JPH01113679U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01113679U JPH01113679U JP941588U JP941588U JPH01113679U JP H01113679 U JPH01113679 U JP H01113679U JP 941588 U JP941588 U JP 941588U JP 941588 U JP941588 U JP 941588U JP H01113679 U JPH01113679 U JP H01113679U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- valve body
- valve seat
- casing
- contact surface
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Lift Valve (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例を示す側断面図、第
２図はＣＶＤ法による薄膜生成炉の概略を示す図
、第３図は従来の真空弁の側断面図である。 ８……ケーシング、９……弁体、９ａ……弁体
の当接面、１１……弁座、１１ａ……弁座の当接
面、２０……真空弁、２５，２６……ノズル。
２図はＣＶＤ法による薄膜生成炉の概略を示す図
、第３図は従来の真空弁の側断面図である。 ８……ケーシング、９……弁体、９ａ……弁体
の当接面、１１……弁座、１１ａ……弁座の当接
面、２０……真空弁、２５，２６……ノズル。
Claims (1)
- ケーシング内部に弁座と弁体を有する弁におい
て、開位置にある前記弁体の前記弁座に対する当
接面の側方、および前記弁座の弁体に対する当接
面の側方の前記ケーシングに、前記両当接面に対
してパージ用ガスを吹き付けるためのノズルを設
けたことを特徴とするパージ機構を備えた弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP941588U JPH01113679U (ja) | 1988-01-27 | 1988-01-27 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP941588U JPH01113679U (ja) | 1988-01-27 | 1988-01-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01113679U true JPH01113679U (ja) | 1989-07-31 |
Family
ID=31216133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP941588U Pending JPH01113679U (ja) | 1988-01-27 | 1988-01-27 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01113679U (ja) |
-
1988
- 1988-01-27 JP JP941588U patent/JPH01113679U/ja active Pending