JPH01119910A - 複合型薄膜ヘッド - Google Patents
複合型薄膜ヘッドInfo
- Publication number
- JPH01119910A JPH01119910A JP27740687A JP27740687A JPH01119910A JP H01119910 A JPH01119910 A JP H01119910A JP 27740687 A JP27740687 A JP 27740687A JP 27740687 A JP27740687 A JP 27740687A JP H01119910 A JPH01119910 A JP H01119910A
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- Japan
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- head
- recording
- magnetic
- thin film
- reproducing
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高密度記録用磁気ディスク装置に用いる、記録
能力および再生能力の優れた薄膜磁気ヘッドに関する。
能力および再生能力の優れた薄膜磁気ヘッドに関する。
従来、磁気ディスク用薄膜ヘッドは特開昭５５−８４０
１９示されるような誘導型ヘッドであって、信号入出力
用のコイルを巻いた磁極の間隙からもれる磁界によって
磁気記録媒体に記録し、媒体磁化からもれる磁界を磁極
の間隙で検出していた。すなわち、記録と再生とを同一
の磁気ヘッドで行なっていた。
１９示されるような誘導型ヘッドであって、信号入出力
用のコイルを巻いた磁極の間隙からもれる磁界によって
磁気記録媒体に記録し、媒体磁化からもれる磁界を磁極
の間隙で検出していた。すなわち、記録と再生とを同一
の磁気ヘッドで行なっていた。
記録に最適なヘッド構造と再生に最適なヘッド構造とは
異なるため、同一のヘッドで記録と再生を行なおうとす
ると、線記録密度を高くできないという問題があった０
本発明の目的は記録と再生とを各々最適化し、線記録密
度を高めることにある。記録と再生とを分離する方式は
、オーディオ用テープレコーダや計算機用磁気テープ装
置ｆ（いわゆるＭＴ装置）で実用化されているが、これ
はトラック幅が３００μｍ程度以上とトラック密度が大
きい領域である。したがって記録トラックと再生トラッ
クが多少ずれていても問題を生じないので、記録ヘッド
と再生ヘッドを独立に作って接着剤ではりあわせたり、
記録媒体走行方向に２つのヘッドをならべて位置合わせ
をする程度で十分に対処ができた。ところが、磁気ディ
スク装置のトラック幅は１０μｍ程度以下であるので記
録ヘッドのトラックと再生ヘッドのトラックの位置ずれ
が非常に大きな問題となる０本発明は線記録密度だけで
なく、トラック密度を高めることを目′的としている。
異なるため、同一のヘッドで記録と再生を行なおうとす
ると、線記録密度を高くできないという問題があった０
本発明の目的は記録と再生とを各々最適化し、線記録密
度を高めることにある。記録と再生とを分離する方式は
、オーディオ用テープレコーダや計算機用磁気テープ装
置ｆ（いわゆるＭＴ装置）で実用化されているが、これ
はトラック幅が３００μｍ程度以上とトラック密度が大
きい領域である。したがって記録トラックと再生トラッ
クが多少ずれていても問題を生じないので、記録ヘッド
と再生ヘッドを独立に作って接着剤ではりあわせたり、
記録媒体走行方向に２つのヘッドをならべて位置合わせ
をする程度で十分に対処ができた。ところが、磁気ディ
スク装置のトラック幅は１０μｍ程度以下であるので記
録ヘッドのトラックと再生ヘッドのトラックの位置ずれ
が非常に大きな問題となる０本発明は線記録密度だけで
なく、トラック密度を高めることを目′的としている。
特開昭５５−８４０１９に示されるように通常の自己記
録再生薄膜ヘッドは微小な磁化信号を高い分解能で記録
再生するため磁気空隙長は磁化信号の波長と同程度以下
、すなわち約１μｍ程度以下とする必要がある。ヘッド
主要部断面構造を模式的に第２図に示す。しかし後部コ
ア部分では上下両磁極間で磁束がもれないように５μｍ
程度以上の間隔をとる必要がある。したがって、磁極後
部コアに対し記録媒体対抗面となる磁極先端はしぼられ
た構造となり、このしぼられた部分の長さ、いわゆる磁
気空隙深さが、ヘッドの記録再生効率を大きく左右する
ことになるので、これを制御することが重要な課題であ
った。
録再生薄膜ヘッドは微小な磁化信号を高い分解能で記録
再生するため磁気空隙長は磁化信号の波長と同程度以下
、すなわち約１μｍ程度以下とする必要がある。ヘッド
主要部断面構造を模式的に第２図に示す。しかし後部コ
ア部分では上下両磁極間で磁束がもれないように５μｍ
程度以上の間隔をとる必要がある。したがって、磁極後
部コアに対し記録媒体対抗面となる磁極先端はしぼられ
た構造となり、このしぼられた部分の長さ、いわゆる磁
気空隙深さが、ヘッドの記録再生効率を大きく左右する
ことになるので、これを制御することが重要な課題であ
った。
ところで、再生ヘッドと記録ヘッドとを同様な構造とし
て重ね合せ、その磁気空隙深さを同時に制御することは
非常に困難である。しぼりこむ部分の位置は絶縁層のテ
ーバエツチングによって決定されるが絶縁層の膜厚が非
常に大きいために位置精度が出ない、したがって記録ヘ
ッドと再生ヘッドの磁気空隙深さを同じにすることは大
量にヘッドを生産する場合、事実上不可能である。した
がって磁気空隙深さによって効率が大きく左右されない
ヘッド構造を考案する必要がある。
て重ね合せ、その磁気空隙深さを同時に制御することは
非常に困難である。しぼりこむ部分の位置は絶縁層のテ
ーバエツチングによって決定されるが絶縁層の膜厚が非
常に大きいために位置精度が出ない、したがって記録ヘ
ッドと再生ヘッドの磁気空隙深さを同じにすることは大
量にヘッドを生産する場合、事実上不可能である。した
がって磁気空隙深さによって効率が大きく左右されない
ヘッド構造を考案する必要がある。
上記目的は、再生ヘッドと記録ヘッドを一体化して作製
し、各々のヘッド構造を最適化するこよにより達成され
る。このとき、とくに工業的にヘッドを生産する場合問
題となるのは、記録ヘッドと再生ヘッドの磁気空隙深さ
を最適に制御することである。
し、各々のヘッド構造を最適化するこよにより達成され
る。このとき、とくに工業的にヘッドを生産する場合問
題となるのは、記録ヘッドと再生ヘッドの磁気空隙深さ
を最適に制御することである。
本発明においては、記録ヘッドを磁極先端を極端にしぼ
らない、すなわち磁気空隙深さの影響がない構造とし、
問題を解決した。
らない、すなわち磁気空隙深さの影響がない構造とし、
問題を解決した。
再生ヘッドは従来の自己記録再生ヘッドと同様に磁極先
端をしぼった誘導型ヘッドとするか、磁気抵抗効果型ヘ
ッドとし、記録ヘッドは磁極先端を極端にしぼらない形
の誘導型ヘッドとし、一体化構造とする。これによって
線記録密度、トラック密度の向上が可能であり、工業的
に量産可能な薄膜ヘッドが可能になる。
端をしぼった誘導型ヘッドとするか、磁気抵抗効果型ヘ
ッドとし、記録ヘッドは磁極先端を極端にしぼらない形
の誘導型ヘッドとし、一体化構造とする。これによって
線記録密度、トラック密度の向上が可能であり、工業的
に量産可能な薄膜ヘッドが可能になる。
以下１本発明の一実施例を第１図により説明する。第１
図は主要部の断面を示す、３１φ×４ＩＩＩｌｔのＺｒ
０ｚ焼結体に約５０ｐｍのＡｊｌｚＯａ膜をスパッタ後
、研削して平坦として素子形成用基板１とした。この基
板上に、記録を行なうための下部磁極２として厚み約１
μｍのＮｉ−１９ｖｔ％Ｆｅ合金をスパッタ法により形
成した。トラック幅は１２μｍとした。さらにスパッタ
法により形成した厚み約３μｍのＡＱｘＯｓ絶縁層３を
介して。
図は主要部の断面を示す、３１φ×４ＩＩＩｌｔのＺｒ
０ｚ焼結体に約５０ｐｍのＡｊｌｚＯａ膜をスパッタ後
、研削して平坦として素子形成用基板１とした。この基
板上に、記録を行なうための下部磁極２として厚み約１
μｍのＮｉ−１９ｖｔ％Ｆｅ合金をスパッタ法により形
成した。トラック幅は１２μｍとした。さらにスパッタ
法により形成した厚み約３μｍのＡＱｘＯｓ絶縁層３を
介して。
記録電流を流し磁界を発生させるためのコイル４を形成
した０本実施例においてはコイルはＣｕで形成し１ター
ンとした。さらに約３μｍのＡ Ｑ ｚＯｓ絶縁層３′
を堆積し、この上部に記録用上部磁極５として厚み約１
μｍのＮｉ−１９ｗｔ％Ｆｅ合金層をスパッタ法により
形成した。この結果、上部磁極と下部磁極の間隔は、記
録媒体対抗面で約６μｍ、後部コア部で約８μｍとなっ
た。一般に、記録媒体対抗面における磁極間間隔は約３
μｍから２０μｍ望ましくは５μｍから１０μｍが適当
である。もし間隔が２０μｍよりも大きくなると記録効
率が極端に低下し、また記録信号の分解能も低下してし
まう０間隔が３μｍよりも小さいと両磁極間隔がしぼら
れる効果が大きくなり望ましくない１本実施例に示され
るように上下両磁極間の間隔をある程度以上広くして、
極端にしぼらなければ、記録効率、記録分解能は磁極間
間隔に対して鈍感である。また後部コア部分の長さＬは
約５０μｍとしたが、これは小さい方が望ましく１０μ
ｍ〜１００μｍさらに望ましくは１０μｍ〜５０μｍと
することが適当である。
した０本実施例においてはコイルはＣｕで形成し１ター
ンとした。さらに約３μｍのＡ Ｑ ｚＯｓ絶縁層３′
を堆積し、この上部に記録用上部磁極５として厚み約１
μｍのＮｉ−１９ｗｔ％Ｆｅ合金層をスパッタ法により
形成した。この結果、上部磁極と下部磁極の間隔は、記
録媒体対抗面で約６μｍ、後部コア部で約８μｍとなっ
た。一般に、記録媒体対抗面における磁極間間隔は約３
μｍから２０μｍ望ましくは５μｍから１０μｍが適当
である。もし間隔が２０μｍよりも大きくなると記録効
率が極端に低下し、また記録信号の分解能も低下してし
まう０間隔が３μｍよりも小さいと両磁極間隔がしぼら
れる効果が大きくなり望ましくない１本実施例に示され
るように上下両磁極間の間隔をある程度以上広くして、
極端にしぼらなければ、記録効率、記録分解能は磁極間
間隔に対して鈍感である。また後部コア部分の長さＬは
約５０μｍとしたが、これは小さい方が望ましく１０μ
ｍ〜１００μｍさらに望ましくは１０μｍ〜５０μｍと
することが適当である。
本実施例においては上述したように形成された記録用ヘ
ッドの上に、約０．２μｍの厚みでＡ（ｌｚｏｓ絶縁層
６を形成し、この上に再生ヘッド用として磁気抵抗効果
素子７を形成した１本実施例ではシャントバイアス方式
を採用し、厚み０．１３μｍのＴｉ膜膜上上厚み４５０
ＡのＮｉ−１９ｗｔ％Ｆｅ合金属を形成した。さらに約
０．２μｍの厚みでＡ Ｑ ｚ○３絶縁Ｍ！Ｊｂ’ を
形成し、シールド膜として厚み１μｍのＮｉ−１９ｗｔ
％Ｆｅ合金９をスパッタした。以上のように基板上に形
成された素子は、最終的には基板を切断し研削、研磨等
によって記録媒体対抗面が出るように機械加工される。
ッドの上に、約０．２μｍの厚みでＡ（ｌｚｏｓ絶縁層
６を形成し、この上に再生ヘッド用として磁気抵抗効果
素子７を形成した１本実施例ではシャントバイアス方式
を採用し、厚み０．１３μｍのＴｉ膜膜上上厚み４５０
ＡのＮｉ−１９ｗｔ％Ｆｅ合金属を形成した。さらに約
０．２μｍの厚みでＡ Ｑ ｚ○３絶縁Ｍ！Ｊｂ’ を
形成し、シールド膜として厚み１μｍのＮｉ−１９ｗｔ
％Ｆｅ合金９をスパッタした。以上のように基板上に形
成された素子は、最終的には基板を切断し研削、研磨等
によって記録媒体対抗面が出るように機械加工される。
磁気抵抗素子の特性や寿命は素子高さＨによって大きく
左右されるので、加工時にこれを制御する必要がある。
左右されるので、加工時にこれを制御する必要がある。
一方記録ヘッドの特性は素子高さには鈍感であるので、
磁気抵抗効果型再生ヘッド部のみに着目して加工を行な
えばよい。
磁気抵抗効果型再生ヘッド部のみに着目して加工を行な
えばよい。
本実施例のヘッドを用い、ＣｏＮｉＺｒスパッタ媒体（
保磁力Ｈｃ ＝ ８０００ ｅ 、厚みｔｍ＝０．０６
μｍ）に記録再生を行なった。浮−ヒ高さｈｇ＝０．３
μｍ として測定を行なったが、再生分解能は２８ｋＰ
ＣＩで約５０％、記録能力を表す○ＷＳ／Ｎは約３２ｄ
Ｂであった。一方、従来のヘッドでは再生分解能は２８
ｋＰＣＩで２０％と低く、ＯＷＳ／Ｎも２２ｄＢと悪く
、本発明の効果が明らかになった。なお従来のヘッドの
断面は第２図に示すようなもので、下部ｍＩｆ！１．０
の先端厚みは、１．０μｍ上部磁極１１の先端厚みは、
１．５μｍ磁気空隙長ｇｅは０．３μｍ磁気空隙深さは
ａｄは１．５μｍである。
保磁力Ｈｃ ＝ ８０００ ｅ 、厚みｔｍ＝０．０６
μｍ）に記録再生を行なった。浮−ヒ高さｈｇ＝０．３
μｍ として測定を行なったが、再生分解能は２８ｋＰ
ＣＩで約５０％、記録能力を表す○ＷＳ／Ｎは約３２ｄ
Ｂであった。一方、従来のヘッドでは再生分解能は２８
ｋＰＣＩで２０％と低く、ＯＷＳ／Ｎも２２ｄＢと悪く
、本発明の効果が明らかになった。なお従来のヘッドの
断面は第２図に示すようなもので、下部ｍＩｆ！１．０
の先端厚みは、１．０μｍ上部磁極１１の先端厚みは、
１．５μｍ磁気空隙長ｇｅは０．３μｍ磁気空隙深さは
ａｄは１．５μｍである。
本実施例において再生用ヘッドとして磁気抵抗効果型ヘ
ッドを用いた。この型のヘッドとしてはシャントバイア
ス方式、永久磁石バイアス方式。
ッドを用いた。この型のヘッドとしてはシャントバイア
ス方式、永久磁石バイアス方式。
ソフトバイアス方式、バーバポール方式など数多くの方
式が知られており、いずれを用いることも可能である。
式が知られており、いずれを用いることも可能である。
また、磁極先端をしぼった誘導型ヘッドを再生に用いる
こともできる。
こともできる。
本実施例においては、記録用ヘッドの上に再生用ヘッド
を作製したが、これは逆であっても良く、その他従来公
知の技術を応用できることはいうまでもない。
を作製したが、これは逆であっても良く、その他従来公
知の技術を応用できることはいうまでもない。
本発明によれば、記録と再生とを各々独立に最適化でき
る上に、製造上の困難もないので、トラック密度、ａ記
録密度を高くすることができる。
る上に、製造上の困難もないので、トラック密度、ａ記
録密度を高くすることができる。
第１図は本発明の一実施例の薄膜ヘッド主要部を示す断
面図、第２図は従来のヘッド主要部を示す断面図である
。
面図、第２図は従来のヘッド主要部を示す断面図である
。
Claims (1)
- １、記録を行なう誘導型ヘッドと、再生を行なう誘導型
または磁気抵抗効果型ヘッドとを一体に複合化してなる
磁気ディスク装置用薄膜ヘッドにおいて、記録用誘導型
ヘッドの上下磁極間距離は、記録媒体対抗面近傍の先端
部分と後部磁気コア部分とにおいて大きな差はなく、磁
気空隙深さの規制は再生ヘッドによつて行なわれること
を特徴とした複合型薄膜ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27740687A JPH01119910A (ja) | 1987-11-04 | 1987-11-04 | 複合型薄膜ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27740687A JPH01119910A (ja) | 1987-11-04 | 1987-11-04 | 複合型薄膜ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01119910A true JPH01119910A (ja) | 1989-05-12 |
Family
ID=17583100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27740687A Pending JPH01119910A (ja) | 1987-11-04 | 1987-11-04 | 複合型薄膜ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01119910A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5940237A (en) * | 1994-07-29 | 1999-08-17 | Fujitsu Limited | Disk medium whose track density is changed in a radial direction and disk apparatus using the same disk medium |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60177420A (ja) * | 1984-02-23 | 1985-09-11 | Nec Corp | 複合型薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 |
-
1987
- 1987-11-04 JP JP27740687A patent/JPH01119910A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60177420A (ja) * | 1984-02-23 | 1985-09-11 | Nec Corp | 複合型薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5940237A (en) * | 1994-07-29 | 1999-08-17 | Fujitsu Limited | Disk medium whose track density is changed in a radial direction and disk apparatus using the same disk medium |
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