JPH01125439U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01125439U JPH01125439U JP2013588U JP2013588U JPH01125439U JP H01125439 U JPH01125439 U JP H01125439U JP 2013588 U JP2013588 U JP 2013588U JP 2013588 U JP2013588 U JP 2013588U JP H01125439 U JPH01125439 U JP H01125439U
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- JP
- Japan
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- film
- photomask
- chromium
- light
- thickness
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- Pending
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
第１図はこの考案によるフオトマスクの一実施
例を示す断面図、第２図は従来のフオトマスクを
示す断面図である。 図において、１……フオトマスク基板、１２…
…遮光膜。なお、図中、同一符号は同一、又は相
当部分を示す。
例を示す断面図、第２図は従来のフオトマスクを
示す断面図である。 図において、１……フオトマスク基板、１２…
…遮光膜。なお、図中、同一符号は同一、又は相
当部分を示す。
Claims (1)
- ガラス基板上に、クロム膜、酸化クロム膜等の
遮光膜を形成するフオトマスクで、このフオトマ
スク上の各部分で膜厚が順次変化させたことを特
徴とするフオトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013588U JPH01125439U (ja) | 1988-02-17 | 1988-02-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013588U JPH01125439U (ja) | 1988-02-17 | 1988-02-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01125439U true JPH01125439U (ja) | 1989-08-28 |
Family
ID=31236248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013588U Pending JPH01125439U (ja) | 1988-02-17 | 1988-02-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01125439U (ja) |
-
1988
- 1988-02-17 JP JP2013588U patent/JPH01125439U/ja active Pending