JPH01126362A - 画像形成用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

画像形成用エポキシ樹脂組成物

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JPH01126362A
JPH01126362A JP28445987A JP28445987A JPH01126362A JP H01126362 A JPH01126362 A JP H01126362A JP 28445987 A JP28445987 A JP 28445987A JP 28445987 A JP28445987 A JP 28445987A JP H01126362 A JPH01126362 A JP H01126362A
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JP
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epoxy resin
component
resin composition
image
epoxy resins
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JP28445987A
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English (en)
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Eiji Takahashi
栄治 高橋
Takao Morikawa
森川 隆男
Hideo Tsuda
津田 秀雄
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Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0384Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the main chain of the photopolymer

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光カチオン重合系の画像形成用エポキシ樹脂組
成物に係り、さらに詳しくは、常温で固形の多官能性グ
リシジルエーテル型エポキシ樹脂を主硬化樹脂成分とす
る樹脂組成物およびこの樹脂組成物を用いる画像形成方
法に関する。
本発明の画像形成用エポキシ樹脂組成物は、工ソルダー
レジストのような薄膜の一時しシストとしてだけでなく
、比較的厚膜でかつ機械特性や電気特性さらには耐熱特
性などが要求されるプリント配線板用のソルダーレジス
ト、化学めっきレジストなどの永久レジストや刷板材な
どとして好適である。
〔従来の技術〕
プリント配線板用あるいは刷版材用の画像形成用フォト
レジストとしては、従来、桂皮酸系、環化ゴム系、ポリ
エン−ポリチオール系やアクリル重合系などが実用化さ
れている。
光カチオン重合開始剤およびこれらの光カチオン重合開
始剤の存在下にエポキシ樹脂が光カチオン重合によって
硬化可能なことが、特公昭52−014277号公報、
特公昭52−014278号公報、特公昭52−014
279号公報、特公昭53−032831号公報、特開
昭53−025686号公報、特開昭59−14700
1号公報、特開昭50−158680号公報など開示さ
れ、これらの一部実施例においてエポキシ樹脂に光カチ
オン重合開始剤を配合した組成物の被膜に紫外線を照射
した後、必要に応じて加熱処理を施し、メタノール、イ
ソプロパツール、アセトン、クロロホルム等の溶剤を用
いて現像する画像形成方法が記載されている。また、エ
ポキシ樹脂−光カチオン重合開始剤系に、高分子バイン
ダー樹脂や増悪剤を配合することで露光−現像プロセス
の感度(以後。
現像感度と言う)を向上させた画像形成用を意図した樹
脂組成物が、特公昭59−042688号公報、特公昭
60−035390号公報、特公昭61−2081号公
報、特開昭59−184220号公報などに開示されて
いる。
さらに、主としてプリント配線板用の無電解めっき用フ
ォトレジストとして、エポキシ官能性樹脂(al成分に
山)成分としての希釈剤を配合することを必須とするエ
ポキシ官能性の光硬化性組成物が特開昭62−1022
42号公報に開示され、好ましい実施態様としてシクロ
ヘキセンオキシ型脂環式エポキシ化合物を希釈剤成分(
blとして用いることが記載されてる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
前記引用した特公昭52−014277号公報等の記載
は、エポキシ樹脂の光重合による画像形成が可能である
ことを開示するが、エポキシ樹脂と光カチオン重合用開
始剤の単純な組み合わせでは十分な現像感度が得られず
、また、これらの公報に例示された画像形成方法におい
て使用される現像用溶剤は、その可燃性あるいは毒性の
ため工業的には採用し%’Mい、現像溶剤として、通常
、難燃性の1゜1、1− )リククロエタン系溶剤が好
んで使用されるが、前記引例の記載に基づいて商業的に
利用可能な光カチオン重合開始剤を配合したエポキシ樹
脂組成物の現像溶剤として、1,1.1− )リククロ
エタンを使用し、これらの樹脂組成物の30〜50pm
厚さの被膜の現像感度を評価したところ、紫外線露光の
みではほとんど満足できる現像感度を得ることができな
かった。光カチオン重合系エポキシ樹脂組成物は、紫外
線露光後、加熱処理により、硬化反応が促進することが
よく知られており、露光後加熱処理を行う画像形成方法
が前記の引用公報中にも開示されている。この方法によ
り確かに現像感度は向上するが、エポキシ樹脂および配
合する光カチオン重合開始剤の種類によっては、160
℃で20分の加熱によっても良好な感度を得ることがで
きない。特に、光カチオン重合開始剤の種類によっては
、160℃の加熱処理を行っても全く現像できないもの
もある。したがって、前記の公報に開示されている樹脂
組成物では、−殻内に満足な画像を得ることはできず、
また、工業的に採用することは困難である。特に、比較
的厚膜で利用され、かつエポキシ樹脂のもつ有用な硬化
物特性を活かし得るプリント配線板用のソルダーレジス
ト、化学めっきレジストなどの永久レジストあるいは刷
板材などの分野では、要求される硬化物特性を満足し、
実用的な現像感度を有する感光性のエポキシ樹脂組成物
を得ることは、極めて難しい。
特公昭59−042688号公報等に開示された画像形
成用の樹脂組成物は、前記エポキシ樹脂と光カチオン重
合用叩始剤の単純な組み合わせからなる樹脂組成物の欠
点である現像感度の向上を意図したものであるが、これ
らの増悪剤等の添加配合は、エポキシ樹脂硬化物本来の
特性、たとえば、機械的特性、耐熱性、耐湿性、電気特
性等を低下させることもあり、添加剤の種類、配合量等
は十分検討しなければ決定できない。
特開昭62−102242号公報に開示された光硬化性
樹脂組成物は、プリント配線板用の永久レジストとして
有用な約0.0015インチ(38μm)以上の厚膜形
成が可能で、かつ塩素化炭化水素系溶剤で現像すること
ができる。この樹脂組成物は、前記したように山)成分
の好ましい希釈剤として、シクロヘキセンオキシ型脂環
式エポキシ化合物を使用しているが、たとえば、この公
報に例示された3、4−エポキシシクロヘキシル3.4
−エポキシシクロヘキシル・カルボキシレートのような
エステル結合を有するシクロヘキセンオキシ型脂環式エ
ポキシ化合物を無電解めっき用レジストの山)成分とし
て用いた場合には、めっき液中でエステル結合が加水分
解を受けめっき液を汚染する怖れがあり、その使用量、
硬化条件などを厳密に選択管理することが要求される。
したがって、無電解めっき用レジストへのこれらエステ
ル化合物の使用は、−船釣には好ましくない、また、未
露光塗膜のタックフリー性を得たい場合には、液状樹脂
の使用は好ましくない。
本発明は、未露光塗膜が本質的にタンクフリー性であり
、難燃性の溶媒で良好な現像感度を示し、かつ、永久レ
ジストや刷板材としても使用し得る機械特性、耐熱特性
を発現し得る画像形成用エポキシ樹脂組成物およびこの
組成物を使用する画像形成法を提供することを目的とす
る。
〔問題を解決するための手段〕
本発明者等は、前記目的を達成すべく鋭意研究した結果
、常温固形の多官能性グリシジルエーテル型エポキシ樹
脂と特定の光カチオン重合開始剤とを組み合わせたエポ
キシ樹脂組成物が、画像形成用として優れた緒特性を有
することを見出し、。
本発明を完成した。
本発明は、成分(A):分子内にエステル結合j社日ま
たはアミノ基を有しない、軟化点が11.、、。
樹脂 成分(B):光感知性芳香族スルホニウム・アンチモン
酸塩 および 成分(C):希釈溶剤 を合作することを特徴とする画像形成用エポキシ樹脂組
成物である。
本発明において、成分(A)は、分子内にエステ000
であり、常温固形、すなわち軟化点が30〜110℃、
好ましくは40〜110℃の、かつ1分子中に2個以上
、グリシジルエーテル基を有する多官能性グリシジルエ
ーテル型エポキシ樹脂であればよい、成分(A)として
、たとえば、前記条件を満足する芳香族エポキシ樹脂、
水素添加ビスフェノール型エポキシ樹脂、臭素化エポキ
シ樹脂などが使用でき、好ましくは、ビスフェノール型
エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノール型エポキシ樹脂
、ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂より
なる群から選ばれた1種または2種以上を使用する。特
に、現像感度の点から、分子量が900〜1,000程
度のビスフェノールA型エポキシ樹脂、水素添加ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂が好ましく、中でも水素添加
ビスフェノールA型エポキシ樹脂が、さらに好ましい。
成分(A)として、以下の市販エポキシ樹脂が好適に使
用できる。
(δ) ビスフェノールA型エポキシ樹脂油化シェルエ
・ボキシ■  商品名:エピコート1001、同100
4 東部化成■  商品名:エボ)−)YD−011、同0
14 三井石油化学■  商品名:エポミックR−301、同
304 日本チバガイギー■  商品名:アラルダイト6071
、同6084 旭電化工業■  商品名ニアデカレジンEP−5100
、同5400 伽) ビスフェノールF型エポキシ樹脂東部化成■  
商品名:エボトートYDF−2001,同2004 (C1水素添加ビスフェノールA型エポキシ樹脂束都化
成側  商品名:サン)−ト5T−5080、同510
0 +dl  O−タレゾールノボランク型エポキシ樹脂東
部化成側  商品名:エポ)−)YDCN−701、同
702.同703.同704日本化薬oi   商品名
: EOCN−102,同103、同104 日本チバガイギーー  商品名:アラルダイトECN1
235.同1273.同1280.同1+a)  臭素
化エポキシ樹脂 油化シェルエポキシ■  商品名=エピコート1045
−A−70,同1045−B−80,同1046−A−
70,同1046−B−80,同DX−248−B−8
0,同1050.同1050−T−60 東部化成■  商品名:ノボ)−トYDB−340、同
400.同500.同600.同700゜同715 日本化薬■  商品名:BREN 旭電化工業■  商品名ニアデカレジンEP−61、同
62.同65.同66 また、ここには例示されていないが、旭化成■、住友化
学工業側、大日本インキ化学工業■、ダウケミカル社な
どその他のエポキシ樹脂メーカーの相当品も使用できる
。また、ビスフェノールS型エポキシ樹脂などのその他
の芳香族系のグリシジルエーテル型のエポキシ樹脂も使
用できる。
成分(B) は、光を恩知してグリシジルエーテル基の
開環に必要なカチオンを生成する光怒知性芳香族スルホ
ニウムアンチモン酸塩であればよく、特公昭52−01
42782号公報、特開昭54−151936号公報等
に開示された化合物が使用できる。現在、日本国内で市
販されているユニオン・カーバイド社の商品名UVl−
6974、旭電化工業曲の5P−70,5P−170が
使用でき、特にUVl−6974の使用が好ましい。
成分(8) の配合量には特に制限はないが、通常、樹
脂成分100重量部に対して1〜10重量部(光カチオ
ン重合開始剤成分50%溶液として)の割合で使用され
る。
成分(C)は、前記の成分(A)および所望により添加
配合された各種樹脂成分を溶解し、成分(B)の芳香族
スル、ホニウム塩や必要に応じて使用される染料や顔料
その他の添加剤成分を溶解あるいは均一に分散するため
の希釈溶剤であり、塗布・乾燥性の良いものが使用され
る。これらの希釈溶剤として、たとえば、塩化メチレン
、トリクロロエチレン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、酢酸ブチル、セロンプアセテート、ジ
オキサン、ジグライム、テトラヒロフランなどが挙げら
れ、単独あるいは混合して使用される。
本発明の画像形成用エポキシ樹脂組成物には、前記成分
(A)以外の樹脂成分を、種々の物性を改善するために
配合してもよい、たとえば、単官能性あるいは液状の多
官能性のエポキシ樹脂やビニルエーテル化合物を、光重
合性や硬化物の物性を調整するために、乾燥被膜のタン
クフリー性が失われない範囲で配合することができる。
また、エポキシ樹脂以外のカチオン重合性を有する化合
物、たとえば、スチレシ、α−メチルスチレン、フリジ
エンなどの不飽和化合物、アルコキシオキセタン、デト
ラヒド口フラン、オキセパン、酸素含有スピロ化合物、
トリオキサン、ジオキソランなどの環状エーテル化合物
、β−ラクトンなどの環状エステル、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ポリカプロラクト
ンジオール。
ポリブタジェングリコールなどのオリゴマージオールあ
るいはトリオール類などのエポキシカチオン種と反応性
のある低分子量のグリコール、トリオール類などが、硬
化物の物性や作業性を改善するために使用できる。また
、(メタ)アクリル基やアリル基などを有するラジカル
重合性の化合物も場合によっては併用することができる
これらの成分(A)以外の反応性の化合物を使用する場
合には、現像感度や保存安定性に影響を与えるのでその
和合作用を十分見極めてから使用することが必要であり
、それらの配合量は、特に制限するものでないが、全樹
脂分中20wt%以下とすることが望ましい。
また、前記添加樹脂として、液状の樹脂成分を配合する
場合には、乾燥被膜のタックフリー性が失われ易い、乾
燥被膜のタックフリー性を保持し、その他樹脂組成物の
被膜形成性や硬化物の物性の改良の目的に高分子量のバ
インダー樹脂を使用してもよい、バインダー樹脂は成分
(A)および配合されたその他の化合物との相溶性や現
像性を考慮して使用する。
また、前記樹脂成分以外に無機充填剤、染料、顔料、増
量剤、粘度調整剤などを、作業性や塗膜物性を改良する
ために配合してもよい、これらの添加剤は、現像感度を
低下させない範囲で使用することができる。
本発明において、前記画像形成用エポキシ樹脂組成物を
、基板に塗布、乾燥して被膜を形成し、画像マスクを通
して紫外線露光した後、50〜160℃の温度で加熱処
理し、ついで溶剤を用いて現像することにより、ネガ画
像を基板上に形成することができる。
画像形成用エポキシ樹脂組成物の被膜は、一般によく知
られた塗布装置、たとえば、ロールコータ−、カーテン
フローコーター、スピンコーター。
バーコーターなどを用いて樹脂組成物を基板上に塗布し
、乾燥することにより形成することができる。また、組
成物をインキ状に調製し、スクリーン印刷により形成し
てもよい。
形成された被膜の露光は、画像マスク(ネガマスク)を
通して紫外線を照射することにより行うことができ、通
常、画像マスクの密着露光が採用される。紫外線照射用
光源として成分(11)の光カチオン重合開始剤を活性
化し得る200〜500nmの波長域をもつものが選ば
れる。その光源として、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カ
ーボンアーク灯等が使用される。
露光後の加熱処理は、潜像部の重合を促進するための処
理であり、ネガマスクを取り除いた紫外線露光後の基板
を、通常、50〜160℃、好ましくは70〜130℃
の温度下に、5〜30分間、好ましくは10〜20分間
加熱保持して行う。
加熱処理後の基板の現像は、通常の現像方法、たとえば
、現像液を基板に噴霧する方法などにより行うことがで
きる。現像溶剤としては、前記した希釈溶剤の何れをも
使用でき、好ましくはjI燃性である塩素化炭化水素系
溶剤、さらに好ましくは低毒性である1、1.1− )
リククロエタンの単独あるいは1.1.1−1−リクク
ロエタンに他の有機溶剤を配合した混合溶剤を使用する
現像後、洗浄および乾燥を行うことにより、目的とする
画像膜を形成した基板が得られる。洗浄後の乾燥は、5
0〜80℃の温度に10〜30分間保持する単純な乾燥
で十分であるが、この画像を永久レジストとして使用す
る場合、硬化物性を改良する場合等には、乾燥に代えて
後加熱、後露光またはそれらを併用するなどの後硬化処
理を行うことが好ましい。
(作   用〕 本発明の画像形成用エポキシ樹脂組成物は、前記したよ
うに、成分(A)  として、分子内にエステル結合、
曇またはアミノ基を有しない、軟イδ)・冒 点が110℃以下で、かつ、常温固形の多官能性−1グ
リシジルエーテル型エポキシ樹脂、および、成分(B)
として、芳香族スルホニウム・アンチモン酸塩を含有す
ることを特徴とする。
本発明において、成分(A)のエポキシ樹脂として、常
温固形のエポキシ樹脂を選択したことにより、未硬化被
膜のタックフリー性が得られ、その結果、画像マスクの
密着露光が可能となり、露光解像度が著しく向上する。
また、軟化点を110℃以下の多官能性エポキシ樹脂を
選択したことにより、未露光部分の現像溶剤への溶解性
が優れ、現像解像性が向上するばかりでなく、架橋度の
高い、永久レジストとしても使用可能な優れた硬化物特
性を有する硬化被膜が得られる。
また、分子内にエステル結合を有しないエポキシ樹脂を
選択したことにより、酸およびアルカリ性水溶液による
加水分解が防止できる。特に、化学めっき用レジストと
して使用する場合、樹脂成分の加水分解によるめっき液
の汚染が抑制される。
さらに、分子内アミノ基を有するエポキシ樹脂は、光カ
チオン重合開始剤と反応し失活させるので、本発明の目
的には使用することができない。
一方、常温で液状のエポキシ樹脂の使用は、未露光塗膜
のタックフリー性が得られ難いため密着露光が困難であ
り、露光解像度が低下するので、硬化被膜の物性改善を
目的とする添加樹脂の範囲を越える使用は好ましくない
、軟化点が110℃を越えるエポキシ樹脂は、分子量が
過大となるため、現像溶剤に対する溶解性が低く、また
、ビスフェノール系では官能性が低いため、現像感度が
低下する。したがって、添加樹脂の範囲を越える使用は
好ましくない。
脂肪族系やシクロヘキセンオキシ型脂環式などのエポキ
シ樹脂は、その多くは分子内にエステル結合を有するか
、または液状品であり、固形のものは一般に官能性に乏
しく、永久レジストのような厳しい環境で使用されるも
のとしては、硬化物物性が十分ではない、したがって、
これらのエポキシ樹脂は一部本発明にかかわるエポキシ
樹脂に配合しての使用は可能であるが、本発明の主要成
分として使用するのは好ましくない。
以上の点から、本発明においては、成分(A)のエポキ
シ樹脂として、軟化点が110℃以下で、かつ、常温固
体の多官能性グリシジルエーテル型エポキシ樹脂が好ま
しく使用され、現像感度、解像度、および硬化物特性の
点から、ビスフェノール型エポキシ樹脂、水素添加ビス
フェノール型エポキシ樹脂、ノボランク型エポキシ樹脂
、臭素化エポキシ樹脂およびそれらの混合物が、さらに
好ましく使用される。
成分(B)の光カチオン重合開始剤として、ユニオンカ
ーバイド社:商品名UVl−6950,旭電化工業■:
5P−55,5P−150等の芳香族スルホニウム・燐
酸塩系のものが市販されている。また、その種類が明確
でないが、住人スリーエム−から光カチオン重合開始剤
FX−512が市販されている。これらのものは、水素
添加ビスフェノールA型エポキシ樹脂に添加して評価し
た結果、鮮明な現像画像を得ることができず、本発明の
目的のためには使用できない。
また、光カチオン重合開始剤として、ジアゾニウム塩系
のものも知られているが、このものは光照射時に窒素ガ
スを発生するため、本発明の目的とする比較的厚膜の永
久レジスト用の光カチオン重合開始剤とには不適当であ
る。
〔実 施 例〕
本発明を実施例および比較例により、さらに詳細に説明
する。ただし、本発明の範囲は下記実施例にうより何ら
限定されるものではない。
なお、以下の例中において、「部」および「%」は、断
りのない限り重!基準である。
+11  画像形成用エポキシ樹脂組成物の調製成分(
A)  として第1表に記載のエポキシ樹脂、成分(B
) として下記光カチオン重合開始剤および成分(C)
としてジオキサン(D OX)またはメチルイソブチル
ケトン(MTBK)を配合し、さらに添加成分として、
顔料(チバガイギー社商品名・マイクロリスブルー4O
−T)または塩化ビニル系共重合体(積木化学工業■商
品名・エレソクスA)を必要に応じて配合して良く混合
し、画像形成用エポキシ樹脂:試料A−1−A−17お
よび比較試料C−1〜C−9を調製した。
調製した各試料および比較試料の配合を、第2表に示す
〔光カチオン重合開始剤〕
番  号 :FT−1 芳香族スルホニウム・ヘキサフルオロアンチモネート系
 (ユニオンカーバイド社商品名: UVl−6974
)番  号 :FT−2 芳香族スルホニウム・ヘキサフルオロアンチモネート系
(旭電化工業側商品名: 5P−70)番  号 :F
T−3 芳香族スルホニウム・ヘキサフルオロアンチモネート系
(旭電化工業■商品名: 5P−170)番  号 =
FT−4 芳香族スルホニウム・ヘキサフルオロフォスフェート系
(ユニオンカーバイド社商品名、 LIVI−6950
)番  号 :FT−5 芳香族スルホニウム・ヘキサフルオロフォスフェート系
(旭電化工業■商品名: 5P−55)番  号 +F
T−6 芳香族スルホニウム・ヘキサフルオロフォスフェート系
(旭電化工業■商品名: 5P−150)番  号 :
FT−1 形式不明(住人スリーエム■商品名: FX−512)
(2)  解像度および現像感度 前記調製した画像形成用エポキシ引脂組成物:A−1〜
A−4、A−9、A−11〜A−17および比較用エポ
キシ樹脂組成物:C−5〜C−7のそれぞれを、砂目た
てアルミニウム板上にスピンコーターを用いて塗布、乾
燥し、乾燥被膜を形成した。
形成した乾燥被膜上に、解像度測定用ネガマスクおよび
21段グレースケール・ステップタブレット No、2
  (イーストマンコダック社製)を密着させて乗せ、
3kw超高圧水銀灯(オーク製作断裂)を用いて露光を
行った後、加熱処理を行った。
放冷後、20℃の1.1.1−トリクロロエタンまたは
変性トリクロロエタン〔旭化成工業■商品名:エターナ
−IR)を用い、スプレー圧1.2Kg/−で1分間現
像し画像を形成した。
使用した画像形成用エポキシ樹脂組成物の種類、乾燥被
膜厚さ、露光条件、加熱処理条件、現像溶剤の種類およ
び形成した画像の解像度およびステップタブレットの残
膜段数を第3表に示す。
第3表の比較例に示したように、極端に高い軟化点(融
点)を存するエポキシ樹脂を硬化成分とする比較試料二
〇−5や、常温固形のシクロヘキセンオキシ型脂環式エ
ポキシ樹脂を硬化成分とする比較試料二C−6の場合に
は、現像感度および解像性が共に低く、また、軟化点(
融点)の低いシクロヘキセンオキシ型脂環式エポキシ樹
脂を硬化成分とする比較試料:C−7の場合には、比較
的に優れた現像感度を示すものの、乾燥塗膜がタンク性
を有し密着露光できないため、目的とする解像性が得ら
れない。
これらの比較試料に対し、本発明の画像形成用エポキシ
樹脂組成物は、露光条件、硬化条件、現像条件等を変え
ても、いずれも優れた現像感度および解像性を示す。
(3)  光カチオン重合開始剤の種類による現像感度
前記調製した画像形成用エポキシ樹脂組成物:A−5〜
A−7および比較用エポキ樹脂組成物:のそれぞれを使
用し、前記第(2)項に準じて砂目室てアルミニウム仮
に塗布、乾燥し、膜厚約30μmの乾燥被膜を形成した
この乾燥被膜に、第(2)項で用いた21段ステ。
ブタブレットを密着して乗せ、第(2)項で用いた高圧
水銀灯を用いて露光した後、加熱処理を行い、放冷後2
0℃の1.1.1−1−リククロエタンを用いて第(2
)項に準じて現像した。
露光、加熱処理条件およびステップタブレットの残膜段
数を第4表に示す。
第4表に示したように、リン酸塩系の芳香族スルホニウ
ム化合物を光カチオン重合開始剤として用いた場合には
、露光条件および加熱条件を変えても、画像が得られな
いのに対し、本発明のアンチモン酸塩系の芳香族スルホ
ニウム化合物を光カチオン重合開始剤として使用した場
合には、露光条件、加熱条件を変えることにより、画像
が形成される。
(4)  硬化物特性 第+11項で調製した画像形成用エポキシ樹脂組成物A
−8,A−10,A−11,C−8およびC−9のそれ
ぞれを、ガラスエポキシ基板に乾燥後の膜厚が30〜3
5μmになるようにスピンナーを使用して塗布した後、
80℃の熱風中20分間乾燥し、乾燥被膜を形成した。
冷却後、3kw超高圧水銀灯を使用し、2000−J/
−の全面露光後、120℃の熱風中で30分間加熱処理
した。
得られた乾燥被膜および硬化被膜の塗膜物性を下記の方
法で評価し、その結果を第5表に示した。
(評価方法) (al  未露光被膜のタンク性 未露光被膜を指触観察し、タンク性を評価した。
山) 鉛筆硬度と密着性 JIS−に−5400に準拠し、鉛筆硬度の測定および
ゴバン目am試験を実施した。
(C1はんだ耐熱性 JIS−C−6481に準拠し、260℃のはんだ浴に
30秒間浸漬下後2ゴバン目剥離試験を実施した。
Td+  電気絶縁抵抗 JIS−C−6481に準拠し、常態および耐湿試験後
(温度40℃、湿度95%の雰囲気下に65時間保持し
た後、10分間室温に放置したもの)の電気絶縁抵抗(
Ω)を測定した。
(81耐溶剤性 煮沸トリクレン中に5分間浸漬後、ゴバン目剥i1!I
試験を実施した。
lfl  耐めっき液性 下記の組成を有する70℃の温度の化学銅めっき液(p
H12,5に調整)に20時間浸漬後、ゴバン目tA 
M試験を実施した。
硫酸w4      0.04モル EDTA       0.10モル ホルマリン     0.01モル 2.2−ジピリジル: 10  ■ シアン化カリ = 20  ■ 界面活性剤  =1.0  ■ また、20時間浸漬後のレジストの表面状態およびめっ
き液の状態を観察した。
第5表に示したように、シクロヘキセンオキシ型脂環式
エポキシ樹脂を合作する比較試料二C−8を使用した場
合、めっき液によりエステル結合が加水分解を受は耐め
っき液性が低下する。また、比較試料:C−9を用いた
場合には、接着性がほとんどなく、画像形成用として使
用することができない、これらに対し、本発明の画像形
成用エポキシ樹脂組成物を使用した場合には、極めて優
れた硬化物特性を有する画像被膜が形成される。
〔発明の効果〕
本発明の画像形成用エポキシ樹脂組成物は、前記実施例
に示したように、その乾燥被膜がタックフリーであり、
密着露光が可能であることから、30μm以上の膜厚に
おいても高い解像性を示す。
また、難燃性の溶剤を使用して現像することができる、
実用性のある現像性を有する。
さらに、その硬化被膜は、従来、光重合系で使用されて
いる(メク)アクリル変性エポキシ樹脂とは異なり、エ
ポキシ樹脂本来の優れた硬化物特性を有している。した
がって、エツチングレジストのような一時しシストとし
てだけでなく、高い機械特性、耐熱特性、電気特性など
が要求されるプリント配線板用などの永久レジストとし
て使用できる。また、刷板材用としても使用可能である
本発明は、解像性および現像感度に優れ、がっ優れた硬
化物特性を有する画像形成用エポキシ樹脂組成物を提供
するものであり、その産業的意義は、極めて大きい。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)成分(A):分子内にエステル結合たはアミノ基
    を有しない、軟化点が110℃以下で、かつ、常温固形
    の多官能性エポキシ樹脂 成分(B):光感知性芳香族スルホニウム・アンチモン
    酸塩 および 成分(C):希釈溶剤 を含有することを特徴とする画像形成用エポキシ樹脂組
    成物。
  2. (2)成分(A)の多官能性エポキシ樹脂が、ビスフェ
    ノール型エポキシ樹脂、水素添加ビスフェノール型エポ
    キシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ
    樹脂よりなる群から選ばれた1種または2種以上である
    特許請求の範囲第(1)項記載の画像形成用エポキシ樹
    脂組成物
  3. (3)成分(A):分子内にエステル結合またはアミノ
    基を有しない、軟化点が110℃以下で、かつ、常温固
    形の多官能性エポキシ樹脂 成分(B):光感知性芳香族スルホニウム・アンチモン
    酸塩 および 成分(C):希釈溶剤 を含有するエポキシ樹脂組成物の被膜を形成し、画像マ
    スクを通して紫外線露光した後、50℃〜160℃の温
    度で加熱処理し、ついで有機溶剤を用いて現像すること
    を特徴とする画像形成方法。
  4. (4)有機溶剤が、1,1,1−トリクロロエタンであ
    る特許請求の範囲第(3)項記載の画像形成方法
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH021859A (ja) * 1988-06-13 1990-01-08 Toyobo Co Ltd 感光性樹脂組成物
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JPH05188593A (ja) * 1991-07-15 1993-07-30 Internatl Business Mach Corp <Ibm> フォトイメージング用の改良された組成物
JPH05197147A (ja) * 1990-10-09 1993-08-06 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 熱的に安定な光イメージング用組成物
WO2003032090A1 (en) * 2001-09-28 2003-04-17 Showa Highpolymer Co., Ltd. Photosensitive resin composition
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