JPH01116482A - 微小電流モニター - Google Patents
微小電流モニターInfo
- Publication number
- JPH01116482A JPH01116482A JP62273022A JP27302287A JPH01116482A JP H01116482 A JPH01116482 A JP H01116482A JP 62273022 A JP62273022 A JP 62273022A JP 27302287 A JP27302287 A JP 27302287A JP H01116482 A JPH01116482 A JP H01116482A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- duct
- monitor
- microcurrent
- vacuum
- ceramic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Measurement Of Current Or Voltage (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、粒子加速器に係り、特に重イオン加速器のよ
うな微小電流発生装置の電流計測に好適なモニターシス
テムに関する。
うな微小電流発生装置の電流計測に好適なモニターシス
テムに関する。
イオン加速器で得れる電流は、一般に電子加速器に比較
して小さい。特に重イオン加速器での最終引出し電流は
、1〜数十nAとなる。この電流を測定するのには、従
来電流トランス型モニターが使用されていて、これにつ
いては、アイ・イー・イー・イートランザクション・オ
ン・ニュークリアサイエンス・エヌエス32.45 1
985年第1959〜1961頁(IEEE Trau
s、NuclearScience N532 Vo
125 1959(1985))において述べられてい
る。
して小さい。特に重イオン加速器での最終引出し電流は
、1〜数十nAとなる。この電流を測定するのには、従
来電流トランス型モニターが使用されていて、これにつ
いては、アイ・イー・イー・イートランザクション・オ
ン・ニュークリアサイエンス・エヌエス32.45 1
985年第1959〜1961頁(IEEE Trau
s、NuclearScience N532 Vo
125 1959(1985))において述べられてい
る。
〔発明が解決しようとする問題点3
重イオン加速器では、そのイオン源等の制約により最終
エネルギーで得られる電流は、11子加速器に比較して
非常に小さく、1〜数士nA程度となる。従来、加速器
の電流値を測定するには、ファラデーカップ、蛍光板等
の破am定と電流トランスモニター、静電型モニター等
の非破壊測定が行なわれている。しかし、どれも微小電
流のために雑音対策等が大変となる。
エネルギーで得られる電流は、11子加速器に比較して
非常に小さく、1〜数士nA程度となる。従来、加速器
の電流値を測定するには、ファラデーカップ、蛍光板等
の破am定と電流トランスモニター、静電型モニター等
の非破壊測定が行なわれている。しかし、どれも微小電
流のために雑音対策等が大変となる。
上記従来例は、雑音対策を考慮して設計されているが、
(1)検出感度及びSN比を上げるためにトロイダルコ
アを小さくする。そのため、(2)モニター本体及び一
部の処理回路を真空中に設置している。等の問題点を有
する。重イオン加速器ではビーム寿命を長くするために
超高真空を維持しなくてはならないため、真空中への機
器挿入を極力ひかえなくてはならない。また、重イオン
のように軌道放射によるビームサイズの減衰がない装置
では、大きなベータトロン振動によるビームロスをさけ
るため、ビームダクトは十分に大きく取りたい。従って
、モニターコアを小さくすることができない。
(1)検出感度及びSN比を上げるためにトロイダルコ
アを小さくする。そのため、(2)モニター本体及び一
部の処理回路を真空中に設置している。等の問題点を有
する。重イオン加速器ではビーム寿命を長くするために
超高真空を維持しなくてはならないため、真空中への機
器挿入を極力ひかえなくてはならない。また、重イオン
のように軌道放射によるビームサイズの減衰がない装置
では、大きなベータトロン振動によるビームロスをさけ
るため、ビームダクトは十分に大きく取りたい。従って
、モニターコアを小さくすることができない。
本発明の目的は、真空外に設置し、微小ビーム電流値及
びビーム位置を測定するモニターを提供することによる
。
びビーム位置を測定するモニターを提供することによる
。
上記目的は、以下のようにして達成される。
まず、ビームダクト中の電磁場が真空外へ洩れるように
、モニタ一部のダクトをセラミックスとする。そこに、
超電導量子干渉計(以下、5QUID)をビームの作る
磁場と垂直になるように、上下左右に四ケ所に設置する
。
、モニタ一部のダクトをセラミックスとする。そこに、
超電導量子干渉計(以下、5QUID)をビームの作る
磁場と垂直になるように、上下左右に四ケ所に設置する
。
ビームの誘起する電磁場は、セラミックダクト部で、真
空外に洩れ出すことができる。これにより、真空外での
測定が可能となる。
空外に洩れ出すことができる。これにより、真空外での
測定が可能となる。
5QUIDは、超電導体のマイスナー効果とジョセフソ
ン効果を応用し、その素子を通過する磁束量を求めるも
のである。よって、通過磁束量から周回するビーム電流
値を知ることができる。また5QUIDの測定下限は、
〜1FIST(テスラ)であるため、例として、半径2
5I1mの円筒ダクトを仮定すると、測定下限ビーム電
流値は、〜130pAとなる。
ン効果を応用し、その素子を通過する磁束量を求めるも
のである。よって、通過磁束量から周回するビーム電流
値を知ることができる。また5QUIDの測定下限は、
〜1FIST(テスラ)であるため、例として、半径2
5I1mの円筒ダクトを仮定すると、測定下限ビーム電
流値は、〜130pAとなる。
さらに、上下左右にモニターを設置することにより、ビ
ームが中心からずれた時に生じる上下左右の磁束のアン
バランスを測定することが可能となる。このアンバラン
スを用いて、ビーム位置を測定する。
ームが中心からずれた時に生じる上下左右の磁束のアン
バランスを測定することが可能となる。このアンバラン
スを用いて、ビーム位置を測定する。
水平位置=左−右/左+右
垂直位置=上−下/上+下
〔実施例〕
以下本発明の一実施例を第1図により説明する。
真空槽を形成するビームダクト4とその中を周回する重
イオンビーム3と3が誘起する電磁場を真空外に洩れ出
させるセラミックダクト5と、5の外側に配置された、
3の誘起する磁場を測定する5QUIDIと1を外部か
らの磁場から遮蔽するとともに、5QUID冷却用に使
用する磁気シールド6により構成する。上下左右に置い
た5QUIDを各々、モニター11.12,13.14
とする。
イオンビーム3と3が誘起する電磁場を真空外に洩れ出
させるセラミックダクト5と、5の外側に配置された、
3の誘起する磁場を測定する5QUIDIと1を外部か
らの磁場から遮蔽するとともに、5QUID冷却用に使
用する磁気シールド6により構成する。上下左右に置い
た5QUIDを各々、モニター11.12,13.14
とする。
重イオンは、ベータトロン振動が大きいので、4は半径
50+nmの円筒形として考えると、3の作る磁場は、 と与えられる。
50+nmの円筒形として考えると、3の作る磁場は、 と与えられる。
又は、中心からのずれ、では、測定点のXからの角度を
示す。まず、ビームが中心を通る時を考えると、x=o
より、B=μoI/2πrとなる。
示す。まず、ビームが中心を通る時を考えると、x=o
より、B=μoI/2πrとなる。
I=1nAとすると、’r=50mmで作る磁場は、4
X 10−”T となり、1の測定下限h/2e〜2
X 10”T より十分に大きい。ここでhはブラン
クの定数である。この時、6により余分な外場を十分に
遮敞し、5QUIDの冷却を行なう。
X 10−”T となり、1の測定下限h/2e〜2
X 10”T より十分に大きい。ここでhはブラン
クの定数である。この時、6により余分な外場を十分に
遮敞し、5QUIDの冷却を行なう。
これにより、1nA からの電流値が測定できる。
X≠0のときは、r > xとすると
として表わせる。従って、四箇所に置いたモニターを足
し合わせると、X≠0による効果を消すことが可能とな
る。
し合わせると、X≠0による効果を消すことが可能とな
る。
次に、(2)式を用いて、
■は、各5QUIDの出力電圧
の演算を行なうと、
Rl ” X Rl ” X 水平垂直
のような関係が生じる。
これにより、ビーム位置(水平及び垂直)の測定が可能
となる。本実施例により、nA級の電流値及び位置が同
時に測定でき、モニター数を減らすことが可能となる。
となる。本実施例により、nA級の電流値及び位置が同
時に測定でき、モニター数を減らすことが可能となる。
又、逆に、各位置での電流値が測定できる。
本発明によれば、nA級の従来測定が非常に回連であっ
た電流値が測定でき、さらに位置測定が可能となり、R
F空胴又は偏向磁石等のフィードバックセンサーとして
、高感度のものを提供できる。
た電流値が測定でき、さらに位置測定が可能となり、R
F空胴又は偏向磁石等のフィードバックセンサーとして
、高感度のものを提供できる。
また、重イオン用の真空ダクトを十分に大きく取ること
ができる。
ができる。
第1図は本発明の一実施例の説明図を示す。
1・・・電流測定用5QUID、2・・・ビームの作る
磁界、3・・・重イオンビーム、4・・・通常のビーム
ダクト、5・・・セラミックダクト、6・・・5QUI
D用磁馬1図
磁界、3・・・重イオンビーム、4・・・通常のビーム
ダクト、5・・・セラミックダクト、6・・・5QUI
D用磁馬1図
Claims (1)
- 1、真空槽を形成する真空ダクト、その一部をセラミッ
クとしたラミックダクト、セラミックダクトの外側に置
いて、ビームの作る磁場以外を遮敞するとともに、冷媒
を循環させる磁気シールドにおいて、磁気シールドの内
部に、超電導量子干渉計をビームの作る磁場のアンバラ
ンスを計測できるように配置することにより、10^−
^8A級の微小電流の電流値及びビーム位置を同時に測
定することを特徴とする微小電流モニター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62273022A JPH01116482A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 微小電流モニター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62273022A JPH01116482A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 微小電流モニター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01116482A true JPH01116482A (ja) | 1989-05-09 |
Family
ID=17522071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62273022A Pending JPH01116482A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 微小電流モニター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01116482A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1329938A3 (en) * | 2001-12-28 | 2003-08-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ion irradiation system |
| JP2008085066A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Mitsumi Electric Co Ltd | 開閉蓋構造及びそれを備えた電子機器 |
| JP2009036551A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Institute Of Physical & Chemical Research | Ctモニター |
-
1987
- 1987-10-30 JP JP62273022A patent/JPH01116482A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1329938A3 (en) * | 2001-12-28 | 2003-08-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ion irradiation system |
| US6822247B2 (en) | 2001-12-28 | 2004-11-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ion irradiation system |
| CN100339967C (zh) * | 2001-12-28 | 2007-09-26 | 松下电器产业株式会社 | 离子照射装置 |
| JP2008085066A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Mitsumi Electric Co Ltd | 開閉蓋構造及びそれを備えた電子機器 |
| JP2009036551A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Institute Of Physical & Chemical Research | Ctモニター |
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