだ点Ｑ（χｔｙ）と、更にこの点Ｑ（χｔｙ）から
画素数置だけ進んだ点Ｒ（χ、ｙ）をプロットし、この
３点Ｐ（χ、ｙ）、Ｑ（χｔｙ）、Ｒ（χｔｙ）のアド
レス値の２次差分を１次微分回路６．２次微分回路７に
より求める。
まず１次差分値は
これより２次差分値は
となる。一般には
と書ける。
更にχ、ｙの２次差分の合成値を
Ｓｎ＝δ２χｎ十ろ”Ｙｎ
とおく、この合成値Ｓｎをトッラッキングの開始点から
終了点まで逐次求めバッファメモリに記憶する。このよ
うに記憶した合成値Ｓｏを標準パターンの設定値とする
。
終了点まで逐次求めバッファメモリに記憶する。このよ
うに記憶した合成値Ｓｏを標準パターンの設定値とする
。
次に検査時においてはまず被検査パターンの線画像を第
１図の画像処理装置で作成して被検査線画像／モリ８に
記憶して、この線画像上において上記標準パターンと対
応するように開始点と、終了点とを設定し、上述と同様
被検査パターンの２次差分の合成値Ｓｎ’を追跡回路９
．１次微分回路１０．２次像分回路１１を用いて演算し
、この合成値Ｓｎ’と、標準パターンの設定合成値Ｓｎ
との差ｄｎを比較回路１２で求め、更に良否判定回路１
３によりこの差ｄｏの値が予め定めた閾値ｄにを越える
と設定値に属さないと判定し、被検査パターン上に存在
する欠陥部を検出するのである。
１図の画像処理装置で作成して被検査線画像／モリ８に
記憶して、この線画像上において上記標準パターンと対
応するように開始点と、終了点とを設定し、上述と同様
被検査パターンの２次差分の合成値Ｓｎ’を追跡回路９
．１次微分回路１０．２次像分回路１１を用いて演算し
、この合成値Ｓｎ’と、標準パターンの設定合成値Ｓｎ
との差ｄｎを比較回路１２で求め、更に良否判定回路１
３によりこの差ｄｏの値が予め定めた閾値ｄにを越える
と設定値に属さないと判定し、被検査パターン上に存在
する欠陥部を検出するのである。
尚欠陥部の大きさの限度設定はパラメータｄにを調節す
れば良い。
れば良い。
［発明の効果１
本発明は被検査パターンの線画像上のプロットされた３
点の２次元座標のアドレス値より求めた２次差分の合成
値を、＃ｉ両画像トラフッキングの開始点から終了点ま
での間で逐次演算し、この演算値が予め標準パターンで
求めた設定値に属するか否かを比較判定して欠陥検出を
打うので、任意の形状を持つ標準パターンに対して被検
査パターンに存在する凹凸、細り、太り、異形等の欠陥
を精度良く検出することが可能となろという効果を有す
る。
点の２次元座標のアドレス値より求めた２次差分の合成
値を、＃ｉ両画像トラフッキングの開始点から終了点ま
での間で逐次演算し、この演算値が予め標準パターンで
求めた設定値に属するか否かを比較判定して欠陥検出を
打うので、任意の形状を持つ標準パターンに対して被検
査パターンに存在する凹凸、細り、太り、異形等の欠陥
を精度良く検出することが可能となろという効果を有す
る。
第１図は本発明方法に用いる画像処理装置のブロック図
、第２図は本発明方法を用いたパターン検査装置の回路
構成図、第３図は本発明方法の説明図、第４図は実施例
の検査過程の７０−チャートである。 代理人 弁理士 石 １）長 七 Ｉ［１＠
、第２図は本発明方法を用いたパターン検査装置の回路
構成図、第３図は本発明方法の説明図、第４図は実施例
の検査過程の７０−チャートである。 代理人 弁理士 石 １）長 七 Ｉ［１＠
Claims (1)
- （１）被検査パターンの線画像上のプロットされた３点
の２次元座標のアドレス値より求めた２次差分の合成値
を、線画像のトッラッキングの開始点から終了点までの
間で逐次演算し、この演算値が予め標準パターンで求め
た設定値に属するか否かを比較判定して欠陥検出を行う
ことを特徴とするパターン検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62271069A JPH0636193B2 (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | パターン検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62271069A JPH0636193B2 (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | パターン検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01112470A true JPH01112470A (ja) | 1989-05-01 |
| JPH0636193B2 JPH0636193B2 (ja) | 1994-05-11 |
Family
ID=17494955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62271069A Expired - Lifetime JPH0636193B2 (ja) | 1987-10-27 | 1987-10-27 | パターン検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0636193B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5627914A (en) * | 1979-08-15 | 1981-03-18 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Electrical double layer capacitor |
-
1987
- 1987-10-27 JP JP62271069A patent/JPH0636193B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5627914A (en) * | 1979-08-15 | 1981-03-18 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Electrical double layer capacitor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0636193B2 (ja) | 1994-05-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7978904B2 (en) | Pattern inspection apparatus and semiconductor inspection system | |
| JPH07311028A (ja) | 構造物表面の検査における欠陥の検出方法 | |
| JP4230880B2 (ja) | 欠陥検査方法 | |
| JP2002081914A (ja) | 寸法検査方法及びその装置並びにマスクの製造方法 | |
| JP2000113198A (ja) | 弾性モデルを用いた印刷品質の自動検査方法 | |
| JP3265595B2 (ja) | 画像処理方法およびその装置 | |
| CN108492306A (zh) | 一种基于图像轮廓的x型角点提取方法 | |
| JP3788586B2 (ja) | パターン検査装置および方法 | |
| JP2000339462A (ja) | 欠陥検査方法および欠陥検査装置 | |
| JPH01112470A (ja) | パターン検査方法 | |
| JP2010139407A (ja) | 表面欠陥の検査方法 | |
| JP2007155405A (ja) | 外観検査方法及び外観検査装置 | |
| JPH0718811B2 (ja) | 欠陥検査方法 | |
| JP4956077B2 (ja) | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 | |
| CN113298864A (zh) | 检测面板线段瑕疵的设备及方法 | |
| JPH0587782B2 (ja) | ||
| JP2000321038A (ja) | パターン欠陥検出方法 | |
| JP2638121B2 (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JP2001357401A (ja) | 画像処理方法 | |
| JP2000121495A (ja) | 画面検査方法 | |
| WO2024166608A1 (ja) | 外観検査方法及び外観検査装置 | |
| JP2007081513A (ja) | 固体撮像素子のシミ欠陥検査方法 | |
| JP2009186330A (ja) | 振動検出方法、外観検査方法、およびこれらの装置 | |
| JP2000105200A (ja) | 画面検査方法 | |
| JPH03125906A (ja) | 欠陥検査装置 |